JPS58148861A - カルボスチリル誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なカルボスチリル銹導体及びその樵に関す
る。

本発明のカルボスチリル銹導体は、文献未載０新規化合
物であって、下記一般式（１）で表わされる。

１ 〔式中Ｒ１は、水素原子、低級アシ＋ル基、低級アルケ
ニル基、低級アル−ニル基又はフェニル低級アル＋ル基
を示す。Ｒ２及びＲ３は同−又は相異なって、置換基と
してしドＯ十シ基もしくはハ０ゲシ腺子を有することの
ある低級アル＋ル基、又はフェニル環上に置換基として
低級アルコキシ基及びハ０ゲシ犀子なる群から選ばれ九
基を１〜３個４　Ｌ＜Ｆｉ低級アル＋レジジオ＋シ基を
有することのあるフェニル低級アル＋Ｌ基を示す。また
Ｒ２とＲ３とは、これらが結合する寥素嫁子と共に、１
ＩＩＩ素原子もしく紘窒素隊子を介し又は介することな
くう員又Ｆｉ６員Ｖ飽ｌ１ｌＯ複素環を形成してもよい
。該複索環上にけ低級アル十ル基又はフエ＝Ｌ低級アル
牛ル基が置換していてもよい。ｉＩｔ該Ｉ［素環がとぺ
５ジシである場合、低級アルケニル基、低級アル十ニル
基、シフ０アル牛ル基、シクロアル牛ル愼級アル牛ル基
、低級アルカノイル基、低級アルカノイシ低級アル＋ル
基、低級アルコ牛ジカルボニル基、低級アルコ十ジカル
ボニル低級アル十ル基、）０イル基、低級アル＋ルスル
本ニル慕、置換基としてシアノ基、ベシリイルオ牛シ基
（このフェニル環上には低級アルコキシ基が１〜５個置
換していてもよい）、へ〇ゲシ原子、しド０牛シ基、低
級アシカノイルオ＋シ基又はカルバモイル基をｔａ有す
る低級アル＋ル基、フェニル環上に置換基としてハ０ゲ
シ犀子、低級アルコキシ基及び僑級アル牛ル基なる群か
ら選ばれ九基を１〜３ＩＩｌもしくはＩｇ験アル牛レシ
ジオ＋シ基を有することのあるフェノ＋シ低赦アル＋ル
基、フェニル環上に置換基として低級アル中ル基、低級
アルコキシ基、ハ０ゲシ原子、ニド０＆、アミノ基、低
級アルカノイルアミノ基及び低級アル牛ルチオ基なる群
から選ばれた基を１〜３個もしくは低級アル＋レジジオ
士シ晶を胸することのあるフェニル低級アル＋ル基、フ
エニＬｌｌ上に置換基として低級アル＋ル基、低級アル
コキシ基、ハ０ゲシ腺子、ニド０基及びシアノ基なる群
から選ばれた基を１〜３個もしくは低級アル十しジジオ
牛シ基を有することのあるベシリイル基、フェニル環上
に置換基として低級アル＋ル基を１〜３個有することの
あるフェニルスル本ニル基、フェニル環上に置換基とし
てしドロ中シ基、ハ０ゲシ原子、低級アル＋ル基、低級
アルコキシ基及び低級アルカノイルアミノ基なる群から
選ばれた基を１〜３＠有することのあるベシリイル低級
アル＋ル基、フェニル環上に置換基としてハ０ゲシ厚子
及び低級アルコ牛シ基なる群から選ばれた基をｌ〜３個
有することのあるフェニル低級アルケニルカルボニル基
、又はフェニル環上に置換基として低級アルコ士シ基を
１〜３個有することのあるフェニル低級アルカノイル基
が、じぺ５ジシの４位に置換していてもよい、まえ力Ｌ
ボスチリル骨格０３位と４位とのｊ１２素閲結合社−重
結合又は二重結合を示す。〕 上記一般式（１）て表わされるカシ本スチリル誘導体及
びその塩は、心筋の収縮を増強する作用（陽性変力作用
）、短慮流量増加作用及び降圧作用を有し、例えばうつ
血性心不全、僧Ｉｉｌ六１［＆、心房性細動、粗動、発
作性心房性Ｓ脈噂Ｏ＃ｒ種心臓疾患の治療の九めＯ強心
剤として有効である。特に上記一般式（１）で表わされ
るカルボスチリル誘導体及びその塩は、優れた陽性変力
作用、短慮流量増加作用及び降圧作用を有する反面、心
拍数の増加作用は殆んど有していない点において特長付
社られる。

上記一般式（１）中Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で定義される各
基Ｏ具体例を夫々次に示す。

低級アル＋ル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、ｔｔｒｌ　　−ブチル、ペシチ
ル、へ牛シル等の次素数１〜６Ｃ）＠鎖又は分校状アル
＋ル基を例示できる。

低級アルケニル基としては、じニル、アリル、２−ブテ
ニル、３−ブテニル、ｌ−メチルアリル、２−ペシテニ
ル、２−へ十ｔニル等の脚素数２〜６の直鎖又は分枝状
アルケニル基を例示できる。

低級アル−ニル基としては、エチニル、２−プ０じニル
、２−ブチニル、３−ブチニル、■−メチＬ−２−づ０
じニル、２−ベシチニル、２−へ＋シニル等Ｏ脚素１に
２〜６の直鎖又は分枝状アル十ニル基を例示できる。

フェニル低級アシ士ル基としては、ベシジル。

２−フェニルエチル、ｌ−フェニルエチル、５−フェニ
ルジ０じル、４−フェニルブチル、１．１−ジメチル−
２−フェニルエチル、５−フェニルエチル、６−フェニ
ルへ＋シル、２−メチル−３−フェニルづ０じル等０＃
２素数１〜６０［＠又は分枝状アル十ル基を有するフェ
ニルアル＋ル基を例示できる。

シクロアル＋ル低級アル士ル基としては、シフ０プ０ピ
ルメチル、４−シフ０へ士シルブチル、２−シフ０ペシ
チルエチル、シフ０へ＋シルメチル、２−シフ０ペシチ
ルプｏｅル、５−シフ０へ士シルプ０ビル、シフ０ペシ
チルメチル、２−シフ０へ士シルエチル、２−シフ０へ
士シルプ０ピル、２−シフ０ヘプチルエチル、５−シフ
０ブチルプロピル、１．１−ジメチル−２−シフ０へ中
シルエラ１．１−メチルー２−シク０ペシチルエチル、
２−シフ０オクチルエチル、５−シフ０へ牛シルペシ予
ル、６−シク０へ牛シルへ牛シル峰０択累数３−８０シ
ク０アル十ル基を置換基として有する訳素１ｉ１［１〜
６の直鎖又は分校状アル＋ル基を例かできる。

低級アルカノイル基としては、ホルミル、アセチル、プ
０じオニル、ブチリル、イソブチリル、ベシタノイＬ、
ｔＩｒｔ−ブチルカルボニル、へ＋サノイル勢の羨素１
１ｋｌ〜６の直鎖又は分校状アルカノイル基を例示でき
る。

ｔＮｋアルコ＋ジカルボニル基としては、メト＋シカＬ
Ｊｆニル、エト牛ジカルボニル、ｔｏｓ＋ジカルボニル
、イソ１０本土ジカルボニル、ブタジスルホニル、Ｉｔ
ｒｌ−ブタジスルホニル、ベシチＬオ十シカル軍ニル、
へ＋シルオ千ジカルボニル等Ｏ脚３１１１［１〜６の直
鎖又は分枝状アルコ＋シ基を有するアルコ牛ジカルボニ
ル基を例示できる。

低級アＬ＋ルスル本ニル基としては、メタシスル本ニル
、エタシスシ本ニル、プロバシスル本ニル、イソプロパ
シス１本ニル、ブタジスルホニル、ｔｅｒｇ−ブタジス
ルホニル、ペシタシスル本ニル。

へ＋サシスル本二り皓０＃２素数１〜６０直鎖又線分技
状のアル牛ルスルホニル基を例示できる。

フエニＬ環上に置換基としてハ０ゲシ原子、低級アルコ
牛シ基及び低級アル中ル基なる群から選ル基としては、
フェノ牛ジメチル、２−フェノ＋ジエチル、２−フェノ
牛シブ０じル、３−フェノ牛シブＯじル、１−メチル−
２−フェノ＋ジエチル、２−フェノ十ジプチル、３−フ
ェノ牛シブ予ル、４−フェノ十ジプチル、１．ｌ−ジメ
チル−２−フェノ十ジプチル、２−フェノ牛シペシチル
、３−フェノ士シペンチル、４−フェノ牛シヘ中シル、
（２もしくは５−メト＋ジフェノ↑シ）メチル、２−（
４−メト牛ジフェノ平シ）エチル、（２−エト＋ジフェ
ノ十シ）メチル、１−（５−エト＋ジフェノ＋シ）エチ
ル、３−（４−エト＋ジフェノ＋シ）づ０ヒル、６−（
４−イソづｏボ十ジフェノ＋シ）へ十シル、４−（４−
へ＋シルオ千ジフェノ＋シ）ブチル、１，１−ジメチル
−２−（３，４−ジメト牛ジフェノ士シ）エチル、５−
（３，４−シェド＋ジフェノ＋シ）ペシチル、６−（３
，４，５−）リメト牛ジフェノ＋シ）へ牛シル、２−メ
チＬ−３−（２，５−ジフト＋５フ１１士シ）プ０じル
、（２−り００つエノ＋シ）メチル、（３−プＯｔフェ
ノ＋シ）メチル、（４−３−ドフエノ＋シ）メチＬ、２
−（４〜フルｔＯフエノ＋シ）エチル、１−（３−りｏ
ｏフェノ十シ）エチル、６−（４−プ〇七フェノ＋シ）
へ＋シル、５−（３，４−ジグ００フエノ＋シ）ペシチ
ル、ｌ、Ｉ−ジメチＬ−２−（２，５−ジブ０ムフエノ
十シ）プロピル、（３，４，５−）リクｏｏフェノ＋シ
）メチル、（２本しくは３−メチルフェノ牛シ）メチル
、２−（４−メチルフェノ＋シ）エチル、（２−工チル
フエノ＋シ１メチル、１−（３−エチルフェノ牛シ）エ
チル、３−（４−エチルフェノ牛シ）プロピル、６−（
４−イソプ０ピルフェノ＋シ）へ牛シル、４−（４−へ
＋シルフェノ＋シ）ブチル、１．１−ジメチル−２−（
５，４−ジメチルフェノ牛！／）エチル、５−（３，４
−ジエチルフェノ牛シ）ペシチル、６−（３，５−ジメ
チルフェノキシ）へ＋シル、２−メチル−３−（２，５
−１，ｚメチルフェノ士シ）プ０じル、（３，４−メチ
レジジオ牛ジフェノ牛シ）メチル、２−（３，４−メチ
レジジオ十ジフェノ＋シ）エチル、２−（５，４−エチ
レシジオ士ジフェノ＋シ）エチル、２−（２，５−メチ
し：／ジオ＋ジフェノ＋シ）エチル、２−（５，４−ト
リメチレジジオ牛シフＩ）中シ）エチル、４−（５，４
−メゾレジジオ士ジフェノ士シ）ブチル、（５，４−エ
チレシジオ十ジフェノ十シ）メチル、（２，３−メチレ
ジジオ牛ジフェノ士シ）メチル、１−　（３，４−メチ
レジジオ＋ジフェノ牛シ）エツル、３−（３，４−メチ
レジジオ士ジフェノ十シ）プロピル、６−　（３，４−
メチレジジオ十ジフェノ十シ）へ＋シル、（３，４，５
−トリメチルフェノ＋シ）メチル、（３，４，５−トリ
メト士ジフェノ＋シ）メチル、２−（３，４，５−）リ
メト＋ジフェノ＋シ）エチル等のフェニル環上の置換基
としてハ０ゲシ原子、脚素数１〜６のアルコキシ基及び
度素数１〜６のアル＋ル基なる群から選ばれ九基を１〜
３個もしくは疾１／Ａ数１〜今のアル＋レジジオ牛シ基
を１することのあるフェノキシ基を置換基として有する
巌素数１〜６０直鎖又は分枝状アル牛ル基を例示できる
。

置換基としてシアノ基、ベル９イＬオ＋シ基（このフェ
ニル環上には低級アルコキシ基が１〜３個置換していて
もよい）、ハ０ゲシ厚子、しド０＋シ基、低級アルカノ
イルオ＋シ基又はカルバ上イル基を１１１有する低級ア
ル＋ル基としては、シアノメチル、カルバ上イルメチル
、２−シアノエチル、２−カルへ七イルエチル、２−も
しくは３−シアツブ０じル、２−もしくは３−カルへｔ
イルプ０ビル、１−メチル−２−シアノエチル、Ｉ−メ
チル−２−カルバ上イルエチル、２−９３−もしくは４
−シアノブチル、２−９３−もしくは鴫−カルバ七イル
ブチル、ｔ、ｉ−ジメチル−２−シアノブチル、１．１
−ジメチル−２−カルへｔイルブチル、２−もしくは３
−シアノエチル、２−４Ｌ＜は３−カルバｔイルペシチ
ル、４−シアノへ＋シル、４−カルバ七イルへ平シル、
しドＤ＋ジメチル、２−しドロキジエチル、２−しド０
＋シづロピル、２−しドロ＋ジプチル、３１ド０↑シブ
Ｏｅル、鴫−しドロ士シづチル、３−しドロ＋ジプチル
、ラーしドロ＋シペシチル、６−ヒド０牛シヘ牛シル、
アセメチ１士ジメチル、２−ｙｔｆＬｔ＋シエ予ル、２
−アｔチシオ牛シづ０ピル、３−アｔチルオ牛シブＯｅ
＆、４−ア七チルオ中ジプチル、５−アセチ１１士ジプ
チル、５−アｔチルオ＋シベシチル、６−アｔチルオ十
シヘ牛シル、２−プ０じオニルオ＋ジエチル、３一本ル
ミルオ士シブＯピル、２−プチリルオ＋シ″ｊＯじル、
４−イソプチリルオ士ジプチル、２−ベシタノイルオ十
ジエチル、ｔｔｒｔ−プチルカルボニルオ士ジメチル、
２−へ＋サノイルオ牛ジエチル、ベシリイルオ士ジメチ
ル、２−ベシリイルオ士ジエチル、３−ベシリイルオ十
シブ０じル、６−ベシリイＬオ十シヘ＋シル、４−ベシ
リイルオ士ジプチル、２もしくｔ１３−メト＋シベシリ
イルオ＋シ）メチル、２−（４−メト＋シベシリイルオ
十シ）エチル、２−エト＋シベシリイルオ士ジメチル、
１−（３−エト＋シベシリイルオ十シ）エチル、３−（
４−エト＋シベシリイルオ十シ）プ０じル、６−（４−
イソづｏ、ｌ十シベシリイルオ＋シ）へ＋シル、４−（
４−へ＋シルオ十シベシリイルオ＋シ）ブチル、１．１
−ジメチル−２−（３，４−ジメト＋シベシ９イルオ千
シ）エチル、５−ベシリイルオ士シペシチル、５−　（
３，４−シェドｆシベシリイＬ才牛シ）ペシチル、６−
１゜４．５−）リメト＋シベシリイＬオ十シ）へ牛シル
、２−メチル−３−（２，５−ジメト牛シベシリイルオ
十シ）プロピル、２−　（５，４−ジメト＋シベシリイ
ルオ牛シ）エチル、３−１．４．５−）リメト十シベシ
リイルオ＋シ）プ０じル、り００メチル、プ０ムメチル
、ヨードメチル、フｔｔｏメチル、２−り０ロエチル、
２−ブロムエチル、２−もしくは３−り００プ０じル、
２−フルオ０プ０ピル、３−ヨードブ０ピル、１−メチ
ル−２−り０ロエチル、２−１５−もしくＵ４−プ０ム
プチル、５−２００ブチル、２−ヨードブチル、４−フ
ルオロブチル、ｔ、ｉ−ジメチル−２−り００ブチル、
２−もしくは３−り００ペシチル、４−プ０ムヘ千シル
、６−り００へ牛シル、５−プ０ムベシチル１１０シア
ノ基、ベシリイルオ＋シ基（こＯフェニル環上には択素
数１〜６０［１又は分校状アルコ牛シ基が１−５４１１
置換していてもよい）、ハ０ゲシ原子、しド０＋シ基、
次素数１〜６の直鎖もしくれ分枝状アルカノイルオ＋シ
基又はカルバ七イル基をｌｉ１１ｍｌｌ換基として有す
るｍｌ数１〜６の直鎖又は分校状アル＋ル基を例示でき
る。

フェニル環上に置換基として低級アル牛ル基、低級アル
コ＋シ基、ハ０ゲシ原子、ニド０基、アミノ基、低級ア
ルカノイルアミノ基及び低級アル十ルチオ基から選ばれ
た基を１〜３個もしくは低級アル＋レジジオ十シ基を有
することのあるフェニル低級アル十ル基としては、ベシ
ジル、２−フェニルエチル、３−フェニルプロピル、６
−フエ二ルヘ＋シル、４−フェニルエチル、ジフェニル
メチル、■、２−ジフェニルエチル、２−もしくは３−
メト辛シベシジル、２−（４−メト牛ジフェニル）エチ
ル、２−エト＋シベシジル、　　Ｉ−（３−エト中ジフ
ェニル）エチル、３−（４−エト中ジフェニル）づ０じ
ル、６−（４−イソづ０ボ牛ジフエニル）へ＋シル、鴫
−（４−へ士シルオ牛ジフェニル）ブチル、１．１−ジ
メチル−２−（３，４−ジエチルフェニル）エチル、５
−フェニルエチル、５−（５，４−シェド＋ジフェニル
〕ベシチル、６−（３，４，５−トリメト＋ジフェニル
）へ＋シル、２−メチル−３−＜２．５−”；メト牛ジ
フェニル）プ０じル、２−二ト０ベシジル、３−二ト０
ベシジル、１−（３−二ト０フェニル）エチル、６−（
４−二ト０フエ＝Ｌ）へ辛シル、２−り００ベシジル、
３−プ〇七ベシジル、４−３−ドベシジル、２−（４−
フルオロフェニル）エチル、１−（３−り０ロフエニル
）エチル、６−（４−プΩ七フェニル）へ＋シル、５−
（５，４−ジグ００フエニル）ペシチシ、ｌ、１−ジメ
チル−２−（２，５−ジブ０ムフエニル）プ０じル、２
−もしく嬬５−メチルベシジル、２−（４−メチジフェ
ニル）エチル、２−エチルベシジル、ｔ−（３−エチル
フェニル）エチル、３−（４−エツルフエニＬ）プロピ
ル、６−（４−イソプ○とルフエニＬ）へ＋シル、４−
（４−へ＋シルフエニＬ）’ｊブチル１．１−ジメチル
−２−（３，４−ジメチルフェニル）エチル、５−（３
，４−ジエチルフェニル）ペシチル、６−（３，５−ジ
メチルフエニＬ）へ＋シル、２−＼メチルー３−（２，
５−ジメチ彫フエニＬ）ｊｏピル、２−ア三ノベシジル
、３−ア三ノベシジル、Ｉ−（３−アミノフェニル）エ
チル、６−（４−アミノフェニル）へ十シル、２−アｔ
チルア三ノベシジル、３一本ルミルア三ノベシジル、１
−（３−プｏじオニルアミノフェニル）エチル、６−（
４−寓−ブチリルア三ノフ工二ル）へ＋シル、２−（５
−ベシタノイルｙ三ノフェニル）エチル、今一（６−へ
＋サノイルア三ノフェニル）ブチル、２−もしくＦｉ：
３−メチルチオフェニル、２−（４−メチルチオフェニ
ル）エチル、２−エチルチオフェニル、１−（３−エチ
ルチオフェニル）エチル、３−（４−エチルチオフエニ
Ｌ）プ０じル、６−（４−イソプＯｅＬチオフェニル）
へ＋シル、４−（４−へ牛シルチオフェニル）ブチル、
ｌ、１−ジメチル−２−（３，４−ジメチルチオフェニ
ル）エチル、５−（３，４−ジエチルチオフェニル）ペ
シチル、６−（５，５−ジメチルチオフェニル）へ牛シ
ル、２−メチル−３−（２，５−ジメチルチオフェニル
）プロピル、３−メチＬ−４−り００ベシジル、２−９
００−６−メチルベシジル、２−メト＋シー５−り００
ベシジル、フェニル（４−りｏｏフェニＬ）メチル、ジ
（４−メチルフェニル）メチル。

フェニル（３−メト＋シフエニＬ）メチル、３，４゜ラ
ートリメト十シベシジル、２−（５，４，５−トリメト
＋ジフェニル）エチル、！１．４．５−　）リメチシベ
シジル、５．４．５−トリクａａベシジル、３．４−エ
チレシジオ十シベシジル、２．３−メチレジジオ士シベ
シジル、１−（１，４−メチレジジオ牛ジフェニル）エ
チル、３〜（３，４−メチレジジオ＋シフエニＬ）づ０
ピル、６−（３，４−メチレジジオ牛ジフェニル）へ＋
シル、３．４−メチレジジオ士シベシジル、２−（３，
４−メチしシジオキシフェニル）エチル、２−（３，４
−エチレシジオ十ジフェニル）エチル、２−（２，３−
メチレジジオ士ジフェニル）エチル、２−（３，４−）
リメチレシジオ士ジフェニル）エチル、４−（３，４−
メチレジジオ士ジフェニル）ブチル等のフェニル環上に
釈素数１〜６の直鎖又は分枝状アル十ル基、択素数１〜
６０直鎮又は分枝状アルコ＋シ基、ハ０ゲシ厚子、ニド
０＆、ア三ノ基１次素数１〜６の直鎖Ｘは分枝状アシカ
ッイルアミノ基、及び＃２素数１〜６のｔｎ鎖又は分枝
状アル＋ルチオ基から成る群から選ばれ九置換基を１−
３個もしくは択素数１〜今のアル＋レジジオ十シ基を有
することのあるフェニル基をｌ又Ｕ２個有する羨素数１
〜６の直鎮又は分枝状アル牛ル基を例示で色る。

フエニＬｌｌ上に置換基として低級アシキル基、低級ア
ルコ−＋シ基、ハ０ゲシ願子、ニド０基及びシアノ基か
ら選ｄれ九基を１〜３個もしくは低級アＬ士しジジオキ
シ基を有するととＯわるベシリイル基としては、ベシリ
イル基、並びＶＣ２−，３−もしくＦｉ４−り００ベシ
リイル、２−１３−もしくは４−フルオ０ベシリイル、
２−９３−もしくは４−プ０ムベシリイル、２−１３−
もしくは４−３−ドベシリイル、Ｓ、Ｓ−！；り００ベ
シリイル、２．６−ジク００ベシリイル、３Ｉ鴫−ジク
ＯＤベシリイ」、３，４−ジフルオＯペシ９イル、３，
５−ジプ０ムベシリイル、２−９５−もしくＵ４−メチ
ルベシリイル、２−．３−もしくは４−エチルベシリイ
ル、３−イソプ０ビルベシリイル、今一へ＋シルベシリ
イル、３，４−ジメチルベシリイル、２，５−ジメチル
ベシリイル、２−．３−もしくは４−メト千シベシリイ
シ、２−．３−もしくは４−エト牛シベシ９イル、４−
イソプＯボ士シベシリイル、４−へ＋シルオ中シベシリ
イル、３．４−ジメト士シペシリイル、３．４−シェド
＋シベシリイル、２．５−ジメト十シベシリイル、２−
１３−もしくＦｉ４−二トｏベシリイル、２．４−ジニ
ト０ベシリイ」、２−１３−もしくは４−シアノベシリ
イル、２，４−９シアノベシリイル、３，４−メチレン
ジオ士シベシリイル、３，４−エチレシジオ＋シベシリ
イル、２，３−メチレジジオ十シベシリイル、３．４−
）リメチレシジオ十シベシリイル、２．３−テトラメチ
レジジオ士シベシリイル、３−メチル−４−りＯＯベン
ソイル、２−り００−６−メチルベシリイル、２−メト
＋シー３−りＤＯベシリイル、３．４．５−トリメト士
シベシリイル、３．４．５−）リメチルベシリイル、５
．４．５−トリク００ベシリイＬ等のフェニル環上に羨
素数１〜６の直鎖又は分枝状アル＋ル基、駅素数１〜６
０直餉もしくは分枝状アル］十シ基、ハ０ゲシ原子、ニ
ド０基及びシアノ基から成る群から選ばれ九１〜３個Ｏ
置換基を有するか又社駅素数１〜４のアル牛しジジオ十
シ基を有するベシリイＬＭを例示できる。

フェニル環上に置換基として低級アル十ル基を１〜３Ｉ
ｌ有することのあるフェニルスルホニル基としては、フ
ェニルスルホニル、トルニジスルホニル、＋シレシスル
ホニル、トリメチルベシぜシスル本ニル、エチルベシｔ
！シスル本ニル、イソプ０とルベシゼシスルホニル、プ
チルベシｔジスルホニル、へ牛シルベシぜシスル本ニル
等のフェニル環上に訳素数１〜６０アル十ル晟の１−１
個を有するフェニルスルホニル１＆を例示できる。

フェニル環上に置換基として低酸アルコ↑シ基及びハ０
ゲシ原子なる鮮から選ばれた基を１−１鯛もしく＃ｉ、
低級アル＋レジジオ十シ基を有することのあるフェニル
低級アル＋ル五としては、ベシジル、２−フェニルエチ
ル、１−フェニルェチル。

３一つエニシづＯじル、４−フェニルブチル、■、１−
ジメ予ルー２−フエ＝ルエチシ、５−フェニルベシチル
、６−フェニルへ＋シル、２−メチル−３−フェニルづ
０じル、ジフェニルメチル、２．２−ジフェニルエチル
、３．３−ジフェニルづ０ピル、１．１−ジメチル−２
，２−、＝”フェニルエチル、２−メト＋シベシジル、
３〜メト＋シベシジル、４−メト＋シベシジル、３−エ
ト＋シベシジル、２−づ０ボ＋シベシジル、３−イソづ
ｏ１１千シベシジル、４−　ｔｌｒｌ−ブト＋シベシジ
ル、２−（３−メト千ジフェニル）エチル、２−（４−
メト千ジフェニル）エチル、２−（２−エト十シフエニ
Ｌ）エチル、２−（３−ブト＋シフエニＬ）エチル、１
−（４−エト十ジフェニル）エチル、：３−（２−メト
千ジフェニル）づ０ピル、２−メチル−３へ（４−メト
千ジフェニル）づ０じル、６−（４−メト＋ジフエニル
）へ＋シル、２−り０ルベシジル、３−９０ルベシジル
、４−プ０ムベシジル、２−３−ドベシジル、３−フル
オ０ベシジル、２−（３−り０ルフエニル）エチル、２
−（４−り０ルフエニＬ）エチル、２−（２−づ０ムフ
エニル）エチル、２−（３−ヨードフェニル）エチＬ。

１−（４−り０ルフエニル）エチル、１−（３−プ０ム
フェニル）エチル、３−（２−り０ルフエニル）プ０じ
ル、３−（４−り０ルフエニル）プロピル、３−（３−
プ０ムフェニル）プロピル、３−（４−ヨードフェニル
）プロピル、５−（５−９０ルフエニル）ペシチル、２
．３−メチレシリオ＋シベシジル、３，４−メチレジジ
オ十シベシジル、２，３−エチレシジオ士シペシジル、
３．４−エチレシジオ士シベシジル、５．４−トリメチ
レジ５オキシベンジシ、２−（２，３−メチレジジオ＋
ジフェニル）エチル、２−（３，４−エチレシジオ辛ジ
フェニル）エチル、ｌ−（’＄、４−メチレジジオ十ジ
フニジフェニルル、３−（２，３−メチレジジオ＋ジフ
ェニル）プロピル、５−（３，４−エチレシジオ士ジフ
ェニル）プロピル、１．ｌ−ジメチル−２−（５，４−
メチレジジオ牛シフＩニル）エチル、２−メチル−３−
（３，４−エチレシジオ十ジフェニル）づ０じル、２．
３−ジメト十シベシジル、２．４−ジメト＋シベシジル
、３．４．５−トリメト士シベシジル、２，４−シェド
＋シベシジル、２−（３，４−ショートフェニル）エチ
ル、２−（３，４゜５−トリメト士シフエニＬ）エチル
、３−（２，３−ジメト＋ジフェニル）づ０じル、３−
（３−メト十シー４−エト＋ジフェニル）プ０じル、１
．１−ジメチル−２−（３，４，５−）リメト十ジフェ
ニル）エチル、５−（３，４−ジメト＋ジフェニル）ベ
シチル、２．３−ジグ０ルベシジル、３．４−ジブ０ム
ベシジル、　５，４．５−トリクＱルベシジル、２．４
−ジブ０ムベシジル、３．４−ジブ０ムベシジル、３．
４−’フルオ０ベシジル、２−り０ルー３−づ０ムベシ
５ル、２−（２，３−ジク○ルフェニＬ）エチル、２−
（３，４，５−）ジクロルフェニル）エチル、２−　（
３，４−ジづ○ムフェニル）エチル、２−（２，４−シ
ョートフェニル）エチル、１−（３，４−ジ９ＤＬ）エ
ニＬ）Ｘ９Ｌ、ｌ　−（！Ｓ、４．５−トリづ０ムフエ
ニＬ）エチル、３−（２，４−ジクロルフェニル）プロ
ピル、５−（５，４−ジブ０ムフエニル）プロピル、５
−（３，４−ジクロルフェニル）ペルチルｌｌｌ０フエ
ニシ環上に置換基として訳素数１〜６０１：鎖又は分枝
状アルコ十シ基及びハ０ゲシ隊子なる群から選ばれ九基
を１−１個もしくは羨素数１〜４の直鎖又は分枝拭アル
十しジジオ十シ基を有することのあるフェニル基をｌ又
は２＠有する択素数１〜６０ｉｆ鎖又は分校状アル＋ル
基を例示できる。

低級アルコ＋シ基としては、メト＋シ、エト辛シ、づ０
ボ＋シ、イソプ０ボ↑シ、ブト牛シ、１ｔｒｔ−ブト＋
シ、ベシチルオ十シ、へ＋シルオ十シ噂Ｏ羨素数１〜６
０直鎖又れ分枝状のアルコ＋シ基を例示できる。

ハ０ゲシ原子としては、弗素、壕素、臭素及び沃素原子
を示す。

低級アル＋ルチオ基としては、メチルチオ、エチルチオ
、プ０じルチオ、イソプ０じルチオ、ブチルチオ、ｔｔ
ｒｌ−ブチルチオ、ペシチルチオ、へ＋シルチオ等の駅
素数１〜６の直鎖又は分枝状アル＋ルチオ基を例示でき
る。

低級アル十しジジオ十シ基としては、メチレジジオ十シ
、エチレシジオ＋シ、トリメチレジジオ十シ勢Ｏ択素数
ｌ〜４の直鎖又祉分枝状アシ士しジジオ十シ基を例示で
きる。

４＃、ｉｌｌ！アルカノイルア三ノ基としては、本ル三
ルア三ノ、アセチルア三ノ、プ０ヒオニルアミノ、ブチ
リルアミノ、イソブチリルアミノ、ペシタノイルアΣノ
、１ｔｒｌ−ブチルカルボニルアミノ、へ＋サノイルア
三ノ等ＯＲ素数１〜６０直鎖又は分枝状アルカノイル置
換アミノ基を例示できる。

シフ０アＬ＋ル基として社、シフ０プＯｅル、シフ０ブ
チル、シフ０ペシチル、シフ０へ＋シル、シフ０ヘプチ
ル、シフ０オクチル尋の炭素数３〜８のシフ０アル牛ル
基を例示できる。

フェニル環上に置換基としてしド０＋シ基、ハＤゲシ原
子、低級アル＋ル基、低級アルコ＋シ基及び低級アルカ
ノイルアミノ基なる群から選ばれ九基を１〜３ｉＡ有す
ることＯＴｏるベシリイル低級アル＋ル基としては、ベ
シリイルメチル、２−ベシリイルエチル、３−ベシリイ
ルプｏじル、６−ベシリイルヘ＋シル、４−ベシリイル
プチル、（２−もしくは３−メト＋シベシリイＬ）メチ
ル、２−（４−メト十シベシリイル）エチル、２−エト
牛シベシリイルメチル、１−（３−エト牛シベシリイル
）エチル、３−（４−エト牛シベシリイル）プロピル、
６−（４−イソプ０ボ＋シベシリイル）へ牛シル、４−
（４−へ＋シルオ十シベシリイル）ブチル、１．１−ジ
メチＬ−２−（３，４−ジメト＋シベシリイル）エチル
、５−ベシリイルベシチル、５−　（５，４−シェド＋
シベシリイル）ベシチル、６−　（５，４，５−トリメ
ト＋シベシリイル）へ＋シＬ、２−メチルー３−（２，
５−ジメト＋シベシソイル）プ０じル、（２−９００ベ
シリイル）メチル、（３−プ０ムベシリイル）メチル、
（４−ヨードベニ／ソイル）メチル、２−（４−フルオ
０ベシリイル）エチル、１−（５−９００ベシリイル）
エチル、６−（４−プ０ムベシリイル）へ＋シル、５−
（３，４−ジグ００ベシリイル）ベシチＬ、１．１−ジ
メチル−２−（２，５−ジブ０ムベシソイル）づ０じル
、（３，４，５−）リフ００べぞリイル）メチル、（２
−もしくは３−メチルベシリイル）メチル、２−（４−
メチルベシリイル）エチル、（２−エチルベシリイル）
メチル、１−（３−エチルベシリイル）エチル、３−（
４−エチルベシリイル）づ０ピル、６−（４−イソづ〇
ビルベシリイル）へ十シル、４−（４−へ十シルベシリ
イル）ブチル、１．１−ジメチル−２−（３，４−”；
メチルベシリイル・）エチル、５−（３，４−ジエチル
ベシリイル）ペシチル、６−（３，５−ジ疋チルベシリ
イル）へ十シル、２−メチル−３−（２，５−ジメチル
フェノ＋シ）プ０とル、（２−アセチルア三ノベシリイ
ル）メチル、（５一本ルミルア！ノペシリイル）メチル
、１−（３−”ｊＯじオニルアΣノベシリイル）エチＬ
、６−（４−Ｎ−ブチリルア三ノベシリイＬ）へ十シル
、２−（５−ペシタノイルアミノベシリイル）エチル、
鴫−（６−へ＋サノイシア三ノベシリイル）ブチル、（
２−，３−もしくは今一しド０＋シベシリイル）メチル
、２−（４−ｂド０＋シベシリイル）エチル、１−（！
Ｓ−ｔ：、ドロ士シベシリイル）エチル、６−（４−し
ド０＋シベシリイル）へ＋シル、５−（３，４−ジしド
０十シベシリイル）ペシチル。

１．１−ジメチル−２−（２，５−ジしド０牛シベシリ
イル）プ０じル、（３，４，５−）りしド０＋シベシリ
イル）メチル等のフェニル環上に置換基としてヒト０十
シ基、Ａ　Ｏゲシ原子、脚素敵１〜６゜直鎖又は分枝状
アル牛ル基、羨素数１〜６０直鎖又は分枝状アルコ＋シ
基、脚素Ｗｉｌ〜６の直鎖又は分枝状アルカノイルアミ
ノ基なる群から選ばれた基を１〜３１１１ｉもしくＦｉ
病素数１〜４のアル士しジジオ＋シ基を有することのあ
るベシリイル基を１する訳ＩＩ！ｋｌ〜６の直鎖又は分
校状アシ＋ル基を例示できる。

フェニル環上に置換基として低級アルコ＋シ基を１〜３
輌有することのあるフェニル低級アルカノイル基として
は、フエニＬ’ｊ’ｔチル、３−フェニルジ０じオニル
、２−フェニルジ０じオニル、４−フェニルづチリル、
２１２−　、！／メチＬ−３−フェニルづ０ピオニル、
５−フェニルペシタノイル、６−フェニルへ＋サノイル
、３−メチル−４−フェニルブチリル、（２−メト千ジ
フェニル）アセチル、（３−メト千ジフェニル）アセチ
ル、（４−メト千ジフェニル）アセチル、（３−エト＋
シフエニＬ）アセチル、（２−づ０ボ＋ジフエニル）ア
セチル、（３−イソづ０ボ士ジフェニル）アセチル、（
４−１ｔｒｌ−ブト＋ジフェニル）アセチル、３−（３
−メト千ジフェニル）プロじオニＬ１３−（４−メト千
ジフェニル）プ０じオニル、３−（２−エト＋シフエニ
Ｌ）プ０じオニＬ、３−（３−ブト＋シフエニｔ）プｏ
じオニル・４−（２−メト千ジフェニル）ブチリル、３
−メチル−４へ（４−メト千ジフェニル）ブチリル、６
−（４−メト千ジフェニル）へ牛すノイル、（２，５−
ジメト＋ジフェニル）アセチル、（２，４−ジメト牛ジ
フェニル）アセチル、（５，丸う一トリメト牛シフエニ
Ｌ）アセチル、（λ４−＠／エト牛シフエニＬ）アセチ
ル、３−＜５．４−シェド↑ジフェニル）プ０じオニル
、’５−（３，４，５−）リメト十ジフェニル）プ０ど
オニル、４−（２，！Ｉ−ジメト十レジフェニルブチリ
ル、４−（３−メト＋シー今一エト牛ジフェニル）ブチ
リル、２．２−ジメチル−５−（５，４，５−）リメト
牛ジフェニル）プ０じオニル、６−（３，４−ジメト十
ジフェニル）へ↑サノイル等のフェニル環上に置換基と
して訳素＊Ｉ〜６の直鎖又は分枝状低級アルコ＋シ基を
１〜３輌有する仁とのあるフェニル基を有する択素６２
〜６の直鎖又は分枝状アルカ４ノイル基を例示で龜る。

置換基としてしドロ＋シ基又はハ０ゲシ原子を壱するこ
とのある低級アル＋ル基としては、上記ｐ素数１〜６の
ｉｆ鎖又は分枝状アル＋ル基並びに２００メチル、プ０
ムメチル、ヨードメチル、フルオロメチル、２−り００
エチル、２−プ０ムエチル、２−もしく＆ｉ３−り００
″ｊｏじル、２−フルオ０づ０ビル、５−ヨードブ０じ
ル、ｌ−メチル−２−９００エチル、２−１３−もしく
は４−プ０ムプチル、３−りｏｏブチル、２−ヨードブ
チル、４−フルオ０ブチル、１．１−、；メチル−２−
クロ０ブチル、２−もしくＦｉ３−りＯｏベシチル、４
−ヴ０ムヘ＋シル、６−り０ロヘ＋シル、５−づＯムペ
シチル、しドロ士ジプチル、２−しド０＋ジエチル、２
−しド０＋シブ０じル、２−ヒト０十ジプチル、３−ヒ
ト０十シブ０どル、４−しドロ士ジプチル、３−七ド０
＋ジプチル、５−七ド０士シペシチル、６−しドロ牛シ
ヘ＋シル吟Ｏｌ換基としてしドロ＋シ基又はハ○ゲシ原
子を有することのあるｊｌ［数１〜６の直鎖又は分枝状
アル＋ル基を例示できる。

フェニル環上に置換基としてハ０ゲシ原子又は低級アル
コ＋シを１〜３ｉＡ有すること０あるフエ＝Ｌａ級アシ
ケ：ルカルボニル基としては、シシナ℃イル、４−フェ
ニル−３−ブテノイル、４−フェニル−２−ブテノイル
、５−フェニル−４−ペシテノイル、５−フエニＬ−３
−ペシテノイル、５−フェニル−２−ペシテノイル、６
−フェニル−５−へ↑ｔノイル、６−フェニル−４−へ
＋ｔノイル、６−フエ：ルー５−へ↑ｔノイル、６−フ
ェニル−２−へ牛セノイル、２−メチル−４−フェニル
−５−ブテニル、２−メチルーシシナ七イル、１−メチ
ルーシシナ七イル、２−．３−もしくは４−り００シシ
ナ七イル・２−１３−もしくＶｉ４−フルオＤシシ１七
イル、２−１５−もしく１ｉ４−プ０ムシシｊ’ｔイル
、２−１３−もしくは４−３−ドシシナｔイル、３．５
−ジク０ロシシすｔイル、２．６−ジク００シシナｔイ
ル、３，４−ジグ００シシナｔイル、３，４−ジフルオ
０シシナ七イル、３．５−ジブ０ムシ幻１イル、３，４
．５−トリク００シシ１℃イル、４−フシオ０フェニル
ー３−ブテノイル、４−（３−２００フエニＬ）−２−
ブテノイル、５−（４−プ０ムフェニル）−４−ペシテ
ノイシ、６″″（３，４−ジグ００フエニル）−５−へ
＋ｔノイル、２−メチル−（２，５−ジプ０ムフエニル
）シシす七イル、ｌ−メチル−（３−り００フエニル）
シシナｔイル、６−（３，４，５−）リプ０ムフエニル
）−５−へ＋ｔノイル、２−．３−、もしく祉４−メト
牛シシシナｔイル、２．３−もしくは今一エト＋シシシ
ナｔイル、２−１３−もしくは４−プ０ボ牛シシシナｔ
イル、２−ブト＋シシンｊ七イル、３−　（１ｚｒｌ−
ツトキシ）シシｉｔイル、４−ペル５Ｌオキシシシナｔ
イル、３−へ牛シルオ牛シシシナｔイル、３．５−ジメ
ト＋シシシナｔイル、２，６−ジメト十シシシナｔイル
、３．４−ジメト牛シシシナｔイル、３．４−シェド＋
シシシナ七イル、３．５−シェド＋シシシナｔイル、３
，４．５−　）リメト千シシシナｔイル、４−エト＋シ
フエニｔ−Ｓ−ブテノイル、４−（３−１ａｒｔ−ブト
牛ジフェニル）−２−ブテノイル、５−（４−へ＋シル
オ＋ジフェニル）−４−ペシテノイル、６−（３，４−
ジメト＋ジフェニル）−５−へ＋ｔノイル、２−メチル
−（２，５−シェドキジフェニル）シシすｔイル、１−
メチル−（５−メト牛ジフェニル）シシナｔイル、６−
（３，４，５−）リプ０ムフエニル）−５−へ十をニル
等のフェニル環上に置換基としてハロゲシ鳳子又は脚素
数１〜６の直鎖４しくは分枝状のアルコ＋シ基を１〜３
個有することのあるフェニル基を有する線素数３〜６の
直鎖又は分枝状アルケニルカルボニル基を例示できる。

低級アルカノイル低級ア岬十ＬＩ＆としては、アセチル
メチル、２−アセチルメチル・、２−アセチルプ０じル
、３−アセチルづ０じル、４−アセチルブチル、３−ア
セチルブチル、５−ｒｔｆＬペシチル・６−アセチルへ
十シル、２−プロピオニルエチル、３一本ＬＥルプ０ピ
ル、２−プチリルプ０じル、４−イソプチリルラチル、
２−ベシタノイルエチル　ｔｔｒｌ−ブチルカルボニル
、２−へ士すノイルエチル、ｌ、！−ジメチルー２−ア
ｔチルエチル等のＰ素数１〜６の直鎖又は分枝状アルカ
ノイル基を有する択素数１〜６の直鎖又は分枝吠アｌ＋
ル基を例示できる。

低級アルコ＋シカルｌル低級アル＋ル基としては、メト
十ジカルボニルメチル、２−（メト＋シカ１４二Ｌ）エ
チル、エト午ジカルボニルメチル、１−（エト十ジカル
ボニル）エチル、３−（メト十ジカルボニル）プロピル
、プロポ牛ジカルボニルメチル、２−（Ｊｏボ＋ジカル
ボニル）メチル、４−（プ０ボ＋シカＬボニＬ）ブチル
、ブト士ジカルボニルメチル、■−（ブチルカルボニル
）エチル、　ｔａｒｔ−ブト士ジカルボニルメチル、５
−　（ｌｚｒｇ−ブト＋シカＬＩＥ二Ｌ）づ０ピル、ベ
シチルオ士シカルボニルメデル、２−（へ＋シルオ十ジ
カルボニル）エチル、５−（メト十ジカルボニル）ペシ
チル、６−（エト十ジカルボニル）へ十シル等の択素数
１〜６の直鎖又は分枝状ア１コ＋シカルボミル基を有す
る廣素Ｉｋ１〜６０直餉又は分枝状アル牛ル基を例示で
きる。

Ｒ２及びＲ３が形成する５員又Ｆｉ６員の飽和複素環と
しては、ピロリジノ、ｌ−じベリジル、℃ルホリノ、ｌ
−じペラジニシ、４−メチル−１−ピベ５杉ニル、４−
エチル−１−じペラジニル、４−メチル−１−ピペリジ
ル、２−メチル−１−ピベリジル、４−プロヒル−１−
じベラジニル、４−プチルーｌ−じベラジニル、４−イ
ソプロじルー　１−ｅぺ５．！；二Ｌ、４−　ｔａｒｔ
−ブチル−１−じペラジニル　４−　ｚｔｔ−ブチル−
１−じベラジニル、４−ベシチルーｌ−じペラジニル、
４−へ十シｊＬ、−１−じペラジニル、４−ベンジルじ
０リジノ、４−ベリジル−１−じベリジル、３−ベシジ
ル七１本すノ、鴫−ベリジル−１−ピペラジニル、３−
（２−フェニルエチル）−監−じべりつル、４−（１−
フェニルエチル）−１−じベリジル、４−（３−フェニ
ルジ０じル）−１−じペラジニル、鴫−（４−フェニル
ブチル）−１−ピペリジル、３−（６−フェニルへ十シ
ル）−１−じベリジル、４−（４−フェニルブチル）−
ｔ−ピペラジニＬ喀を例示できる。

リル骨格の５．６．７又は８位である。

一般式（１）の化合物は、例えｔｉＴ−記反応行程式−
ｌの方法で製造され得る。

反応行程式−１ Ｒ２ ｘｌ　　　　　　　　　　　　　　１１１（り　　　　
　　　　　　　　　　　　（１）〔式中Ｒ”、Ｒ２、Ｒ
３及びカシボスチリル骨格Ｏ）位と４位のＲ２雪間結合
はＷＭ記に同じ。〕上上記反応行程−１で示される方法
は、一般式（２）で表わされる力Ｌボスチリル誘導体又
はそのカルボキシ基の活性化された誘導体と一般式（３
）で表わされるアミル又はそのアミノ基Ｏ活性化されえ
化合物とを通常のアニド結合生成反応にて反応させると
とによ）実施される。アミド結合生成反応は公知の各種
方法例えばり混合酸無水物法、例えばカルネスチリル誘
導体（２）にアル＋ルハ０カルポジ酸を反応させて混合
酸無水物とし、これに？Σシ（３）を反応させる方法蕎
（に）活性エステル法、例えばカルネスチリル誘導体（
２）’ｌ−二ト０フェニルエステル、Ｎ−しドロ＋シコ
ハク酸イ五ドエステル、Ｉ−ｔＦｏ＋シベシリトリアリ
ールエステル蝮Ｏ活性エステルとし、これにアミル（３
）を反応させる方法；（ハ）カルボジイミド法、即ちカ
ルボスチリル誘導体（２）にアミル（３）をジシク０へ
士ジルカルボシイ三ド、カルボニルシイ三タリール等の
活性化剤の存在下に縮合させる方法；に）その他の方法
、例えばカルボスチリル誘導体（２）ｔ−無水酢酸等の
脱水剤によすｈＬポジ酸無水物としこれにアミル（３）
を反応させる方法、力Ｌボスチリル誘導体（２）と低級
アルコールとのエステルにアミル（３）を高圧＾温下に
反応させる方法、カルボスチリル誘導体（２）の龍ハ０
ゲシ化物即ち力り卓シ酸ハライドにアミシＳ″′Ｓ誇ｍ
体（３）を反応させる方法等によ）実施することが出来
る。まえカルボスチリル誘導体（２）をトリフェニルホ
スフィシやジエチルクロ０本スフエート喀すリシ化合物
で活性化し、これにアミル（３）を反応させる方法等に
よることもできる。

上記に）に示す混合酸無水物法において、用いられる混
合酸無水物は通常Ｏショツテシーバウマシ反応によ多得
られ、これを通常単離することなくアミル（３）と反応
させることにより一般式（１）の化合物が製造される。

シ３ツテシーバウマシ反応は通常シ３ツテシーバウマシ
反応に慣用の塩基性化合物例えばトリエチルアミル、ト
リメチルアミル。

じリジシ％ジメチルアニリシ、Ｎ−メチル七ル本１．４
−！；アザピシク０（２，２，２）オクタシ（ＤＡＢＣ
Ｏ）噂の有ｍ樵基及び駅酸カリウム、羨酸ナトリウム、
駅蒙水素カリウム、巌酸水素すトリウム嶋Ｏ無機塩基の
存在下、約−２０〜１００℃好ましくは０〜５０℃にお
いて、約５分〜１０時間好ましく祉５分〜２時間を要し
て行われる。得られ九混合酸無水物とアミル（３）との
反応は、ｆｉ−２０〜１５０℃好ましくＦｉ１０〜５０
℃において約５分〜１０時間好ましくは約５分〜５時間
を要して行われる。

また上記混合酸無水物は一般にこの種混合酸無水物法に
慣用の１＃縄、具体的には塩化メチレジ、クロ０本ルム
、ジクＯＯエタシ醇のハ０ゲシ化縦比水案如、ベシセシ
、トルニジ、＋シレシ嶋の芳香り次化水素如、ジエチル
エーテル、テトラしドロフラジ、ジメト＋シエタシ皓の
エーテル類、酢酸メチＬ１酢酸エチル等のエステル類、
Ｎ、Ｎ−ジメチル本ルムアヱド、ジメチルスル本＋シト
、へ十寸メチルリシ酸トリア三ド等の非プｏトシ性極性
＃Ｉ縄などの適当な溶媒中又は非存在下で行なわれる。

尚上記混合酸無水物の鯛迄において使用されるアル＋ル
ハ０力Ｌ＄シ酸としてはり００蟻酸メチル、プ〇七蟻酸
メチル、り００蟻酸エチル、プロｔＩＩｌｌ酸エチル、
り０口蟻酸イソプデル等を例示でき、之等は通常カルボ
スチリル誘導体（２）に対し少なくとも醇ｔル量、好ま
しくは約ｌ〜２倍ｔル量用いられる。またアミル（３）
の使用割合は、１１富力Ｌ＄スチリル誘導体（２）に対
して少なくとも尋ｔル好ましくは約１〜２倍モルとする
りか好ましい。

上記（ロ）に示す活性エステル法は、例えｄＮ−ヒト０
十シコハク酸イ三ドエステルを用いる場合を例にとれに
、反応に影響な与えない過当な溶媒中で行なわれる。該
１ＩｉＩ縄としては、具体的には塩化メチレジ、り００
本ルム、ジク００エタシ等のへ〇ゲシ化択化水素類、ベ
シゼシ、トルニジ、中シレシ等の芳香族俵化水素類、ジ
Ｉチルエーテル、テトラしドロフラジ、ジメトｆシエタ
シ等のエーテＬＩＩ、　＃酸メチル、酢酸エチル等のエ
ステル類、Ｎ、Ｎ−ジメチル本ルムアΣド、ジメチルス
ルホ牛シト、へ＋サメチルリシ酸トリア三ド等の非プロ
トシ性極性溶媒などが挙けられる。反応猷、０〜１５０
℃、好ましくは１０−１００℃で、５〜３０時間で終了
する。アミル（３）とＭ、−しド０十シ〕ハク酸イ三ド
エステルとの使用割合り、後者に対して前者を通常、少
なくともＩ＠ｔル、好ましくは、＄ｅル〜２倍七ルとす
るのが望ましい。

上記に）に示すカルポジ酸ハライドにアミル（３）を反
応させる方法を採用する場合、該反応は脱ハ○ゲシ化水
素剤の存在下適当な溶媒中にて行なわれる。この脱ハ０
ゲシ化水嵩剤としては通常の塩基性化合物が几いられ、
塩基性化合物としては公知のものを広く使用でき１例え
ばショッテシーバウマシ反えに用いられる塩基性化合物
のほかに水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム、訳酸銀、ナトリウムメチラ
ート、ナトリウムエチラート等のアルコラード等を挙け
ることができる。尚、アミル（３）を過剰量使用して脱
ハＤゲシ化水嵩剤として兼用できる。溶媒としては、上
記ショッテシーバウマシ反応に用いられる溶媒のほかに
例えばメタノール、エタノール、づ０パノール、ブタノ
ール、３−メト中シー１−ブタノール、エチｔｔｏソル
プ、メデルｔＯソルプ等のアルコール如、じリジル、ア
七トシ、アセトニトリル等又は上記溶媒の二つ以上の混
合ｌｉＩ謀等を挙げることができる。アミル（３）とカ
ルポジ酸ハライドとの便用割合り特に限定がなく広い範
囲内で適宜選択されるが、通常前者に対して読者を少な
くとも勢七ル量程度、好ましくは等℃ル〜２倍ｔＬ量用
いるのがよい、該反応＃ｉ通通常−３一〜１８０ 行なわれ、一般に５分−３０時間で反応は完結する。

上記において力Ｌポジ酸ハライドは、例えばカルボスチ
リル誘導体（２）とハ０プシ化剤とを無浴峰下又はＩＩ
Ｍ縄の存在下に反応させることにょヤ製造される。溶媒
としては、反応Ｋ１１ｉ影智を与えないものであれば使
用でき、例えばベシセシ、トルニジ、＋シレシなどの芳
香族膨化水素類、りＯｏ＊ルム、塩化メチレジ、西塩化
羨素なとのハ０ゲシ化軟化水素如、ジオ＋リシ、テトラ
しドロフラジ。

ジエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホ千シトなどが挙けられる。ハ０ゲ
シ化剤としては、カルボキシ基の水酸基をハｏ　Ｙ−シ
に変える、通常のハ０ゲシ化剤を使用でき、例えば塩化
チオニル、オ十シ樵化すシ、オ十シ臭化すシ、五塩化リ
シ、五臭化すシなどが例示される。カルボスチリル誘導
体（２）とハ０ゲシ化剤との使用割合はとくに限定され
ず適宜選択されるが、焦［＆下で反応を行う場合には、
通常前者に対して、後者を大過剰量、また溶媒中で反応
を行う場合には、通常前者に対して後者を少なくとも等
ｔル量程度、好ましくは、２〜４倍七ル量を用いる。そ
の反応温Ｍ（および反応時間）もとくに＃ｉ定されない
が１通常室温〜１００℃程度。

好ましくｔｉ５０〜８０℃にて、３０分間〜６時間程茨
で行なわれる、 またカルボスチリル誘導体（２）をトリフェニル本スフ
ィン中ジエチルクｏｏ本スフエート等のリシ化合物で活
性化し、これにアミシ（３）を反応させる方法は、適当
なＳ＊中で行うことが出来る。ここで溶媒としては反応
に影響を与えないものなら何れでも使用できるが、具体
的にｔｉｔ化メチレジ、り００本ホルムジクｏｏエタシ
等Ｏハロゲシ化脚化水素類、ベシｔ！シ、トルニジ、＋
シレシ噂０芳香族羨化水素類、ジエチルエーテル、テト
５しド。

０フラジ・ジメト＋シエタシ勢のエーテル類、酢酸メチ
ル、酢酸エチル等のエステル類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスル本生シト、へ＋サメチルリシ酸
トリア！ド等の非プロトシ性極性ＩＩＩ１ｍｌなどが挙
がられる。上記反応では、アーク（３）自体が環基性化
合物として働くため、これを理論量よシ過剰量用いるこ
とにょｌ＆応は良好に進行するが、必１’に応じて、他
の環基性化合物例えば、トリエチルアミシ、トリメチル
アアシ、ピリジシ、ジメチルアニリシ、Ｎ−メチル上す
本リシ、ＤＢＮ、ＤＥＵ、ＤＡＢＣＯ醇の有機塩基及び
択酸カリウム、巌酸ナトリウム、羨酸水素カリウム。

訳酸水素ナトリウム等の無ＩＩＩ塩基を用いることもで
きる。該反応は約０〜１５０℃好ましくは約θ〜１００
℃において行われ、反応時間は約１〜３０時間である。

カルボスチリル誘導体（２）に対するリシ化合物及びア
ミシ（３）の使用割合は、夫々通常少なくとも等ｔル量
程度好ましくは、ｌ〜３倍Ｅｌ菖とされる。

また一般式（１）の化合物中ある欝に属する化合物（下
記一般式（１−４）　、（１−り及び（ｌ−ζ）で表わ
される）は、夫々以下の反応行程式−２乃至−５に示す
方法によっても製造することができる。

反応行程式−２ 〔式中Ｒ１及びカルボスチリル骨格０３位と４位Ｏ＃２
素閥結合は前記に同じ。Ｒ４は低級アシカッイル基、低
級アルコ十ジカルボニル基、）０イル基、フェニル環上
に置換基として低級アル＋ル基、低級アルコキシ基、ハ
０ゲシ鳳子、ニド０基及びシアノ基なる群から選ばれ九
基を１−３個もしくれ低級アルキレジジオ十シ基を有す
ることのあるベシリイｆフェニル環上に置換基として低
級アルコ牛シ基を１〜３個有すること０あるフェニル低
級アルカノイル基又はフェニル環上に置換基としてハ０
ゲシ厚子及び低級アルコキシ基なる群から選ばれ九基を
１〜３個有することのあるフェニル低級アルケニルカル
ボニル基を示す。ＸＩ　Ｆｉ水酸基を示す。〕即ち上記
一般式（１−４）で表わされる化合物は、一般式（４）
の化合物又はそ０’？三ノ基の活性化合物に一般式（−
）０化合物又はそＯカルボニル基の活性化され良化合物
を反応させることＫより製造される。上記反応は、前記
反応行程式−１に示す一般式（２）で表わされるカシポ
スチリＬ誘導体又はそのカルボ＋シ基の活性化化合物と
、一般式（３）で表わされるアミシ又はそのアミノ基の
活性化化合物との反応と同様の操作及び条件下に行なう
ことができる。

反応行程ｆニー３ （式中Ｒ１及びカルボスチリル骨格０３位と４５ 位の縦索間結合は前記に同じ。　　Ｆｉ低級アル＋ル基
、低級アルコ＋ジカルボニル低級アル牛ル基、低級アル
ケニル基、低級アル−ニル基、シフ０アル十ル基、シフ
０アル＋ル低級アル↑ル基、低級アル＋４２４本ニル基
、フェニル環上に置換基としてハ０ゲシ原子、低級アル
コ牛シ基及び低級アル十ル基表る群から選ばれ九基を１
〜３個もしく鉱低級アル＋レジジオ十シ基を有すること
のあるフェノ十シ低級アル士ル基。

置換基としてシアノ基、ベシリイルオ十シ基（このフェ
ニル環上に＃ｉ低級アルコ＋シ基が１〜３個置換してい
てもよい）、Ａ　ＯケシＩＮ子、しド０↑シ基、低級ア
ルカノイルオ十シ基又はカルバ七イル基を１個有する低
級アル中ル基、低級アルカノイル低級アル十ル＆、フェ
ニル環上に置換基として低級アル中ル基、低級アルコ十
シ基、ハ０ゲシ原子、ニドｏ基、アミノ基、低級アルカ
ノイルアミノ基及び低級アル中ルチオ基かも選ばれた基
を１〜ＩＩｔＬ＜ｔｉ低級アル中レしジオ中シ基有する
ことのあるフェニル低級アル牛ル基、フェニル環上に置
換基として低級アル＋ル基を１〜３１１有することのあ
るフェニルスルホニル基又祉フェニル環上に置換基とし
てしド０牛シ基、ハ０ゲシ謝子、低級アル中ル基、低級
アルコ＋シ基及び低級アルカノイルアミノ基なる群から
選ばれ九基を１〜′５個有することのあるベシリイル低
級アル＋ル基を示す。Ｘ２　はハ０ゲシ維子、低級アル
カシスルホニルオ＋シ基、アリールスルホニルオ＋シ基
又はアラル十ルスルホニルオ十シ基を示す。〕卸ち一般
式（１−４）で表わされる化合物は、一般式（４）で表
わされる化合物と一般式（６）で表わされる化合物とを
反応させることにより製造される。との＆応＃′１１１
１配し九カルポジ酸ハ５イドにアΣシ（３）を反応させ
る方法と同様の操作及条件下に寮施することができる。

崗上記一般式（６）で表わされる化合物において。

ｘ２　　で定義されるハ０ゲシ豫子は具体的ＫＦｉ塩素
、弗素、臭素及び沃素原子であや、低級アルカシスル本
二ルオ辛シ基としては具体的にはメタシスルホニルオ牛
シ、エタシスルネニルオ十シ、イソプｏバシスルスルル
オ千シ、づ０バシスル本二ルオ十シ、プタシスル本二ル
オ牛シ、Ｅａｒｌ−ブタシスルスルルオ十シ、ペシタシ
スル本二ルオ十シ、へ士すシスル車ニルオ＋シ基等を例
示でき、まえアリールスルスルルオ＋シ基としては具体
的にはフェニルスルホニルオ牛シ、４−メチルフェニル
スル本ニルオ十シ、２−メチルフェニルスルスルルオ＋
シ、４−二ト０フェニルスジ本二ルオ十シ。

４ニメト牛ジフ工ニルスル本二ルオ牛シ、５−り０ルフ
工＝ルスル本二ルオ牛シ、ａ−ナフチルスルスルルオ＋
シ基等の置換又は未置換のアリールスルスルルオ十シ基
を例示でき、ｔえアラシャルスルスルルオ牛シ基として
は具体的にはベシジルスルスルルオ千シ、２−フェニル
エチルスルスルルオ十シ、４−フェニルブチルスルスル
ルオ↑シ。

４−メチルベシジルスルスルルオ十シ、２−メチルベシ
ジルスルスルルオ牛シ、４−ニド０ベシジルスルスルり
オ↑シ、４−メト＋シベシジルスルホニルオ＋シ、３−
り０ルベシジルスル＊ニルオ十シ、α−ナフチルメチル
スルホニルオ十シ基等のｗｔ候又は未置換のアラル＋ル
スルホニルオ＋シ基を例示できる。

反応行程式−４ １ｚｉ Ｃ２）　　　　　　　　　　　　　　（ｓ）Ｃ式中Ｒ１
及びカルボスチリル骨格の３位と４位のｊｉ２票間結合
は前記に同じ。Ｒ６は低級アＬ＋ル基、低級アルコ十ジ
カルボニル低級アル中ル基、低級アルケニル基、低級ア
ル牛ニル基、シフ０アル十ル基、シフ０アル＋ル低級ア
ル↑ル基、フェニル環上に置換基としてハ０ゲシ原子、
低級アルコ＋シ基及び低級アル↑ル基なる群から選ばれ
た基を１−１個もしくは低級アル十しジジオ牛シ基を有
することのあるフェノ十シ低級アル十ル基、置換基とし
てシアノ基、ベシリイルオ↑シ１＆（このフェニル環上
には低級アルコ＋シ基が１〜３個置換していてもよい）
、ハ０ゲシ原子、しド０＋シ基、低級アルカノイルオ十
シ基又はカルバ七イル基を１個有する低級アル牛ル基、
低級アルカノイル低級アル＋ル基、フェニル環上に置換
基として低級アル十ル基、低級アルコ＋シ慕、Ａ　Ｏゲ
シ原子、ニド０基、アミノ基、低級アルカノイルアΣノ
基員び低級アル中ルチオ基から選ばれた基を１−１個も
しくは低級アル＋レジジオ十シ基を有することのあるフ
ェニル低級アル＋ル基又はフェニル環上に置換基として
しドロ＋シ基、ハ０ゲシ原子、低級アル＋ル基、低級ア
ルコ＋シ基及び低級アルカノイルアミノ基なる群から選
ばれた基を１〜３個有することのあるベシリイル低級ア
ル＋ル基を示す。Ｘは上記Ｘ１及びｘ２と同−基を示す
。〕 川」ち一般式＜１−ｔ）で表わされる化合物は、一般式
（２）の化合物と一般式（７）の化合物を反応させ、か
くして得られる一般式（８）の化合物に一般式（９）の
化合物を反応させることによシ製造できる。上記第１の
工程における反応は、前記一般式（２）の化合物と一般
式（３）の化合物との反応と同様０１１作及び条件下に
行なわれる。

また上記第１工程に引き続く第２工程は、一般式（８）
の化合物におけるＸの種類に応じて、下記の峠＜シて行
なわれる。即ち一般式（８）の化合物としてＸがハ０ゲ
シ原子、低級アシカシスル本二ルオ十シ基・アリールス
ルスルルオ＋シ基又はアラル十ルスルホニルオ牛シ基を
示す化合物を用いる場合、該一般式（８）の化合物と一
般式（９）の化合物との反応は、一般に適当な不活性溶
媒中塩基性縮合剤の存在下又は不存在下に行なわれる。

不活性ｆＭｖ＆としては例えばベシｔ！シ、トルニジ、
＋シレシ等の芳香族変化水素類、メタノール、エタノー
ル・イソプロパノール、ブタノール等Ｏ低級アルコール
類、酢酸、酢酸エチル、ジメチルスル本生シト、ジメチ
ルホルムアミド、へ＋サメチルリシ酸トリア三ド等を挙
けることができる。また塩基性縮合剤としては例えば択
酸ナトリウム、羨酸カリウム、＃！酸水嵩すトリウム、
戻酸水素カリウム等の＃Ｉ２酸塩、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等の金属水酸化物、ナトリウムメチレー
ト、ナトリウムメチレート等の金属アルコラード１．じ
リジル、トリエチルア！：二等の第３級アミシ◆を挙げ
ることができる。−ｈ式（８）の化合物と一般式（９）
の化合物との一月割合は特に＠定かなく広い範囲内で適
宜選択でき、通常前者に対して後者を少なくとも等七ル
ｊＬ＆！度、好ましくは等ｔル〜５倍七ル量用いるのが
よい。該反応は通常４０〜１２０℃程度、好ましくは５
０〜！００°Ｃにて竹なわれ、一般に５〜３０時間程度
で反応は終了する。

また一般式（８）の化合物としてＸが水酸基を示す化合
物を用いる場合、該一般式（８）の化合物と一般式（９
）の化合物と０＆応は、脱水縮合剤の存在下無溶媒下又
は適当な溶媒中にて行なわれる。ここで脱水縮合剤とし
ては例えばボリリシ酸等のｆ！ｉ台リンす如、止すシ酸
、焦すシ酸、メタリシ酸等のリシ酸類、止血リシ酸等の
亜すシ酸類、五酸化リシ尋の無水リシ酸類、塩酸、硫酸
、ホウ酸等の酸類、リシ酸ナトリウム、ボロジホスフェ
ート、リシ酸第二鉄、リシ酸アルミニウム郷の金属リシ
酸塩類、粘性アル三１、重硫酸ナトリウム、ラネーニッ
ケル等を挙けることができる。ま九＊ａとしてＦｉ例え
ばジメチルホルムアミド、テトラリシ等の高沸点溶媒を
挙けることができる。一般式（８）の化合物と一般式（
９）の化合物との使用割合は特に＠定かなく広い範囲内
で適宜選択でき１ｍｍ後後に対して前者を０．８ｔル量
程度以上、好ましくは０．８　ｔ　Ｌ〜２倍ｔル量用い
るのがよい、脱水縮合剤の便用ｍは特に限定されず広範
囲から適宜選択し得、一般式（８）の化合物に対して通
常触媒量以上、好ましくは０．５〜５倍ｔル量程度用い
るのがよい。上記反応は有利には酸化反応を防止するた
め不活性ガス例えばＣＯ２又はＮ２　気流中で行ない得
る。また反応は通常常圧下、約ＩＯθ〜５５０℃好まし
くは１２５〜２５５℃にて約３〜１０時間で行なわれる
。

反応行程式−５ （２）　　　　　　　　　　　　　　　　輔ｈ （トイ） 〔式中Ｒ１、Ｒ６及びカルボスチリル骨格の３位と４位
の羨素関結合ＦｉＩＩｒｆ！に同じ。〕一般式（１−Ｃ
）で表わされる化合物は、また上記のように一般式（２
）の化合物にモルホリシ輪を反応させ七ル本すシ騎導体
四としたのち、これに一般式（９）の化合物を反応させ
ることによっても製造できる。

上記において一般式（２）の化合物とｔル本リす輪との
反応は、前記した一般式（２）の化合物と一般式（３）
の化合物とＯ反応と同様の操作及び条件下に行ない得る
。を九かくして得られる一般式四の化合物と一般式（＠
）の化合物との反応は、無溶媒下又は適当な溶媒中酸の
存在下にて行なわれる。＊ｇとしては例えばテトラリシ
、ジメチル本ルムア三ド、ジメチルスルホ↑シト、へ十
寸メチシリシ酸トリアニド等の高沸点＊ｇを使用できる
。酸としては例えば櫨酸、硫酸、臭化水ＩＫ酸等を使用
できる。

一般式（ロ）の化合物と一般式（９）の化合物との使用
割合は、特ＦＣ＠定されず広い範囲内で適宜選択でき、
通常前者に封して後者を少なくと４等ｔル量程度、好ま
しくは勢ｔル〜２倍ｔル量用いるのがよい。

該反応社通常５０〜２５０℃程度、好ましくは１５０〜
２００℃にて行表われ、一般に１〜２４時間程度で反応
は終了する。

更に一般式（１）で表わされる化合物中ｘｘ＃水１／Ａ
原子以外の基である化合物（一般式（１−１）の化合物
）社、Ｒ１が水素原子である化合物（一般式（１−ｄ）
の化合物）より以下の反応行程式−６に示す方法によっ
ても製造することができる。

反応行程式−６ 〔式中Ｒ２、Ｒ３、ｘ２　及びカルボスチリル骨格の３
位と４位のＩＮ素聞結合は前記に同じ。Ｒ１′は水素原
子以外、　Ｒ１基を示す、〕 上記において一般式（Ｓ−ｄ）Ｃ）化合物と一般式一の
化合物との反応は、例えば塩基性化合物の存在下過当な
＃媒中にて行なうのがよい。ここで塩基性化合物として
社例えに水素化ナトリウム、カリウム、ナトリウム、ナ
トリウムアミド、カリウムアミド等を挙げることができ
る。ま九ｍｇとしては例えばジオ＋サシ、ジエチレシタ
ロコールジメチルエーテル等Ｏエーテル類、トルニジ、
千シレシ嶋の芳香族炭化水素類、ジメチシ本ルムア！ド
、ジメチルスル本ｆシト、へ＋サメチルリシ酸トリア三
ド醇を挙げることができる。一般式（ｌ−りの化合物と
一般式ＵＯ化合物ＯＩＩ！用割合は特ＫＩＮ定かなく広
い範囲内で適宜選択でき、通１ｐ６ｒｌＪ１１にλして
後者を少なくとも等七ル程度以上、好ましくは等ｔＬ〜
２倍ｔＬ程屓尾いるのがよい。該反応は通常Ｏ〜７０℃
程度、好ましくはθ℃〜ｉｉ！温付近にて行なわれ、一
般に０．５〜！２時間根度で反応は終了する。

また一般式（１）で表わされる化合物のうちフェニル環
上に置換基としてアミノ基を有する基である化合物は、
該フェニル環上Ｏ置換基がニド０基である財応する化合
物を還元することによっても賽易に製造され得る。この
魚尤は芳香族ニドｏ基を芳香族アミノ基に還元する通常
の条件下に実施できる。より具体的には亜硫酸ソーダ、
亜硫酸ガス等のＩＩｉ光剤を用いる方法、パラジウム−
択素等の還元触媒を用いる接触ｌｌ九九法によればよい
。

以上詳述した反応行程式−Ｉ、−４及び−５において、
一般式（１）の化合物の製造に利用される一般式（２）
の化合物は、−Ｓ社規化合物を包含しており、該化合物
は例えば上鮎反応行程式−７又は−８に足す方法によ１
２１１造することができる。

反応行程式−７ 〔式中Ｒ１及びカル本スチリシ骨格０３位と４位の択素
間結合は前記に同じ。Ｒ３は芳香族アミシ残基、Ｘ２′
はハロゲシ原子を示す、〕上記において一般式輪の化合
物を得る反応は適当な溶媒中又社無溶媒下に一般式ｏ３
０化合物に芳香族アミシ＃ＡＣＡ４を反応させることに
より行うことが出来る。溶媒としては、反応に影響を与
えないものであればいずれも使用することが出来、例え
ば例えば塩化メチレジ、りｏｏ本ルム、ジクｏ。

メ５Ｉ：Ｊ喀ＯＡＤゲシ化羨化水素類１ジエチルエーテ
ル、テトラしドロフラジ、ジメト十シエタシ勢のエーテ
ル類、酢酸メチル、酢酸エチル噂のエステル類、Ｎ、Ｎ
−ジメチル本ルムア三ド、ジメチルスル本＋シト、へ＋
サメチルリシ酸トリア三Ｆ等の非づ０トシ性極性瀝謀な
どが挙がられる。芳香族アミシ類としてれ、どリジル、
千ノリシ峰を例示できる。該芳香族アミシ０使用量社、
一般弐輪の化合物に対して、少なくとも等七ル、好まし
くは大過−ｊ量使用するのがよい０反応温度は、５０〜
２００°Ｃ好ましくは７０〜１５０℃でおり、反応は３
〜１０時間で終了する。また上記によシ得られる　転式
に）の化合物の加水分解反応は、水又はメタノール、エ
タノール等のアルコール中、水酸化ナトリウム又は水酸
化カリウムのような無機塩基類もしくは塩酸、臭化水嵩
酸等の酸を用いて室温〜１５０℃下に１〜１０時間程度
を要して行なわれる。また成心行程式−ｌにおいて他方
の原料とする一Ｇ式（３）で表わされるアミシもその一
部に新規の化合物を包含しておシ、該化合物は１記一般
式（４）の化合物と一般式（５）又は一般式（６）の化
合物との反応において、一般式（４）の化合物に替え適
当なアミシを用いることにより、容易に収得できる。

反応行程式−８ −勧 Ｒム （２） 〔式中Ｒ１及びカルボスチリル骨格の３位と４位の択累
関結合は前記に同じ。Ｘ３　はへ〇ゲシ厚子を示す。〕 一般式一〇化合物とハ０ゲシとＯＫ応は通ｌｌｌｆＭ謀
中で行なわれる。用いられるＪｌｌｉＦｗ＆としてはテ
トラしＦＯフ５シ、ジオ＋サシ等Ｏエーテル類、酢酸、
プ０じオシ酸等のカルボン酸類、ベシゼシ等の芳香族膨
化水素類、ジメチＬ＊ルムア工ド、ジメチルスルネ↑シ
ト等を例示できる。該反応に於ては副生するハ０ゲシ化
水素を除去するために脱酸剤として炭酸カルシウム等を
添加してもよい。

一般式（イ）の化合物とハ０ゲシとの配合割合は特に限
定されず広い範囲内で適宜選択されるが、通常削者に対
して後者を２〜５倍ｔル、好ましくは２〜３倍七ル蓋用
いるのがよい。該反応社通常Ｏ〜５０°Ｃで行なうのが
よく、通常数時間〜２４時間＆度で反応は終了する。

−・般式的の化合物から一般式（２）の化合物を得る反
応Ｆｉ堆基性化合物の存在下水溶媒中にて行なうのがよ
い。塩基性化合物としては公知のものを広く使用でき、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カル
シウム吟のアルカリ金属水酸化物もしくはアルカリ土類
金属水酸化物等を挙げることができる。塩基性化合物の
使用量として祉特に限定されず広い範囲内で選択される
が、一般には一般弐初の化合物に対して２倍ｔル〜大過
剰蓋使用するのがよい。駄反応社通常５０〜１５０℃、
好ましくは７０〜鳳２０℃で行なうのがよく、通常ｌ〜
１２時間程度で反応は終了する。

上記反応行程式−７及び−８において、原料として用い
られる一般式輪及び−の化合物は新規化合物を包含して
おシ、例えば下記反応行程式−９゜−１０に示す方法に
従い製造される。

反応行程式−９ （ロ）　　　　　　　　（２） 〔式中Ｒ１及びカルポスチリール骨格の３位と４位の次
素関結合は前記に−ｊじ。Ｘ３はハ０ゲシ原子　Ｘ４　
は水素原子又はハ０ゲシ原子を示す。〕一般式（ト）の
化合物と一般式翰もしくは一般式に）の化合物との反応
は一般にフリーデル−クラフッ反応と呼ばれるものであ
り、この反応Ｆｉ溶媒中ルイス酸の存在下に行なわれる
。この際使用される溶媒としてはこの楓の反応に通常使
用されるものが有利に用いられ、例えは二酸化炭素、ニ
ド０ベシぜシ、り０ルペシｔ！シ、ジグ０ルメタシ、ジ
クＯルエタシ、トリクＯＬエタシ、テトラクＯＬエタシ
等が例示される。更にルイス酸も従来使用されているも
のが好適に用いられ、例えに塩化アルミニウム、塩化亜
鉛、塩化鉄、塩化錫、三臭化硼素、三弗化硼素、濃硫酸
等が使用され得る。ルイス酸の使用ｌは適宜に決定すれ
ば良いが、通常一般式（財）の化合物に対して２〜６倍
ｔル程度、好ましくｔｉ３〜４倍ｔル程良が用いられる
。一般式Ｑｌｌの化合物もしくは一般式一の化合物ｔ）
便用量は、一般式（財）の化合物に対して通常少なくと
も等ｔル量程度、好ましくＦｉ尋ｔル量〜３倍モル量が
用いられる０反応温度は適宜選択されるが通常２０〜１
２０°ＣＳ度、好ましくは４０〜７０℃程度とするのが
よい。該反応の反応時間＃ｉ原料、触媒、反応温度等に
より異なシー概には言えないが、ｉｎ常０．５〜２４時
間程艮にて反応は終了する。

Ｃ式中Ｒ”、Ｘ”　、Ｘ３及ＯＸ”　ｔｉ前記ＫＩＭ　
シ。Ｒ７は水素原子又は低級アル十ル基を示す。〕一般
式（２）の化合物と一般式■又はＩＩＯ化合物との反応
は、前記一般式（２）の化合物と一般式輪又は■の化合
物との反応と同様にして行なうことができる。但し１反
応温度としては、通常−５０〜１２０℃程度、好ましく
＃ｉθ〜７０℃ＩＩＭとするのがよい。ま九反応時間は
原料、触媒、反応温度尋により異な夛−概には警えない
が、通常０．５〜２４時間程度にて反応は終了する。

化合物−のニド０化反応は、通常の芳香族化合物のニド
０化反応条件下で例えに無溶謀もしく社適当な不活性溶
媒中ニド０化剤を用いて行なわれる。不活性溶媒として
は例えば酢酸、無水酢酸、濃硫酸等を、ま良ニド０化剤
としては例えば発蝉硝酸、濃硝酸、混酸（ＷＩＩｔ酸、
発煙硫酸、リシ酸又は無水酢酸と硝酸）、硝酸カリウム
、硝酸ナトリウム等のアルカリ金属硝酸樵と硫酸等を夫
々例示できる、上ＩＬｉニドＯ化剤の使用量は、原料化
合物に対し尋ｔル以上通常過剰蓋とすればよく、反応は
通常−３０°Ｃ〜室温付近、好ましくは一３０°ＣＱｉ
Ｊ後にて５分〜４時間で１＊施される。

一般式■のベシセシ騎導体を１Ｍ７ｃ及び閉環して−ｉ
式（ホ）のカルボスチリル誘導体とする。この反応は、
■適当な瀝謀中接触還元触媒を用いて還元するか、メは
■適当な不后性溶媒中、金属もしくは金属塩と酸又は金
属もしくは金属塩とアルカリ金属水酸化物、硫化物、ア
シ上ニウム塩等との混合物等を還元剤として用いて還元
する゛ことによル行なわれる。■の接触Ｍ九を用いる場
合、使用される溶媒としては、例えに水、酢酸、メタノ
ール、エタノール、イソプ０バノーＬ等のアルコール類
、へ＋寸シ、シフ０へ士すシ吟の駅化水素順、ジエチレ
シタリコール５メチルエーテル、ジオ千サシ、ＴＨＦ、
レエチルエーテＬＱ！の１−テＬ類、酢酸エチル、酢酸
メチル等のエステル類、ＤＭＦ等の非プロトシ性極性溶
媒等が挙けられる。使用される接触還元触媒としては、
例えばパラジウム、パラジウム−黒、パラジウム−択素
、白金、酸化白金、亜クロム酸銅、ラネーニッケル等が
用いられる。触媒の使用量としては、化合物＠に対して
０．０２〜１．００倍型重量いるのがよい。該反応け、
−２０〜１００℃、好ましくｔｉｏ〜５０℃、水素圧は
１−１０気圧にて一般に０．５〜１０時間程度で終了す
る。尚該反応においては、反応系内に水酸化すトリウム
、水酸化カリウム等の塩基性化合物を存在させることに
より反応が有利に進行する。

また■０方法を用いる場合、鉄、亜鉛、錫もしくは塩化
第一錫と塩酸、硫酸等の鉱酸、又は鉄、硫酸第一鉄、亜
鉛もしくけ錫と水酸化ナトリウム略のアルカリ金属水酸
化物、硫化アシ上２９６等Ｏ硫化物、アシ上ニア水、塩
化アシｔニウム等のアシ５二すム塩との混合物を１１元
剤として使用される。使用される不活性＊ｇとしては、
水、酢酸。

メタノール、エタノール、ジオ千サシ等を例示できる３
、上記＃を覚反応の条件としては用いられる還元剤によ
って適宜選択すればよく、通常−５０〜１００°Ｃにお
いて反応は進行し、０．５〜１０時間程度で反応は終了
する。例えば塩化第一錫と塩酸とをｊＩｌχ剤として用
いる場合有利にＦｉ−２０〜５０°（シ付近にて反応を
行なうのがよい。還元剤の使用量としては、原料化合物
に対して少なくとも等Ｅｌ鳳１通常は尋ｔル〜３倍ｔル
量月いるのがよい。上記反応においては、一般式（２）
の化合物がまず還元剤によシニトＯ基がアミノ基に変換
されて一散式 し式中Ｒ７及びｘ４は前記に同じ。〕で表わされるベシ
セシ銹導体が生成し、次いでこの化合物が閉環されて一
般式−のカルボスチリル誘導体が生成するものと考えら
れる。また化合物に）をａ尤するに当り、上記■の場合
にはカルボニル基は変化を受性ないが、■０場合にはカ
ル率゛ニル基はメチレジ基に変換される場合がある。し
かし反応条件な適当に選択することによりカルボニル基
をそのまｔ維持することも勿論可能である。

一般式に）の化合物と一般式一の化合物の反応は、前記
一般式（１−ｍ）の化合物と一般式（２）の化合物の反
応と同様に行えばよい。

また一般式（１）の化合物の製造に利用される一般式（
２）の化合物のうちある種のもの杜王妃反応行程式−１
１，−１２に示す方法により製造される。

反応行程式−１１ −− 〔式中Ｒ及びＸ　は前記に同じ。〕 一般式一の化合物のニドＯ化は、前記反応行程式−１０
における一般式軸のニド０化と同様にして行なうことが
できる。但し、反応温度としては、好ましくＦｉ−１０
°Ｃ〜室温祠近とするのがよい。

一般式＠Ｏ化合物を還元及び閉環して一般式軸の化合物
を得る反応は、前記一般式軸の化合物から一般式（ホ）
の化合物を得る反応と同様の条件下に行なうことができ
る。該反応においては、一般式（２）の化合物がまず還
元剤によシニト０基がアミノ基に変換されて一般式 〔式中Ｒ７は前記に同じ。〕で表わされるベシゼシー導
体が生成し、次いでこの化合物が閉環されて一般式軸の
カルボスチリル誘導体が生成するものと考えられる。

反応行程式−１２ −− ４ａ （至） 〔式中Ｒ７及びＸ３は前記に祠じＢａ祉低級アル＋ル基
を示す、〕 一般式軸Ｏ化合物と一般式＠Ｏ化合物とＯ反応は、前記
一般式Ｕ）の化合物と一般式（る）の化合物との反応に
おいて一般式（５）　０化合物としてカルポジ酸ハライ
ドを用いる反応条件と同様の条件下に行なわれるが、一
般式−の化合物と一般式軸の化合物とＯ使用割合として
は後者Ｋｊｌして前者を少くと４等モル、好ましくは１
〜５倍℃ル愈とするのがよく、また塩基性化合物の非存
在下でも反応は進を丁する。

一般式軸の化合物の環化反応は、酸の存在下無溶媒下で
又は過当な溶峰中にて行なわれる。酸として１−１特に
限定されず通常の無機酸や有機酸を広く使用でき、具体
的には塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸、塩化アＬ三
ニリム、三弗化硼素、四塩化チタシ等のルイス酸、イ酸
、Ｗ￥酸、エタシスル本シ酸、戸−トルエシスルホシ酸
等の有機酸等を例示し得る。これらの酸のうちで塩酸、
臭化水素酸、硫酸等が好ましい。斯かる酸の使用量とし
ては特に限定されず広い範囲内で適宜選択すればよいが
、通常一般式−の化合物に対して少なくとも勢重量、好
ましくは１０〜５０倍重量の酸を用いるのがよい。また
溶媒としては通常の不活性溶媒を広く使用でき、例えば
水、メタノール、エタノール、づ０バノーＬ等の低級ア
ルコール類、ジオ十サシ、テトラしドロフラジ喀のエー
テル類、ベシｔ！シ、トルニジ等の芳香族軟化水素類、
塩化メチレジ、り００ホルム、円樵化羨素等のハ０ゲシ
化択化水素類、ア七トシ、ジメチルスル本ｆシト、ジメ
チルホルムアミド、へ＋サメチルリシ酸トリアミド等を
例示できる。これらのうちで前記低級アルコール１Ｉ１
１エーテル類、アセトル、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスル本生シト、へ十すメチルリシ酸トリ？！ド等の
水溶性溶媒が好ましい。該反応社通常０〜１００℃、好
ましくは室温〜６０℃にて行なわれ、通常５分〜６時間
程度で反応は終了する。

反応行程式−１３ （２−ａ）　　　　　　　　　　（２−リ〔式中Ｒ１、
Ｒ２及びＲ３は１起に同じ。〕−・般式（１−ｔ）及び
（２−Ａ）の化合物の還元には通常の振触１ｆ７ｃ条件
が適用される。用いられる触媒としてはパラジウム、パ
ラジウム−択素、づラチ丁、ラネーニッケル等の金属を
例示でき、斯かる金属を通常の触謀凰で用いるのがよい
、また用いられる溶媒としては例えに水、メタノール、
エタノール、イソづ０パノール、５才子サシ、ＴＨＦ、
へ＋サシ、シフ０へ牛サシ、酢酸エチル又はこれらの混
合＃Ｉ縄等を挙けることができる。該反応は電比及び加
圧下のいずれでも行ない得るが１通常電比〜２０＃／ｄ
、好ましくは常圧〜１０峠／ｄにて行なうのがよい、ｔ
た反応温度としては通常０〜１５０°Ｃ程度、好ましく
は室温〜１００℃とするのがよい。

また一般式（１−／）及び（２−ｇ）の化合物の脱水素
反応り、過当な溶媒中酸化剤を使用して行なわれる。用
いられる酸化剤としては例えば２．３−ジクＤＯ−５．
６−ジシアツベシリ十ノシ、り０ラニル（２，３，５，
６−チトラク００ベシリ十ノシ）等０ベシリ＋ノシ類、
Ｎ−プ０１コハク酸イ三ド、Ｎ−クｏｏコハク酸イミド
、臭′Ｓ皓のハ０ゲシ化剤、二酸化ｔしン、ｉｚラジウ
ム択素、パラジウム黒、酸化パラジウム、ラネーニッケ
ル等の脱水素化触媒を挙けることができる。酸化剤の使
用量としては特に限定されず広い範囲から適宜選択すれ
ばよいが、へ〇ゲシ化剤の場合にはｊ１１７６一般式（
１−／）及び（２−４）の化合物に対して通常１〜５倍
ｔル量、好ましくは１〜２倍七ル量使用するのがよく、
また脱水素化触媒の場合に＃ｉ通常過制量用いるのがよ
い。を九溶媒としてはジオ十サシ、テトラしドロフラジ
、メト千ジェタノール、ジメト＋シエタシ勢のエーテル
類、ベシセシ、トルニジ、十シレシ、クメシ等の芳香族
線化水素類、ジグ００メタシ１ジク００エタシ、り００
本ホルムｌ！１樵化訣素等のハ０ゲシ化家化水素類、ブ
タノール、アミルアルコール、へ十すノール等のアルコ
ール類、酢酸等の極性づｏトル溶媒、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスル重子シト、へ士すメチルリシ酸トリ
ア三ド勢の極性非づｏトル俗１１ＪＩＩ等を例示できも
該反応は通常両温〜３００℃、好ましくれ室温〜２００
℃にて行なわれ、一般に１−４０時間程度で１５ＬＬは
終了する。

更に一般式（１）で表わされる化合物のうちＲ１が水素
原子を示し且つカルボスチリル骨格の３位と４位の脚素
間結合が二重結合である化合物は、下記反応行程式−１
４に示すようにラクタムーラクチム型の互変異性をと９
得る。

反応行程式−１４ （１−Ａ）　　　　　　　　　（１−ｇ）本発明の一般
式（１）で表わされるカシポスチリル銹導体のうち、塩
基性基を有する化合物は、医薬的Ｋｖｆ答される酸を作
用させることにより賽晶に酸付加塩とすることができる
。該酸としては例えば、塩酸、硫酸、リシ酸、臭化水素
酸尋の無機酸。

シ１つ酸、マレイン酸、フマール酸、リシｊ酸、酒石酸
、クエシ酸、安息香酸等の有機曽を挙けることができる
。

斯くして得られる各々の行程での目的化合物は、通常の
分離手段によ）春易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出法。

稀釈法、再結晶法、カラムク０マドクラフイ一１プレバ
５テイプ薄層り０マドクラフイー噂を例示できる。

尚本発明は光学異性体も当然に包含する−のである。

一般式（１）の化合物は通常、一般的な医ａＳＳ剤の形
態で用いられる。製剤は通常使用される充填剤、増量剤
、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤などの
稀釈剤あるいは賦形剤を用いて調製される。この医薬製
剤としては各種の形態が治療目的に応じて選択でき、そ
の代表的なものとして＃Ｍ剤、大薊、散剤、液剤、ｕ、
ｉｓ剤、乳剤、顆粒剤、力づセル剤、坐剤、注射剤（液
剤、ｉ！濁剤等）などが挙けられる。錠剤の形態に成形
するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のもの
を広く使用でき、例えば乳剤、白糖、塩化ナトリウム、
ブドウ糖、尿素、デシデシ、択酸カルシウム、力オリシ
、結晶ｔＬｏ−ス、ケイ酸などの賦形剤、水、エタノー
ル、プロパノール、単シＯツづ、ブドウ糖液、デシづシ
液、ゼラチシ溶液、カルボ＋シメチＬセＬロース、ｔラ
ック、メチルセルロース、リシ酸カリウム、ポリビニル
じロリドシなどの結合剤、乾燥デシデシ、アルｆン酸ナ
トリウム、カシテシ末、ラミナラシ末、Ｊｉ１２酸水素
ナトリウム、脚酸カルシウム、ポリオ千シエチレシソル
じタシ脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ス
テアリシ酸ｔノタロセリド、デシづン、乳糖などの崩壊
剤、白糖、ステアリル、カカオバター、本素添加油など
の崩壊抑制剤、第四級アシ上ニウム塩基、ラウリル硫酸
すトリウムなどの級数促進剤。

タロｔリシ、デシデシなどの保湿剤、デシづシ。

乳糖、カオリシ、ベシトナイト、コロイド状ケイ酸など
の＠着剤、＊製タルク、ステアリシ酸樵・ホウ酸末、ポ
リエチレシグリコールなどの滑沢剤などが例示できる。

さらに錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例え
ば糖衣錠、ゼラチシ被包錠、腸溶破錠、フィルムコ−テ
ィシタ錠ある埴は二重錠、多層綻とすることができる。

大薊Ｏ形態に成形するに際しては、担体としてこの分野
で従来公知のものを広く使用でき、例えばブドウ糖、乳
糖、デシづシ、カカオ詣、硬化植物油、カオリシ、タル
クなどの賦形剤、アラビア１６末、トラガシト末、ぜラ
チシ、エタノールなどの結合剤、ラミナラシ、カシデシ
などの崩壊剤などが例示できる。坐剤の形態に成形する
に際しては、担体として従来公知のものを広く使用でき
、例えばポリエチレシグリコール、カカオ脂、高級アル
コール、高級アルコールのエステル類、ぜラチシ、半合
成シリ上ライトなどを挙げることができる。注射剤とし
て調製される場合には、液剤および懸濁剤は殺菌され、
かつ血液と等張であるのが好ましく、これら液剤、乳剤
および懸濁剤の形態に成形するのに際しては、榊釈剤と
してこの分野において慣用されているものをすべて使用
でき、例えば水、エチルアルコール、プロピしシタリコ
ール、エト十シ化イソステアリルアルコール、ポリオ千
シ化イソステアリルアルコール、ポリオ十シェチレシソ
ルピタシ脂肪酸エステル類などを挙けることができる。

なお、この場合等張性の溶液をｌｌｌ製するに充分な量
の貴地、ブドウ糖あるいはタロｔリシを製剤中に含有せ
しめてもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化
剤などを添加してもよい。

￥に必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤。

甘味剤などや他の医薬品を註製剤中に含有せしめてもよ
い。

かくして調製される医薬ｌｉ！剤（強心剤）中に含有さ
れるべき一般式（１）の化合物の量はと＜Ｋ［定されず
広範囲に選択されるが１通常全Ｉ３！剤組成物中１〜７
０重量％、好ましくＵｌ−３０重量％とするのがよい。

また上記強心剤の投与方法には・とくに制ａはなく、各
種製剤形態、思考の年令、性別その他の条件、疾患の程
度などに応じ良方法で投与される。

例えば錠剤、大薊、液剤、ｌ！渇剤、乳剤、顆粒剤およ
びカブセル剤の場合には経口投与される。また注射剤の
場合には単独であるいはブドウ糖、アミノ酸などの通常
の補液と混合して静脈内投与され、さらには必姿に応じ
て単独で筋肉内、皮肉、皮下もしくは腹腔内投与される
。坐剤０場合には泊腸内投与される。

−Ｆ紀強心剤の投与量は用法、患者の年令、性別その他
の条件、疾患の程度などによシ適宜選択されるが、通常
有効成分である一般式（１）の化合物の量＃ｉ１日当日
当型体重ｋｇ当夛約０．０１−１０■とするのがよい。

また、投与単位形態中に有効成分を０．１〜２００岬含
有せしめるのがよい。

以下に参考例及び実施例を挙げる。

参考例　１ ６−（α−じリジニウムアｔチル）−３，４−ジしドロ
カルボスチリルクロライド５０ｆ及び水酸化ナトリウム
５０Ｆを水１１に懸濁し、９０〜１００°Ｃで３時間攪
拌する。反応終了後濃塩酸を加えて戸Ｈ約２とし析出孔
を枦取し、ジメチルホルムアミドより再結晶して、６−
カルボ士シー３．４−ジしドロカルボスチリル１９．１
１’を得る。

ｍ戸、３００°Ｃ以上 淡黄色針状晶 参考例　２ ６−カルボ士シー３，４−ジしドロカルボスチリル１０
Ｆ及びＮ−しド０千シコハク酸イ三ドロ、Ｏｆをジオ十
＋ｊシ２００＋１／に懸濁させる。つぎに水冷攪拌下、
ジシクＯへ＋ジルカル１１ジイミド１２．４ｆの５０ｇ
／ジオ十サシ溶液を滴下する。その後さらに９０°Ｃで
４時間加熱攪拌する。反応終了後、室温まで放冷し、析
出孔を枦去し、母液を留去する。ジメチル車ルムアΣド
ーエタノールより再結晶して、コハク酸イミド　３．４
−ジしドロカルボスチリル−６−カルボ 鱈　戸．２３４．５　　〜　２　３　６℃無色リシ片状
晶 参考例　３ 酢酸１００＋ｗ／に６−アｔチＬ−３．４−ジしドロカ
ルボスチリル１５．１　１を加えて溶解させ内温３５〜
４０℃に保ちつつ，Ｂ　ｒ　２１　１　−　２　　Ｍを
含む酢酸１（ｌｓ／溶液を３．５時間を要して攪拌下滴
下する。

反応液を一夜放置後析出島を枦取し、少輩の酢酸で洗浄
する。得られた結晶をエタノール溶媒にて活性次処理を
し、エタノールから再結晶して淡黄色針状晶の６−ジプ
Ｏｔ？セチル−３，４−ジしドロカルボスチリル１９．
５　ｆを得る。

融点１　６　Ｂ　−　１６９．５°Ｃ −前例　４ 水２５０ｍ１にＮａＯＨ　　２　６　ｆを溶解させ９０
−１００°Ｃにて攪拌下６ージプｏｔ７ｔチルー３，４
ーシしドロカルボスチリル３５ｆを加えて３時間反応さ
せる。冷後、不溶物を沖去し，母液を濃塩酸にて酸性と
し析出孔をか取し水洗する。得られた結晶をエタノール
から二度再結晶して淡黄色不定形品の６−カルボ士シー
３，４−ジしドロカルボスチリル＋０．５　ｆを得る。

融点３２４．５〜３２７°Ｃ（分解） 参考例　５ ６０１の６−（α−り□０アセチル）カルポス、チリル
を０．５ｋｔｉのじリジルに懸濁し、８０〜９。

°Ｃで２時間攪拌し、続いて水冷下１時間攪拌する。

析出孔を枦取し、メタノールよシ再結晶し、７。

ｆの６−（α−ごリジニウムアセチル）カＬボスチリル
クＯライド％水利物７０ｆＩを得る。

鰐戸．３００℃以上 無色針状晶 参考例　６ ６−（α−じリジニウムア七チル）カルボスチリルクロ
ライド６９．７　１及び水酸化ナトリウム６５１を水０
．６１１Ｃ溶解し６　０　−　７　０　”Ｃで３時間攪
拌する。水冷下、反応混合物に濃塩酸を加えて戸Ｈ中２
とする。析出孔を枦取し、ＤＭＦよ）再結晶して４Ｊ．
４　１０６−カルボ＋シカルボスチリルを得る。

解戸．３００℃以上 淡黄色針状晶 参考例　７ ｍ−アミノ安息香酸１００Ｆをエーテル１ｊに％５ｓｊ
ｂシ、室温、攪拌下、β−エト＋ジアクリル酸り０ライ
ド４４．６　Ｆを滴下する。滴下後４０°Ｃで５時間反
応後、析出物を１取する。結晶を３回水洗し、乾燥して
、メタノールよシ再結晶してｍ−カルボ士シーＮ−（β
−エト＋ジアクリロイル）アニリン６０ｆを得る。

ｍ　戸、２００．５　−２０２．０　　°Ｃ無色綿状晶 参考例　８ ｍ−カルボ士シーＮ−（β−エト＋シアクリ０イル）ア
ニリン８ｔを濃硫酸８０ｍに加え、室温で２時間、続い
て５０°Ｃで１時間攪拌する。反応液を水中に注ぎ、１
ＯＮ水酸化ナトリウム水溶液で戸Ｈ３〜４に調整する。

析出品を枦取、水洗してＤＭＦよシ再結晶して５−カル
ボ千シカルボスチリＬ４．２６ｆを得る。

痢戸、３２０℃以上 淡貿色粉末状晶 ｕｉｔＲ（ＤＭＳＯ）６６．５８Ｃｄ、　Ｊ＝９．５Ｍ
ｇ、　１Ｍ＞７．４０〜７．８０（＃、　３Ｍ＞ ８．６９（ｄ、　／＝９．５＃ｊ、　ｌ＃）参考例　９ ３−フェニルジ０じオシ酸メチル５０ｆ、り０Ｄ７ｔチ
ルク０ライド５１．６　ｆ及びジグ００メタシ２５０ｄ
の混合物を０℃に冷却する。０〜１０℃で、攪拌下、塩
化アルミニウム１２２ｆを徐々に加える。その後室温で
２時間攪拌する。室温で一梗放置後１反応混合物を氷−
濃塩酸中に注ぎ、り００ホルムで抽出する。り００ホル
ム層を水洗乾燥して、り００ホルムを留去する。残渣に
イソプ０じルエーテルを加えて結晶化し、結晶を１取し
てエタノールよ多再結晶して、３−（４−り００アｔチ
ルフエニル）プ０じオシ酸メチル５３．４１を得る。

解　戸、９０．０〜９２．０　℃ 無色針状晶 参考例１０ ３−（４−りｏｏアセチルフェニル）づ０じオシ酸メｆ
　Ｌ　３６．２６１１１ｉ４ｃ酸３００　ｍｌ／ＫＩＮ
　Ｌ、発ｍｆｉ１４ｅ　（ｄ＝１．５２）　２０．９　
Ｆ　ヲ氷水冷下攪拌しなから摘１する。室温で３時間攪
拌した後、反応混合物を氷水中に注ぎ、クロロホルムで
抽出する。

クロロホルム層を水洗、乾燥後、り００ホルムを留去す
る。残渣をシリカゲルカラムク０マドタラフイーで輌製
し、エーテルを加えて結晶化する。

結晶を１取して、メタノールより再結晶して３−（４−
カルボ士シー２−ニドｏフェニル）プロピオシ酸メチル
２６．７　ｆを得る。

ｊ１１７．１２０−１２２℃ 淡貿色プリズム状晶 参考例１１ ３−（４−カルボ士シー２〜ニド０フェニル）′ｊＯヒ
オシ酸メデメチル５．ｆ　２．２２６　Ｎ水酸化ｙトリ
ウムメタノール溶液８．８７　ｍ、メタノール１００ｄ
及び５９６Ｐｄ−ＣＣ５０％含水）ｉｆを混和し、常温
、常圧で接触還元する。触媒を１去し、母液に濃塩酸を
加えｐｉｌ申ｒＫｔｓ整し、析出する結晶を１取して、
メタノールより再結晶に７−カルボ士シー３．４−ジし
ドロカルボスチリル３．６２１を得る。

鯛戸３２０℃以上 無色針状晶 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ２．３３〜２．６０＜ＩＩＩ、２
Ｍ）２．７７−３．０５（ｍ、　２＃） ７．２１（ｄ、　ｊ＝８．５Ｈ１，ＩＨ）７．３８〜７
．５３（解、２Ｈ） １０．１５（Ｊ、　Ｉ＃） 参考倒置２ り００アセチルク０５イド４６７ｆのジクｏ。

メタル４００ｄ浴液に３０℃以下で攪拌下、塩化アルミ
ニウム７３５ｆｔ％づつ加える。次に同温度攪袢下刃ル
ポスチリル２００１を加える。その後６時間加熱還流す
る。反応後、反応混合物を氷−濃塩酸中に注ぎ、析出す
る結晶を１取する。これをメタノール、熱メタノールで
洗浄して６−り００アセチルカルボスチリル１５３ｆを
得る。母液を濃縮乾固して、残渣をシリカゲルカラムク
０マドシラフイーで精製して、メタノールより再結晶し
て８−り００アセチＬカルボスチリル３５．４１１を得
る。

＃　／、　１７７．５−１７９．０　’Ｃ淡黄色針状晶 嘉前例１３ ８−りＯＯアｔチル力力木ボスチリル３０Ｆじり５シ３
００−を混和し、８０〜９０°Ｃで２．５時間加熱攪拌
する。反応液を氷水冷して析出晶を枦取する。エーテル
で洗浄し、メタノールより再結晶して８−（α−じリジ
：ウムアセチル）カルボスチリルクＤライドＡ本和物４
０．８５１を得る。

−一、　２６１．５〜２６４．０°Ｃ（分解）無色針状
晶 参考例１４ ８−（α−ピリ５ニウムアｔｆＬ）カルボスチリルクロ
ライド３２ｆ、水３００ｄ及び水酸化すトリウム３２９
を混和し、８０〜９０℃で５時間加熱攪拌する。反応混
合物を活性次処理し、母液に濃塩酸を加えてｆｉＨ３〜
４に調整する。析出する結晶を枦取して、メタ、ノール
ーフ００＊ルムより再結晶して８−カルボ＋シカルポス
チリル２０．１７　ｆを得る。

謂戸、３２０℃以上 無色針状晶 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ６−５７（ｄ、　Ｉ＝９．５Ｍ１
．１＃）７．２５＜ｔ、Ｊ＝８．０Ｈ１，ｌ＃）７．９
４　（ｄ、　ｄ、　１４．０＃ＪＩ、　１．５ＨＩ、　
ＩＨ）７．９８　（ｄ、　Ｊ−９，５ＨＭ、　１＃）８
、１４　（７，ｄ、　Ｊ−８，０＃Ｊ、　１．５ＨＩ、
　ＩＨ）４＊施例　１ ６−カルボ士シー３．４−！；シト０カルボスチリル３
．５ｆをジメチルホルムアミド３０ｓ／に溶解する。こ
ねにトリエチルアミシ２．４ｆを加える。氷水冷攪拌下
、り０ルｆ酸イソづチル２．７５　Ｆを滴下し３０分閲
攪拌する。これに室温で攪拌下にＮ−メチル−Ｎ−（４
−メト＋シ）ベシジルアミシ３．１９１を滴下し、５時
間攪拌する。反応液を濃縮乾固し、りｎｏホルム、ＩＮ
水酸化ナトリウム水浴液を加えて抽出する。９００本ル
ホルム水洗、乾燥後残渣にエーテルを加えて結晶化し１
取する。

これをメタノールから再結晶して無色針状晶の６−ＣＮ
−メチル〜Ｎ−（４−メト＋シベシジル）カルへ七イル
〕−３，４−ジしドロカルボスチリル１．８４ｆｔ−得
る。

崎　戸、　　１４４．５〜１４６．５　　℃東＆ｌｉｌ
　　　２ 実施例１と一様にして下記の化合物を得る。

ｏ６−〔Ｎ−メチル−Ｎ−＜３．４−メチレジジオ十シ
ベシジル）カルバ七イル）−３，４−ジヒドロしＬボス
すリル ｍ　戸、　１７０〜１７１℃ 無色づリズム状晶 ０６−（Ａ’−メチル−Ｎ−（４−り０ルベシジＬ）カ
ルバ七イル）−３，４〜ジしドロカルボスチリル 清ム１７１．５〜１７２．５℃ 無色プリズム状晶 実施例　３ コハク酸イミド　３．４−ジしドロカルボスチリル−６
−カルボ↑シレート１２７１１Ｉｇとジェタノールアミ
ン３９”ｆとをジメチル本ルムア！ド２ａ？に溶解し、
−区長攪拌する。反応混合物に水を加え、９００本ルホ
ルム出し、水及び飽和量４に水で１１１次洗浄する。硫
酸ナトリウムで乾燥後、１ｌＩｖ＆を減圧留夫し、残渣
にア七トンを加えて結晶化して、６＝（ジエタノールア
三）力ＬボニＬ　）　−３，４−ジしドロカルボスチリ
ル４８〜を得る。

解　戸、１３１　〜１３４℃ １＊施例　４ ６−（ジェタノールアミツカｉｌニル）−３，４−ジし
ドロカルボスチリル２．２ｆＫ樵化チオニル３０１を加
え、室温で５時間撹拌した後減圧濃縮し、さらにベシぜ
シ５０ｍを加える。減圧濃縮する操作を３回線り返して
、６−１〔ジー（２−りＯルエチＬ））ア三ノカルポ＝
ＬＪ−３，４−ジしドロカルボスチリルを得る。

実施例　５ コハク酸イミド　３，４−ジしドロカルポスチリｔ、−
６−カＬボ十シレート１．Ｏｆと七ルホリシ０．３７　
Ｆとをジメチルホルムアミド２１ｓｔＫｌｌｌ解し。

３時間攪拌する。反応混合物に水を加え、り００ホルム
で抽出し、水及び飽和食塩水で順次洗浄する。硫酸ナト
リウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣にア七トルを
加えて、結晶化させる。これにより６．−ｖル本リすカ
ＬボニＬ−３，４−ジしド０力り寧ス予りＬを得る。

収量　１５０■ ＃１７．２０６−２０７℃ 無色粒状晶 実施例　６ コハク酸イミド　５，４−ジしドロカルボスチリル−６
−カルボ士シレート凰２７＃とベンジルじべ５ジ、７９
３岬とをジメチル本ルムア三ド２ｄにｍ解し、−に夜攪
拌する。反応混合物に水を加え、り０口車ルムで抽出し
、水及び飽和食塩水で洗浄する。硫酸ナトリウムで乾燥
後、ｌＩＩ縄を減圧留去し、残渣にア七トルを加えて結
晶化する。エタノールよ食再結晶して、６−（４−ベル
ジル−１−ピペラジニジカルボニル）−５，４−ジしド
ロカシボスチリル１５０ダを得る。

ｊｌｆ／、１９８−２００℃ 無色針状晶 Ｓ＊施例６と同様にして、適当な出発原料を用いて前記
夾凡例１．２の化合物及び下記実施例７〜１０８の化合
物を得る。

実施例　７ 哨）、２７＋−２７４°Ｃ（分解） 無色針状晶 ｉ＊施例　８ 鯉ム２４０〜２４３°Ｃ（分解） 無色リシ片状晶 実施例　９ 解　−，２１１，５〜　２１３℃ 無色リシ片状晶 実施例１０ 飼ム２４０〜２４２℃（分解） 無色粒状晶 実施例ＩＩ スチリル・１塩酸塩 濁声、２８０〜２８３℃（分解） 無色リシ片状晶 実施例１２ Ｌボスチリル・１塩酸塩 画一、２８４〜２８７℃（分解） 無色リシ片状晶 実施例１３ ６−（４−（４−メト千シベシジル）−１−じベラジニ
Ｌカルボニル１−３．４−ジしドロカルボスチリル・ｌ
塩＃塩 網戸、２６２〜２６４°Ｃ（分解） 無色粒状姓 実施例１４ スチリル・１塩ｅ塩 網戸、３００℃以上 無色針状晶 実施例１５ 震戸、２６８〜２７１°Ｃ（分解） 淡黄色粒拭晶 実施例１６ ０力Ｌボスチリル 調　戸、２３８〜２３９．５　　℃ 無色粒状晶 実施例１７ ボスチリ【 調　戸、２９４〜２９７１Ｃ 無色針状晶 実施例１８ ルポスチリル 解　戸、２４７〜２４９℃ 無色粉末状晶 実施例１９ リル 譚　戸、２５８．５　〜２６０℃ 無色粉末状晶 実施例２０ ６−Ｃ４−（４−ブ０ムベシリイＬ）−１−ｔベラジニ
ル力ルボニル〕〜３，４−ジしドロカルボスチリル 網戸、２６５．５〜２６７．５　　°Ｃ無色粉末状晶 実施例２１ カルボスチリル 屑ム２６５〜２６７°Ｃ（分解） 無色粒状晶 実施例２２ ボスチリル 網戸、２８７〜２８９℃（分解） 淡黄色粒状晶 実施例２３ ボスチリル １ｗ戸、２６２−２６４．５℃ 無色リシ片状晶 実施例２４ リル 卿　戸、２４３．５〜２４４℃ 無色粒状晶 実施例２５ 水素酸塩 飼ム２５８〜２５９．５℃（分解） 無色粉末状晶 実施例２６ 腐ム１９９〜２０２℃（分解）・ 無色粉末状晶 実施例２７ ６−〔鴫−（戸−トルエシスルホニル）−ｌ−ｓ１戸、
２８０〜２８２℃ 無色粒状晶 ★施例２８ ル 卿　戸、　１１５〜１１６．５　　℃ 無色針状晶 爽−例２９ 岬　戸、　１８０〜１８２℃ 無色粉末状晶 ＊施−１３０ 解ム２７６〜２８０″Ｃ（分解） 実施例３１ 屑ム３００℃以上 無色リシ片状晶 実施例３２ 解ム２９２〜２９３．５℃（分解） 無色リシ片状晶 実施例５３ 鯛ム２３５〜２３８℃（分解） 無色リシ片状晶 実施例３４ ６−（４−プロパル４Ｌ−１−じベラジニルヵｍム２４
９〜２５ビＣ（分解） 無色粒状晶 実施例３５ 解ム２６４〜２６８℃（分解） 無色粒状晶 Ｓ＊施例３６ 解戸、１５１〜１５３℃（分解） 無色粉末状晶 ！＊施例３７ 解ム２５４〜２５７℃（分解） 無色粉末吠晶 実施例３８ 鰐ム２６９〜２７２℃（分解） 無色粉末状晶 実施例３９ ｍム２５７〜２５９℃（分解） 無色粉末状晶 実施例４０ 岬ム２１３．５〜２１４．５℃ 無色粒状晶 実施例４１ ６−（４−（４−アｔチルア！ノベシジル）−１−じベ
リジルカルボニル）−３，４−ジしドロカルポスチリル
・ｌ樵酸塩・３／２水和物鯛／、　２２９〜２３１．５
℃ 無色粉末状晶 実施例４２ ドロカルポスチリル 解ム１７４〜１７６℃（分解） 無色粉末状晶 実施例４３ チリル 肩戸、１４５〜１４６℃ 無色リシ片状晶 実施例４４ ジしドロカルポスチリル・１塩酸塩 −戸、２３９〜２４１　℃ 無色粉末状晶 実施例４５ −ジしドロカルポスチリル・１塩酸塩 −戸、２６１〜２６４℃ 無色粉末状品 実施例４６ 屓ム１３７〜１３９℃（分解） 淡黄色粉末状晶 実施例４７ ６−〔鴫−（２−７０イル）−１−じベリジルカルボニ
ル）−３，４−ジしドロカルポスチリル ー−０１８１〜　１８５．５　　℃ 無色粉末状晶 実施例４８ ６−（４一本ルＥＬ−１−じベリジルカルボニル）−３
，４−ジしドロカルボスチリル清ム１９８〜２０１″Ｃ
（分解） 無色粉末状晶 ％！施例４９ 郷　戸、　１６０〜　＋６４°Ｃ 無色針状晶 実施例５０ 解ム２５１〜２５５°Ｃ（分解） 無色粉末状晶 実施例５１ 濁声、２７７〜２７９℃（分解） 無色稜状晶 実施例５２ −　戸、　ｌ　７０〜１７２．５　　℃無色針状晶 ９Ｉ！旅例５３ 解ム２７７〜２７９℃（分解） 無色リシ片状晶 実施例５４ 謂−一　戸、１７５　−１７４　℃ 無色粉末状晶 実施例５５ ６−（４−メチル−！−じベリジルカルボニル）−３，
４−ジしドロカルボスチリル 繭　ノー、　２１２〜２１３．５　℃ 無色稜状晶 ９Ｌ！施例５６ 物 鰐　戸、２３５〜２３６．５　　°Ｃ 無色粉末状晶 ９！施例５７ ６−（１−ヒ０リジルカルボニル）−３，４−ジしドロ
カルボスチリル 解　戸、２００〜２０２°Ｃ 無色針状晶 Ｓ＊施例５８ ボスチリル・ｌ塩酸塩 ｍ　戸、２５０−２５２°Ｃ 無色粒状晶 実施例５９ ６−１４−（３−（３−２００フエノ＋シ）づｏピル）
−１−じペラジニル力ルボニル１−３．４−ジしドロカ
ルボスチリル・１樵酸堆鯉ム２５４〜２５６．５℃（分
解） 無色針状晶 実施例６０ ３．４−ジしドロカルボスチリル・ｌ塩酸樵鯛　戸、２
５６〜２５８℃ 無色粉末状晶 実施例６１ −ジしドロカルボスチリル・ｌ　ｊｏｉｎ鱒ム２６５〜
２６６．５℃（分解） 無色リシ片状晶 実施例６２ ３．４−ジしドロカルボスチリル・ｌ塩酸塩濁声、２７
０〜２７２℃（分解） 無色針状晶 実施例６３ 一ム１６４〜１６６°Ｃ（分解） 無色針状晶 実施例６４ ｍｚ、２４９−２５１．５　　°Ｃ 無色粉末状晶 実施例６５ 屑　戸、２１２〜２１５℃ 無色粉末駄晶 ！＊施例６６ ジしドロカルボスチリル・１塩酸樵 膨戸、　２６６．５〜２６９　”Ｃ（分解）無色粉末状
晶 実施例６７ 膨ム２４２〜２４５℃（分解） 無色リシ片状晶 実施例６８ 鯛ム１４ｍ１．５〜１４６℃（分解） 無色粉末状晶 実施例６９ 肩ム２７０〜２７２℃（分解） 無色粉末状晶 ！＊施＠１７０ 物 隋　戸、　１６２〜１６４℃ 無色粉末状晶 実施例７１ ボスチリル・Ｉ塩酸塩 ｍ）、２０５〜２０７°Ｃ 無色リシ片状晶 実施例７２ ルポスチリル・１ｍ＃樵・偽水和物 屓戸、２４１〜２４１．５’Ｃ 無色針状晶 実施例７３ ６−〔今一（５−ベシリイルペシチル）−１−じベラじ
ニルカルボニル）−３，４−ジしドロカルボスチリル・
１塩酸塩・ｌ水和物 −戸、２３９〜２４２°Ｃ 無色粉末状晶 実施例７４ 小和物 解ム２３０〜２３３℃（分解） 無色粉末状筋 実施例７５ 水和物 ｊ７．２３８−２４０℃ 無色粉末状筋 実施例７６ ％水和物 ｍ　戸６２２５〜２２８℃ 無色粉末状晶 実施例７７ ４戸、　２２４．５〜２２６℃（分解）無色リシ片状晶 実施例７８ 水和物 ４戸、２０４〜２０５°Ｃ（分解） 無色稜状晶 実施例７９ １水和物 ｍムラ０フ〜２０９°Ｃ（分解） 無色粉末状筋 実施例８０ ルポスチリル・μ水和物 鰐　戸、２３９．５〜２４１．５　　℃無色粒状晶 実施例８１ ジしドロカルボスチリル 鮮）、　２８１〜２８４℃ 無色粒状晶 実施例８２ ・１樵酸塩・ｉ水和物 一一、２２５〜２２７℃（分解） 無色粉末状筋 実施例８５ Ｌ車スチリル ｍ　戸、　１５６〜　Ｉ　５７．５　　°Ｃ無色リシ片
状晶 Ｓ＊胤例８４ ０カルボスチリル・ｌ塩酸塩・％水和物解戸、２３９〜
２４１”Ｃ（分解） 無色粉末状晶 実施例８５ ・１塩酸塩 ｍ戸、２２０−２２２°Ｃ（分解） 無色粉末状晶 ★施例８６ ＃樵 解ム２４０〜２４２℃（分解） 無色綾状ム 実施例８７ 解ム３００℃以上 無色粒状晶 実施例８８ 解ム３００℃以上 無色粒状晶 実施例８９ 解ム３００℃以上 無色粉末状晶 実施例９０ 一戸、２８６〜２８９℃（分解） 無色粉末状晶 Ｉ＊施例９１ 調ム２９０〜２９３°Ｃ（分解） 無色粉末駄晶 実施例９２ 鰐ム３００″Ｃ以上 無色粉末状晶 実施例９３ ｍ戸、３００°Ｃ以上 無色粉末状晶 実施例９４ 塩酸塩・Ａ水和物 解ム３００℃以上 無色粉末状晶 実施例９５ 塩 厘戸、３００℃以上 無色針状晶 実施例９６ 卿戸、２５１〜２５４°Ｃ（分解） 無色粉末状晶 実施例９７ 岬　戸、２２７〜２２９℃ 無色粉末状晶 実施例９８ ｗｌ　戸、１８１．５−　１　８４℃ 無色粉末状晶 実施例９９ 岬　戸、２２６〜２２８．５　　℃ 無色粉末状晶 実施例１００ ＃１戸、２３６〜２５９℃（分解） 無色粉末状晶 実施例１０１ −　戸、　　１６２−　１６４℃ 無色粉末状晶 実施例１０２ 酸塩 濁声、２６０〜２６２°Ｃ（分解） 無色稜状晶 実施例１０３ 塩酸塩・ｉ水和物 解７．２６２〜２６４℃（分解） 無色粉末状晶 実施例１０４ 濁声、２０５−２０８“Ｃ（分解） 無色稜状茜 実施例１０５ 網　戸、　１７７〜１８０°Ｃ 無色リシ片状晶 実施例１０６ ｍム２５１−２５４°Ｃ（分解） 無色粉末状晶 冥施例１０７ ｍ　戸、＋８２−１８４°Ｃ 無色粉末状晶 実施例１０８ 肩戸、１９５〜１９６°Ｃ 無色粉末状晶 実施例１０９ β−り００フエネトール０．６４　ｆ及びヨー化ナトリ
ウム０．６＋　ｆｆｒＤＭＦ７ＩＩｔに＠濁し、室温で
３０分間か！まぜる。このものに６−（１−ピペラジニ
ルカルボニル）カルボスチリル１塩酸樵１、Ｏｆ及び次
酸カリウム１．２ｆを加え、７０〜８０℃で１２時間攪
拌する。反応混合物をＨＮ水酸化すトリウム水浴液に注
ぎ込み、り００ホルム抽出する。有機層を水、飽和食堆
水の順に洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥する。＃ｉ謀を
留去し、残渣をメタノールに溶解し、濃塩酸を加えて戸
Ｈ＊１とする。溶媒を留去し、残渣をエタノール−水で
再結晶して、０．８４　ｆの６−Ｃ４−＜２−フェノ十
ジエチル）−１−ヒペラジニルカルボニル〕カルボスチ
リル１塩酸塩を得る。

ｍ戸、２８６−２８９°Ｃ（分解） 無色粉末状晶 実施例１１０ ６〜（ｌ−じヘラジニル力ルポニル）　−３，４−ジし
ドロカルボスチリル３．０９．トリエチルアミン２・９
ｆ、β−りＯＯフエネトール２．７１及び沃化ナトリウ
ム２．１１をアセトニトリル２０ｍ１とジメチルホルム
アミド２０ｙｔｔとの混合溶媒に懸濁し、攪拌下１５時
間加熱還流する。溶媒を濃縮し、飽和型ソウ水とりＯＯ
ホルムとの混合溶媒で抽出し、有機層を水及び飽和食塩
水で順次洗浄する。硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減
圧留去する。残渣に濃塩酸を加えて／ＨＨＩ３して塩酸
塩を得る。

エタノール−水より再結晶して、６−Ｃ４−（２−フェ
ノ＋ジエチル）−１−ピペラジニルカルボニル１−３．
４−ジしドロカルボスチリル・１塩酸塩２．Ｉ３ｆ’を
得る。

清７．２７１〜２７４°Ｃ（分解） 無色針状晶 実施例１０９及び１１０と同様にして、適当な原料を用
いて前記実施例８．２４．２５．３６．３７゜４４．４
５，４６，５１，５２．５８〜７９．８２〜８６，９０
゜９＋、９３．９６〜９９，１０３〜１０８　の化合物
を得る。

実施例ｌ１１ ６−（１−じベラジニル力ルボニル）カルボスチリル１
塩酸塩１．Ｏｆ、戸−り００ベシジルク０ライド０．７
ｆ及びトリエチルアミン１．４ｄをアセトニトリル１５
ゴに懸濁し、５０〜７０℃で４時間攪拌する。その後水
浴で１時間攪拌し析出晶を枦取する。これをり００ホル
ム−飽和型ソウ水で抽出する。り００ホルム層を水、飽
和食塩水の順に洗浄し、その後硫酸ナトリウムで乾燥す
る。溶媒を減圧留去し、残渣にメタノールを加えて浴解
し濃塩酸を加えて／Ｈ＃１とする。得られる粗結晶をエ
タノール−水より再結晶して、　０．７３１の６−Ｃ４
−（４−り００ベシジル）−１−じベラジニル力ルボ：
ル〕カルボスチリル・ｌ塩酸塩を得る。

解ム３００°Ｃ以上 無色針状晶 実施例１１２ ６−（ｌ−ピペラジニルカルボニル）−３，４−ジしド
ロカルボスチリル２．６ｆ、トリエチルアミン３．Ｏｆ
及び３．４−、；メト＋シベシジルク０ライド２．９ｆ
をアセトニトリルに懸濁し、５０〜５５℃で２時間攪拌
する。溶媒を留去後、残渣をりＤＯホルムで抽出し、水
及び飽和食塩水で順次洗浄する。硫酸ナトリウムで乾燥
後溶媒を留去する。

残渣に濃塩酸を加えて、戸ＨＩＩＪＩとして塩酸塩を得
る。メタノール−水より再結晶して６−（４−（３，４
−ジメト十シベシジル）−１−ピペラジニルカルボニル
）−３，４−ジしドロカルボスチリル１塩＃樵１．５０
１１４１゜ ｍｌ、２４０〜２４２℃（分解） 無色粒状晶 Ｓ）！施例ＩＩ＋、＋１２と同様にして、適当な出発原
料を用いて前記実施例６．Ｈ〜＋　５．２５．２６゜３
０〜４１．４３〜４６，４９，５３，８８，９１，９２
，９４゜９５．９９，１００，１０２，１０８の化合物
を得る。

実施例１１３ ６−（１−じペラジニル力ルボニル）カルボスチリル１
塩酸塩１．Ｏｆｌ、ｍ−りｏｏベシリイルク０ライド０
．７２　Ｆ及びトリエチルアミン１．４ｇ＋／をジグ０
０メタシ１５１に懸濁し、室温で２時間攪拌する。析出
晶を枦取し、ＤＭＦより再結晶して１．０７ｆ＋７）６
−（４−（３−９００ベシリイル）−１−じペラジニル
力ルボニル〕カルボスチリルを得る。

ｍｌ、３００℃以上 無色粉末状晶 実施例１１４ ６−（１−ごベラジニＬカルｊｆニル）　−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリル３．Ｏｆ及びトリエチルアミン４
・Ｏｍｌをジク００メタシ２０ｍＫＩＩＩ！濁し、水冷
攪拌下、３，４−ジメト十シベシリイルク０ライド３．
５ｆの２０ｍ１ジク００メタシ溶液を滴下する。

その後室温で１時間攪拌する。反応混合物を飽和音ソウ
水に注ぎ込みクロロホルムで抽出し、水及び飽和食塩水
で順次洗浄する。硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去
する。エタノ−ルーフＤ［ｌホルムで再結晶して、６−
Ｃ４−＜３．４−ジメト＋シベシリイル）−１−ヒペラ
ジニル力ルポニル〕−３，４−ジしドロカルボスチリル
４．１Ｆを得る。

ｍ　戸、２３８〜２３９．５　　℃ 無色粒状晶 実施例１１３及び＋１４と同様にして、適当な出発原料
を用いて、前記実施例１７〜２３．２９゜４２．４７，
４８，５０，８０，８１．８９の化合物を得る。

実施例１１５ ６−（１−じペラジニル力ルボニル）−３，４−ジしド
ロカルボスチリル１，５１及びトリエチルアミシ１．５
ｆをジクＯＯメタシ１０ｇ１Ｋｌｌ！！濁し、水冷攪拌
下、戸−トルエシスル小ニルクロライトド４ｆのＩＯｇ
／ジク００メタシ溶液を滴下する。

その後室温でさらに３時間ついで水冷下に１時間攪拌す
る。析出晶を沖取しり００ホルム−エーテルより再結晶
して、６−（４−（戸−トルエシスルホニル）−１−ヒ
ペラジニル力ルボニル〕−３，４−ジしドロカルボスチ
リル１．４１を得る。

ｍ　戸、２８０〜２８２°Ｃ 無色粒駄晶 ９ｆ施例１１５と同様にして、適当な出発原料を用いて
、前記実施例２８の化合物を得る。

実施例１１６ ６−Ｅルホリノカルボニル−３，４−ジしドロカルボス
チリル２．６２　ｆ及び３，４−ジメト＋シベシジルア
ミン１７．９　Ｆを封管中に入れ、１７０〜２００°Ｃ
で５時間加熱する。減圧濃縮により３．４−ジメト＋シ
ベシジルアミシを留去し、残留物をシリカゲルカラムク
０マドシラフイーによシ分離精製後、濃塩酸を用いて塩
酸塩とする。これをメタノール−水より再結晶して、６
−〔４−（３，４−シメト＋シベシジル〕−１−ヒベラ
ジニル力ル不ニル）−３，４−ジしドロカルボスチリル
１塩酸塩０．３５１を得る。

ｍ戸、２４０〜２４２℃（分解） 無色粒状晶 実施例１１６と同様にして、適当な出発原料を用いて、
前記実施例６〜８．１１〜＋５．２４．２５゜２６．３
０−４１．４３〜４６，４９．５１〜５３．５８〜７９
゜８２〜８６．９０〜１０Ｂの化合物を得る。

実施例１１７ ６−〔じスー（２−ヒＦｏ＋シエチシ）アミノカルボニ
ル）−３，４−ジしドロカルボスチリル１０ｆ、３．４
−ジメト＋シベシジルアミシ４．５１及びポリリシ酸７
．６１の混合物を１６０〜１７０゛Ｃにて約６時間加熱
反応させる。その後反応液を放昂し、本釣５００　ｍｌ
を滴下し溶解する。４８％水酸化ナトリウムで中和し、
り００ホルムで抽出する。戻酸カリウムで脱水後、り０
０＊ルムを留去し濃塩酸で塩酸塩とする。メタノール−
水より再結晶して６−Ｃ４−Ｃ５，４−ジメト牛シベシ
ジル）−１−じペラジニＬカルボニル）−３，４−ジし
ドロカルボスチリル・ｌ塩酸塩７．５ｆを得る。

ｍｌ、２４０−２４２°Ｃ（分解） 無色粒状晶 実施例１１７と同様にして、適当な出発原料を用いて、
前記実施例１〜８．１１〜１５．２４〜２６゜３０〜４
１．４３〜４６，４９．５１〜５３．５８〜７９．８２
〜８６．９０〜１０８の化合物を得る。

実施例１１Ｂ ６−（じスー（２−りＤＯエチル）アミノカルボニル）
−３，４−ジしド０力り不スチリル１５．９ｆ、３，４
−ジメト＋シベシジルアミシ９．８ｆ及びメタノール７
０ｍの混合物を１５時間攪拌還流する。冷後択酸ナトリ
ウム３．０６　ｆを加えて８時間攪拌還流する。冷接析
出する結晶を沖取する。濃塩酸で塩酸塩とする。メタノ
ール−水より再結晶し７て６−（４−（３，４−ジメト
＋シベシジル）−１−ヒベラジニル力ルボニル１−３．
４−ジしドロカルボスチリＬ１塩酸１ｊＡ７．３　Ｆを
得る。

ｍ戸、２４０−２４２°Ｃ（分解〕 無色粒状晶 実施例１１８と同様にして、適当な出発原料を用いて、
前記実施例１〜８，１１〜！５．２４〜２６゜３０〜４
１．４３〜４６，４９．５１〜５３．５８〜７９．８２
〜８６．９０〜１０８の化合物を得る。

実施例１１９ ６−カルボ士シー３，４−ジしドロカルボスチリル１．
０ｇ、ＤＣＣ（，３ｆおよびベシジルじベラジシ１．１
ｆをジオ＋リシ１０露ｔＶｃ＠濁させ、６０〜７０°Ｃ
で５時間攪拌する。反応終了後溶媒を留去し、エーテル
を加えて析出晶を沖去する。母液を濃縮後、残渣にり０
０ホルムを加えて溶解し、水及び飽和食塩水で洗浄する
。硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去する。エタノール
より再結晶して、６−（４−ベシジル−１−ごベラジニ
ルカＬボ二Ｌ）−３，４−ジしドロカルボスチリル３３
０Ｉｖを得る。

ｍ　戸、　１９８〜２００℃ 無色針状晶 実施例１１９と同様にして、適当な出発原料を用いて、
前記実施例１．２．３．４．５．７〜１０８　の化合物
を得る。

実施例１２０ ６−カルボ士シー３．４−ジしドロカルボスチリル１．
Ｏｆおよびトリエチルアミシ０・８ｄをテトラしドロフ
ラジ（ＴＩＩＦ　）Ｉ　ＯｍＫ＠濁させ、室温撹拌下に
ジエチルクＤＯホスフェート１．ＯｆのＴＨＦ（Ｑ１１
１１溶液を滴下し室温で３時間攪拌する。

このものにベシジルじペラジシ１．Ｉｆ（ＤＴＨＦ１０
ｄ溶液を滴下し、室温でさらに１０時間攪拌する。反応
終了後溶媒晶をｐ表し、母液を濃縮して、残渣に飽和１
ソウ水を注ぎ、クロＯホルム抽出する。有機層を水及び
飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
留去する。エタノールより再結晶して、６−（４−ベシ
ジル−１−【ニペラジニルカＬボニル）−３，４−ジし
ドロカルポスチリ４１．０７　ｆを得る。。

ｍ戸。＋　９８−２００°Ｃ 無色針状晶 実施例１２０と同様にして、適当な出発原料を用いて、
１１ｊ記夾施例１．２．３．４．５．７〜１０８　の化
合物を得る。

実施例１２１ ６−カルボ＋シカルボスチリル３４．５９及びトリエチ
ルアミシ３１１をＤＭＦ　３５０ｍｇに浴解し室温攪拌
ｔ、り０ルｆ酸イソブチル２８１１１１のＤＭＦ１４ｇ
ｌｉ液を滴下する。室温で１時間攪拌後、ベシジルヒベ
ラジシ３７ｆのＤＭＦ２１ｍｌ溶液を滴トし、室温で１
０時間攪拌する。反応混合物を。

飽和１ソウ水に注ぎ込み、り００ホルムで抽出する。り
ＯＯホルム層を水、飽和食塩水の順に洗浄後、硫酸ナト
リウムで乾燥する。溶媒を減圧留去し、残渣にエーテル
を加えて結晶し、戸数する。

この結晶をメタノールに浴解し、Ｓ塩酸を加えｔＨＨＩ
３する。得られる粗結晶をエタノール−水より再結晶し
て３０．１　Ｆの６−（４−ベシジル−１−じペラジニ
ル力ルボニル）カルボスチリ彫１塩酸塩１水和物を得る
。

解戸、３００℃以上 無色粒状晶 実施例＋２２ ６−カルボ十シー３．４−、；シト０カルネスチリル５
．Ｏｇ及びトリエチルアミ：Ｊ４厘ｌのジメチル本ルム
ア三ド５０ｓＪ溶液に、イソづチルクｏｏホルメート３
．８７ｆｏジメチルホルムア三ド２ｍ１ｌｑ液を滴下す
る。室温で３０分間攪拌後、ベシジルピペラジシ５．５
１のジメチル本しムアミド３　ｍｌ　１８　Ｈを滴下し
、室温で３０分続いて５０〜６０℃で１時間攪拌する。

反応混合物を多蓋の飽和食塩水に注ぎ込み、り００ホル
ム抽出し、水洗後乾燥する。

ｍ謀を情夫して残渣にジエチルエーテルを加えて結＃１
１化し、得られる粗結晶をエタノールより再結計１して
、６−（４−ペシジルーＩ−ごベラジニル力ルボニＬ　
）　−３，４−ジしドロカルボスチリル３．４１を得る
。

＃１戸、１９８〜２００°Ｃ 無色釦状晶 適当な出発原料を用いて、実施例１２１及び１２２と同
様にして前記実施例３．４．５．７〜８７゜８９〜１０
８の化合物を得る。

実施例１２３ エタノール１００ゴに６−ニト＋ジカルボニル−３，４
−ジしドロカルボスチリル２．Ｏｆ、ｊトリウムエチラ
ー　ト０．５ｆ及びベシジルヒペラジシ１．６ｇを加え
てオートクレーブ中、ｌｌ０９ＰＣ圧、１４０〜＋５０
°Ｃにて６時間反応させる。６後、反応液を減圧下濃縮
し、残渣をり００ホルム２００震／に溶解させ、１％次
酸カリウム水ｌＢ液、希塩酸及び水で順次洗浄したのち
、硫酸すトリウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣をシリ
カゲルカラムク０マドシラフイー（シリカゲル：ワコウ
ｊ−２００゜溶出液：り００ホルム：メタノール（Ｖ／
Ｖ　）＝　２０：１）で精製し、粗結晶をエタノールか
ら再結晶して、６−（４−ベシジルーｌ−ヒペラジニル
力ルボニル）−３，４−、；ｔ）ドロカルボスチリル３
００■を得る。

１９１戸、１９８〜２００°Ｃ 無色針状晶 実施例１２３と同様にして、適当な出発原料を用いて、
前記実施例１〜５．７〜１０８の化合物を得る。

実施例１２４ ６−カルボ千シー３，４−ジしドロカルボスチリル）、
９ｆを塩化メチレジ２００ｇ／に＠濁させ、じリジ：Ｊ
２ｄを加えたのち、攬袢下、０〜２０°Ｃに内温を保ち
つつ塩化チオニル１．４Ｆを滴下する。

滴１終了後向温度で１時間攪拌し、ベシジルじベラジル
１．７４１／の塩化メチレジ１０ｗｔ＃液を滴下する。

滴−十終了後、室温で４時間攪拌する。反応液を硫酸カ
リウム水溶液で十分に洗浄し、水及び８塩酸で洗浄し、
硫酸すトリウムで乾燥したのち、７１縄を留去する。得
られた残渣をシリカゲルカラムク０マドグラフイー（シ
リカゲル：ワコウＣ“−２００、／４出液二り００ホル
ム：メタノール（Ｖ／Ｖ　）−２０１ｌ　）で単離精製
したのち、エタノールから典結姓して、６−（４−ベニ
、、ジル−１−じベラジニル力ルボニル）−３，４−ジ
しドロカルボスチリル３２５岬を得る。

ｍ　戸、　　１　９８−２００°Ｃ 無色組状晶 ★施例１２４と同様にして、適当な出発原料を用いて、
前記実施例Ｉ〜５．７〜１０８の化合物を得る。

実施例＋２５ ジメチルホルムアミド１００耐に、３，４−ジメト十シ
安息喬酸２．６ｆと１，８−ジアザじシフＯＣ５，４，
０）ウシデセシー７の１．６５　Ｆとを加え、これに外
部水冷攪拌下にり０ルｆ酸イソブチル１．５１Ｉｌを滴
下する。滴下後３０分攪拌し、６−（１−じペラジニル
）カルボニＬ、−３．４−ジしドロカルボスチリル２．
６ｆをジメチルホルムアミド４０ｍ＋７にとかし九浴液
を加えて３．室温にて５時間攪拌する。反応後、溶媒を
留去し残渣をり００本ホルム３００１で抽出し、希脚酸
水素ナトリウム水溶液、水、希塩酸及び水で順次洗浄す
る。クロロホルムを留夫後、残渣をエタノールーク００
ホルムから再結晶して、６−Ｃ４−（３，４−ジメト十
シベシリイル−１−じペラジニルカルボニル〕−３，４
−ジしドロカルボスチリル！、８ｆを得る。

ｍ　戸、　　２　３　８−２３９．５　　°Ｃ無色粒状
晶 実施例１２５と同様にして、適当な出発原料より前記実
施例１７〜２３．２９．４２．４７．４８．５０゜８０
、８１．８９　　の化合物を得る。

実施例１２６ コハク酸イミド　３，４−ジメト千シベシリエート１２
３〜と６−（１−じベラジニル力ルボニル）−３，４−
ジヒドロカルボスチリル１３７ＷＩｇとをジメチルホル
ムアミド２１に溶解し、−ｉ夜攪拌する。反応混合物に
水を加え、りＯＯホルムで抽出し、水及び飽和食塩水で
洗浄する。硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し
、残渣をエタノールークＯＯホルムから再結晶して、６
−Ｃ４−（３，４−ジメト＋シベシソイル）−１−ピペ
ラジニルカルボニル’１−３．４−ジしドロカルボスチ
リル１００〜を得る。

鰐　戸、２３８〜２３９．５　　℃ 無色粒状晶 実施例１２６と同様にして、適当な出発原料を用いて、
前記実施例１７〜２３．２９．４２．４７，４８゜５０
、８０．８１．８９　　の化合物を得る。

実施例＋２７ ３．４−ジメト＋シ安息香酸４．８ｆ及びトリエチルア
ミシ４ｄのジメチル本ルムア三ド５０ｓ／溶液に、イソ
プチルク００ホルメート３．８７　ｆのジメチルホルム
アミド２ｓ／ｆｆｉ液を滴下する。室温で３０分間攪拌
後、６−（１−ピペラジニルカルボニル）−３，４−ジ
しドロカルポスチリＬ８．Ｉｆのジメチルホルムアミド
３１浴液を滴下し、室温で３０分統御て５０〜６０℃で
１時間攪拌する。反応混合物を多量の飽和食塩水に注ぎ
込み、り００ホルム抽出し、水洗後乾燥する。溶媒を留
去して残渣をエタノ−ルーフ００ホルムから再結晶して
、６−Ｃ４−＜３．４−箒メト＋シベシリイル）−１−
じペラジニル力ルボニル）−３，４−ジしドロカルボス
チリル２゜５ｆを得る。

解　戸、２３８〜２３９．５　　℃ 無色粒状晶 実施例１２７と同様にして、適当な出発原料を用いて、
前記実施例１７〜２３．２９．４２．４７，４８゜５０
、８０．８１　、８９　　の化合物を得る。

実施例１２８ エタノールＩ　００　ｍｌに、エチル　３，４−ジメト
十シベシリエート１．９ｆ、ｊ’）リウムエチラート０
．５ｆ及び６−（１−ピペラジニルカルボニル）−３，
４−ジしドロカルボスチリル２．４Ｆを加え、オートク
し一プ中、１１０気圧、１４０〜１５０°Ｃにて６時間
反応させる。冷接、反応液を減圧下濃縮し、残渣をり０
０ホルム２００ｍＫ溶解させ、１％次醋酸カリウム水溶
液希塩酸及び水で順次洗浄したのち、硫酸ナトリウムで
転像し、溶媒を留去し７、得られる残渣をシリカゲルカ
ラムク０マドシラフイー（シリカゲル：ワコウＣ−２０
０，ｆｔｌ。

出液：り００ホルム：メタノール（Ｖ／Ｖ）＝２０：１
）で精製し、粗結晶をエタノールークＯＯホルムから再
結晶して、６−〔今一（３，４−ジメト十シベシリイル
）−１−ピペラジニルカルボニル〕−３，４−ジしドロ
カルボスチリル２５０ダを得る。

ｍ　戸、２３８〜２３９．５　　℃ 無色粒状晶 実施例１２８と同様にして、適当な出発原料を用いて、
前記実施例１７〜２３．２９．４２．４７，４８゜５０
、８０．８１．８９　　の化合物を得る。

実施例１２９ ３．４−ジメト＋シ安息香酸１．８ｆと６−（１−じペ
ラジニル力ルボニル）−３，４−ジしドロカルボスチリ
ル２．７５　ｆｌとをジオ＋サシ２０ｙｄ及び塩化メチ
レジ２０１１の混合溶媒に加えて、外部水冷攪拌下、Ｎ
、Ｎ−ジルク０へ千ジルカルボシイ三ド２．１ｇを塩化
メチレジ５ｄにとかした浴液を１０〜２０°Ｃに保ちつ
つ滴下する。滴下後間温度で３．５時間攪拌する。析出
する結晶を沖去し、炉液を減圧１濃縮乾固する。得られ
た残渣を塩化メチレジ１００耐に溶解し、有機層を５％
塩酸水溶液、５％次酸水素ナトリウム水溶液、水の順に
洗浄したのち、無水ｖｔ酸すトリウムで乾燥した後、減
圧下溶媒を留去し、残渣をクロロホルム−エタノールか
ら再結晶して無色粒状晶の６−　Ｃ４−（３，４−ジメ
ト＋シベシリイル）−１−じベラジニル力ルボニルｌ−
３，４−ジしドロカルボスチリル０．９ｙｔ得る。

融点２３８〜２３９．５℃ 実施例１２９と同様にして、適当な出発原料を用いて、
実施例１７〜２３．２９．４２．４７．４８，５０゜８
０、８１．８９　　の化合物を得る。

実施例１３０ ６−Ｃ４−＜２−フェノ＋ジエチル）−１−じペラジニ
ル力ルボニル１−３．４−ジしドロカルボスチリル４８
０Ｗｇ、５０％油性水素化ナトリウム７０ダをジメチル
ホルムアミドＳ　ｙｘｌ中に混和し、室温で１時間攪拌
ののち、塩化ベシジル０．１７　ｓ／のジメチルホルム
アミド３ｇ／溶液を徐々に滴下し、室温で４時間攪拌す
る。反応液を多量の水に投入し、有機物質をり０ロホル
ム抽出し、り００ホルム層を水洗、乾燥し、９００ホル
ムを留去する。

残渣に濃塩酸を加えて塩酸塩としメタノール−水より再
結晶して１−ベシジル−６〜Ｃ４−（２−フェノ＋ジエ
チル）−１−じペラジニルカＬボニル’）−３，４−ジ
しドロカルボスチリル°１塩酸塩１５０ｍ１４る。

ｍ戸　２６１〜２６４℃ 無色粉末状晶 実施例１３０と同様にして、適当な出発原料より前記実
施例４３，４４．４６の化合物を得る。

実施例＋３１ ６−（４−ベシジル−１−ごベラジニル力ルボニル）カ
ルボスチリル２６．４１をエタノール−水の混合浴［８
００ｇ／ＫＭ濁し、濃塩酸を加えて−Ｈ啼１とする。こ
の反応混合物に５９６パラジウムー伏素２．６ｆを加、
ｔ、常圧、４５−６５°ｃで接触還元ｆ行う。反応終了
後触媒を枦去っづいて層線を減圧留去し、残渣にアセト
ルを加えて結晶化する。得られる粗結晶をエタノール−
水よシ再結晶して１９．９９の６−（１−じペラジニル
カルボニル）カルボスチリル１塩酸塩を得る。

＃１戸、３００°Ｃ以上 無色粒状晶 実施例１３２ 実施例６，１１０，１１２，１１６，１１７，１１８゜
１１９．１２０，１２２，１２３，１２４　　と同様に
して適当な出発原料を用いて以下の化合物を得る。

ｍ　戸、２３８．５　−２　４　０°Ｃ無色粉末 ｍ戸、２３８〜２３９℃（分解） 無色粉末 ｍ戸、２３２〜２３４℃（分解） 無色粉末状晶 ｍ戸、２２７〜２２９．５℃（分解） 無色粉末状晶 解　戸、２５９〜２６２℃ 無色リシ片状晶 ｍ戸、３００°Ｃ以上 無色リシ片状晶 Ｍ／、＋７７−１８０℃ 無色粉末 ｍ　戸、２０４−２０７°Ｃ 無色粒状晶 実施例１３３ 無水酢酸１．２ｆ及びイ酸０．６ｇを６０°Ｃで２時間
撹拌する。ついでこれに６−（ｌ−じペラジニル力ルボ
ニル）カルポスチリＭＪ１．０１を加え、室温で１時間
攪拌する。反応終了後、反応混合物を水に注ぎ、１ｊＶ
−水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、クロ０ホルム
で抽出する。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄後、硫
酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去する、残渣にエ
ーテルを加えて結晶化し、得られた粗結晶をエタノール
より再結晶して、０．１５１の６−（４−ホル三ルー１
−ピペラジニルカルボニル）−３，４−ジしドロカルボ
スチリルを得る。

１９１７．１９８−２０１”Ｃ 無色粉末状晶 実施例１３４ ６−（４−（２−ｔ、ド０＋シづ０じル）−ｌ−じペラ
ジニル力ルボニル’）−３，４−ジしドロカルボスチリ
ル（０，５Ｆ　）およびトリエチルアミシ（０，３謬ｌ
）をジクＯＯメタシｌ０ｗ１Ｋ溶解し室温で攪拌しなが
らアｔチルク０ライド０．１５１を徐々に加え、その後
室温でさらに１時間攪拌する。

反応混合物を、飽和型ソウ水に注ぎ込みり００＊ルムで
抽出する。有機層を水洗、飽和食塩水洗、その後乾燥（
Ｎａ２５Ｏ，）　＠溶媒を減圧留去し、得られる残渣を
シリカゲルカラムク０マドグラフイーで精製し、メタノ
ールに溶解して濃塩酸を加えて旭酸塩とする。水−ア七
トルより再結晶し、０．２２ｆの６−Ｃ４−＜２−アｔ
チルオ十シづ０じル）−１−ヒペラジニル力ルボニル〕
−３，４−ジしドロカルボスチリル１塩酸塩を得る。

ｍ戸、２３９−２４１″Ｃ（分解） 実施例１３５ ６−（４−アセチルメチル＝Ｉ−じベラジニル力ルボニ
ル）−３，４−ジしドロカルボスチリルＩ塩酸塩３．７
６９をメタノール５０ｍ１に溶解し氷浴清拌）　、　Ｎ
ａ　Ｂ１１ｕ　　Ｏ−４４Ｆを徐々に加え、その後室温
で１時間攪拌する。反応混合物に濃塩酸を加え戸Ｈ中１
とし、溶媒の大部分を減圧留去し、ｌ　Ｎ　−／ｌ’ａ
０１１−　ＣＢ（−１３抽出する。有機層は水洗、乾燥
＜Ｎａ２５ｏ１４）　　後溶媒を留去する。残渣をカラ
ムク０マドタラフイーでＭ製しエタノールから再結晶し
て、　２．２６　ｆの６−Ｃ４−（２−ヒト０＋シブ０
ヒル）−１−じペラジニル力ルボニル１−３．４−ジし
ドロカルボスチリルを得る。

ｍ　戸、　　＋　　５　６−　１５７．５　　℃無色リ
シ片状晶 実施例＋３６ 実施例６．　＋　１４．１１９．１２０．１２２．１２
３゜１２４．１２５，１２６，１２７，１２８，１２９
　　と同様にして、適当な出発原料を用いて以下の化合
物を得る。

ドロカルボスチリル ｍ　戸、１５８−１６０°Ｃ 無色粉末 実施例１３７ ６．１１９，１２０，１２２，１２３，１２４，１３１
と同様にして適当な出発原料を用いて以下の化合物を得
る。

’ｆ　／、　３００℃以上 無色粒状範 ｏ７−　（１−じベラジニル力ルボニル）−３，４−シ
しドロカルボスチリル゛１塩酸塩 ｍ戸、２６１．５−２６３°Ｃ 無色粒状晶 ｏ８−（１−ヒペラジニル力ルボニル）力；しボスチリ
ル・ｌ塩酸塩 ｍ戸、３００℃以上 無色粒状晶 以下本発明化合物を用い丸製剤例及び薬理試験例を挙げ
る。

製剤例　１ ジしドロカルボスチリル デシマル　　　　　　　　　　　　　１３２ｑマグネシ
ウムステアレー１　　　　　　　　　　１８ｑ計　　　
　　　　　　　　　　　２０（ｉｌｌ常法により亀錠中
、上記組成物ｏＷｌＡｔ−製造した。

製剤例　２ ドロカルボスチリル デシマル　　　　　　　　　　　　　１２７１ｆマクネ
シウムステアレート　　　　　　　　　　　１８ダ乳　
　　糠　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４
５″Ｉ計　　　　　　　　　　　　　　２００１１Ｉ常
法によル１錠中、上記組成物の錠剤を製造した。

樵化ナトリウム　　　　　　　　　　　　　０・９ｆメ
タ重Ａ硫酸プトリウム　　　　　　　　０．１ｆメチル
ーバラベシ　　　　　　　　　　　０．１８１づ０じル
ーバラベシ　　　　　　　　　　０．０２　ｇ注射用蒸
留水　　　　　　　　　　　１００１上紀バラベシ類、
メタ重亜Ｗ＆酸ナトリウムおよび塩化士トリウムを攪拌
しながら８０℃で蒸留水に溶解する。得られた溶液を４
０°ａｔで６却し、これに本発明化合物、ポリエチレシ
タリコールおよびポリオ十シエチレシソルピタシ七）オ
レエートを一次溶解させ、次にその溶液に注射用蒸留水
蒼加えて最終の容量にＩｌｌ製し、適当なフィルターペ
ーパーを用いて滅菌濾過して、ｌｄずつアシプルに分注
し、注射剤を調製する。

製剤例　４ デシマル　　　　　　　　　　　　　１３２ＩＩＩマタ
ネシウムステアレート　　　　　　　　ＩＢＩＩＩＩ針
　　　　　　　　　　　　　　２００ａｇ常法によ９１
錠中、上記組成物の錠剤を製造した。

＜＊理試験Ａ〉 体重８〜１３に４の雌雄雑撫成大に、ペシトバルビター
ｊＬのナトリウム塩を３０１％Ｉ／＃の割合で静脈内投
与して麻酔させる。ヘバリシの１トリウム塩を１００Ｏ
Ｕ／＃の割合で静脈内投与後説血致死させ、心臓をロッ
ク液中に摘出する。右冠状動脈より飼結節動脈に向って
カニ１−レを挿入し、右心房をカニ１−レと共に摘出す
る。次いで予めペシトバルじタールのナトリウムｊｎｌ
ｏｇｖ／峠、静脈内投与）により麻酔させ、ヘバリシ処
理（１００ｃＩ／＃、静脈内投与）した体重１８〜２７
に９の雌雄雑種成犬につき、その頚動脈から血液をペリ
スタリックポンプを介して右冠状動脈に挿入したカニユ
ーレに導き、右心房を潅流する。

潮流圧は１００■Ｈダの定圧とする。右心房の運動は静
止張力２ｆ下で、力変位変換器を介して心房筋の収縮力
を海定する。冠動脈血流量は電磁流量針を用いて調定す
る。全ての記録はイシク書き記録針上に記録させる。尚
この方法の詳細は千葉らｙｃよル報告されている（　Ｊ
ａ戸ａｓ、　／、ＰＪａｒｍａｃｏｌ。

２５．４３３−４３９（１９７５）、ＮａｕＮμｍＳｔ
ｋｍｉｔｄｂｔｒｑ’ｓ　Ａｒｃｈ、　Ｐｋｇｒｍａｃ
ｏｌ　、　２８９．３１５〜３２５（１９７５））。

供試化合物は、右冠状動脈に挿入したカニ１−しに近接
して接読したｊムチュープを介して動脈内に１０〜３０
μＩＯ答量で注射する。供試化合物の陽性変力作用は、
化合物投与前の発生漬方に対する％変化として表わし、
を九冠血流量のｙ化は、投与前からの絶対値（ｓ７／分
）として表わす４゜結果を下記第１表及び第２表に示す
。

〈供試化合物〉 化合物ム　　　　　　　　化　　　合　　物　　名＋　
　　６−（１−ピペラジニルカルボニル）−３，４−ジ
しドロカルボスチリル リル ３．４−ジしドロカルボスチリル ６　　６−（４−（４−シアノベシリイル）−１−じベ
ラジニルカルボニル）−３，４−ジしドロカルボスチリ
ル ７　　６−（４−（４−メトｆシベシリイル）−１−ピ
ペラジニルカルボニル）−３，４−ジしドロカルボスチ
リル ８　　６−（４−（３−りｏｏベシリイル）＝１−ピペ
ラジニルカルボニル）−３，４−ジしドロカルボスチリ
ル ９　　６−（４−（３，４−ジグ００ベシリイル）−１
−ピペラジニルカルボニル］−３，４−ジしドロカルボ
スチリル ＋０　　６−４４−（４−ニドＯベシリイル）−１−じ
ベラジニル力ルボニル）−３，４−シしドロ力り車スチ
リル ＋１　　６−Ｃ４〜（４−メチルベシリイル〕−１−じ
ベラジニル力ルボニル）−３，４−ジしドロカルボスチ
リル ＋２　　６−（４−エト＋ジカルボニル−１−じベラジ
ニル力ルボニル）−３，４−ジしドロカルボスチリル ＋３　　６−（４−）０イル−１−ピペラジニルカルボ
ニル）−３，４−ジしドロカルボスチリル ＋４　　６−（４−へシどルー１−ピペラジニルカルボ
ニル）−３，４−ジしドロカルボスチリル・１塩酸樵 しドロカルボスチリル ジしドロカルボスチリル・童樵＃樵 しド０力しボスチリル°１塩酸塩 一ジヒト０カルボスチリル・１塩酸塩 しドロカルボスチリル・ｌ塩酸塩 ドロカルボスチリル ３．４−ジしドロカルボスチリル ０カル車スチリル ２３　　　アムリノシ（対照化合物） ２４　　６−Ｃ４−（２−フェノ↑ジエチル）−１−ご
ベラジニルカル不ニル〕カルボスチリル・１塩酸塩 ２５　　６−（４−（３−フェニルづ０ピル）−１−じ
ベラジニル力ルボニル〕カルボスチリル・ｌ塩酸塩 ２６　　６−（４−（２−ベシリイルエチル）−ジしド
ロカルボスチリル ２７　　　Ｆ＝ブタ三ン（比較化合物）２８　　６−（
４−（４−り００ベシジル）−１−じベラジニルカＬボ
ニル〕カルボスチリル・１塩酸塩 ２９　　６−　Ｃ４−（３−へシリイルプロビル）−１
−ピペラジニルカルボニル）−３，４−ジしトロカルボ
スチリル・Ｉ塩１１ｍ・％水和物 ３０　　６−（＋−（４−ｔド０十シベシリイル）メチ
ル−１−じペラジニルカルボニル〕−３，４−ジしトロ
カルボスチリル・ＩｊｍｔＩＩＩ塩・％水和物 ３１　　６−（４−プ０じルー１−ピペラジニルカルボ
ニル）−３，４−ジしトロカルボスチリル ３２　　６−（４−（３−りｏｏベシリイル）メチル−
１−ピペラジニルカルボニル〕−３，４−ジしトロカル
ボスチリル・１４１１塩・ｈ水和物 ３３　　６−（４−イソベシチルーｌ−じペラジニル力
ルボニル）−３，４−！；ｅド０カルボスチリル ３４　　６−（４−（４−メチルチオベシジル）−１−
じペラジ：シカルボニル）−３，４−ジしドロカルボス
チリル・１堆酸樵 ３５　　６−（４−（３，４，５−）リメト十シベシジ
ル）−１−じぺ５ジニル力Ｌボニル１−３．４−ジしド
ロカルボスチリル・ｌ塩酸塩 ３６　　６−（４−（４−アミノベシジル）−１−ピペ
ラジニルカルボニル）−３，４−ジしドロカルボスチリ
ル ３７　　６−（４−（４−アセデルア三ノベシジル）−
１−ｅぺ５ジニルカルポニルｊ−３８６−（４−イソブ
チル−１−じぺ５ジニルカルボニル）カシボスチリル・
１４８塩・ｉ水和物 ３９　　６−（４−（４−メチルベシリイルメチル）−
１−ごベラジニルカルボニル〕−３，４−ジしトロカル
ボスチリル・１填酸樵 ４０　　６−（４−シフ０へ牛シルメチルー１−ピペラ
ジニルカルボニル−３，４−ジしトロカルボスチリル・
Ｉ塩酸塩 ニルＪ−３，４−シしトロカルボスチリル・！塩酸塩 ル°鳳’１ｕｌｌ−ピ１噌脳Ｉ ５７　　６−（４−（２−（３，４−メチレジジオ十５
８　　６−Ｃ４−（５−ヘンリイルベシチル）水和物 ５９　　６−（４−（３−（３，４−ジメト十シベシリ
イル）プロピル〕−１−じペラジニル力ルボニル）−３
，４−ジしドロカルボスチリル・ｌ塩酸塩・％水和物 ６０　　６−（４−（３−り００シシナ七イル）−１−
じベラジニル力ルボニル’）−３，４−ジしドロカルボ
スチリル・％水和物 ６１　　６−Ｃ４−＜３．４．５−トリメト＋シシシナ
七イル）−１−じベラジニル力ルボニル）−３，４−ジ
しドロカルボスチリル６２　　６−　Ｃ４−（２−アｔ
チルオ十シブ０じル）−１−ピペラジニルカルボニル〕
−３，４−ジしドロカルボスチリル・＋ｓｈｅ塩・％水
和物 ６３　　５−（４−イソブチル−１−じベラジニル力ル
不ニル）カルボスチリル・１塩酸旭・ｉ水和物 ６４　　７−（４−ベシジル−１−ごベラジニルカル卓
ニル）−３，４−ジしドロカルボスチリル・ｌ塩酸塩 ６５　　８−（４−（３−フェニルプロピル）−チル）
−１−ごベラジニル力ルボニル〕−３，４−ジしドロカ
ルボスチリル ６９　　６−（４−メタジスルホニル−１−ヒベラジニ
Ｌカルボニル）−３，４−ジしドロカルボスチリル ７０　　６−（４−ホルミル−１−じベラジニル力ルボ
ニル）−３，４−ジしドロカルボスチリル ルカルボニル）−３，４−ジしドロカルボスチリル ７２　　６−（４−（４−メト＋ジフェニル）アセチル
−１−じベラジニルカ１１ニル〕−３，４−ジしドロカ
ルボスチリル 第　　ｉ　　表 第　　２　　表 く薬理試験Ｂ〉 体重９〜１５幻の雌雄の雑種成人を用いた。イヌをペシ
トバルピタール・ナトリウム３０ＩＩｇ／＃の静脈内投
与により麻酔し、引き続きペシトバルとタール・ナトリ
ウム４ダ／＃／ｋＷで静脈内に持続注入、一定の麻酔深
度を保った０人工呼＠器を用いて、１分間１８回の呼吸
数、２０ｍ／＃の吸気量の条件で人工呼吸し、開胸した
。左心室収縮力は左心意外壁に装着したアーチ型ストレ
イシゲージを介して測定した。左大腿動脈にポリエチレ
シチューブを挿入して比トラシスダ１−サーを介して全
身血圧を測定し、全てのパラメーターはイシク書き記録
針上に記録した。薬物は大腿静脈に挿入したカテーテル
を介して投与した。供試化合物の変力作用は化合物投与
前の発生張力に対する９Ｉｂｔ化として表わした。血圧
（ｍ７／ｐ）の変化は投与前からの絶対値として表わし
た。結果を第３表に示す。

第　　３　　表 〈薬理試験Ｃ〉 血液海流嫡出乳頭筋標本 怖に８〜１３＃の雑１Ｉｌｌ成犬にペシトバルじタール
・ナトリウム塩を３０■／峠の用量で静脈内投与し麻酔
にかける。ヘバリシのすトリウム樵を＋００（１／幻の
用量で静脈内投与後説血致死させ、心臓を摘出する。標
本は主に乳頭筋および心室中隔から成り、前中隔動脈に
挿入したカニューυより、供血大から導かれた血液でｌ
ＱＱｍｌｌｙの定圧で潅流される。供血大は体重１８〜
２７＃で予めベシトバルじタール・ナトリウム塩３０Ｉ
ＩＩ／ｋｑの静脈内投与によシ麻酔され、ヘバリシ・ナ
トリウム塩１００（１／＃が静脈内投与されていを刺激
する。乳頭筋の静止張力は１．５　ｆで、乳頭筋の発生
張力は力変位交換鰺な介して測定する。

前中隔動脈の血流量は電磁流量針を用いて測定する。発
生張力および血流量の記録はイシク書き記録計上に記録
し友。この方法の詳細は遠藤と橋本により既に報告され
ている。（ｊｍ、　／、　Ｐｋｇｌｔａｌ。

２１８．１４５９〜１４６３．１９７０）　　供試化合
物はｌＯ〜３０μ４の容量で４秒間で動脈内投与した。

供試化合物の父方作用は薬物投与前の発生張力に対する
％変化として表わした。冠血流量に對する作用は投与前
からの絶対値の変化（ｍｌ／ｖｒｉに）として表わした
。第４表に結果を示す。

第　　４　　表

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ■　一般式 〔式中Ｒ１は、本素腺子、低級アル＋ル基、低級アルケ
   ニル基、低級アシ−ニル基又はフェニル低級アル＋ル基
   を示す。Ｒ２及びＢ３Ｆｉ、−一又は相異なって、置換
   基としてしドロ＋シ基もしくはへ〇ゲシ隷子を有するこ
   とのある低級アル中ル基、又はフェニル環上に置換基と
   して低級アルコ十シ基及びハ０ゲシ豚子なる群から選ば
   れた基を１〜３個もしくは低級アル牛しジジオ＋シ基を
   有することのあるフェニル低級アル＋ル基を示す、ｔえ
   Ｒ２とＲ３と社、これらが結合する窒素原子と共に、酸
   素原子もしくは窒素原子を介し又は介することなく５員
   又は６員Ｏ飽和Ｏ複素環を影成してもよい、該複素環上
   には低級アル＋ル基又はフェニル低級アル中ル基が置換
   していてもよい。また該複素環がじぺ５ジシである口金
   、低級アルケニル基、低級アル−ニル基、シフ０アル牛
   シ基、シフ０アル牛ル低級アル十ル基、低級アシカッイ
   ル基、低級アルカノイル低級アル＋ル基、低級アルコ牛
   ジカルボニル基、低級アルコ＋シカル寧ニル低級アル中
   ル基、）０イル基、低級アシ＋１１４本ニル基、置換基
   としてシアノ基、ベシリイルオ十シ１＆（このフェニル
   環上には低級アルコ＋シ基が１〜５個置換していてもよ
   い）、ハ０ゲシ原子、しドロ牛シ基、低級アルカノイル
   オ中シ基又はカルバ七イル基を１＠有する低級アル中ル
   基、フェニル環上に置換基とじてへロゲシ賑子、低級ア
   ルコキシ基及び低級アＬ＋ル基なる群から選ばれ九基を
   １〜３個もしくは低級アル＋レンジオ＋シ基を有するこ
   とのあるフェノ＋シ低級アル牛ル基、フェニル環上に置
   換基として低級アル＋Ｌ基、低級アルコキシ基、ハ０ゲ
   シ厚子、ニド０基、アミノ基、低級アシカノイルア三ノ
   基及び低級アル牛ジチオ基なる鮮から選ばれた基を１〜
   ３個もしくは低級アルキレジジオ牛シ基を有することの
   あるフェニル低級アル＋ル基、フェニル環上に置換基と
   して低級アル＋Ｌ基、低級アルコキシ基、へ〇ゲシ原子
   ・ニドＯ基及びシアノ基なる群から選ばれ友基を１〜３
   個−Ｌ＜Ｆｉ低級アル＋レジジオ十シ基を有することの
   あるベシリイル基、フェニル環上に置換基として低級ア
   ル十ル基を１〜５１１有することのあるフェニルスル本
   ニル基、フェニル環上に置換基としてしド０牛シ基、へ
   〇ゲシ厚子、低級アル牛ル基、低級アルコキシ基及び低
   級アシカノイシア三ノ基なる群から選ばれた基をｌ〜３
   個有する仁とのあるベシリイル低級アル牛ル基、フェニ
   ル環上に置換基としてハ０ゲシ原子及び低級アルコキシ
   基なる群から選ばれた基を１〜３１ｍ有することのある
   フェニル低級アルケニシカＬネニル基、又はフェニル環
   上に置換基として低級アルコキシ基を１〜３個有する仁
   とのあるフェニル低級アルカノイル基が、じペラジシ０
   ４位に置換していてもよい。を九カルボスチリル骨格０
   ３位と４位とＯ＃２素閲結合社−重結合又は二重結合を
   示す。〕 で表わされる力り軍スチリル誘導体及びその塩。