JPS62290702A - 光重合性組成物 - Google Patents
光重合性組成物Info
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- JPS62290702A JPS62290702A JP13315586A JP13315586A JPS62290702A JP S62290702 A JPS62290702 A JP S62290702A JP 13315586 A JP13315586 A JP 13315586A JP 13315586 A JP13315586 A JP 13315586A JP S62290702 A JPS62290702 A JP S62290702A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/085—Photosensitive compositions characterised by adhesion-promoting non-macromolecular additives
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は新規な光重合性組成物に関するものであり、更
に詳しくは、金属との密着性(付着性または接着性)が
改善された光重合性組成物に関する。
に詳しくは、金属との密着性(付着性または接着性)が
改善された光重合性組成物に関する。
(従来の技術)
光重合性組成物から形成された被膜と基材との間の密着
性を改善するために、従来から多くの提案がなされてい
る。即ちプリント配線板の製造において用いられるドラ
イフィルムフォトレジストは、l容τ′夜型のフォトレ
ジストに比較して金属表面への密着性が弱く、エツチン
グあるいはメッキの際に種々の好ましくない現象が発生
する。たとえば、エツチング液のヌデレ一時におけるア
ンダー力,7トおよびメッキ液の浸漬時によるレンスト
界面へのメッキ液の浸み込み等の現象が生じ、その結果
、期待する配線が得られないことがしばしば経験される
。
性を改善するために、従来から多くの提案がなされてい
る。即ちプリント配線板の製造において用いられるドラ
イフィルムフォトレジストは、l容τ′夜型のフォトレ
ジストに比較して金属表面への密着性が弱く、エツチン
グあるいはメッキの際に種々の好ましくない現象が発生
する。たとえば、エツチング液のヌデレ一時におけるア
ンダー力,7トおよびメッキ液の浸漬時によるレンスト
界面へのメッキ液の浸み込み等の現象が生じ、その結果
、期待する配線が得られないことがしばしば経験される
。
これらの問題を解決するために、感光性樹脂層中に種々
の化合物を添加することにより、密着性の改善を目的と
して従来種々の提案がなされている。(例えば特公昭5
0−9177号、特公昭57−49894号、特公昭5
7−26285号、特公昭54−5292号、特公昭5
5−22481号、特開昭51−64919号、特開昭
51−64920号、特公昭57−46053号、特公
昭57−46054号、特公昭57−21697号、特
公昭57−40500号等寥照) (発明が解決しようとする問題点) しかし、これら従来提案された化合物は、特にフォトレ
ジストとして使用された場合には次のような欠点を示す
のである。例えば密着促進剤として公知であるベンズイ
ミダゾール、ベンゾトリアゾールなどの化合物を含む光
重合性組成物を用いた場合、現像後の基板の銅露出面の
赤変などが見られ、メッキ、土ノチング等の後加工に好
ましくない影響を与える。あるいは、密着促進剤の添加
量増加に伴い、感度低下を起こすなどの悪影1を与え゛
る。
の化合物を添加することにより、密着性の改善を目的と
して従来種々の提案がなされている。(例えば特公昭5
0−9177号、特公昭57−49894号、特公昭5
7−26285号、特公昭54−5292号、特公昭5
5−22481号、特開昭51−64919号、特開昭
51−64920号、特公昭57−46053号、特公
昭57−46054号、特公昭57−21697号、特
公昭57−40500号等寥照) (発明が解決しようとする問題点) しかし、これら従来提案された化合物は、特にフォトレ
ジストとして使用された場合には次のような欠点を示す
のである。例えば密着促進剤として公知であるベンズイ
ミダゾール、ベンゾトリアゾールなどの化合物を含む光
重合性組成物を用いた場合、現像後の基板の銅露出面の
赤変などが見られ、メッキ、土ノチング等の後加工に好
ましくない影響を与える。あるいは、密着促進剤の添加
量増加に伴い、感度低下を起こすなどの悪影1を与え゛
る。
また、近年プリント配線の高密度化が望まれ、そのため
に、原版の再現性が良く、高解像力であり、かつテンテ
ィングの信頼性の高いドライフィルムフ゛オドレジスト
が必要となってきており、柔軟で密着力が良く、感光し
た場合のラチチュードが広く、解像力が良く、現像工程
の変動に対しても安定なものであることが望まれている
。
に、原版の再現性が良く、高解像力であり、かつテンテ
ィングの信頼性の高いドライフィルムフ゛オドレジスト
が必要となってきており、柔軟で密着力が良く、感光し
た場合のラチチュードが広く、解像力が良く、現像工程
の変動に対しても安定なものであることが望まれている
。
本発明の目的は、光重合性組成物の被覆材に対する上記
のような問題点がなく、しかも金属面への密着性が改善
された光重合性組成物を提供することである。さらに、
本発明の目的は、原版に対する忠実な画線像を再現し、
高解像力を発現しうる光重合性組成物を提供することに
ある。
のような問題点がなく、しかも金属面への密着性が改善
された光重合性組成物を提供することである。さらに、
本発明の目的は、原版に対する忠実な画線像を再現し、
高解像力を発現しうる光重合性組成物を提供することに
ある。
(問題点を解決する為の手段)
本発明者等は、次のような光重合性組成物を用いること
でこれらの目的が達成されるととを見出し、本発明を完
成するに到った。
でこれらの目的が達成されるととを見出し、本発明を完
成するに到った。
即ち、本発明は、熱可塑性有機重合体バインダー、分子
中に少なくとも2個のエチレン性不飽和二重結合を有す
る付加重合性不飽和化合物および光重合開始剤を主成分
とし、かつ下記一般式(I)で表される2−ベンズイミ
ダゾリルアセトニトリル又はその誘導体を添加してなる
光重合性組成物。
中に少なくとも2個のエチレン性不飽和二重結合を有す
る付加重合性不飽和化合物および光重合開始剤を主成分
とし、かつ下記一般式(I)で表される2−ベンズイミ
ダゾリルアセトニトリル又はその誘導体を添加してなる
光重合性組成物。
】
(ここでR1、R2、F、及びR1は夫々水素原子、ハ
ロゲン、アルキル基、アルキルエステル基又はアミノ基
、R5は水素原子、ハロゲン、アル キ ル基、
ア リ ル 大(、ア リ − ル 基、 ア ル
コ キシ基又はアシル基である。) 本発明の上記一般式(I)で表される密着性に改善を与
える化合物の具体例としては、2−ベ ン ス゛ イ
ミ ダ ゾ リ ル ア セ ト ニ ト リ ル 、
2−(4−メチルベンズイミダゾリル)アMト!J
/L/ 、 2−(4−7ミ ) ペ ン ヌ°
イ ミ ダ ゾ リ ル゛)アセトニトリ#、2−(4
−クロロベンズイミダゾリ)Lt )アセトニトリルな
どが挙げられる。
ロゲン、アルキル基、アルキルエステル基又はアミノ基
、R5は水素原子、ハロゲン、アル キ ル基、
ア リ ル 大(、ア リ − ル 基、 ア ル
コ キシ基又はアシル基である。) 本発明の上記一般式(I)で表される密着性に改善を与
える化合物の具体例としては、2−ベ ン ス゛ イ
ミ ダ ゾ リ ル ア セ ト ニ ト リ ル 、
2−(4−メチルベンズイミダゾリル)アMト!J
/L/ 、 2−(4−7ミ ) ペ ン ヌ°
イ ミ ダ ゾ リ ル゛)アセトニトリ#、2−(4
−クロロベンズイミダゾリ)Lt )アセトニトリルな
どが挙げられる。
また、上記化合物の含有量は、光重合性組成物の全重量
(乾燥残分)基準で、好ましくは0.006〜6.0重
量%であり、さらに好ましくは0.03〜2.5重量%
である。
(乾燥残分)基準で、好ましくは0.006〜6.0重
量%であり、さらに好ましくは0.03〜2.5重量%
である。
本発明の光重合性組成物に好適に用いられる熱可塑性有
機重合体バインダーとしては、例えばポリメチルメタク
リレート、ポリスチレン、塩素化ポリエチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコー
ル等のビニルモノマーの重合物及び共重合体が例示され
る。その使用量としては、光重合性組成物の全重量(乾
燥残分)基準で、好ましくは0. 1〜80重量%であ
り、さらに好ましくは35〜70重量%である。
機重合体バインダーとしては、例えばポリメチルメタク
リレート、ポリスチレン、塩素化ポリエチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコー
ル等のビニルモノマーの重合物及び共重合体が例示され
る。その使用量としては、光重合性組成物の全重量(乾
燥残分)基準で、好ましくは0. 1〜80重量%であ
り、さらに好ましくは35〜70重量%である。
本発明の光重合性組成物に好適に用いられる付加重合性
不飽和化合物は分子中に少なくとも2個のエチレン性不
飽和二重結合を有するものであり、付加重合しうるもの
であれば良く、これらは1種又は2種以上の化合物を使
用することができる。例えば、アクリル酸エ ス テ
ル 、 メ タ り リ ル 酸 エ ス テ ル
、 ア り リ ルアミド、メタクリルアミド、アリ
ル化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。具体
的には、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルと
しては、多価アルコールのポリアクリレート及びポリメ
タクリレート(ここで言うポリアクリレート等とはジア
クリレート以上の化合物である。)であり、多価アルコ
ールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、ネオペンチルグリ:2−/l/、ト!J
メチロールプロパン、ペンタエリ ス リ ト −
ル 、 ブ タ ン ジ オ − ル 、 ト リ
メ チ 6−ルエタンなどである。アクリルアミド、
メタクリルアミドとしては、メチレンビスアクリルアミ
ド、同メタクリルアミドの他に、エチレンジアミン、ヘ
キサメチレンジアミンなどのポリアクリルアミド、ポリ
メタクリルアミドが挙げられる。アリル化合物としては
、フタル酸、アジピン酸、マロン酸等のジアリルエステ
ル、ジアリルアミド、あるいはアントラキノンジスルホ
ン酸、ベンゼンジスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸
のジアリルエステル、ジアリルアミド等がある。ビニル
エーテル化合物としては前記多価アルコールのポリビニ
ルエーテル、例えばエチレングリコ−7し ジ ビ ニ
ル エ − テ ル 、 グ リ セ ロ − ル
ト リ ビ= )V X−チルfxどがhる。ビニル
エステル化合物としては、ジビニルサクシネート、ジビ
ニルアジペート、ジビニルフタレートなどが挙げられる
。
不飽和化合物は分子中に少なくとも2個のエチレン性不
飽和二重結合を有するものであり、付加重合しうるもの
であれば良く、これらは1種又は2種以上の化合物を使
用することができる。例えば、アクリル酸エ ス テ
ル 、 メ タ り リ ル 酸 エ ス テ ル
、 ア り リ ルアミド、メタクリルアミド、アリ
ル化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。具体
的には、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルと
しては、多価アルコールのポリアクリレート及びポリメ
タクリレート(ここで言うポリアクリレート等とはジア
クリレート以上の化合物である。)であり、多価アルコ
ールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、ネオペンチルグリ:2−/l/、ト!J
メチロールプロパン、ペンタエリ ス リ ト −
ル 、 ブ タ ン ジ オ − ル 、 ト リ
メ チ 6−ルエタンなどである。アクリルアミド、
メタクリルアミドとしては、メチレンビスアクリルアミ
ド、同メタクリルアミドの他に、エチレンジアミン、ヘ
キサメチレンジアミンなどのポリアクリルアミド、ポリ
メタクリルアミドが挙げられる。アリル化合物としては
、フタル酸、アジピン酸、マロン酸等のジアリルエステ
ル、ジアリルアミド、あるいはアントラキノンジスルホ
ン酸、ベンゼンジスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸
のジアリルエステル、ジアリルアミド等がある。ビニル
エーテル化合物としては前記多価アルコールのポリビニ
ルエーテル、例えばエチレングリコ−7し ジ ビ ニ
ル エ − テ ル 、 グ リ セ ロ − ル
ト リ ビ= )V X−チルfxどがhる。ビニル
エステル化合物としては、ジビニルサクシネート、ジビ
ニルアジペート、ジビニルフタレートなどが挙げられる
。
これらの中で、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、同メタクリレート等のグリコ − ノ1′ エ ス
テ ル 、 ペ ン タ エ リ ス リ ト
− ル ト リアクリレート、同メタクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、同メタクリレ
ート等のアクリル系多官能性上ツマ−が・好ましい。
ト、同メタクリレート等のグリコ − ノ1′ エ ス
テ ル 、 ペ ン タ エ リ ス リ ト
− ル ト リアクリレート、同メタクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、同メタクリレ
ート等のアクリル系多官能性上ツマ−が・好ましい。
付加重合性不飽和化合物の含有量は、光重合性組成物の
全重量(乾燥残分)基準で、好ましくは約10〜90重
量%であり、さらに好ましくは約20〜55重量%であ
る。
全重量(乾燥残分)基準で、好ましくは約10〜90重
量%であり、さらに好ましくは約20〜55重量%であ
る。
本発明の組成物に好適に用いられる光重合開始剤として
は、エチレン性不飽、和化合物の重合に適する開始剤が
良く、アク’) /l/系多官能性七ツマーに対しては
、アントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エ
チルアントラキノン等のアントラキノン誘導体、ペンツ
イン、ベンゾインエーテル、ベンゾインイソプロヒルエ
ーテル等のベンゾインアルキルエーテル、ベンゾフェノ
ン、アセトフェノン、フェナントレンキノン、オキンム
エステル、アミノフェニルケトン、チオキサントン等示
単独あるいは組み合わせて使用される。
は、エチレン性不飽、和化合物の重合に適する開始剤が
良く、アク’) /l/系多官能性七ツマーに対しては
、アントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エ
チルアントラキノン等のアントラキノン誘導体、ペンツ
イン、ベンゾインエーテル、ベンゾインイソプロヒルエ
ーテル等のベンゾインアルキルエーテル、ベンゾフェノ
ン、アセトフェノン、フェナントレンキノン、オキンム
エステル、アミノフェニルケトン、チオキサントン等示
単独あるいは組み合わせて使用される。
光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は好ましくは
光重合性組成物の総重量(乾燥残分)基準で0006〜
6.0重量%であシ、さらに好ましくは0.06〜3.
0重量%である。
光重合性組成物の総重量(乾燥残分)基準で0006〜
6.0重量%であシ、さらに好ましくは0.06〜3.
0重量%である。
本発明の光重合性組成物は、上述の如く熱可塑性有機重
合体バインダー、エチレン性不飽和化合物、光重合開始
剤および密着性を改善する化合物を必須成分とするが、
必要に応じて熱重合禁止剤やレジストを確認しやすくす
るために染料、顔料、可塑剤などを使用してもよい。
合体バインダー、エチレン性不飽和化合物、光重合開始
剤および密着性を改善する化合物を必須成分とするが、
必要に応じて熱重合禁止剤やレジストを確認しやすくす
るために染料、顔料、可塑剤などを使用してもよい。
本発明の光重合性組成物は、フォトレジストの形成に有
用な組成物であるが、必ずしもこの用途に限定されるも
のではなく、UVインキ、ソルダーレジスト、印刷版、
紫外線硬化塗料、紫外線硬化接着剤などにも応用できる
。
用な組成物であるが、必ずしもこの用途に限定されるも
のではなく、UVインキ、ソルダーレジスト、印刷版、
紫外線硬化塗料、紫外線硬化接着剤などにも応用できる
。
以下実施例および比較例を示して本発明の効果を更に説
明する。
明する。
(実施例)
実施例 1
下記に示す化合物を、溶媒としてメチル・エチルケトン
を用い配合した。この配合液をポリエステルフィルム ーを用い塗工し、乾燥(75℃、1smin)すること
により厚さ50pmの光重合性組成物を得た。
を用い配合した。この配合液をポリエステルフィルム ーを用い塗工し、乾燥(75℃、1smin)すること
により厚さ50pmの光重合性組成物を得た。
トリメチロールプロパントリアクリレート312重量部
テトラエチレングリコールジアクリレート25、0重量
部 p−メチルアセトフェノンオキシム−〇ーアセテート 3、0重量部 2−クロロチオキサントン α2 〃2 − ベ ン
ス゛ イ ミ ダ ゾ リ ル ア セ ト ニ ト
リ ルα4重量部 実施例 2 下記に示す化合物を、溶媒としてメチルエチルケトンを
用い配合した。この配合液をポリエステルフィルム上に
アプリケーターを用い塗工し乾燥(75℃、1s mi
n)することにより厚さ50μmの光重合性組成物を得
た。
部 p−メチルアセトフェノンオキシム−〇ーアセテート 3、0重量部 2−クロロチオキサントン α2 〃2 − ベ ン
ス゛ イ ミ ダ ゾ リ ル ア セ ト ニ ト
リ ルα4重量部 実施例 2 下記に示す化合物を、溶媒としてメチルエチルケトンを
用い配合した。この配合液をポリエステルフィルム上に
アプリケーターを用い塗工し乾燥(75℃、1s mi
n)することにより厚さ50μmの光重合性組成物を得
た。
100重量部
トリメチロールプロパントリアクリレート60重量部
2−クロロチオキサントン LO//2 − ペ ン
ズ イ ミ ダ ゾ リ ル ア セ ト ニ ト
リ ルα4重量部 比較例 配合物に、密着促進剤を添加しない他は実施例1と同様
な手順で光重合性組成物を得た。
ズ イ ミ ダ ゾ リ ル ア セ ト ニ ト
リ ルα4重量部 比較例 配合物に、密着促進剤を添加しない他は実施例1と同様
な手順で光重合性組成物を得た。
(実歿Iル様)
実施例および比較例において、以下の手法で解像力硬化
後の密着性評価を行った。
後の密着性評価を行った。
(解像力)
実施例の項で得た光重合性組成物を銅板に加圧、加熱積
層した。得られた積層体に細線パターンマスクを使用し
、超高圧水銀ランプにより、数水準の露光量で露光した
。次にクロロセン(実施例1、比較例)あるいは1%炭
酸水素ナトリウム水溶液(実施例2)で現像を行い、レ
ジストの細線が形成.されたそのレジスト幅を読むこと
で解像力を求めた。
層した。得られた積層体に細線パターンマスクを使用し
、超高圧水銀ランプにより、数水準の露光量で露光した
。次にクロロセン(実施例1、比較例)あるいは1%炭
酸水素ナトリウム水溶液(実施例2)で現像を行い、レ
ジストの細線が形成.されたそのレジスト幅を読むこと
で解像力を求めた。
(硬化後の密着性評価)
実施例の項で得た光重合性組成物を銅張り積層板に加圧
、加熱積層した。
、加熱積層した。
この積層体に細線パターンマスクを使用し、超高圧7に
銀ランプにより2水準の露光量( 60、100mJ/
d)で露光した。
銀ランプにより2水準の露光量( 60、100mJ/
d)で露光した。
次にクロロセン(実施例1、比較例)あるいは1%炭酸
水素ナトリウム水溶液(実施例2)で現像を行った。得
られたレジストパターン基板を水酸化カリウム水溶液(
pH10、60℃)に1時間浸漬し、風乾させた。
水素ナトリウム水溶液(実施例2)で現像を行った。得
られたレジストパターン基板を水酸化カリウム水溶液(
pH10、60℃)に1時間浸漬し、風乾させた。
その後レジストパターン基板の状態変化(レジスト表面
での色変化、形成された細線部におけるか1イト峰←←
−水酸化カリウム水溶液の浸み込み、銅界面におけるレ
ジストのハガレ、プツ状など)を観察することで密着性
の評価を行った。
での色変化、形成された細線部におけるか1イト峰←←
−水酸化カリウム水溶液の浸み込み、銅界面におけるレ
ジストのハガレ、プツ状など)を観察することで密着性
の評価を行った。
実施例1、2比較例で得た光重合性組成物の評価結果を
表1に示す。
表1に示す。
表1
■
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 熱可塑性有機重合体バインダー、分子中に少なくとも2
個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性不飽
和化合物および光重合開始剤を主成分とし、かつ下記一
般式( I )で表される2−ベンズイミダゾリルアセト
ニトリル又はその誘導体を添加してなる光重合性組成物
。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ここで、R_1、R_2、R_3及びR_4は夫々水
素原子、ハロゲン、アルキル基、アルキルエステル基又
はアミノ基、R_5は水素原子、ハロゲン、アルキル基
、アリル基、アリール基、アルコキシ基又はアシル基で
ある。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13315586A JPS62290702A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13315586A JPS62290702A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62290702A true JPS62290702A (ja) | 1987-12-17 |
Family
ID=15097987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13315586A Pending JPS62290702A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62290702A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20150004533A1 (en) * | 2012-03-29 | 2015-01-01 | Fujifilm Corporation | Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern forming method, each using the same |
-
1986
- 1986-06-09 JP JP13315586A patent/JPS62290702A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20150004533A1 (en) * | 2012-03-29 | 2015-01-01 | Fujifilm Corporation | Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern forming method, each using the same |
US9323153B2 (en) * | 2012-03-29 | 2016-04-26 | Fujifilm Corporation | Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern forming method, each using the same |
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