JPS62174052A - カルボスチリル誘導体 - Google Patents
カルボスチリル誘導体Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、新規なカルボスチリル誘導体及びその塩に関
する。
する。
発明の開示
本発明のカルボスチリル誘導体は、文献未載の新規化合
物であって、下記一般式(1)で表わされる。
物であって、下記一般式(1)で表わされる。
〔式中Rは炭素数7〜12のアルケニル基、)工二ル環
上に置換基として低級アルキルチオ基もしくは低級アル
キルスルフィニル基を有することのあるフェニル低級ア
ルケニル基、フェニル低級アルキニル基、フェニル環上
にハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
低級アルキルチオ基及び低級アルキルスルフィニル基か
ら選ばれた置換基を1〜3個有していてもよいフェニル
基又は基H ■ =A−C−R2(ここでAは低級アルキレン■ 基、R1は水素原子、低級アルキル基又は)工二ル基を
R2はフェニル環上にヒドロキシ基、ハロゲン原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルカノイル
アミノ基、低級アルキルチオ基及び低級アルキルスルフ
ィニル基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個有す
ることのあるフェニル基をそれぞれ示す。)を示す。ま
たカルボスチリル骨格の3位と4位との炭素間結合は一
重結合又は二重結合を示す。〕 、上記一般式(I)で表わされるカルボスチリル誘導体
及びその塩は、心筋の収縮を増強する作用(陽性変力作
用)、冠面流量増加作用、降圧作用及び消炎作用を有し
、例えばうつ血性心不全、僧帽弁膜症、心房性細動、粗
動、発作性心房性頻脈等の各種心臓疾患の治療のための
強心剤及び消炎剤として有用である。特に上記一般式(
1)で表わされるカルボスチリル誘導体及びその塩は、
優れた陽性変力作用、冠面流量増加作用及び降圧作用を
有する反面、心拍数の増加作用は殆んど有していない点
において特長を有している。また、本発明の化合物は、
非常に安定であり、製剤化しやすいという特長をも有し
ている。更に、本発明の化合物は、低毒性であり、中枢
性の副作用、例えば嘔吐、運動機能の低下、振せん等の
副作用も少ないという特長を有している。
上に置換基として低級アルキルチオ基もしくは低級アル
キルスルフィニル基を有することのあるフェニル低級ア
ルケニル基、フェニル低級アルキニル基、フェニル環上
にハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
低級アルキルチオ基及び低級アルキルスルフィニル基か
ら選ばれた置換基を1〜3個有していてもよいフェニル
基又は基H ■ =A−C−R2(ここでAは低級アルキレン■ 基、R1は水素原子、低級アルキル基又は)工二ル基を
R2はフェニル環上にヒドロキシ基、ハロゲン原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルカノイル
アミノ基、低級アルキルチオ基及び低級アルキルスルフ
ィニル基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個有す
ることのあるフェニル基をそれぞれ示す。)を示す。ま
たカルボスチリル骨格の3位と4位との炭素間結合は一
重結合又は二重結合を示す。〕 、上記一般式(I)で表わされるカルボスチリル誘導体
及びその塩は、心筋の収縮を増強する作用(陽性変力作
用)、冠面流量増加作用、降圧作用及び消炎作用を有し
、例えばうつ血性心不全、僧帽弁膜症、心房性細動、粗
動、発作性心房性頻脈等の各種心臓疾患の治療のための
強心剤及び消炎剤として有用である。特に上記一般式(
1)で表わされるカルボスチリル誘導体及びその塩は、
優れた陽性変力作用、冠面流量増加作用及び降圧作用を
有する反面、心拍数の増加作用は殆んど有していない点
において特長を有している。また、本発明の化合物は、
非常に安定であり、製剤化しやすいという特長をも有し
ている。更に、本発明の化合物は、低毒性であり、中枢
性の副作用、例えば嘔吐、運動機能の低下、振せん等の
副作用も少ないという特長を有している。
上記一般式(1)において、R,A、R’及びR2で定
義される各基の具体例を次に示す。
義される各基の具体例を次に示す。
炭素数7〜12のアルケニル基としては、1−へブテニ
ル、1−オクテニル、1−ノネニル、1−デセニル、1
−ウンデセニル、1−ドデセニル、1−へブテニル、3
−へブテニル、2−メチル−4−へブテニル、2−メチ
ル−5−へブテニル、4−メチル−2−ヘプテニル、3
〜メチル−1−へブテニル、1,3−へブタジェニル、
1.4−ヘプタジェニル、1,5−へブタジェニル、1
゜6−へブタジェニル、2,4−へブタジェニル、2−
メチル−2,4−へブタジェニル、2,6−シメチルー
2,4−へブタジェニル、2,5−ジメチル−1,3−
へブタジェニル、2.4.6−ドリメチルー2,4−へ
ブタジェニル、2−オクテニル、3−オクテニル、4−
オクテニル、2−メチル−5−オクテニル、2−メチル
−6−オクテニル、2−メチル−6−オクテニル、2−
メチル−7−オクテニル、1.3−オクタジェニル、1
.4−オクタジェニル、1,5−オクタジェニル、1,
6−オクタジェニル、1,7−オクタジェニル、2,4
−オクタジェニル、3,7−オクタジェニル、4,8−
ジメチル−3,7−オクタジェニル、2,4.6−ドリ
メチルー3,7−オクタジェニル、3.4−ジメチル−
2,5−オフタジエニル、4,8−ジメチル−2,6−
オクタジェニル、2−ノネニル、3−ノネニル、4−ノ
ネニル、2−メチル−5−ノネニル、2−メチル−6−
ノネニル、2−メチル−7−ノネニル、2−メチル−8
−ノネニル、1,3−ノナジェニル、1.4−ノナジェ
ニル、1.5−ノナジェニル、1.6−ノナジェニル、
1,7−ノナジェニル、1.8−ノナジェニル、2,4
−ノナジェニル、3.7−ノナジェニル、4,8−ジメ
チル−3゜7−ノナジェニル、2,4..6−ドリメチ
ルー3゜7−ノナジェニル、3,4−ジメチル−2,5
−ノナジェニル、4,8−ジメチル−2,6−ノナジェ
ニル、2−デセニル、3−デセニル、4−デセニル、5
−デセニル、2−メチル−6−デセニル、3−メチル−
7−デセニル、4−メチル−8−デセニル、5−メチル
−9−デセニル、1.3−デカジェニル、1,4−デカ
ジェニル、1.5−デカジェニル、1.6−デカジェニ
ル、1,7−デカジェニル、1,8−デカジェニル、1
.9−デカジェニル、2−メチル−2,4−デカジェニ
ル、3−メチル−2,5−デカジェニル、4゜8−ジメ
チル−2,6−デカジェニル、2,4゜6−ドリメチル
ー3,7−デカジェニル、2,9−ジメチル−3,7−
デカジェニル、2−ウンデセニル、3−ウンデセニル、
4−ウンデセニル、5−ウンデセニル、2−メチル−6
−ウンデセニル、3−メチル−7−ウンデセニル、4−
メチル−8−ウンデセニル、5−メチル−9−ウンデセ
ニル、2−メチル−10〜ウンデセニル、1.3−ウン
デカジェニル、1,4−ウンデカジェニル、1.5−ウ
ンデカジェニル、1,6〜ウンデカジエニル、1,7−
ウンデカジェニル、1,8−ウンデカジェニル、1.9
−ウンデカジェニル、1゜10−ウンデカジェニル、2
−メチル−2,4−ウンデカジェニル、3−メチル−2
,5−ウンデカジェニル、4.8−ジメチル−2,6−
ウンデカジェニル、2,4.6−1−ツメチル−3,8
−ウンデカジエニル、2.9−ジメチル−3,8−ウン
デカジエニル、2−ドデセニル、3−ドデセニル、4−
ドデセニル、5−ドデセニル、6−ドデセニル、2−メ
チル−7−ドデセニル、3−メチル−8−ドデセニル、
4−メチル−9−ドデセニル、5−メチル−10−ドデ
セニル、6−メチル−11−ドデセニル、2−メチル−
2,4−ドデカジェニル、3−メチル−2,5−ドデカ
ジェニル、4,8−ジメチル−2,6−ドデカジェニル
、2,4.6−1−リメチル−2,7−ドゾカジエ二ル
、2,10−ジメチル−2,8−ドデカジェニル、2.
5−ジメチル−3,7−ドデカジェニル、4.8..1
2−t−ジメチル−3,フ、11−ドデカトリエニル、
1,3.5−ヘブタトリエニル、2,4.6−オクタジ
ェニル、1,3゜6−ノナジェニル、2,6.8−デカ
ジェニル゛、1,5.7−ウンデカジェニル等の炭素数
7〜12の直鎖又は分枝鎖の、二重結合を1〜3個有す
るアルケニル基を例示できる。
ル、1−オクテニル、1−ノネニル、1−デセニル、1
−ウンデセニル、1−ドデセニル、1−へブテニル、3
−へブテニル、2−メチル−4−へブテニル、2−メチ
ル−5−へブテニル、4−メチル−2−ヘプテニル、3
〜メチル−1−へブテニル、1,3−へブタジェニル、
1.4−ヘプタジェニル、1,5−へブタジェニル、1
゜6−へブタジェニル、2,4−へブタジェニル、2−
メチル−2,4−へブタジェニル、2,6−シメチルー
2,4−へブタジェニル、2,5−ジメチル−1,3−
へブタジェニル、2.4.6−ドリメチルー2,4−へ
ブタジェニル、2−オクテニル、3−オクテニル、4−
オクテニル、2−メチル−5−オクテニル、2−メチル
−6−オクテニル、2−メチル−6−オクテニル、2−
メチル−7−オクテニル、1.3−オクタジェニル、1
.4−オクタジェニル、1,5−オクタジェニル、1,
6−オクタジェニル、1,7−オクタジェニル、2,4
−オクタジェニル、3,7−オクタジェニル、4,8−
ジメチル−3,7−オクタジェニル、2,4.6−ドリ
メチルー3,7−オクタジェニル、3.4−ジメチル−
2,5−オフタジエニル、4,8−ジメチル−2,6−
オクタジェニル、2−ノネニル、3−ノネニル、4−ノ
ネニル、2−メチル−5−ノネニル、2−メチル−6−
ノネニル、2−メチル−7−ノネニル、2−メチル−8
−ノネニル、1,3−ノナジェニル、1.4−ノナジェ
ニル、1.5−ノナジェニル、1.6−ノナジェニル、
1,7−ノナジェニル、1.8−ノナジェニル、2,4
−ノナジェニル、3.7−ノナジェニル、4,8−ジメ
チル−3゜7−ノナジェニル、2,4..6−ドリメチ
ルー3゜7−ノナジェニル、3,4−ジメチル−2,5
−ノナジェニル、4,8−ジメチル−2,6−ノナジェ
ニル、2−デセニル、3−デセニル、4−デセニル、5
−デセニル、2−メチル−6−デセニル、3−メチル−
7−デセニル、4−メチル−8−デセニル、5−メチル
−9−デセニル、1.3−デカジェニル、1,4−デカ
ジェニル、1.5−デカジェニル、1.6−デカジェニ
ル、1,7−デカジェニル、1,8−デカジェニル、1
.9−デカジェニル、2−メチル−2,4−デカジェニ
ル、3−メチル−2,5−デカジェニル、4゜8−ジメ
チル−2,6−デカジェニル、2,4゜6−ドリメチル
ー3,7−デカジェニル、2,9−ジメチル−3,7−
デカジェニル、2−ウンデセニル、3−ウンデセニル、
4−ウンデセニル、5−ウンデセニル、2−メチル−6
−ウンデセニル、3−メチル−7−ウンデセニル、4−
メチル−8−ウンデセニル、5−メチル−9−ウンデセ
ニル、2−メチル−10〜ウンデセニル、1.3−ウン
デカジェニル、1,4−ウンデカジェニル、1.5−ウ
ンデカジェニル、1,6〜ウンデカジエニル、1,7−
ウンデカジェニル、1,8−ウンデカジェニル、1.9
−ウンデカジェニル、1゜10−ウンデカジェニル、2
−メチル−2,4−ウンデカジェニル、3−メチル−2
,5−ウンデカジェニル、4.8−ジメチル−2,6−
ウンデカジェニル、2,4.6−1−ツメチル−3,8
−ウンデカジエニル、2.9−ジメチル−3,8−ウン
デカジエニル、2−ドデセニル、3−ドデセニル、4−
ドデセニル、5−ドデセニル、6−ドデセニル、2−メ
チル−7−ドデセニル、3−メチル−8−ドデセニル、
4−メチル−9−ドデセニル、5−メチル−10−ドデ
セニル、6−メチル−11−ドデセニル、2−メチル−
2,4−ドデカジェニル、3−メチル−2,5−ドデカ
ジェニル、4,8−ジメチル−2,6−ドデカジェニル
、2,4.6−1−リメチル−2,7−ドゾカジエ二ル
、2,10−ジメチル−2,8−ドデカジェニル、2.
5−ジメチル−3,7−ドデカジェニル、4.8..1
2−t−ジメチル−3,フ、11−ドデカトリエニル、
1,3.5−ヘブタトリエニル、2,4.6−オクタジ
ェニル、1,3゜6−ノナジェニル、2,6.8−デカ
ジェニル゛、1,5.7−ウンデカジェニル等の炭素数
7〜12の直鎖又は分枝鎖の、二重結合を1〜3個有す
るアルケニル基を例示できる。
フェニル環上に置換基として低級アルキルチオ基又は低
級アルキルスルフィニル基を有することのあるフェニル
低級アルケニル基としては、スチリル、3−フェニル−
1−プロペニル、3−フェニル−2−プロペニル、4−
フェニル−3−ブテニル、4−フェニル−2−ブテニル
、5−フェニル−4−ペンテニル、5−フェニル−3−
ペンテニル、5−フェニル−2−ペンテニル、6−ノエ
二ルー5−ヘキセニル、6−フ■ニル−4−へキセニル
、6−フェニル−3−へキセニル、6−フエ二ルー2−
へキセニル、2−メチル−4−フェニル−3−ブテニル
、2−メチル−スチリル、1−メチル−スチリル、2−
.3−、もしくは4−メチルチオスチリル、2−.3−
もしくは4−エチルチオスチリル、2−13−もしくは
4−プロピルチオスチリル、2−ブチルチオスチリル、
3−(tert−ブチルチオ〉スチリル、4−ペンチル
チオスチリル、3−へキシルチオスチリル、3゜5−ジ
メチルチオスチリル、2,6−ジメチルチオスチリル、
3,4−ジメチルチオスチリル、3゜4−ジエチルチオ
スチリル、3,4.5−1−ジメチルチオスチリル、4
−メチルチオフェニル−3−ブテニル、4−(3−te
rt−ブチルチオフェニル)−2−ブテニル、5−(7
!l−へキシルチオフェニル)−4−ペンテニル、6−
(3,4−ジメチルチオフェニル)−5−へキセニル
、3− (2−エチルチオフェニル)−2−プロペニル
、6−(4−メチルチオフェニル)−3−へキセニル、
3−(2−メチルスルフィニルフェニル)−2−プロペ
ニル、3−(3−工升ルスルフィニル)−2−プロペニ
ル、3− (4−メチルスルフィニルフェニル)−1−
プロペニル、4− (3−プロピルスルフィニルフェニ
ル)−3−ブテニル、4−(3−tert−ブチルスル
フィニルフェニル)−2−ブテニル、5−(4−ヘキシ
ルスルフィニルフェニル)−4−ペンテニル、6− (
3,4−ジメチルスルフィニルフェニル)−5−ヘキセ
ニル基等のフェニル環上に置換基として炭素数1〜6の
直鎖もしくは分枝鎖アルキルチオ基又は炭素数1〜6の
直鎖もしくは分枝鎖アルキルスルフィニル基を有するこ
とのあるアルケニル部分の炭素数が2〜6の直鎖又は分
枝鎖アルケニル基であるフェニルアルケニル基を例示で
きる。
級アルキルスルフィニル基を有することのあるフェニル
低級アルケニル基としては、スチリル、3−フェニル−
1−プロペニル、3−フェニル−2−プロペニル、4−
フェニル−3−ブテニル、4−フェニル−2−ブテニル
、5−フェニル−4−ペンテニル、5−フェニル−3−
ペンテニル、5−フェニル−2−ペンテニル、6−ノエ
二ルー5−ヘキセニル、6−フ■ニル−4−へキセニル
、6−フェニル−3−へキセニル、6−フエ二ルー2−
へキセニル、2−メチル−4−フェニル−3−ブテニル
、2−メチル−スチリル、1−メチル−スチリル、2−
.3−、もしくは4−メチルチオスチリル、2−.3−
もしくは4−エチルチオスチリル、2−13−もしくは
4−プロピルチオスチリル、2−ブチルチオスチリル、
3−(tert−ブチルチオ〉スチリル、4−ペンチル
チオスチリル、3−へキシルチオスチリル、3゜5−ジ
メチルチオスチリル、2,6−ジメチルチオスチリル、
3,4−ジメチルチオスチリル、3゜4−ジエチルチオ
スチリル、3,4.5−1−ジメチルチオスチリル、4
−メチルチオフェニル−3−ブテニル、4−(3−te
rt−ブチルチオフェニル)−2−ブテニル、5−(7
!l−へキシルチオフェニル)−4−ペンテニル、6−
(3,4−ジメチルチオフェニル)−5−へキセニル
、3− (2−エチルチオフェニル)−2−プロペニル
、6−(4−メチルチオフェニル)−3−へキセニル、
3−(2−メチルスルフィニルフェニル)−2−プロペ
ニル、3−(3−工升ルスルフィニル)−2−プロペニ
ル、3− (4−メチルスルフィニルフェニル)−1−
プロペニル、4− (3−プロピルスルフィニルフェニ
ル)−3−ブテニル、4−(3−tert−ブチルスル
フィニルフェニル)−2−ブテニル、5−(4−ヘキシ
ルスルフィニルフェニル)−4−ペンテニル、6− (
3,4−ジメチルスルフィニルフェニル)−5−ヘキセ
ニル基等のフェニル環上に置換基として炭素数1〜6の
直鎖もしくは分枝鎖アルキルチオ基又は炭素数1〜6の
直鎖もしくは分枝鎖アルキルスルフィニル基を有するこ
とのあるアルケニル部分の炭素数が2〜6の直鎖又は分
枝鎖アルケニル基であるフェニルアルケニル基を例示で
きる。
フェニル低級アルキニル基としては、2−フェニルエチ
ニル、3−フェニル−1−プロピニル、3−フェニル−
2−プロピニル、4−フェニル−3−ブチニル、4−フ
ェニル−2−ブチニル、5−フェニル−4−ペンチニル
、5−フェニル−3−ペンチニル、5−フェニル−2−
ペンチニル、6−フ■ニル−3−ヘキシニル、6−フェ
ニル−2−へキシニル、2−メチル−4−フェニル−3
−ブチニル、1−メチル−3−7■ニル−2−プロビニ
ル、3−メチル−3−フェニル−1−プロピニル基等の
アルキニル部分の炭素数が2〜6の直鎖又は分枝鎖アル
キニル基であるフェニルアルキニル基を例示できる。
ニル、3−フェニル−1−プロピニル、3−フェニル−
2−プロピニル、4−フェニル−3−ブチニル、4−フ
ェニル−2−ブチニル、5−フェニル−4−ペンチニル
、5−フェニル−3−ペンチニル、5−フェニル−2−
ペンチニル、6−フ■ニル−3−ヘキシニル、6−フェ
ニル−2−へキシニル、2−メチル−4−フェニル−3
−ブチニル、1−メチル−3−7■ニル−2−プロビニ
ル、3−メチル−3−フェニル−1−プロピニル基等の
アルキニル部分の炭素数が2〜6の直鎖又は分枝鎖アル
キニル基であるフェニルアルキニル基を例示できる。
フェニル環上にハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、低級アルキルチオ基及び低級アルキルスル
フィニル基から選ばれた置換基を1〜3個有していても
よいフェニル基としては、例えば、フェニル、2−クロ
ロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル
、2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−
フルオロフェニル、2−ブロムフェニル、3−ブロムフ
ェニル、4−ブロムフェニル、2−ヨードフェニル、4
−ヨードフェニル、、3.5−ジクロロフェニル、2.
6−ジクロロフェニル、3.4−ジクロロフェニル、3
,4−ジフルオロフェニル、3.5−ジブロムフェニル
、2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチ
ルフェニル、2−エチルフェニル、3−エチルフェニル
、4−エチルフェニル、3−イソプロピルフェニル、4
−へキシルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、2.
5−ジメチルフェニル、2−メトキシフェニル、3−メ
トキシフェニル、4−メトキシフェニル、2−■トキシ
フェニル、3−■トキシフェニル、4−■トキシフェニ
ル、4−イソプロポキシフェニル、4−へキシルオキシ
フェニル、3.4−ジメトキシフェニル、3.4−ジェ
トキシフェニル、3゜4.5−t−ジメトキシフェニル
、3.4.5−トリクロロフェニル、3.4.5−1−
・ジメチルフェニル、2,5−ジメトキシフェニル、2
−メチルチオフェニル、3−メチルチオフェニル、4−
メチルチオフェニル、2−エチルチオフェニル、3−エ
チルチオフェニル、4−エチルチオフェニル、3−イソ
プロピルチオフェニル、4−へキシルチオフェニル、3
.4−ジメチルチオフェニル、2゜5−ジメチルチオフ
ェニル、2−メチルスルフィニルフェニル、3−メチル
スルフィニルフェニル、4−メチルスルフィニルフェニ
ル、2−エチルスルフィニルフェニル、3−エチルスル
フィニルフェニル、4−エチルスルフィニルフェニル、
3−イソプロビルスルフイニルフ■ニル、4−ヘキシル
スルフィニルフェニル、3,4−ジメチルスルフィニル
フェニル、2,5−ジメチルスルフィニルフェニル、2
−メチル−4−クロロフェニル、2−メチル−3−クロ
ロフェニル、4−メーF−ルー3−ブロモフェニル基等
のフェニル環上にハロゲン原子、炭素数1〜6の直鎖又
は分枝鎖アルキル基、炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖ア
ルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキルチ
オ基及び炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキルスルフ
ィニル基から選ばれた置換基を1〜3個有していてもよ
いフェニル基を例示できる。
ルコキシ基、低級アルキルチオ基及び低級アルキルスル
フィニル基から選ばれた置換基を1〜3個有していても
よいフェニル基としては、例えば、フェニル、2−クロ
ロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル
、2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−
フルオロフェニル、2−ブロムフェニル、3−ブロムフ
ェニル、4−ブロムフェニル、2−ヨードフェニル、4
−ヨードフェニル、、3.5−ジクロロフェニル、2.
6−ジクロロフェニル、3.4−ジクロロフェニル、3
,4−ジフルオロフェニル、3.5−ジブロムフェニル
、2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチ
ルフェニル、2−エチルフェニル、3−エチルフェニル
、4−エチルフェニル、3−イソプロピルフェニル、4
−へキシルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、2.
5−ジメチルフェニル、2−メトキシフェニル、3−メ
トキシフェニル、4−メトキシフェニル、2−■トキシ
フェニル、3−■トキシフェニル、4−■トキシフェニ
ル、4−イソプロポキシフェニル、4−へキシルオキシ
フェニル、3.4−ジメトキシフェニル、3.4−ジェ
トキシフェニル、3゜4.5−t−ジメトキシフェニル
、3.4.5−トリクロロフェニル、3.4.5−1−
・ジメチルフェニル、2,5−ジメトキシフェニル、2
−メチルチオフェニル、3−メチルチオフェニル、4−
メチルチオフェニル、2−エチルチオフェニル、3−エ
チルチオフェニル、4−エチルチオフェニル、3−イソ
プロピルチオフェニル、4−へキシルチオフェニル、3
.4−ジメチルチオフェニル、2゜5−ジメチルチオフ
ェニル、2−メチルスルフィニルフェニル、3−メチル
スルフィニルフェニル、4−メチルスルフィニルフェニ
ル、2−エチルスルフィニルフェニル、3−エチルスル
フィニルフェニル、4−エチルスルフィニルフェニル、
3−イソプロビルスルフイニルフ■ニル、4−ヘキシル
スルフィニルフェニル、3,4−ジメチルスルフィニル
フェニル、2,5−ジメチルスルフィニルフェニル、2
−メチル−4−クロロフェニル、2−メチル−3−クロ
ロフェニル、4−メーF−ルー3−ブロモフェニル基等
のフェニル環上にハロゲン原子、炭素数1〜6の直鎖又
は分枝鎖アルキル基、炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖ア
ルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキルチ
オ基及び炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキルスルフ
ィニル基から選ばれた置換基を1〜3個有していてもよ
いフェニル基を例示できる。
ハロゲン原子としては、弗素、塩素、臭素及び沃素原子
を示す。
を示す。
低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンデル、
ヘキシル等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキル基
を例示できる。
イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンデル、
ヘキシル等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキル基
を例示できる。
低級アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブl−キシ、t’e r t
−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等の炭素
数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基を例示できる。
ポキシ、イソプロポキシ、ブl−キシ、t’e r t
−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等の炭素
数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基を例示できる。
低級アルキルチオ基としては、メチルチオ、■チルチオ
、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、te
rt−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ基等の
炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキルチオ基を例示で
きる。
、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、te
rt−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ基等の
炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキルチオ基を例示で
きる。
低級アルキルスルフィニル基としては、メチルスルフィ
ニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、イ
ソプロピルスルフィニル、ブチルスルフィニル、ter
t−ブチルスルフィニル、ペン= 16− チルスルフィニル、ヘキシルスルフィニル基等の炭素数
1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキルスルフィニル基を例示
できる。
ニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、イ
ソプロピルスルフィニル、ブチルスルフィニル、ter
t−ブチルスルフィニル、ペン= 16− チルスルフィニル、ヘキシルスルフィニル基等の炭素数
1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキルスルフィニル基を例示
できる。
低級アルキレン基としては、メチレン、エチレン、トリ
メチレン、2−メチルトリメチレン、2゜2−ジメチル
トリメチレン、1−メチルトリメチレン、メチルメチレ
ン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン
、ヘキサメチレン基等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖
アルキレン基を例示できる。
メチレン、2−メチルトリメチレン、2゜2−ジメチル
トリメチレン、1−メチルトリメチレン、メチルメチレ
ン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン
、ヘキサメチレン基等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖
アルキレン基を例示できる。
低級アルカノイルアミノ基としては、ホルミルアミノ、
アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ
、イソブチリルアミノ、ペンタノイルアミノ、’ te
rt−ブチルカルボニルアミノ、ヘキサノイルアミノ基
等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝状アルカノイル置換ア
ミノ基を例示できる。
アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ
、イソブチリルアミノ、ペンタノイルアミノ、’ te
rt−ブチルカルボニルアミノ、ヘキサノイルアミノ基
等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝状アルカノイル置換ア
ミノ基を例示できる。
フェニル環上にヒドロキシ基、ハロゲン原子、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、低級アルカノイルアミノ基
、低級アルキルチオ基及び低級アルキルスルフィニル基
からなる群から選ばれた置換基を1〜3個有することの
あるフェニル基としては、例えば、フェニル、2−クロ
ロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル
、2〜フルオロフエニル、3−フルオロフェニル、4−
フルオロフェニル、2−ブロムフェニル、3−ブロムフ
ェニル、4−ブロムフェニル、2−ヨードフェニル、4
−ヨードフェニル、3.5−ジクロロフェニル、2,6
−ジクロロフェニル、3,4−ジクロロフェニル、3,
4−ジフルオロフェニル、3,5−ジブロムフェニル、
2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチル
フェニル、2−エチルフェニル、3−エチルフェニル、
4−エチルフェニル、3−イソプロピルフェニル、4−
へキシルフェニル、3.4−ジメチルフェニル、2.5
−ジメチルフェニル、2−メトキシフェニル、3−メト
キシフェニル、4−メトキシフエニル、2−エトキシフ
ェニル、3−エトキシフェニル、4−エトキシフェニル
、4−イソプロポキシフェニル、4−へキシルオキシフ
ェニル、3,4〜ジメトキシフエニル、3.4−ジェト
キシフェニル、3.4.5−1−リメトキシフェニル、
3゜4.5−トリクロロフェニル、3.4.5−t−リ
メチルフェニル、2,5−ジメトキシフェニル、2−メ
チルチオフェニル、3−メチルチオフェニル、4−メチ
ルチオフェニル、2−エチルチオフェニル、3−エチル
チオフェニル、4−エチルチオフェニル、3−イソプロ
ピルチオフェニル、4〜へキシルチオフェニル、3,4
−ジメチルチオフェニル、2,5−ジメチルチオフェニ
ル、2−メチルスルフィニルフェニル、3−メチルスル
フィニルフェニル、4−メチルスルフィニルフェニル、
2−エチルスルフィニルフェニル、3−エチルスルフィ
ニルフェニル、4−エチルスルフィニルフェニル、3−
イソプロビルスルフイニルフエ二ル、4−ヘキシルスル
フィニルフェニル、3゜4−ジメチルスルフィニルフェ
ニル、2,5−ジメチルスルフィニルフェニル、2−メ
チル−4−クロロフェニル、2−メチル−3−クロロフ
ェニル、4−メチル−3−ブロモフェニル、2−ヒドロ
キシフェニル、3−ヒト0キシフエニル、4−ヒドロキ
シフェニル、2.4−ジヒドロキシフェニル、3,4−
ジヒドロキシフェニル、3,4゜5−トリヒドロキシフ
ェニル、2−アセチルアミノフェニル、3−プロピオニ
ルアミノフェニル、4−ホルミルアミノフェニル、2−
ブチリルアミノフェニル、3−ペンタノイルアミノフェ
ニル、4−ヘキザノイルアミノフェニル基等のフェニル
環上にヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜6の直
鎖又は分枝鎖アルキル基、炭素数1〜6の直鎖又は分枝
鎖アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルカ
ノイルアミノ基、炭素数1〜6の直鎖反は分枝鎖アルキ
ルチオ基及び炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキルス
ルノイニル基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個
有していてもよいフェニル基を例示できる。
キル基、低級アルコキシ基、低級アルカノイルアミノ基
、低級アルキルチオ基及び低級アルキルスルフィニル基
からなる群から選ばれた置換基を1〜3個有することの
あるフェニル基としては、例えば、フェニル、2−クロ
ロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル
、2〜フルオロフエニル、3−フルオロフェニル、4−
フルオロフェニル、2−ブロムフェニル、3−ブロムフ
ェニル、4−ブロムフェニル、2−ヨードフェニル、4
−ヨードフェニル、3.5−ジクロロフェニル、2,6
−ジクロロフェニル、3,4−ジクロロフェニル、3,
4−ジフルオロフェニル、3,5−ジブロムフェニル、
2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチル
フェニル、2−エチルフェニル、3−エチルフェニル、
4−エチルフェニル、3−イソプロピルフェニル、4−
へキシルフェニル、3.4−ジメチルフェニル、2.5
−ジメチルフェニル、2−メトキシフェニル、3−メト
キシフェニル、4−メトキシフエニル、2−エトキシフ
ェニル、3−エトキシフェニル、4−エトキシフェニル
、4−イソプロポキシフェニル、4−へキシルオキシフ
ェニル、3,4〜ジメトキシフエニル、3.4−ジェト
キシフェニル、3.4.5−1−リメトキシフェニル、
3゜4.5−トリクロロフェニル、3.4.5−t−リ
メチルフェニル、2,5−ジメトキシフェニル、2−メ
チルチオフェニル、3−メチルチオフェニル、4−メチ
ルチオフェニル、2−エチルチオフェニル、3−エチル
チオフェニル、4−エチルチオフェニル、3−イソプロ
ピルチオフェニル、4〜へキシルチオフェニル、3,4
−ジメチルチオフェニル、2,5−ジメチルチオフェニ
ル、2−メチルスルフィニルフェニル、3−メチルスル
フィニルフェニル、4−メチルスルフィニルフェニル、
2−エチルスルフィニルフェニル、3−エチルスルフィ
ニルフェニル、4−エチルスルフィニルフェニル、3−
イソプロビルスルフイニルフエ二ル、4−ヘキシルスル
フィニルフェニル、3゜4−ジメチルスルフィニルフェ
ニル、2,5−ジメチルスルフィニルフェニル、2−メ
チル−4−クロロフェニル、2−メチル−3−クロロフ
ェニル、4−メチル−3−ブロモフェニル、2−ヒドロ
キシフェニル、3−ヒト0キシフエニル、4−ヒドロキ
シフェニル、2.4−ジヒドロキシフェニル、3,4−
ジヒドロキシフェニル、3,4゜5−トリヒドロキシフ
ェニル、2−アセチルアミノフェニル、3−プロピオニ
ルアミノフェニル、4−ホルミルアミノフェニル、2−
ブチリルアミノフェニル、3−ペンタノイルアミノフェ
ニル、4−ヘキザノイルアミノフェニル基等のフェニル
環上にヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜6の直
鎖又は分枝鎖アルキル基、炭素数1〜6の直鎖又は分枝
鎖アルコキシ基、炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルカ
ノイルアミノ基、炭素数1〜6の直鎖反は分枝鎖アルキ
ルチオ基及び炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖アルキルス
ルノイニル基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個
有していてもよいフェニル基を例示できる。
一般式(1)の化合物は、例えば下記反応行程式−1の
方法で製造される。
方法で製造される。
反応行程式−1
〔式中R及びカルボスチリル骨格の3位と4位との炭素
間結合は前記に同じ。〕 上記反応行程式−1で示される方法は、一般式(2)で
表わされるカルボスチリル誘導体又はそのカルボキシ基
の活性化された誘導体と一般式(3)、で表わされるア
ミン又はそのアミン基の活性化された化合物とを通常の
アミド結合生成反応にて反応させることにより実施され
る。アミド結合生成反応は公知の各種方法例えば(イ)
混合酸無水物法、例えばカルボスチリル誘導体(2)に
アルキルハロカルボン酸を反応させて混合酸無水物とし
、これにアミン(3)を反応させる方法;(ロ)活性エ
ステル法、例えばカルボスチリル誘導体(2)をp−ニ
トロフェニルエステル、N−ヒドロキシコハク酸イミド
エステル、1−ヒドロキシベンゾトリアゾールエステル
等の活性エステルとし、これにアミン(3)を反応させ
る方法;(ハ)カルボジイミド法、即ちカルボスチリル
誘導体(2)にアミン(3)をジシクロへキシルカルボ
ジイミド、カルボニルジイミダゾール等の活性化剤の存
在下に縮合させる方法;(ニ)その他の方法、例えばカ
ルボスチリル誘導体(2)を無水酢酸等の脱水剤により
カルボン酸無水物とし、これにアミン(3)を反応させ
る方法、カルボスチリル誘導体(2)と低級アルコール
とのエステルにアミン(3)を高圧高温下に反応さVる
方法、カルボスチリル誘導体(2)の酸ハロゲン化物即
ちカルボン酸ハライドにアミン(3)を反応させる方法
等により実施することができる。またカルボスチリル誘
導体(2)をトリフェニルボスフィン、シアノリン酸ジ
エチル、ジエチルクロロホスフェート等のリン化合物で
活性化し、これにアミン(3)を反応させる方法等によ
ることもできる。
間結合は前記に同じ。〕 上記反応行程式−1で示される方法は、一般式(2)で
表わされるカルボスチリル誘導体又はそのカルボキシ基
の活性化された誘導体と一般式(3)、で表わされるア
ミン又はそのアミン基の活性化された化合物とを通常の
アミド結合生成反応にて反応させることにより実施され
る。アミド結合生成反応は公知の各種方法例えば(イ)
混合酸無水物法、例えばカルボスチリル誘導体(2)に
アルキルハロカルボン酸を反応させて混合酸無水物とし
、これにアミン(3)を反応させる方法;(ロ)活性エ
ステル法、例えばカルボスチリル誘導体(2)をp−ニ
トロフェニルエステル、N−ヒドロキシコハク酸イミド
エステル、1−ヒドロキシベンゾトリアゾールエステル
等の活性エステルとし、これにアミン(3)を反応させ
る方法;(ハ)カルボジイミド法、即ちカルボスチリル
誘導体(2)にアミン(3)をジシクロへキシルカルボ
ジイミド、カルボニルジイミダゾール等の活性化剤の存
在下に縮合させる方法;(ニ)その他の方法、例えばカ
ルボスチリル誘導体(2)を無水酢酸等の脱水剤により
カルボン酸無水物とし、これにアミン(3)を反応させ
る方法、カルボスチリル誘導体(2)と低級アルコール
とのエステルにアミン(3)を高圧高温下に反応さVる
方法、カルボスチリル誘導体(2)の酸ハロゲン化物即
ちカルボン酸ハライドにアミン(3)を反応させる方法
等により実施することができる。またカルボスチリル誘
導体(2)をトリフェニルボスフィン、シアノリン酸ジ
エチル、ジエチルクロロホスフェート等のリン化合物で
活性化し、これにアミン(3)を反応させる方法等によ
ることもできる。
上記(イ)に示す混合酸無水物法において、使用される
混合酸無水物は通常のショツテン−バウマン反応により
得られ、これを通常中IIIることなくアミン(3)と
反応させることにより一般式(1)の化合物が製造され
る。ショツテン〜バウマン反応は通常ショツテン−バウ
マン反応に慣用の塩基性化合物、例えばトリエチルアミ
ン、1〜リメチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン
、N−メチルモルホリン ン、1.5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5
(DBN)、1.8−ジアザビシクロ〔5。
混合酸無水物は通常のショツテン−バウマン反応により
得られ、これを通常中IIIることなくアミン(3)と
反応させることにより一般式(1)の化合物が製造され
る。ショツテン〜バウマン反応は通常ショツテン−バウ
マン反応に慣用の塩基性化合物、例えばトリエチルアミ
ン、1〜リメチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン
、N−メチルモルホリン ン、1.5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5
(DBN)、1.8−ジアザビシクロ〔5。
4、O〕ラウンセン−7 (DBU)、1.4−ジアザ
ビシクロ(2.2’,2)オクタン(DABCO)等の
有機塩基及び炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素
カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基の存在下、
約−20〜100℃、好ましくは0〜50℃において約
5分〜10時間、好ましくは5分〜2時間を要して行な
われる。得られた混合酸無水物とアミン(3)との反応
は、約−20〜150℃、好ましくは10〜50°Cに
おいて約5分〜10時間、好ましくは約5分〜1時間程
度を要して行なわれる。また上記混合酸無水物は一般に
この種混合酸無水物法に慣用の溶媒、具体的には塩化メ
チレン、クロ、ロホルム、ジクロルエタン等のハロゲン
化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジメトキシエタン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸
エチル等のエステル類、N,N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ド等の非プロトン性極性溶媒等の適当な溶媒、中又は非
存在下で行なわれる。尚上記混合酸無水物の製造におい
て使用されるアルキルハロカルボン酸としてはクロロ蟻
酸メチル、プロ七!!i酸メチル、クロロ蟻酸メチル、
ブロモ蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソブチル等を例示でき
、之等は通常カルボスチリル誘導体(2)に対し少なく
とも等モル量、好ましくは約1〜2倍モル量用いられる
。またアミン(3)の使用割合は、通常カルボスチリル
誘導体(2)に対して少なくとも等モル量、好ましくは
約1〜2倍モルとするのが好ましい。
ビシクロ(2.2’,2)オクタン(DABCO)等の
有機塩基及び炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素
カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基の存在下、
約−20〜100℃、好ましくは0〜50℃において約
5分〜10時間、好ましくは5分〜2時間を要して行な
われる。得られた混合酸無水物とアミン(3)との反応
は、約−20〜150℃、好ましくは10〜50°Cに
おいて約5分〜10時間、好ましくは約5分〜1時間程
度を要して行なわれる。また上記混合酸無水物は一般に
この種混合酸無水物法に慣用の溶媒、具体的には塩化メ
チレン、クロ、ロホルム、ジクロルエタン等のハロゲン
化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジメトキシエタン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸
エチル等のエステル類、N,N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ド等の非プロトン性極性溶媒等の適当な溶媒、中又は非
存在下で行なわれる。尚上記混合酸無水物の製造におい
て使用されるアルキルハロカルボン酸としてはクロロ蟻
酸メチル、プロ七!!i酸メチル、クロロ蟻酸メチル、
ブロモ蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソブチル等を例示でき
、之等は通常カルボスチリル誘導体(2)に対し少なく
とも等モル量、好ましくは約1〜2倍モル量用いられる
。またアミン(3)の使用割合は、通常カルボスチリル
誘導体(2)に対して少なくとも等モル量、好ましくは
約1〜2倍モルとするのが好ましい。
上記(口)に示す活性エステル法は、例えばN−ヒドロ
キシコハク酸イミドエステルを用いる場合を例にとれば
、反応に影響を与えない適当な溶媒中で行なわれる。該
溶媒としては、具体的には塩化メチレン、クロロホルム
、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン
、1ヘル■ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等
のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類
、N.N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プロトン性極
性溶媒等が挙げられる。反応は、0〜150℃、好まし
くは10〜100℃で、5〜30時間で終了する。アミ
ン(3)とN−ヒドロキシコハク酸イミドエステルとの
使用割合は、後者に対して前者を通常、少なくとも等モ
ル、好ましくは等モル−2倍モルとするのが望ましい。
キシコハク酸イミドエステルを用いる場合を例にとれば
、反応に影響を与えない適当な溶媒中で行なわれる。該
溶媒としては、具体的には塩化メチレン、クロロホルム
、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン
、1ヘル■ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等
のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類
、N.N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プロトン性極
性溶媒等が挙げられる。反応は、0〜150℃、好まし
くは10〜100℃で、5〜30時間で終了する。アミ
ン(3)とN−ヒドロキシコハク酸イミドエステルとの
使用割合は、後者に対して前者を通常、少なくとも等モ
ル、好ましくは等モル−2倍モルとするのが望ましい。
上記(二)に示すカルボン酸ハライドにアミン(3)を
反応させる方法を採用する場合、該反応は脱ハロゲン化
水素剤の存在下適当な溶媒中で行なわれる。この脱ハロ
ゲン化水素剤としては通常の塩基性化合物が用いられ、
塩基性化合物としては公知のものを広(使用でき、例え
ばショツテン−バウマン反応に用いられる塩基性化合物
のほかに水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム、炭酸銀、ナトリウムメチラ
ー1〜、ナ1〜リウムエチラート等のアルコラード等を
挙げることができる。なおアミン(3)を過剰量用いて
脱ハロゲン化水素剤として兼用できる。溶媒としては前
記混合酸無水物法に用いられる溶媒の他、例えばメタノ
ール、エタノール、プロパツール、ブタノール、3−メ
トキシ−1−ブタノール、エチルセロソルブ、メチルセ
ロソルブ等のアルコール類、ピリジン、アセ1〜ン、ア
セトニトリル等又は上記溶媒の二つ以上の混合溶媒等を
挙げることができる。アミン(3)とカルボン酸ハライ
ドとの使用割合は特に限定されず広範囲内で適宜選択さ
れるが、通常前者に対して後者を少なくとも等モル同程
度、奸ましくは等モル−2倍モル量用いるのがよい。該
反応は通常−30〜180℃程度、好ましくは約O〜1
50′Gで行なわれ、一般に5分〜30時間で反応は完
結する。
反応させる方法を採用する場合、該反応は脱ハロゲン化
水素剤の存在下適当な溶媒中で行なわれる。この脱ハロ
ゲン化水素剤としては通常の塩基性化合物が用いられ、
塩基性化合物としては公知のものを広(使用でき、例え
ばショツテン−バウマン反応に用いられる塩基性化合物
のほかに水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム、炭酸銀、ナトリウムメチラ
ー1〜、ナ1〜リウムエチラート等のアルコラード等を
挙げることができる。なおアミン(3)を過剰量用いて
脱ハロゲン化水素剤として兼用できる。溶媒としては前
記混合酸無水物法に用いられる溶媒の他、例えばメタノ
ール、エタノール、プロパツール、ブタノール、3−メ
トキシ−1−ブタノール、エチルセロソルブ、メチルセ
ロソルブ等のアルコール類、ピリジン、アセ1〜ン、ア
セトニトリル等又は上記溶媒の二つ以上の混合溶媒等を
挙げることができる。アミン(3)とカルボン酸ハライ
ドとの使用割合は特に限定されず広範囲内で適宜選択さ
れるが、通常前者に対して後者を少なくとも等モル同程
度、奸ましくは等モル−2倍モル量用いるのがよい。該
反応は通常−30〜180℃程度、好ましくは約O〜1
50′Gで行なわれ、一般に5分〜30時間で反応は完
結する。
上記においてカルボン酸ハライドは、例えばカルボスチ
リル誘導体(2)とハロゲン化剤とを無溶媒下又は溶媒
の存在下に反応させることにより製造される。溶媒とし
ては、反応に悪影響を与えないものであれば使用でき、
例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン
、ジエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
リル誘導体(2)とハロゲン化剤とを無溶媒下又は溶媒
の存在下に反応させることにより製造される。溶媒とし
ては、反応に悪影響を与えないものであれば使用でき、
例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン
、ジエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
ハロゲン化剤としては、カルボキシ基の水酸基をハロゲ
ンに変える、通常のハロゲン化剤を使用でき、例えば塩
化チオニル、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、五塩化
リン、五臭化リン等が例示される。カルボスチリル誘導
体(2)とハロゲン化剤との使用割合は特に限定されず
適宜選択されるが、無溶媒下で反応を行なう場合には、
通常前者に対して後者を大過剰量、また溶媒中で反応を
行なう場合には、通常前者に対・して後者を少なくとも
等モル量程度、好ましくは2〜4倍モル量を用いる。そ
の反応温r5(及び反応時間)も特に限定されないが、
通常室温〜100℃程度、好ましくは50〜80℃にて
、30分間〜6時間程度で行なわれる。
ンに変える、通常のハロゲン化剤を使用でき、例えば塩
化チオニル、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、五塩化
リン、五臭化リン等が例示される。カルボスチリル誘導
体(2)とハロゲン化剤との使用割合は特に限定されず
適宜選択されるが、無溶媒下で反応を行なう場合には、
通常前者に対して後者を大過剰量、また溶媒中で反応を
行なう場合には、通常前者に対・して後者を少なくとも
等モル量程度、好ましくは2〜4倍モル量を用いる。そ
の反応温r5(及び反応時間)も特に限定されないが、
通常室温〜100℃程度、好ましくは50〜80℃にて
、30分間〜6時間程度で行なわれる。
またカルボスチリル誘導体(2)をトリフェニルホスフ
ィンやジエチルクロロホスフェ−1へ等のリン化合物で
活性化し、これにアミン(3)を反応させる方法は、適
当な溶媒中で行なうことができる。ここで溶媒どしては
反応に影響を与えないものならいずれでも使用できるが
、具体的には塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエ
タン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類、
酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、N、N−ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げ
られる。上記反応では、アミン(3)自体が塩基性化合
物として働くため、これを理論量より過剰量用いること
により、反応は良好に進行するが、必要に応じて、他の
塩基性化合物、例えば、トリエチルアミン、トリメチル
アミン、ピリジン、ジメチルアニリン、N−メチルモル
ボリン、OBN、1)BLI、0A8GO等の有R塩基
及び炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム
、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基を用いることもでき
る。該反応は約O〜150℃、好ましくは約0〜100
℃において行なわれ、反応時間は約1〜30時間である
。カルボスチリル誘導体(2)に対するリン化合物及び
アミン(3)の使用割合は、それぞれ通常少なくとも等
モル同程度、好ましくは1〜3倍モル量とされる。
ィンやジエチルクロロホスフェ−1へ等のリン化合物で
活性化し、これにアミン(3)を反応させる方法は、適
当な溶媒中で行なうことができる。ここで溶媒どしては
反応に影響を与えないものならいずれでも使用できるが
、具体的には塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエ
タン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類、
酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、N、N−ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げ
られる。上記反応では、アミン(3)自体が塩基性化合
物として働くため、これを理論量より過剰量用いること
により、反応は良好に進行するが、必要に応じて、他の
塩基性化合物、例えば、トリエチルアミン、トリメチル
アミン、ピリジン、ジメチルアニリン、N−メチルモル
ボリン、OBN、1)BLI、0A8GO等の有R塩基
及び炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム
、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基を用いることもでき
る。該反応は約O〜150℃、好ましくは約0〜100
℃において行なわれ、反応時間は約1〜30時間である
。カルボスチリル誘導体(2)に対するリン化合物及び
アミン(3)の使用割合は、それぞれ通常少なくとも等
モル同程度、好ましくは1〜3倍モル量とされる。
反応行程式−2
1−I H〔
式中R及びカルボスチリル骨格の3位と4位との炭素間
結合は前記に同じ。×1はハロゲン原子、低級アルカン
スルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基又は
アラルキルスルホニルオキシ基を示す。〕 即ち一般式(1)で表わされる化合物は、一般式(4)
で表わされる公知化合物と一般式(5)で表わされる化
合物とを反応させることにより製造される。この反応は
前記したカルボン酸ハライドにアミン(3)を反応させ
る方法と同様の操作及び条件下に実施することができる
。該反応には、沃化鋼、銅粉等の銅化合物を添加するこ
とができる。
式中R及びカルボスチリル骨格の3位と4位との炭素間
結合は前記に同じ。×1はハロゲン原子、低級アルカン
スルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基又は
アラルキルスルホニルオキシ基を示す。〕 即ち一般式(1)で表わされる化合物は、一般式(4)
で表わされる公知化合物と一般式(5)で表わされる化
合物とを反応させることにより製造される。この反応は
前記したカルボン酸ハライドにアミン(3)を反応させ
る方法と同様の操作及び条件下に実施することができる
。該反応には、沃化鋼、銅粉等の銅化合物を添加するこ
とができる。
尚上記一般式(5)で表わされる化合物において、×1
で定義されるハロゲン原子としては具体的には塩素、弗
素、臭素及び沃素原子であり、低級アルカンスルホニル
オキシ基としては具体的にはメタンスルボニルオキシ、
■タンスルホニルオキシ、イソプロパンスルホニルオキ
シ、プロパンスルホニルオキシ、ブタンスルホニルオキ
シ、tert−ブタンスルホニルオキシ、ペンタンスル
ホニルオキシ、ヘキ号ンスルホニルオキシ基等を例示で
き、またアリールスルホニルオキシ基としては具体的に
はフェニルスルホニルオキシ、4−メチルフェニルスル
ボニルオキシ、2−メチルフェニルスルホニルオキシ、
4−ニトロフェニルスルホニルオキシ、4−メトキシフ
ェニルスルホニルオキシ、3−クロルフェニルスルホニ
ルオキシ、α−ナフチルスルホニルオキシ基等の置換又
は未置換のアリールスルホニルオキシ基を例示でき、ま
たアラルキルスルホニルオキシ基としては具体的にはベ
ンジルスルホニルオキシ、2−フェニルエチルスルボニ
ルオキシ、4−フェニルブチルスルホニルオキシ、4−
メチルベンジルスルホニルオキシ、2−メチルベンジル
スルホニルオキシ、4−二1〜Oベンジルスルホニルオ
キシ、4−メトキシベンジルスルホニルオキシ、3−ク
ロロベンジルスルホニルオキシ、α−ナフチルメチルス
ルホニルオキシ基等の置換又は未置換のアラルキルスル
ホニルオキシ基等を例示できる。
で定義されるハロゲン原子としては具体的には塩素、弗
素、臭素及び沃素原子であり、低級アルカンスルホニル
オキシ基としては具体的にはメタンスルボニルオキシ、
■タンスルホニルオキシ、イソプロパンスルホニルオキ
シ、プロパンスルホニルオキシ、ブタンスルホニルオキ
シ、tert−ブタンスルホニルオキシ、ペンタンスル
ホニルオキシ、ヘキ号ンスルホニルオキシ基等を例示で
き、またアリールスルホニルオキシ基としては具体的に
はフェニルスルホニルオキシ、4−メチルフェニルスル
ボニルオキシ、2−メチルフェニルスルホニルオキシ、
4−ニトロフェニルスルホニルオキシ、4−メトキシフ
ェニルスルホニルオキシ、3−クロルフェニルスルホニ
ルオキシ、α−ナフチルスルホニルオキシ基等の置換又
は未置換のアリールスルホニルオキシ基を例示でき、ま
たアラルキルスルホニルオキシ基としては具体的にはベ
ンジルスルホニルオキシ、2−フェニルエチルスルボニ
ルオキシ、4−フェニルブチルスルホニルオキシ、4−
メチルベンジルスルホニルオキシ、2−メチルベンジル
スルホニルオキシ、4−二1〜Oベンジルスルホニルオ
キシ、4−メトキシベンジルスルホニルオキシ、3−ク
ロロベンジルスルホニルオキシ、α−ナフチルメチルス
ルホニルオキシ基等の置換又は未置換のアラルキルスル
ホニルオキシ基等を例示できる。
反応行程式−5
ト1
〔式中R及びカルボスチリル骨格の3位と4位との炭素
間結合は前記に同じ。Xは水M基又は上記X1と同一の
基を示す。〕 即ち一般式(1)で表わされる化合物は、一般式(2)
の公知の化合物と一般式(6)の化合物を反応させ、斯
くして得られる一般式(7)の公知の化合物に一般式(
8)の化合物を反応させることにより製造できる。上記
第1の工程にお+−Jる反応は、前記一般式(2)の化
合物と一般式(3)の化合物との反応と同様の操作及び
条件下に行なわれる。
間結合は前記に同じ。Xは水M基又は上記X1と同一の
基を示す。〕 即ち一般式(1)で表わされる化合物は、一般式(2)
の公知の化合物と一般式(6)の化合物を反応させ、斯
くして得られる一般式(7)の公知の化合物に一般式(
8)の化合物を反応させることにより製造できる。上記
第1の工程にお+−Jる反応は、前記一般式(2)の化
合物と一般式(3)の化合物との反応と同様の操作及び
条件下に行なわれる。
また上記第1工程に引き続く第2工程は、一般式(7)
の化合物におけるXの種類に応じて、下記の如くして行
なわれる。即ち一般式(7)の化合物としてXがハロゲ
ン原子、低級アルカンスルホニルオキシ基、アリールス
ルホニルオキシ基又はアラルキルスルホニルオキシ基を
示す化合物を用いる場合には、該一般式(7)の化合物
と一般式(8)の化合物との反応は、一般に適当な不活
性溶媒中塩基性縮合剤の存在下又は不存在下にて行なわ
れる。不活性溶媒としては例えばベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノー
ル、イソプロパツール、ブタノ一ル等の低級アルコール
類、酢酸、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等を挙
げることができる。また塩基性縮合剤としては例えば炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム等の炭酸塩、水酸化す1〜リウム、水酸
化カリウム等の金属水酸化物、ナトリウムメチラート、
ナトリウムエチラー1へ等の金属アルコラ−I・、ピリ
ジン、トリエチルアミン等の第3級アミン等を挙げるこ
とができる。一般式(7)の化合物と一般式(8)の化
合物との使用割合としては特に限定がなく広い範囲内で
適宜選択すればよいが、前者に対して後者を通常少なく
とも等モル量程度、好ましくは等1モル〜5倍モルm用
いるのがよい。該反応は通常40〜120℃程痕、好ま
しくは50〜100℃にて行なわれ、一般に5〜30時
間程度で反応は終了する。
の化合物におけるXの種類に応じて、下記の如くして行
なわれる。即ち一般式(7)の化合物としてXがハロゲ
ン原子、低級アルカンスルホニルオキシ基、アリールス
ルホニルオキシ基又はアラルキルスルホニルオキシ基を
示す化合物を用いる場合には、該一般式(7)の化合物
と一般式(8)の化合物との反応は、一般に適当な不活
性溶媒中塩基性縮合剤の存在下又は不存在下にて行なわ
れる。不活性溶媒としては例えばベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノー
ル、イソプロパツール、ブタノ一ル等の低級アルコール
類、酢酸、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等を挙
げることができる。また塩基性縮合剤としては例えば炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム等の炭酸塩、水酸化す1〜リウム、水酸
化カリウム等の金属水酸化物、ナトリウムメチラート、
ナトリウムエチラー1へ等の金属アルコラ−I・、ピリ
ジン、トリエチルアミン等の第3級アミン等を挙げるこ
とができる。一般式(7)の化合物と一般式(8)の化
合物との使用割合としては特に限定がなく広い範囲内で
適宜選択すればよいが、前者に対して後者を通常少なく
とも等モル量程度、好ましくは等1モル〜5倍モルm用
いるのがよい。該反応は通常40〜120℃程痕、好ま
しくは50〜100℃にて行なわれ、一般に5〜30時
間程度で反応は終了する。
また一般式(7)の化合物のうちXが水酸基を示す化合
物を用いる場合、該一般式(7)の化合物と一般式(8
)の化合物と、の反応は、脱水縮合剤の存在下無溶媒下
又は適当な溶媒中にて行なわれる。使用される脱水縮合
剤としては例えばポリリン酸等の縮合リン酸類、正リン
酸、焦リン酸、メタリン酸等のリン酸類、1亜リン酸等
の亜リン酸類、五酸化リン等の無水リン酸類、塩酸、I
Ii!i酸、ホウ酸等の酸類、リン酸ナトリウム、ポロ
ンホスフェート、リン酸第二鉄、リン酸アルミニウム等
の金属リン酸塩類、活性アルミナ、重硫酸ナトリウム、
ラネーニッケル等を挙げることができる。
物を用いる場合、該一般式(7)の化合物と一般式(8
)の化合物と、の反応は、脱水縮合剤の存在下無溶媒下
又は適当な溶媒中にて行なわれる。使用される脱水縮合
剤としては例えばポリリン酸等の縮合リン酸類、正リン
酸、焦リン酸、メタリン酸等のリン酸類、1亜リン酸等
の亜リン酸類、五酸化リン等の無水リン酸類、塩酸、I
Ii!i酸、ホウ酸等の酸類、リン酸ナトリウム、ポロ
ンホスフェート、リン酸第二鉄、リン酸アルミニウム等
の金属リン酸塩類、活性アルミナ、重硫酸ナトリウム、
ラネーニッケル等を挙げることができる。
また使用される溶媒としては例えばジメチルホルムアミ
ド、テトラリン等の高沸点溶媒を挙げることができる。
ド、テトラリン等の高沸点溶媒を挙げることができる。
一般式(7)の化合物と一般式(8)の化合物との使用
割合としては特に限定がなく広い範囲内で適宜選択する
ことができるが、通常前者に対して後者を0.8モル量
程度以上、好ましくは0.8モル〜2倍モルm用いるの
がよい。脱水縮合剤の使用量としては特に限定されず広
範囲から適宜選択し得るが、一般式(7)の化合物に対
して通常触媒量以上、好ましくは0.5〜5倍モル量程
度用いるのがよい。上記反応では有利な酸化反応を防止
する目的で、不活性ガス例えばCO2又はN2気流中で
行ない得る。また反応は通常常圧下、約100〜350
℃、好ましくは125〜255℃にて約3〜10時間程
度で行なわれる。
割合としては特に限定がなく広い範囲内で適宜選択する
ことができるが、通常前者に対して後者を0.8モル量
程度以上、好ましくは0.8モル〜2倍モルm用いるの
がよい。脱水縮合剤の使用量としては特に限定されず広
範囲から適宜選択し得るが、一般式(7)の化合物に対
して通常触媒量以上、好ましくは0.5〜5倍モル量程
度用いるのがよい。上記反応では有利な酸化反応を防止
する目的で、不活性ガス例えばCO2又はN2気流中で
行ない得る。また反応は通常常圧下、約100〜350
℃、好ましくは125〜255℃にて約3〜10時間程
度で行なわれる。
反応行程式−4
H+−1
(2> (10)〔式中
R及びカルボスチリル骨格の3位と4位との炭素間結合
は前記に同じ。〕 一般式(1)で表わされる化合物は、また上記のように
公知の一般式(2)の化合物にモルホリン(9)を反応
させ公知のモルホリン誘導体(10)としたのち、これ
に一般式(8)の化合物を反応させることによっても製
造できる。
R及びカルボスチリル骨格の3位と4位との炭素間結合
は前記に同じ。〕 一般式(1)で表わされる化合物は、また上記のように
公知の一般式(2)の化合物にモルホリン(9)を反応
させ公知のモルホリン誘導体(10)としたのち、これ
に一般式(8)の化合物を反応させることによっても製
造できる。
上記において一般式(2)の化合物とモルホリン(9)
との反応は、前記した一般式(2)の化合物と一般式(
3)の化合物との反応と同様の操作及び条件下に行ない
得る。またかくして得られる一般式(10)の化合物と
一般式(8)の化合物との反応は、無溶媒下又は適当な
溶媒中酸の存在下にて行なわれる。溶媒としては例えば
テトラリン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の高沸点溶媒を
使用できる。酸としては例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸
等を使用できる。一般式(10)の化合物と一般式(8
)の化合物との使用割合は、特に限定されず広い範囲内
で適宜選択でき、通常前者に対して後者を少なくとも等
モルM程度、好ましくは等モル−2倍モル量用いるのが
よい。該反応は通常50〜250℃程度、好ましくは1
50〜200℃にて行なわれ、一般に1〜24時間程時
間段応は終了する。
との反応は、前記した一般式(2)の化合物と一般式(
3)の化合物との反応と同様の操作及び条件下に行ない
得る。またかくして得られる一般式(10)の化合物と
一般式(8)の化合物との反応は、無溶媒下又は適当な
溶媒中酸の存在下にて行なわれる。溶媒としては例えば
テトラリン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の高沸点溶媒を
使用できる。酸としては例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸
等を使用できる。一般式(10)の化合物と一般式(8
)の化合物との使用割合は、特に限定されず広い範囲内
で適宜選択でき、通常前者に対して後者を少なくとも等
モルM程度、好ましくは等モル−2倍モル量用いるのが
よい。該反応は通常50〜250℃程度、好ましくは1
50〜200℃にて行なわれ、一般に1〜24時間程時
間段応は終了する。
−40=
反応行程式−5
(1a)
〔式中R1及びR2は前記に同じ、R3及びR4は同−
又は異なって水素原子又は低級アルキル基を示す。〕 一般式(4)の化合物と一般式(11)の化合物の反応
は、溶媒の存在下又は不存在下、塩基性化合物の存在下
又は不存在下に行なわれる。該反−41〒 応は、通常室温〜200℃、好ましくは60〜120’
C付近にて好適に進行し、一般に1〜24時間程麿にて
反応は終了する。ここで使用される溶媒としては、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメ
チルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタ
ノール、エタノール、イソプロパツール等の低級アルコ
ール類、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ド等の極性溶媒等を例示できる。また塩基性化合物とし
ては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナ
トリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムアミド等の
無機塩基、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピ
リジン、キノリン等の有機塩基等を例示できる。一般式
(11)の化合物の使用量としては、一般式(4)の化
合−物に対して通常少なくとも等モル、好ましくは等モ
ル−5倍モル量程度とづ−るのがよい。
又は異なって水素原子又は低級アルキル基を示す。〕 一般式(4)の化合物と一般式(11)の化合物の反応
は、溶媒の存在下又は不存在下、塩基性化合物の存在下
又は不存在下に行なわれる。該反−41〒 応は、通常室温〜200℃、好ましくは60〜120’
C付近にて好適に進行し、一般に1〜24時間程麿にて
反応は終了する。ここで使用される溶媒としては、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメ
チルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタ
ノール、エタノール、イソプロパツール等の低級アルコ
ール類、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ド等の極性溶媒等を例示できる。また塩基性化合物とし
ては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナ
トリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムアミド等の
無機塩基、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピ
リジン、キノリン等の有機塩基等を例示できる。一般式
(11)の化合物の使用量としては、一般式(4)の化
合−物に対して通常少なくとも等モル、好ましくは等モ
ル−5倍モル量程度とづ−るのがよい。
出発原料として使用される一般式(11)の化合物は、
例えば下記反応行程式−6に示す方法により製造される
。
例えば下記反応行程式−6に示す方法により製造される
。
反応行程式−6
(R2)
〔式中R1、R2、R3及びR4は前記に同じ。〕一般
式(12)の化合物とサルファーイリド(13)との反
応は、適当な溶媒中にて行なわれる。ここで使用される
溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の
極性溶媒等を例示できる。該反応は、通常−50〜70
℃、好ましくは一30〜50℃付近にて好適に進行し、
一般に10分〜5時間程度にて反応は終了する。
式(12)の化合物とサルファーイリド(13)との反
応は、適当な溶媒中にて行なわれる。ここで使用される
溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の
極性溶媒等を例示できる。該反応は、通常−50〜70
℃、好ましくは一30〜50℃付近にて好適に進行し、
一般に10分〜5時間程度にて反応は終了する。
該反応で使用されるサルファーイリド(13)としては
、例えば一般式 〔式中、R3及びR4は前記に同じ。Q 1.io又は
1の整数を示す。R5及びR8は同−又は箕なって低級
アルキル基、フェニル基、低級アルキルアミノ基、フェ
ニル低級アルキル基、低級アルケニル基又は低級アルコ
キシ基を示′?lo〕で表わされる化合物等を挙げるこ
とができる。サルファーイリド(13)の使用量として
は、一般式(12)の化合物に対して通常少なくとも等
モル、好ましくは等モル−2倍モル量とするのがよい。
、例えば一般式 〔式中、R3及びR4は前記に同じ。Q 1.io又は
1の整数を示す。R5及びR8は同−又は箕なって低級
アルキル基、フェニル基、低級アルキルアミノ基、フェ
ニル低級アルキル基、低級アルケニル基又は低級アルコ
キシ基を示′?lo〕で表わされる化合物等を挙げるこ
とができる。サルファーイリド(13)の使用量として
は、一般式(12)の化合物に対して通常少なくとも等
モル、好ましくは等モル−2倍モル量とするのがよい。
−44=
反応行程式−7
Hト1
(14) (It))〔式中A
XR2及びカルボスチリル骨格の3位と、4位との炭素
間結合は前記に同じ。〕公知の一般式(14)の化合物
の還元反応には、種々の方法が適用できるが、例えば水
素化還元剤を用いる方法が好適に利用される。用いられ
る水素化還元剤としては、例えば水素化アルミニウムリ
チウム、水素化ホウ素ナトリウム、ジボラン等が挙げら
れ、これらの使用量は通常化合物(14)に対して少く
とも等モル、好ましくは等モル−10倍モルの範囲であ
る。この還元反応は、通常適当な溶媒、例えば水、メタ
ノール、エタノール、イソプロパツール等の低級アルコ
ール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジグ
ライム等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、酢酸等
の極性溶媒又はこれらの混合溶媒等を用い、通常的−6
0〜50℃、好ましくは30’C〜室温にて、約10分
間〜3時間程度で行なわれる。尚、還元剤として水素化
アルミニウムリチウムやジボランを用いた場合には、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジグライム等の
無水の溶媒を用いるのがよい。
XR2及びカルボスチリル骨格の3位と、4位との炭素
間結合は前記に同じ。〕公知の一般式(14)の化合物
の還元反応には、種々の方法が適用できるが、例えば水
素化還元剤を用いる方法が好適に利用される。用いられ
る水素化還元剤としては、例えば水素化アルミニウムリ
チウム、水素化ホウ素ナトリウム、ジボラン等が挙げら
れ、これらの使用量は通常化合物(14)に対して少く
とも等モル、好ましくは等モル−10倍モルの範囲であ
る。この還元反応は、通常適当な溶媒、例えば水、メタ
ノール、エタノール、イソプロパツール等の低級アルコ
ール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジグ
ライム等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、酢酸等
の極性溶媒又はこれらの混合溶媒等を用い、通常的−6
0〜50℃、好ましくは30’C〜室温にて、約10分
間〜3時間程度で行なわれる。尚、還元剤として水素化
アルミニウムリチウムやジボランを用いた場合には、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジグライム等の
無水の溶媒を用いるのがよい。
出発原料の一般式(14)の化合物は、例えば下記反応
行程式−8により製造されることができる。
行程式−8により製造されることができる。
反応行程式−3
Hト1
(式中A、R2、Xl及びカルボスチリル骨格の3位と
4位との炭素間結合は前記に同じ。)公知の一般式(1
5)の化合物と一般式(16)の化合物との反応は、脱
ハロゲン化水素剤の存在下適当な溶媒中にて行なわれる
。この脱ハロゲン化水素剤としては通常の塩基性化合物
が用いられる。塩基性化合物としては公知のものを広く
使用でき、例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン
、ピリジン、ジメヂルアニリン、N−メチルモルホリン
、4−ジメチルアミノピリジン、1,5一ジアザビシク
ロ(4,3,0)ノネン−3(DBN)、1.8−シフ
+fビシ’yD (5,4,、O)ウンデセン−7(D
BU>、1.4−ジアザビシフ0 (2,2,2)−A
−’)’lン(DABCO)等の有機塩基、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸銀、ナトリウムメチラー
ト、ナトリウムエチラート等のアルコラード、炭酸カリ
ウム、rA酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
すし・リウム等の無機塩基等を挙げることができる。ま
た使用される溶媒としては、塩化メチレン、クロロホル
ム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭イヒ水素類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族膨化水素類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン
等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル
類、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プロトン性
極性溶媒、メタノール、エタノール、プロパツール、ブ
タノ一ル、3−メトキシ−1−ブタノール、エチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブ等のアルコール類、ピリジン
、アセトン、アセトニトリル等又はこれらの混合溶媒等
を挙げることかできる。一般式(15)の化合物と一般
式(16)の化合物との使用割合としては、特に限定が
なく広い範囲内で適宜選択されるが、通常前者に対して
後者を少くとも等モル量程爪、好ましくは等モル−2倍
モル量用いるのがよい。該反応は、通常−30〜180
℃程度、好ましくは約O〜150℃にて好適に進行し、
一般に5分〜30時間で反応は完結する。
4位との炭素間結合は前記に同じ。)公知の一般式(1
5)の化合物と一般式(16)の化合物との反応は、脱
ハロゲン化水素剤の存在下適当な溶媒中にて行なわれる
。この脱ハロゲン化水素剤としては通常の塩基性化合物
が用いられる。塩基性化合物としては公知のものを広く
使用でき、例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン
、ピリジン、ジメヂルアニリン、N−メチルモルホリン
、4−ジメチルアミノピリジン、1,5一ジアザビシク
ロ(4,3,0)ノネン−3(DBN)、1.8−シフ
+fビシ’yD (5,4,、O)ウンデセン−7(D
BU>、1.4−ジアザビシフ0 (2,2,2)−A
−’)’lン(DABCO)等の有機塩基、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸銀、ナトリウムメチラー
ト、ナトリウムエチラート等のアルコラード、炭酸カリ
ウム、rA酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
すし・リウム等の無機塩基等を挙げることができる。ま
た使用される溶媒としては、塩化メチレン、クロロホル
ム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭イヒ水素類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族膨化水素類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン
等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル
類、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プロトン性
極性溶媒、メタノール、エタノール、プロパツール、ブ
タノ一ル、3−メトキシ−1−ブタノール、エチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブ等のアルコール類、ピリジン
、アセトン、アセトニトリル等又はこれらの混合溶媒等
を挙げることかできる。一般式(15)の化合物と一般
式(16)の化合物との使用割合としては、特に限定が
なく広い範囲内で適宜選択されるが、通常前者に対して
後者を少くとも等モル量程爪、好ましくは等モル−2倍
モル量用いるのがよい。該反応は、通常−30〜180
℃程度、好ましくは約O〜150℃にて好適に進行し、
一般に5分〜30時間で反応は完結する。
−49=
反応行程式−9
(lc) (ld)(式
中へ及びRは前記に同じ。) 一般式(1d)の化合物の還元には通常の接触還元条件
が適用される。用いられる触媒としてはパラジウム、パ
ラジウム−炭素、プラチナ、ラネーニッケル等の金属を
例示でき、斯かる金属を通常の触媒量で用いるのがよい
。また用いられる溶媒としては例えば水、メタノール、
エタノール、イソプロパツール、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ヘキサン、シクロヘキサン、酢酸エチル又
は之等の混合溶媒等を挙げることができる。該反応は常
圧及び加圧下のいずれでも行ない(qるが、通常常圧〜
20 kq/ cm3、好ましくは常圧〜10k(+/
cm3にて行なうのがよい。また反応温度としては通
常O〜150℃程度、好ましくは室温〜100℃とする
のがよい。
中へ及びRは前記に同じ。) 一般式(1d)の化合物の還元には通常の接触還元条件
が適用される。用いられる触媒としてはパラジウム、パ
ラジウム−炭素、プラチナ、ラネーニッケル等の金属を
例示でき、斯かる金属を通常の触媒量で用いるのがよい
。また用いられる溶媒としては例えば水、メタノール、
エタノール、イソプロパツール、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ヘキサン、シクロヘキサン、酢酸エチル又
は之等の混合溶媒等を挙げることができる。該反応は常
圧及び加圧下のいずれでも行ない(qるが、通常常圧〜
20 kq/ cm3、好ましくは常圧〜10k(+/
cm3にて行なうのがよい。また反応温度としては通
常O〜150℃程度、好ましくは室温〜100℃とする
のがよい。
また一般式(1C)の化合物の脱水素反応は、適当な溶
媒中酸化剤を使用して行なわれる。
媒中酸化剤を使用して行なわれる。
用いられる酸化剤としては例えば2,3−ジクロロ−5
,6−ジシアツベンゾキノン、クロラニル(2,3,’
5.6−チトラクロロベンゾキノン)等のベンゾキノン
類、N−ブロモコハク酸イミド、N−クロロコハク酸イ
ミド、臭素等のハロゲン化剤、二酸化セレン、パラジウ
ム炭素、パラジウム黒、酸化パラジウム、ラネーニッケ
ル等の脱水素化−媒を挙げることができる。酸化剤の使
用量としては特に現定されず広い範囲から適宜選択すれ
ばよいが、ハロゲン化剤の場合には通常一般式(Ia)
の化合物に対して通常1〜5倍モル量、好ましくは1〜
2倍モル量使用するのがよく、また脱水素化触媒の場合
には通常過剰量用いるのがよい。また溶媒としてはジオ
キサン、テトラヒドロフラン、メトキシエタノール、ツ
メ1−キシエタン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン
、キシレン、クメン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類、ブタノール、アミルアルコール
、ヘキサノール等のアルコール類、酢酸等の極性プロト
ン溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の極性非プロトン溶
媒類等を例示できる。
,6−ジシアツベンゾキノン、クロラニル(2,3,’
5.6−チトラクロロベンゾキノン)等のベンゾキノン
類、N−ブロモコハク酸イミド、N−クロロコハク酸イ
ミド、臭素等のハロゲン化剤、二酸化セレン、パラジウ
ム炭素、パラジウム黒、酸化パラジウム、ラネーニッケ
ル等の脱水素化−媒を挙げることができる。酸化剤の使
用量としては特に現定されず広い範囲から適宜選択すれ
ばよいが、ハロゲン化剤の場合には通常一般式(Ia)
の化合物に対して通常1〜5倍モル量、好ましくは1〜
2倍モル量使用するのがよく、また脱水素化触媒の場合
には通常過剰量用いるのがよい。また溶媒としてはジオ
キサン、テトラヒドロフラン、メトキシエタノール、ツ
メ1−キシエタン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン
、キシレン、クメン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類、ブタノール、アミルアルコール
、ヘキサノール等のアルコール類、酢酸等の極性プロト
ン溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の極性非プロトン溶
媒類等を例示できる。
該反応は通常室温〜300℃、好ましくは室温〜200
℃にて行なわれ、一般に1〜40時間程度で反応は終了
する。
℃にて行なわれ、一般に1〜40時間程度で反応は終了
する。
一般式(1)の化合物において、R又はR2がフェニル
環上に低級アルキルチオ基を有するフェニル低級アルケ
ニル基又はフェニル環上に低級アルキルチオ基を1〜3
個有するフェニル基を示す化合物である場合には、該化
合物を適当な溶媒中、酸化剤の存在下に酸化することに
より、対応するR又はR2がフェニル環上に低級アルキ
ルスルフィニル基を有するフェニル低級アルケニル基又
はフェニル環上に低級アルキルスルフィニル基を1〜3
個有するフェニル基を示す化合物に変換することもでき
る。
環上に低級アルキルチオ基を有するフェニル低級アルケ
ニル基又はフェニル環上に低級アルキルチオ基を1〜3
個有するフェニル基を示す化合物である場合には、該化
合物を適当な溶媒中、酸化剤の存在下に酸化することに
より、対応するR又はR2がフェニル環上に低級アルキ
ルスルフィニル基を有するフェニル低級アルケニル基又
はフェニル環上に低級アルキルスルフィニル基を1〜3
個有するフェニル基を示す化合物に変換することもでき
る。
ここで使用される溶媒としては、水、ギ酸、酢酸、トリ
フルオロ酢酸等の有機酸、メタノール、エタノール等の
アルコール類、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロ
ゲン化炭化水素類等又はこれらの混合溶媒等を例示でき
る。また使用される酸化剤としては、メルカプト基をス
ルホキシド基に酸化し得るものである限り、従来公知の
酸化剤をいずれも使用可能であるが、例えば過ギ酸、過
酢酸、過トリフルオロ酢酸、過安息香酸、m−クロロ過
安息香酸、〇−カルボニル過安息香酸等の過酸類、過酸
化水素、重クロム酸、重クロム酸ナトリウム、重クロム
酸カリウム等の重クロム酸塩、過マンガン酸、過マンガ
ン酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム等の過マンガン
酸塩等を例示できる。斯かる酸化剤の使用量としては、
原料化合物に対して通常少なくとも等モル、好ましくは
等モル−4倍モル量とするのがよい。該反応は、通常−
20〜40℃、好ましくは一り0℃〜室温付近にて好適
に進行し、一般に0.5〜50時間程度にて終了する。
フルオロ酢酸等の有機酸、メタノール、エタノール等の
アルコール類、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロ
ゲン化炭化水素類等又はこれらの混合溶媒等を例示でき
る。また使用される酸化剤としては、メルカプト基をス
ルホキシド基に酸化し得るものである限り、従来公知の
酸化剤をいずれも使用可能であるが、例えば過ギ酸、過
酢酸、過トリフルオロ酢酸、過安息香酸、m−クロロ過
安息香酸、〇−カルボニル過安息香酸等の過酸類、過酸
化水素、重クロム酸、重クロム酸ナトリウム、重クロム
酸カリウム等の重クロム酸塩、過マンガン酸、過マンガ
ン酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム等の過マンガン
酸塩等を例示できる。斯かる酸化剤の使用量としては、
原料化合物に対して通常少なくとも等モル、好ましくは
等モル−4倍モル量とするのがよい。該反応は、通常−
20〜40℃、好ましくは一り0℃〜室温付近にて好適
に進行し、一般に0.5〜50時間程度にて終了する。
更に一般式(1)で表わされる化合物のうちカルボスチ
リル骨格の3位と4位の炭素間結合が二重結合である化
合物は、下記反応行程式−10に示すようにラクタム−
ラクチム型の互変異性をとり得る。
リル骨格の3位と4位の炭素間結合が二重結合である化
合物は、下記反応行程式−10に示すようにラクタム−
ラクチム型の互変異性をとり得る。
反応行程式−1O
H
(1e) (1f)(式中Rは前
記に同じ。) 本発明の一般式(1)で表わされるカルボスチリル誘導
体のうち、塩基性基を有する化合物は、医薬的に許容さ
れる酸を作用させることにより容易に酸付加塩とするこ
とができる。核酸としては例えば、塩酸、硫酸、リン酸
、臭化水素酸等の無機酸、シュウ酸、マレイン酸、フマ
ール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸等の有
機酸を挙げることができる。
記に同じ。) 本発明の一般式(1)で表わされるカルボスチリル誘導
体のうち、塩基性基を有する化合物は、医薬的に許容さ
れる酸を作用させることにより容易に酸付加塩とするこ
とができる。核酸としては例えば、塩酸、硫酸、リン酸
、臭化水素酸等の無機酸、シュウ酸、マレイン酸、フマ
ール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸等の有
機酸を挙げることができる。
斯くして得られる各々野工程での目的化合物は、通常の
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出法、稀釈法、再結晶法
、カラムクロマトグラフィー、プレパラテイブ薄層クロ
マトグラフィー等を例示できる。
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出法、稀釈法、再結晶法
、カラムクロマトグラフィー、プレパラテイブ薄層クロ
マトグラフィー等を例示できる。
尚本発明は光学異性体も当然に包含するものである。
一般式(1)の化合物は通常、一般的な医薬製剤の形態
で用いられる。製剤は通常使用される充填剤、増量剤、
結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈
剤あるいは賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤と
しては各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代
表的なものとして錠剤、乳剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳
剤、顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤(液剤、懸濁剤
等)等が挙げられる。錠剤の形態に成形するに際しては
、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき
、例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素
、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロー
ス、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパツール
、単シ0ツブ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液
、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチルセル
ロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等の結
合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン
末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウ
ム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、
ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド
、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカ
オバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第4級アンモニ
ウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グ
リセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオ
リン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精
製タルク、ステアリンHMA、ホウ酸末、ポリエチレン
グリコール等の滑沢剤等が例示できる。さらに錠剤は必
要に応じ通常の剤皮を施した= 57− 錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィ
ルムコーティング錠あるいは二重錠、多層錠とすること
ができる。乳剤の形態に成形するに際しては、担体とし
てこの分野で従来公知のものを広く使用でき、例えばブ
ドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオ
リン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント
末、ゼラチン、エタノール等の結合剤、ラミナラン、カ
ンテン等の崩壊剤等が例示できる。坐剤の形態に成形す
るに際しては、担体として従来公知のものを広く使用で
き、例えばポリエチレングリコール、カカオ−脂、高級
アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼラチン、
半合成グリセライド等を挙げることができる。注射剤と
して調製される場合には、液剤及び懸濁剤は殺菌され、
かつ血液と等張であるのが好ましく、これら液剤、乳剤
及び懸濁剤の形態に成形するに際しては、希釈剤として
この分野において慣用されているものをすべて使用でき
、例えば水、エチルアルコール、プロピレングリコール
、エトキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ化
イソステアリルアルコール、ポリオキシエチレンソルビ
タン脂肪酸エステル類等を′挙げることができる。なお
、この場合等張性の溶液を調製するに充分な聞の食塩、
ブドウ糖あるいはグリセリンを製剤中に含有せしめても
よく、また通常の溶解補助剤、M成剤、無痛化剤等を添
加してもよい。更に必要に応じて着色剤、保存剤、香料
、風味剤、甘味剤等や他の医薬品を該製剤中に含有せし
めてもよい。
で用いられる。製剤は通常使用される充填剤、増量剤、
結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈
剤あるいは賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤と
しては各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代
表的なものとして錠剤、乳剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳
剤、顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤(液剤、懸濁剤
等)等が挙げられる。錠剤の形態に成形するに際しては
、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき
、例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素
、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロー
ス、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパツール
、単シ0ツブ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液
、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチルセル
ロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等の結
合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン
末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウ
ム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、
ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド
、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカ
オバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第4級アンモニ
ウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グ
リセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオ
リン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精
製タルク、ステアリンHMA、ホウ酸末、ポリエチレン
グリコール等の滑沢剤等が例示できる。さらに錠剤は必
要に応じ通常の剤皮を施した= 57− 錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィ
ルムコーティング錠あるいは二重錠、多層錠とすること
ができる。乳剤の形態に成形するに際しては、担体とし
てこの分野で従来公知のものを広く使用でき、例えばブ
ドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオ
リン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント
末、ゼラチン、エタノール等の結合剤、ラミナラン、カ
ンテン等の崩壊剤等が例示できる。坐剤の形態に成形す
るに際しては、担体として従来公知のものを広く使用で
き、例えばポリエチレングリコール、カカオ−脂、高級
アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼラチン、
半合成グリセライド等を挙げることができる。注射剤と
して調製される場合には、液剤及び懸濁剤は殺菌され、
かつ血液と等張であるのが好ましく、これら液剤、乳剤
及び懸濁剤の形態に成形するに際しては、希釈剤として
この分野において慣用されているものをすべて使用でき
、例えば水、エチルアルコール、プロピレングリコール
、エトキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ化
イソステアリルアルコール、ポリオキシエチレンソルビ
タン脂肪酸エステル類等を′挙げることができる。なお
、この場合等張性の溶液を調製するに充分な聞の食塩、
ブドウ糖あるいはグリセリンを製剤中に含有せしめても
よく、また通常の溶解補助剤、M成剤、無痛化剤等を添
加してもよい。更に必要に応じて着色剤、保存剤、香料
、風味剤、甘味剤等や他の医薬品を該製剤中に含有せし
めてもよい。
斯くして調製される医薬製剤中に含有されるべき一般式
(1)の化合物の量は、特に限定されず広範囲に適宜選
択されるが、通常全組成物中1〜70重量%、好ましく
は1〜30重量%とするのがよい。
(1)の化合物の量は、特に限定されず広範囲に適宜選
択されるが、通常全組成物中1〜70重量%、好ましく
は1〜30重量%とするのがよい。
また上記医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各種製
剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等
に応じた方法で投与される。例えば錠剤、乳剤、液剤、
懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤の場合には経口投
与される。また注射剤の場合には単独であるいはブドウ
糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与され
、更には必要に応じて単独で筋肉内、皮肉、皮下もしく
は腹腔内投与される。坐剤の場合には直腸内投与される
。
剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等
に応じた方法で投与される。例えば錠剤、乳剤、液剤、
懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤の場合には経口投
与される。また注射剤の場合には単独であるいはブドウ
糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与され
、更には必要に応じて単独で筋肉内、皮肉、皮下もしく
は腹腔内投与される。坐剤の場合には直腸内投与される
。
上記医薬製剤剤の投与量は用法、患者の年齢、性別その
他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、通常
有効成分である一般式(1)の化合物の量は1日当り体
重1kO当り約0.01〜10m0とするのがよい。ま
た、投与単位形態中に有効成分を0.1〜200mo含
有せしめるのがよい。
他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、通常
有効成分である一般式(1)の化合物の量は1日当り体
重1kO当り約0.01〜10m0とするのがよい。ま
た、投与単位形態中に有効成分を0.1〜200mo含
有せしめるのがよい。
実 施 例
以下に参考例、実施例、薬理試験結果及び製剤例を挙げ
る。
る。
参考例1
2−(4−メトキシベンゾイル)エチルブロマイド1.
70,6− (1−ピペラジニルカルボニル)−3,4
−ジヒドロカル′ボスチリル・1塩酸塩1.4Q及び炭
酸カリウム1.40をジメチルホルムアミド40制に懸
濁し、室温で2時間撹拌する。反応終了後、反応液を水
150m12に注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出する。水
洗、乾燥後溶媒を留去し、残渣をメタノールに溶解し、
濃塩酸を加えてpf−1丼1とする。溶媒を留去し、残
渣をエタノール−水にて再結晶して、3qの6− (1
−(2−(4−メトキシベンゾイル)エチルツー1−ピ
ペラジニルカルボニル)−3,4−ジヒドロカルボスチ
リル・1塩酸塩・1水和物を得る。
70,6− (1−ピペラジニルカルボニル)−3,4
−ジヒドロカル′ボスチリル・1塩酸塩1.4Q及び炭
酸カリウム1.40をジメチルホルムアミド40制に懸
濁し、室温で2時間撹拌する。反応終了後、反応液を水
150m12に注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出する。水
洗、乾燥後溶媒を留去し、残渣をメタノールに溶解し、
濃塩酸を加えてpf−1丼1とする。溶媒を留去し、残
渣をエタノール−水にて再結晶して、3qの6− (1
−(2−(4−メトキシベンゾイル)エチルツー1−ピ
ペラジニルカルボニル)−3,4−ジヒドロカルボスチ
リル・1塩酸塩・1水和物を得る。
rllp、204〜205℃(分解)
無色稜状部
適当な出発原料を用い、参考例1と同様にして下記に示
す化合物を得る。
す化合物を得る。
= 61−
6−(4−(2−(4−メチルチオベンゾイル)エチル
〕−1−ピペラジニル)−3,4−ジヒドロカルボスチ
リル mD 184〜186℃(ジクロロメタン−メタノー
ルより再結晶) 無色プリズム状 6−(4−(3−(4−メチルチオ−ベンゾイル)プロ
ピル〕−1−ピペラジニル)−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル・塩酸塩・ 1/2水和物ml) 257〜
259℃(分解) (エタノール−水より再結晶) 無色粉末状 6− (4−(3−(4−フルオロベンゾイル)プロピ
ル)〜1−ピペラジニル)−3,4−ジヒドロカルボス
チリル・塩酸塩・ 3/4水和物rl”Ip’244〜
245℃(分解) (エタノール−水より再結晶) 無色粉末状 参考例2 窒素雰囲気下、水素化ナトリウム3.3g(60%油状
)にジメチルスルホキシド4.On[を加え、60℃で
1′時間加熱撹拌する。放冷後、このものにテ1へラヒ
ドロフラン40mQを加え、−10〜O′Cにて、トリ
メチルスルホニウムアイオダイド16.90のジメチル
スルホキシド60贈溶液を3分間で滴下覆る。次いで、
直ちにアセトフェノン4.9mlを加える。0℃にて6
分間、室温にて1時間撹拌する。反応混合物を氷水50
0mtllに注ぎ込み、ジエチルエーテルにて抽出する
。水洗、硫酸ナトリウムにて乾燥後、微量の炭酸カリウ
ム存在下、減圧にて溶媒を留去して、3.80の2−フ
ェニル−2−メチルエポキシドを得る。
〕−1−ピペラジニル)−3,4−ジヒドロカルボスチ
リル mD 184〜186℃(ジクロロメタン−メタノー
ルより再結晶) 無色プリズム状 6−(4−(3−(4−メチルチオ−ベンゾイル)プロ
ピル〕−1−ピペラジニル)−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル・塩酸塩・ 1/2水和物ml) 257〜
259℃(分解) (エタノール−水より再結晶) 無色粉末状 6− (4−(3−(4−フルオロベンゾイル)プロピ
ル)〜1−ピペラジニル)−3,4−ジヒドロカルボス
チリル・塩酸塩・ 3/4水和物rl”Ip’244〜
245℃(分解) (エタノール−水より再結晶) 無色粉末状 参考例2 窒素雰囲気下、水素化ナトリウム3.3g(60%油状
)にジメチルスルホキシド4.On[を加え、60℃で
1′時間加熱撹拌する。放冷後、このものにテ1へラヒ
ドロフラン40mQを加え、−10〜O′Cにて、トリ
メチルスルホニウムアイオダイド16.90のジメチル
スルホキシド60贈溶液を3分間で滴下覆る。次いで、
直ちにアセトフェノン4.9mlを加える。0℃にて6
分間、室温にて1時間撹拌する。反応混合物を氷水50
0mtllに注ぎ込み、ジエチルエーテルにて抽出する
。水洗、硫酸ナトリウムにて乾燥後、微量の炭酸カリウ
ム存在下、減圧にて溶媒を留去して、3.80の2−フ
ェニル−2−メチルエポキシドを得る。
無色油状
bp 83〜86℃(20mmHg>
実施例1
6−(l−ピペラジニルカルボニル)−3,4−ジヒド
ロカルボスチリル3,6gをジメチルホルムアミド40
111Q中に分散し、ゲラニルブ[1ミド4g及びトリ
エ′トルアミン5.1謡を加え、室温にて3時間撹拌す
る。反応終了後、反応液を水に注ぎ込み、クロロホルム
にて抽出する。水洗後、硫酸マグネシウムにて乾燥し、
クロロホルムを減圧留去する。ジエチルエーテルより結
晶化後、エタノール20前に分散し、濃塩酸1.3鵬に
て塩酸塩とする。エタノール−水より再結晶して、1.
80の6−(4−ゲラニル−1−ピペラジニルカルボニ
ル)−3,4−ジヒドロカルボスチリル・塩酸塩・1水
和物を得る。
ロカルボスチリル3,6gをジメチルホルムアミド40
111Q中に分散し、ゲラニルブ[1ミド4g及びトリ
エ′トルアミン5.1謡を加え、室温にて3時間撹拌す
る。反応終了後、反応液を水に注ぎ込み、クロロホルム
にて抽出する。水洗後、硫酸マグネシウムにて乾燥し、
クロロホルムを減圧留去する。ジエチルエーテルより結
晶化後、エタノール20前に分散し、濃塩酸1.3鵬に
て塩酸塩とする。エタノール−水より再結晶して、1.
80の6−(4−ゲラニル−1−ピペラジニルカルボニ
ル)−3,4−ジヒドロカルボスチリル・塩酸塩・1水
和物を得る。
mp、265〜266℃(分解)
無色針状晶
適当な出発原料を用い、実施例1と同様にして下記第1
表記載の化合物を得る。
表記載の化合物を得る。
−68一
実施例20
コハク酸イミド 3,4−、ジヒドロカルボスチリル−
6−カルボスチリル−6−カルボシキレートメチルホル
ムアミド2謡に溶解し、−昼夜撹拌する。反応混合物に
水を加え、クロロホルムで抽出し、水及び飽和食塩水で
洗浄する。硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し
、残渣にジエチルエーテルを加えて結晶化する。このも
のをエタノール20軛に分散し、濃塩酸1.3u+i2
で塩酸塩とする。エタノール−水より再結晶して6−(
4−ゲラニル−1−ピペラジニル)−3.4−ジヒドロ
カルボスチリル・塩酸塩・1水和物132mgを得る。
6−カルボスチリル−6−カルボシキレートメチルホル
ムアミド2謡に溶解し、−昼夜撹拌する。反応混合物に
水を加え、クロロホルムで抽出し、水及び飽和食塩水で
洗浄する。硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し
、残渣にジエチルエーテルを加えて結晶化する。このも
のをエタノール20軛に分散し、濃塩酸1.3u+i2
で塩酸塩とする。エタノール−水より再結晶して6−(
4−ゲラニル−1−ピペラジニル)−3.4−ジヒドロ
カルボスチリル・塩酸塩・1水和物132mgを得る。
mp.265〜266℃(分解)
無色針状晶
適当な出発原料を用い、実施例20と同様にして前記実
施例2〜19の化合物を得る。
施例2〜19の化合物を得る。
69 一
実施例21
6−モルホリノカルボニル−3.4−ジヒドロカルボス
チリル2.62q及びアニリン10oを封管中に入れ、
170〜200℃で5時間加熱する。減圧濃縮により過
剰のアニリンを留去し、残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより分離精製後、イソプロパツールよ
り再結晶して0、320の6−(4−フェニル−1−ピ
ペラジニルカルボスチリル)−3.4−ジヒドロカルボ
スチリルを得る。
チリル2.62q及びアニリン10oを封管中に入れ、
170〜200℃で5時間加熱する。減圧濃縮により過
剰のアニリンを留去し、残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより分離精製後、イソプロパツールよ
り再結晶して0、320の6−(4−フェニル−1−ピ
ペラジニルカルボスチリル)−3.4−ジヒドロカルボ
スチリルを得る。
mp.200 〜201℃
無色針状晶
適当な出発原料を用い、実施例21と同様にして前記実
施例1〜8及び10〜19の化合物を得る。
施例1〜8及び10〜19の化合物を得る。
実施例22
6−〔ビス−(2−ヒドロキシエチル)アミノカルボニ
ル)−3.4−ジヒドロカルボスチリル−10Q1アニ
リン2.50及びポリリンM7.6Qの混合物を160
〜170℃にて約6時間加熱反応させる。次いで反応液
を放冷し、水約500較を滴下し溶解する。48%水酸
化ナトリウムで中和し、クロロホルムで抽出する。炭酸
カリウムで乾燥後、クロロホルムを留去し、残渣をイソ
プロパツールより再結晶して、6.4gの6−(4−フ
ェニル−1−ピペラジニルカルボニル)−3゜4−ジヒ
ドロカルボスチリルを得る。
ル)−3.4−ジヒドロカルボスチリル−10Q1アニ
リン2.50及びポリリンM7.6Qの混合物を160
〜170℃にて約6時間加熱反応させる。次いで反応液
を放冷し、水約500較を滴下し溶解する。48%水酸
化ナトリウムで中和し、クロロホルムで抽出する。炭酸
カリウムで乾燥後、クロロホルムを留去し、残渣をイソ
プロパツールより再結晶して、6.4gの6−(4−フ
ェニル−1−ピペラジニルカルボニル)−3゜4−ジヒ
ドロカルボスチリルを得る。
mp、200〜201℃
無色針状晶
適当な出発原料を用い、実施例22と同様にして前記実
施例1〜8及び10〜1つの化合物を1与る。
施例1〜8及び10〜1つの化合物を1与る。
実施例23
6−(ビス−(2−クロロエチル)アミノカルボニル)
−3,4−ジヒドロカルボスチリル15.9[、アニリ
ン5.50及びメタノール70制の混合物を15時間撹
拌還流する。冷接炭酸ナトリウム3.060を加えて8
時間撹拌jワ流する。冷接析出する結晶を枦取、イソプ
ロパツールより再結晶して、6.30の6−(4−フェ
ニル−1−ピペラジニルカルボニル)−3,4−ジヒド
ロカルボスチリルを得る。
−3,4−ジヒドロカルボスチリル15.9[、アニリ
ン5.50及びメタノール70制の混合物を15時間撹
拌還流する。冷接炭酸ナトリウム3.060を加えて8
時間撹拌jワ流する。冷接析出する結晶を枦取、イソプ
ロパツールより再結晶して、6.30の6−(4−フェ
ニル−1−ピペラジニルカルボニル)−3,4−ジヒド
ロカルボスチリルを得る。
mp、200〜201°C
無色針状晶
適当な出発原料を用い、実施例23と同様にして前記実
施例1〜8及び10〜19の化合物を得る。
施例1〜8及び10〜19の化合物を得る。
実施例24
6−カルボキシ−3,4−ジヒドロカルボスチリル1.
0(]1DCC1,30及びゲラニルピペラジン1.4
gをジオキサン10鵬に懸濁させ、60〜70℃で5時
間撹拌する。反応終了後溶媒を留去し、エーテルを加え
て析出晶を枦去する。
0(]1DCC1,30及びゲラニルピペラジン1.4
gをジオキサン10鵬に懸濁させ、60〜70℃で5時
間撹拌する。反応終了後溶媒を留去し、エーテルを加え
て析出晶を枦去する。
母液を濃縮後、残漬にクロロホルムを加えて溶解し、水
及び飽和食塩水で洗浄する。硫酸すl−リウムで乾燥後
、溶媒を留去する。残渣にエタノール20噌を加え、濃
塩酸1.3鵬にて塩酸塩とする。
及び飽和食塩水で洗浄する。硫酸すl−リウムで乾燥後
、溶媒を留去する。残渣にエタノール20噌を加え、濃
塩酸1.3鵬にて塩酸塩とする。
エタノール−水より再結晶して、3′40mqの6−(
4−ゲラニル−1−ピペラジニルカルボニル)−3,4
−ジヒドロカルボスチリル・塩酸塩・1水和物を得る。
4−ゲラニル−1−ピペラジニルカルボニル)−3,4
−ジヒドロカルボスチリル・塩酸塩・1水和物を得る。
mp、265〜266℃(分解)
無色針状晶
適当な出発原料を用い、実施例22と同様にして前記実
施例2〜19の化合物を得る。
施例2〜19の化合物を得る。
実施例25
6−カルボキシ−3,4−ジヒドロカルボスチリル1.
60及びトリエチルアミン0.8+nQをテトラヒドロ
フラン(THE)10mGに懸濁させ、室温撹拌下にジ
エチルクロロホスフェート1.OQのTHF10軛溶液
を滴下し室温で3時間撹拌する。このものにゲラニルピ
ペラジン1.40のTHE10mO溶液を滴下し、室温
で更に10時間撹拌する。反応終了後溶媒晶を枦去し、
母液を濃縮して、残渣に飽和重曹水を注ぎ、クロ[lホ
ルム抽出する。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去する。エタノール−
濃塩酸にて塩酸塩とし、エタノール−水より再結晶して
、5− (4−ゲラニル−1−ピペラジニルカルボニル
)−3,4−ジヒドロカルボスチリル・塩酸塩・1水和
物1.08gを得る。
60及びトリエチルアミン0.8+nQをテトラヒドロ
フラン(THE)10mGに懸濁させ、室温撹拌下にジ
エチルクロロホスフェート1.OQのTHF10軛溶液
を滴下し室温で3時間撹拌する。このものにゲラニルピ
ペラジン1.40のTHE10mO溶液を滴下し、室温
で更に10時間撹拌する。反応終了後溶媒晶を枦去し、
母液を濃縮して、残渣に飽和重曹水を注ぎ、クロ[lホ
ルム抽出する。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去する。エタノール−
濃塩酸にて塩酸塩とし、エタノール−水より再結晶して
、5− (4−ゲラニル−1−ピペラジニルカルボニル
)−3,4−ジヒドロカルボスチリル・塩酸塩・1水和
物1.08gを得る。
mp、265〜266℃(分解)
無色針状晶
適当な出発原料を用い、実施例25と同様にして前記実
施例2〜19の化合物を得る。
施例2〜19の化合物を得る。
実施例26
ローカルボキシカルボスチリル34.5(J及び1−リ
エチルアミン31較をDMF350mQに溶解し室温撹
拌下、クロルギ酸イソブチル28較のDMF14噌溶液
を温溶液る。室温で1時間撹拌後、−74= ゲラニルピペラジン46,7QのD M F 21 m
Q温溶液滴下し、室温で10時間撹拌する。反応混合物
を、飽和重曹水に注ぎ込み、クロロボルムで抽出する。
エチルアミン31較をDMF350mQに溶解し室温撹
拌下、クロルギ酸イソブチル28較のDMF14噌溶液
を温溶液る。室温で1時間撹拌後、−74= ゲラニルピペラジン46,7QのD M F 21 m
Q温溶液滴下し、室温で10時間撹拌する。反応混合物
を、飽和重曹水に注ぎ込み、クロロボルムで抽出する。
クロロホルム層を水、飽和食塩水の順に洗浄後、硫酸ナ
トリウムで乾燥する。溶媒を減圧留去し、残漬にエーテ
ルを加えて結晶化し、枦取する。この結晶をエタノール
に溶解し、濃塩酸を加え塩酸塩とする。得られる粗結晶
をエタノール−水より再結晶して32C]の6−(4−
ゲラニル−1−ピペラジニルカルボニル)カルボスチリ
ル塩酸塩1水和物を得る。
トリウムで乾燥する。溶媒を減圧留去し、残漬にエーテ
ルを加えて結晶化し、枦取する。この結晶をエタノール
に溶解し、濃塩酸を加え塩酸塩とする。得られる粗結晶
をエタノール−水より再結晶して32C]の6−(4−
ゲラニル−1−ピペラジニルカルボニル)カルボスチリ
ル塩酸塩1水和物を得る。
mp、265〜266℃(分解)
無色針状晶
適当な出発原料を用い、実施例26と同様にして前記実
施例2〜19の化合物を得る。
施例2〜19の化合物を得る。
実施例27
エタノール100mffに6−■トキシカルボニル−3
,4−ジヒドロカルボスチリル2.Oq、ナトリウムエ
チラート0.5CI及びゲラニルピペラジン2.020
を加えてオーミークレープ中、140〜150°Cにて
6時間反応させる。冷接、反応液を減圧下淵縮し、残漬
をクロロホルム200鵬に溶解させ、1%炭酸カリウム
水溶液、希塩酸及び水で順次洗浄したのち、硫酸す1〜
リウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣をエタノール−濃
塩酸にて塩酸塩とし、エタノール−水から再結晶して、
6−(4−ゲラニル−1−ピペラジニルカルボニル)−
3,4−ジヒドロカルボスチリル塩酸塩・1水和物31
8mOを得る。
,4−ジヒドロカルボスチリル2.Oq、ナトリウムエ
チラート0.5CI及びゲラニルピペラジン2.020
を加えてオーミークレープ中、140〜150°Cにて
6時間反応させる。冷接、反応液を減圧下淵縮し、残漬
をクロロホルム200鵬に溶解させ、1%炭酸カリウム
水溶液、希塩酸及び水で順次洗浄したのち、硫酸す1〜
リウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣をエタノール−濃
塩酸にて塩酸塩とし、エタノール−水から再結晶して、
6−(4−ゲラニル−1−ピペラジニルカルボニル)−
3,4−ジヒドロカルボスチリル塩酸塩・1水和物31
8mOを得る。
m+)、265〜266℃(分解)
無色針状晶
適当な出発原料を用い、実施例27と同様にして前記実
施例2〜19の化合物を得る。
施例2〜19の化合物を得る。
実施例28
6−カルボキシ−3.4−ジヒドロカルポスグリル1.
90を塩化メチレン200鵬に懸濁させ、ピリジン2鵬
を加えた後、撹拌下、0〜20℃に内温を保ちつつ塩化
チオニル1.40を滴下する。
90を塩化メチレン200鵬に懸濁させ、ピリジン2鵬
を加えた後、撹拌下、0〜20℃に内温を保ちつつ塩化
チオニル1.40を滴下する。
滴下終了後同温度で1時間撹拌し、ゲラニルピペラジン
2.19oの塩化メチレン10mQ溶液を滴下する。滴
下終了後、室温で4時間撹拌する。反応液を炭酸カリウ
ム水溶液で十分に洗浄し、水及び希塩酸で洗浄し、UA
酸ナトリウムで乾燥したのち、溶媒を留去する。得られ
た残漬をエタノール−Ill塩酸にて塩酸塩とし、エタ
ノール−水から再結晶して、6−(4−ゲラニル−1−
ピペラジニルカルボニル ル塩酸塩・1水和物343+++oを得る。
2.19oの塩化メチレン10mQ溶液を滴下する。滴
下終了後、室温で4時間撹拌する。反応液を炭酸カリウ
ム水溶液で十分に洗浄し、水及び希塩酸で洗浄し、UA
酸ナトリウムで乾燥したのち、溶媒を留去する。得られ
た残漬をエタノール−Ill塩酸にて塩酸塩とし、エタ
ノール−水から再結晶して、6−(4−ゲラニル−1−
ピペラジニルカルボニル ル塩酸塩・1水和物343+++oを得る。
mp.265〜266℃(分解)
無色針状晶
適当な出発原料を用い、実施例28と同様にして前記実
施例2〜19の化合物を得る。
施例2〜19の化合物を得る。
実施例29
6− (4− (2− (4−メトキシベンゾイル)エ
チル〕ー1ーピペラジニルカルボニル4−ジヒドロカル
ボスチリル2、8gをメタノール−ジメチルホルムアミ
ド(1:1)150mOに懸濁し、室温下に水素化ホウ
素ナトリウム0、26CIを加えて1時間撹拌する。2
モル塩酸にて、過剰の水素化ホウ素ナトリウムを分解し
、溶媒を留去する。残渣を水−酢酸エチルにて分配し、
有機層を水洗、乾燥後溶媒を留去する。残渣をエタノー
ル−濃塩酸にて塩酸塩とし、エタノール−水より再結晶
して、0.9gの6− (4−(3− (4−メトキシ
フェニル)−3−ヒドロキシプロピル〕−1−ピペラジ
ニルカルボニル)−3、4−ジヒドロカルボスチリル・
1塩酸塩を得る。
チル〕ー1ーピペラジニルカルボニル4−ジヒドロカル
ボスチリル2、8gをメタノール−ジメチルホルムアミ
ド(1:1)150mOに懸濁し、室温下に水素化ホウ
素ナトリウム0、26CIを加えて1時間撹拌する。2
モル塩酸にて、過剰の水素化ホウ素ナトリウムを分解し
、溶媒を留去する。残渣を水−酢酸エチルにて分配し、
有機層を水洗、乾燥後溶媒を留去する。残渣をエタノー
ル−濃塩酸にて塩酸塩とし、エタノール−水より再結晶
して、0.9gの6− (4−(3− (4−メトキシ
フェニル)−3−ヒドロキシプロピル〕−1−ピペラジ
ニルカルボニル)−3、4−ジヒドロカルボスチリル・
1塩酸塩を得る。
mp.219〜224℃(分解)
無色粉末状
適当な出発原料を用い、実施例29と同様にして下記第
2表に示す化合物を得る。
2表に示す化合物を得る。
実施例50
6−(1−ピペラジニルカルボニル)−3,4−ジヒド
ロカルボスチリル4.2g及び2−フェニル−2−メチ
ルエポキシド2.0gのN−メチルピロリドン30制溶
液を100〜110℃にて11時間加熱撹拌する。反応
終了後、減圧にて溶媒を留去し、得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;メタノール:
ジクロロメタン−1:25)にて精製する。酢酸エチル
−クロロホルムより再結晶し、2.9gの6=(4−(
2−ヒドロキシ−2−フェニルプロピル)−1−ピペラ
ジニルカルボニル)−3,4−ジヒドロカルボスチリル
を得る。
ロカルボスチリル4.2g及び2−フェニル−2−メチ
ルエポキシド2.0gのN−メチルピロリドン30制溶
液を100〜110℃にて11時間加熱撹拌する。反応
終了後、減圧にて溶媒を留去し、得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;メタノール:
ジクロロメタン−1:25)にて精製する。酢酸エチル
−クロロホルムより再結晶し、2.9gの6=(4−(
2−ヒドロキシ−2−フェニルプロピル)−1−ピペラ
ジニルカルボニル)−3,4−ジヒドロカルボスチリル
を得る。
m+) 181〜184°C
無色粉末状
次に、濃塩酸−エタノールにて塩酸塩とし、メタノール
−エタノールより再結晶して、2.90の6− (4−
(2−ヒト0キシ−2−フェニルプロピル〉−1−ピペ
ラジニルカルボニル〕−3゜4−ジヒドロカルボスチリ
ル塩酸塩を得る。
−エタノールより再結晶して、2.90の6− (4−
(2−ヒト0キシ−2−フェニルプロピル〉−1−ピペ
ラジニルカルボニル〕−3゜4−ジヒドロカルボスチリ
ル塩酸塩を得る。
mF) 227〜229℃(分解)
無色粉末状
適当な出発原料を用い、実施例50と同様にして下記第
3表に示す化合物を得る。
3表に示す化合物を得る。
一 86 −
血液清流摘出乳頭前標本
体重8〜13kgの雌雄雑種成人にベンドパルビタール
・ナトリウム塩を30111(1/koの割合で静脈内
投与し麻酔にかける。ヘパリンのナトリウム塩を100
0U/kgの割合で静脈内投与後脱血致死させ、心臓を
摘出する。標本は主に乳頭筋及び心室中隔からなり、前
中隔動脈に挿入したカニユーレより、供面犬から導かれ
た血液で100mm1−1gの定圧で潅流される。供血
大は体重18〜27kaで予めベンドパルビタール・ナ
トリウム塩30mq/kqの静脈内投与して麻酔し、ヘ
パリン・ナトリウムff11000U/kgを静脈内投
与しておく。双極電極を用い、閾値の1.5倍の電圧(
0,5〜3V)、5m5ecの刺激幅、毎分120回の
刺激頻度の矩形波で乳頭筋を刺激する。乳頭筋の静止張
力は1.50で、乳頭筋の発生張力は力変位交換器を介
して測定する。前中隔動脈の血流量は雷…流量計を用い
て測定する。発生張力及び血流量の= 87− 記録はインク書き記録計上に記録した。この方法の詳細
は遠藤と橋本により既に報告されている(Am、J、
Physiol、 218.1459〜1463.19
70)。
・ナトリウム塩を30111(1/koの割合で静脈内
投与し麻酔にかける。ヘパリンのナトリウム塩を100
0U/kgの割合で静脈内投与後脱血致死させ、心臓を
摘出する。標本は主に乳頭筋及び心室中隔からなり、前
中隔動脈に挿入したカニユーレより、供面犬から導かれ
た血液で100mm1−1gの定圧で潅流される。供血
大は体重18〜27kaで予めベンドパルビタール・ナ
トリウム塩30mq/kqの静脈内投与して麻酔し、ヘ
パリン・ナトリウムff11000U/kgを静脈内投
与しておく。双極電極を用い、閾値の1.5倍の電圧(
0,5〜3V)、5m5ecの刺激幅、毎分120回の
刺激頻度の矩形波で乳頭筋を刺激する。乳頭筋の静止張
力は1.50で、乳頭筋の発生張力は力変位交換器を介
して測定する。前中隔動脈の血流量は雷…流量計を用い
て測定する。発生張力及び血流量の= 87− 記録はインク書き記録計上に記録した。この方法の詳細
は遠藤と橋本により既に報告されている(Am、J、
Physiol、 218.1459〜1463.19
70)。
供試化合物N001〜6は10〜30μQの容量で4秒
間で動脈内投与した。供試化合物の変力作用は薬物投与
前の発生張力に対する%変化として表わした。冠血流量
に対する作用は投与前からの絶対値の変化(mQ/mi
n )として表わした。比較化合物としてアムリノンを
用い、アムリノンに対する供試化合物の比で表わした。
間で動脈内投与した。供試化合物の変力作用は薬物投与
前の発生張力に対する%変化として表わした。冠血流量
に対する作用は投与前からの絶対値の変化(mQ/mi
n )として表わした。比較化合物としてアムリノンを
用い、アムリノンに対する供試化合物の比で表わした。
結果を第4表に示す。
供試化合物は10〜30μQの容量で4秒間で動脈内投
与した。供試化合物の変力作用は薬物投与前の発生張力
に対する%変化として表わした。
与した。供試化合物の変力作用は薬物投与前の発生張力
に対する%変化として表わした。
冠血流量に対する作用は投与前からの絶対値の変化(鵬
/分)として表わした。結果を第5表に示す。
/分)として表わした。結果を第5表に示す。
供試化合物No。
1 6−(4−ゲラニル−1−ピペラジニルカルボニル
)−3,4−ジヒドロカルボスチリル2 6−(4−(
2−メトキシフェニル)−1−ピペラジニルカルボニル
)−3,4−ジヒドロカルボスチリル 3 6−(1−(2−メチル−3−クロロフェニル)−
1−ピペラジニルカルボニル)−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル 4 6−(4−(2−クロロフェニル)−1−ピペラジ
ニルカルボニル)−3,4−ジヒドロカルボスチリル 5 6−(1−(3−フェニル−2−プロペニル)−1
−ピペラジニルカルボニル)−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル 6 6−(1(4−フェニル−3−ブテニル)−1−ピ
ペラジニルカルボニル ヒドロカルボスチリル 7 6−(1−(3−(4−メトキシフェニル)−3
−ヒドロキシプロピル〕−1−ピペラジニルカルボニル リル・1塩酸塩 8 6−(4−(2−〕〕■ニルー2ーヒドロキシエ
ヂル−1−ピペラジニルカルボニル〕−3。
)−3,4−ジヒドロカルボスチリル2 6−(4−(
2−メトキシフェニル)−1−ピペラジニルカルボニル
)−3,4−ジヒドロカルボスチリル 3 6−(1−(2−メチル−3−クロロフェニル)−
1−ピペラジニルカルボニル)−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル 4 6−(4−(2−クロロフェニル)−1−ピペラジ
ニルカルボニル)−3,4−ジヒドロカルボスチリル 5 6−(1−(3−フェニル−2−プロペニル)−1
−ピペラジニルカルボニル)−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル 6 6−(1(4−フェニル−3−ブテニル)−1−ピ
ペラジニルカルボニル ヒドロカルボスチリル 7 6−(1−(3−(4−メトキシフェニル)−3
−ヒドロキシプロピル〕−1−ピペラジニルカルボニル リル・1塩酸塩 8 6−(4−(2−〕〕■ニルー2ーヒドロキシエ
ヂル−1−ピペラジニルカルボニル〕−3。
4−ジヒドロカルボスチリル・1塩酸塩・ 1/2水和
物 9 6−(1−(3−(4−メチルフェニル)−3−
ヒドロキシプロピル〕−1−ピペラジニルカルボニル)
カルボスチリル・1塩酸塩10 6−(4−(1−(
3−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエチル)−1−
ピペラジニルカルボニルi3.4ージヒドロカルボスチ
リル・1塩酸塩 11 6−(4−(3−フェニル−3−ヒドロキシプ
ロピル)−1−ピペラジニルカルボニル〕−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリル・1塩酸塩12 6− (4−(
4−フェニル−4−ヒドロキシブチル)−1−ピペラジ
ニルカルボニル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル・
1塩酸塩−92= 第 5 表 製剤例1 6−(4−ゲラニル−1−ピペ 5m。
物 9 6−(1−(3−(4−メチルフェニル)−3−
ヒドロキシプロピル〕−1−ピペラジニルカルボニル)
カルボスチリル・1塩酸塩10 6−(4−(1−(
3−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエチル)−1−
ピペラジニルカルボニルi3.4ージヒドロカルボスチ
リル・1塩酸塩 11 6−(4−(3−フェニル−3−ヒドロキシプ
ロピル)−1−ピペラジニルカルボニル〕−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリル・1塩酸塩12 6− (4−(
4−フェニル−4−ヒドロキシブチル)−1−ピペラジ
ニルカルボニル〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル・
1塩酸塩−92= 第 5 表 製剤例1 6−(4−ゲラニル−1−ピペ 5m。
ラジニル力ルボニル)−3,,4
一ジヒドロカルボスチリル
デンプン 132m0マグネシ
ウムステアレート 18m。
ウムステアレート 18m。
乳 糖
45mQ計 2
00a+。
45mQ計 2
00a+。
常法により1錠中、上記組成物の錠剤を製造した。
製剤例2
6−(4−ファルネシル−1−1On+gピペラジニル
カルボニル)−3゜ 4−ジヒドロカルボスチリル デンプン 127mqマグネシ
ウムステアレート 1BmQ乳 糖
45n+。
カルボニル)−3゜ 4−ジヒドロカルボスチリル デンプン 127mqマグネシ
ウムステアレート 1BmQ乳 糖
45n+。
計 200mg常
法により1錠中、上記組成物の錠剤を製造した。
法により1錠中、上記組成物の錠剤を製造した。
製剤例3
6−(4−ゲラニル−1−ビペ 500m!+ラジニ
ル力ルボニル)−3,4 一ジヒドロカルボスチリル ポリエチレングリコール 0.3C](分子@
: 4000) 塩化ナトリウム 0.90ポリオキシ
エチレンソルビタン 0.4C]モノオレーi〜 メタ重亜硫酸ナトリウム 0.1gメチル−パ
ラベン 0.18CIプロピル−パラベ
ン 0.02(J注射用蒸留水
100m12上記パラベン類、メタ重亜硫酸
ナトリウム及び塩化ナトリウムを撹拌しながら80℃で
上記の蒸留水に溶解する。得られた溶液を40℃まで冷
却し、本発明化合物、ポリエチレングリコール及びポリ
オキシエチレンソルビタンモノオレエートをその順次溶
解させ、次にその溶液に注射用蒸留水を加えて最終の容
量に調製し、適当なフィルターペーパーを用いて滅菌濾
過して1111Qずつアンプルに分注し、注射剤を調製
する。
ル力ルボニル)−3,4 一ジヒドロカルボスチリル ポリエチレングリコール 0.3C](分子@
: 4000) 塩化ナトリウム 0.90ポリオキシ
エチレンソルビタン 0.4C]モノオレーi〜 メタ重亜硫酸ナトリウム 0.1gメチル−パ
ラベン 0.18CIプロピル−パラベ
ン 0.02(J注射用蒸留水
100m12上記パラベン類、メタ重亜硫酸
ナトリウム及び塩化ナトリウムを撹拌しながら80℃で
上記の蒸留水に溶解する。得られた溶液を40℃まで冷
却し、本発明化合物、ポリエチレングリコール及びポリ
オキシエチレンソルビタンモノオレエートをその順次溶
解させ、次にその溶液に注射用蒸留水を加えて最終の容
量に調製し、適当なフィルターペーパーを用いて滅菌濾
過して1111Qずつアンプルに分注し、注射剤を調製
する。
製剤例4
6− (4−(4−フェニル−35m。
−ブテニル)−1−ピペラジニル
カルボニル)−3,4−ジヒドロ
カルボスチリル・1塩酸塩
デンプン 132mqマグネシ
マグネシウムステアレート 18m(1乳
糖 4511
1g計 200m
。
マグネシウムステアレート 18m(1乳
糖 4511
1g計 200m
。
常法により1錠中、上記組成物の錠剤を製造した。
製剤例5
6− (1−(3−フェニル−5n+03−ヒドロキシ
プロピル)− 1−ピペラジニルカルボニル〕− 3,4−ジヒドロカルボスチリル デンプン 132nu+マグネ
シウムステアレート 18mg乳 糖
451110
計 200mg常
法により1錠中、上記組成物の錠剤を製造した。
プロピル)− 1−ピペラジニルカルボニル〕− 3,4−ジヒドロカルボスチリル デンプン 132nu+マグネ
シウムステアレート 18mg乳 糖
451110
計 200mg常
法により1錠中、上記組成物の錠剤を製造した。
製剤例6
6− (4−(4−フェニル−1On+94−ヒドロキ
シブチル)−1− ピペラジニルカルボニル)−3,4 −ジヒドロ力ルポスチリル デンプン 127mgマグネシ
ウムステアレート 18+nc+乳
糖 45u+。
シブチル)−1− ピペラジニルカルボニル)−3,4 −ジヒドロ力ルポスチリル デンプン 127mgマグネシ
ウムステアレート 18+nc+乳
糖 45u+。
計 20
0mg常法により1錠中、上記組成物の錠剤を製造した
。
0mg常法により1錠中、上記組成物の錠剤を製造した
。
製剤例7
6− (4−(2−フェニル−5’00m。
2−ヒドロキシエチル)−1−
ピペラジニルカルボニル〕−
3,4−ジヒドロカルボスチリル
ポリエチレングリコール 0.3a(分子量:
4000) 塩化ナトリウム 0.90ポリオキシ
エチレンツルごタン 0.4gモノオレート メタ重亜硫酸ナトリウム 0.10メチル−パ
ラベン 0.180プロピル−パラベン
0.020注射用蒸留水
100曖上記パラベン類、メタ重亜硫酸ナトリウ
ム及び塩化ナトリウムを撹拌しながら80℃で上記の蒸
留水に溶解する。得られた溶液を40’Cまで冷却し、
本発明化合物、ポリエチレングリコール及びポリオキシ
エチレンソルビタンモノオレエートを順次溶解させ、次
にその溶液に注射用蒸留水を加えて最終の容量に調製し
、適当なフィルターペーパーを用いて滅菌濾過すること
により滅菌して1鵬ずつアンプルに分注し、注射剤を調
製する。
4000) 塩化ナトリウム 0.90ポリオキシ
エチレンツルごタン 0.4gモノオレート メタ重亜硫酸ナトリウム 0.10メチル−パ
ラベン 0.180プロピル−パラベン
0.020注射用蒸留水
100曖上記パラベン類、メタ重亜硫酸ナトリウ
ム及び塩化ナトリウムを撹拌しながら80℃で上記の蒸
留水に溶解する。得られた溶液を40’Cまで冷却し、
本発明化合物、ポリエチレングリコール及びポリオキシ
エチレンソルビタンモノオレエートを順次溶解させ、次
にその溶液に注射用蒸留水を加えて最終の容量に調製し
、適当なフィルターペーパーを用いて滅菌濾過すること
により滅菌して1鵬ずつアンプルに分注し、注射剤を調
製する。
製剤例8
6− (3−(4−メチルノエニル) 5mg−3−
ヒドロキシプロピル〕− 1−ピペラジニルカルボニル)− カルボスチリル・1塩酸塩 デンプン 132mgマグネシ
ウムステアレート 18mq乳 糖
45m。
ヒドロキシプロピル〕− 1−ピペラジニルカルボニル)− カルボスチリル・1塩酸塩 デンプン 132mgマグネシ
ウムステアレート 18mq乳 糖
45m。
計 200111
(1常法により1錠中、上記組成物の錠剤を製造した。
(1常法により1錠中、上記組成物の錠剤を製造した。
(以 上)
手続補正書く自発)
1 事件の表示
昭和61年特許願第66889号
2 発明の名称
カルボスチリル誘導体
3 補正をする者
事件との関係 特許出願人
大塚製薬株式会社
4代理人
大阪市東区平野町2の10 沢の鶴ビル(6521)弁
理士 三枝英二 5 補正命令の日付 自 発 6 補正の対象 明細書中発明の詳細な説明の項 補止の内容 1 明細書第64頁第4行「+リエトルアミン」とある
を「l〜リエエチアミン十と訂正する。
理士 三枝英二 5 補正命令の日付 自 発 6 補正の対象 明細書中発明の詳細な説明の項 補止の内容 1 明細書第64頁第4行「+リエトルアミン」とある
を「l〜リエエチアミン十と訂正する。
2 明細書第83頁第4〜5行「N−メチル」とあるを
1N−メチル」と訂正する。
1N−メチル」と訂正する。
3 明細書筒83頁第12行r3.4Jとあるをr3,
4Jと訂正する。
4Jと訂正する。
4 明細書第92頁に記載の第4表中、「心室筋の収縮
変化(供試化合物/アムノリン)」とあるをF心室筋の
収縮変化(供試化合物/アムリノン)」と、また1冠動
脈面流量変化(供試化合物/アムノリン)」とあるを「
冠動脈血流量変化(供試化合物/アムリノン)」と訂正
する。
変化(供試化合物/アムノリン)」とあるをF心室筋の
収縮変化(供試化合物/アムリノン)」と、また1冠動
脈面流量変化(供試化合物/アムノリン)」とあるを「
冠動脈血流量変化(供試化合物/アムリノン)」と訂正
する。
(以 上)
= 1−
Claims (1)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Rは炭素数7〜12のアルケニル基、フェニル環
上に置換基として低級アルキルチオ基もしくは低級アル
キルスルフィニル基を有することのあるフェニル低級ア
ルケニル基、フェニル低級アルキニル基、フェニル環上
にハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
低級アルキルチオ基及び低級アルキルスルフィニル基か
ら選ばれた置換基を1〜3個有していてもよいフェニル
基又は基 ▲数式、化学式、表等があります▼(ここでAは低級ア
ルキレン 基、R^1は水素原子、低級アルキル基又はフェニル基
を、R^2はフェニル環上にヒドロキシ基、ハロゲン原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルカノ
イルアミノ基、低級アルキルチオ基及び低級アルキルス
ルフィニル基からなる群から選ばれた置換基を1〜3個
有することのあるフェニル基をそれぞれ示す。)を示す
。またカルボスチリル骨格の3位と4位との炭素間結合
は一重結合又は二重結合を示す。) で表わされるカルボスチリル誘導体及びその塩。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/850,815 US4845100A (en) | 1985-04-12 | 1986-04-10 | Carbostyril derivatives and salts thereof, processes for preparing the same and cardiotonic composition containing the same |
EP86302768A EP0202760B1 (en) | 1985-04-12 | 1986-04-14 | Carbostyril derivatives and salts thereof, processes for preparing the same and cardiotonic composition containing the same |
DE8686302768T DE3675812D1 (de) | 1985-04-12 | 1986-04-14 | Carbostyrilderivate und ihre salze, verfahren zu ihrer herstellung und diese enthaltende cardiotonische zubereitungen. |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7898085 | 1985-04-12 | ||
JP60-78980 | 1985-04-12 | ||
JP22749385 | 1985-10-11 | ||
JP60-227493 | 1985-10-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62174052A true JPS62174052A (ja) | 1987-07-30 |
JPH07116157B2 JPH07116157B2 (ja) | 1995-12-13 |
Family
ID=26420023
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61066889A Expired - Lifetime JPH07116157B2 (ja) | 1985-04-12 | 1986-03-24 | カルボスチリル誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07116157B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5829766A (ja) * | 1981-08-12 | 1983-02-22 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | カルボスチリル誘導体 |
JPS58148861A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-05 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | カルボスチリル誘導体 |
JPS58148817A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-05 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | 強心剤 |
-
1986
- 1986-03-24 JP JP61066889A patent/JPH07116157B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5829766A (ja) * | 1981-08-12 | 1983-02-22 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | カルボスチリル誘導体 |
JPS58148861A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-05 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | カルボスチリル誘導体 |
JPS58148817A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-05 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | 強心剤 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07116157B2 (ja) | 1995-12-13 |
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