JPS6218034Y2 - - Google Patents

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JPS6218034Y2
JPS6218034Y2 JP1981009182U JP918281U JPS6218034Y2 JP S6218034 Y2 JPS6218034 Y2 JP S6218034Y2 JP 1981009182 U JP1981009182 U JP 1981009182U JP 918281 U JP918281 U JP 918281U JP S6218034 Y2 JPS6218034 Y2 JP S6218034Y2
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JP
Japan
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wafer
carrier
lid
presser
storage case
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JP1981009182U
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JPS57124145U (ja
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  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、とくにトランジスタまたはICなど
の素材となるウエフアの処理工程において、水洗
のあとで、ウエフアに付着した水分を乾燥する際
に用いる遠心乾燥機に関するものである。
各種の遠心乾燥機は、ウエフアを水洗したあと
に残る水分を乾燥するために用いられているが、
処理物の取入と取出が不便であつたり、自動化す
るための配慮が不充分であるなど、改良すべき点
がある。
本考案は以上に鑑み、処理物の取入及び取出が
容易であり、更にロボツトによる自動取入と取出
が容易にできるようにしたものであり、次に実施
例に就て説明する。
第1図は正面断面図、第2図は側面断面図であ
り、両図において共通のものに就ては同一符号で
示すと、1はキヤリア、2はウエフア、3はキヤ
リアの収納ケース、4は収納ケース3の両側面に
設けた開閉自在のキヤリア押え、5はキヤリア押
えと同体に固定したウエフア押えであり、一方の
キヤリア押え(第1図では右側)に設けてあり、
その先端部はウエフアの周端面を押えるため棒体
5′となつている。
6は外箱、7と8はパイプ、7′と8′はそれぞ
れパイプ7と8に配設した複数のノズル孔であ
り、パイプ7には純水(又はN2ガス)を、そし
てパイプ8にはN2ガス(又は純水)を供給す
る。
こゝでパイプ7と8のいづれか一方、例えばパ
イプ7に純水を供給する場合は、パイプ8には
N2ガスを供給するが、純水はウエフアを洗浄す
るシヤワーを噴出するため、そしてN2ガスは乾
燥を促進するために使用する。
9は開閉自在の蓋、10は排出口、11はヒン
ジ、12は前記収納ケース3を外箱6に固定する
ための台座、13はモータ、14はベルト、15
はプーリー、16はシヤフト、17は水の流通を
円滑にするため前記収納ケース3の側面に設けた
窓穴である。
操作は次の通り行う。すなわち蓋9を開き、次
にキヤリア押え4とウエフア押え5を開いて、ウ
エフア2を収納したキヤリア1を、収納ケース3
の中に入れ、そのあと4と5を閉じ、更に蓋9を
閉じて準備を完了する。
準備が完了したらモータ13を駆動すると、収
納ケース3は矢印Aの方向に回転し、キヤリア1
とウエフア2に附着した水を遠心力によつて飛散
する。この場合、収納ケース3は矢印方向に回転
するから、内部のウエフアの面に向つて風圧が
かゝらず、したがつて破損することがなく効果的
に乾燥を行うことができる。
本考案の遠心乾燥機は上記の通りであり、被処
理物の取入と取出とが上方なので、操作が自然で
容易であると共に、ロボツトによつて自動化する
ことも簡単な附加装置で行い易い。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例の正面断面図。第2図は実施例
の側面断面図。 1……キヤリア、2……ウエフア、3……収納
ケース、4……キヤリア押え、5……ウエフア押
え、6……外箱、7と8……パイプ、9……蓋、
10……排出口、11……ヒンジ、12……台
座、13……モータ、14……ベルト、15……
プーリー、16……シヤフト、17……窓穴。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 外箱6の上面中央部に開閉自在の蓋9と、該蓋
    9をはさんだ両側の内面に沿つて、外部から貫通
    し、外面に複数のノズルを有するパイプ7と8が
    設けられ、前記外箱6の内面適宜の個所に設けら
    れた台座12には、ウエフア2を装填するキヤリ
    ア1の収納用ケース3が装着され、該ケース3の
    開放側両端部に開閉自在の前記キヤリア1の押え
    4を有し、かついずれか一方の押え4には前記ウ
    エフア2を押えるウエフア押え5が固着され、前
    記ケース3はモータ13の駆動によつて鉛直方向
    に回転され、かつ前記ケース3の底面に排出口1
    0を開けた構造のウエフア乾燥用の遠心乾燥機。
JP1981009182U 1981-01-27 1981-01-27 Expired JPS6218034Y2 (ja)

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JP1981009182U JPS6218034Y2 (ja) 1981-01-27 1981-01-27

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JPS57124145U JPS57124145U (ja) 1982-08-03
JPS6218034Y2 true JPS6218034Y2 (ja) 1987-05-09

Family

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Families Citing this family (4)

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JPH0745957Y2 (ja) * 1987-05-06 1995-10-18 株式会社ダン科学 キャリア洗浄乾燥装置
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JPS5295165A (en) * 1976-02-06 1977-08-10 Hitachi Ltd Wafer cleansing tool
JPS55115332A (en) * 1979-02-26 1980-09-05 Mitsubishi Electric Corp Washing and drying apparatus for photomask

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JPS57124145U (ja) 1982-08-03

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