JPS62162340A - パタ−ン継ぎ合せ精度の評価方法 - Google Patents
パタ−ン継ぎ合せ精度の評価方法Info
- Publication number
- JPS62162340A JPS62162340A JP349286A JP349286A JPS62162340A JP S62162340 A JPS62162340 A JP S62162340A JP 349286 A JP349286 A JP 349286A JP 349286 A JP349286 A JP 349286A JP S62162340 A JPS62162340 A JP S62162340A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ラスター型電子ビーム露光装置の露光フィー
ルド間のパターン継ぎ合せ精度の評価方法に関するもの
である。
ルド間のパターン継ぎ合せ精度の評価方法に関するもの
である。
電子ビーム露光装置にょシ半導体チップを露光する場合
、チップサイズが装置の露光領域よシ大きいと、チップ
パターンを複数のフィールド単位に分割し、１フイール
ドを露光する毎にステージを移動させて隣接するフィー
ルドを露光し、これを繰り返すことにより１チップの露
光を行うようにしている。ここにおいて、露光フィール
ド間のパターン継ぎ合せ精度は、素子の、ｏターン接続
精度、配列精度等に影醤を及ぼす為、プロセス評価の上
で重要となる。
、チップサイズが装置の露光領域よシ大きいと、チップ
パターンを複数のフィールド単位に分割し、１フイール
ドを露光する毎にステージを移動させて隣接するフィー
ルドを露光し、これを繰り返すことにより１チップの露
光を行うようにしている。ここにおいて、露光フィール
ド間のパターン継ぎ合せ精度は、素子の、ｏターン接続
精度、配列精度等に影醤を及ぼす為、プロセス評価の上
で重要となる。
以下、第３図に基き従来例を説明する。同図（ａ）にお
いて、ｌは接続精度を測定しようとする隣接したフィー
ルドＦＬとＦＲとの境界である。そして露光時には、ま
ず左側のフィールドＦＬに、境界１に対し４５０をなす
主尺目盛線２を露光すると共に、更にこの主尺目盛線２
と９０°をなす（境界１とは１３５°をなす）主尺目盛
線３を露光するうなお図中Ｃ１Ｃは、夫々主尺目盛１ｉ
１２，３において、識別し易いように他の線よシ長く描
画された中央の線である。
いて、ｌは接続精度を測定しようとする隣接したフィー
ルドＦＬとＦＲとの境界である。そして露光時には、ま
ず左側のフィールドＦＬに、境界１に対し４５０をなす
主尺目盛線２を露光すると共に、更にこの主尺目盛線２
と９０°をなす（境界１とは１３５°をなす）主尺目盛
線３を露光するうなお図中Ｃ１Ｃは、夫々主尺目盛１ｉ
１２，３において、識別し易いように他の線よシ長く描
画された中央の線である。
次にステージを移動させて、右側のフィールドＦＲの左
端に、上記主尺目盛線２と対をなす副尺目盛線４を、そ
の中央の線Ｃ８が主尺目盛線２の中央のｆ４ Ｃと一直
線になるように露光すると共に、上記主尺す盛線３と対
をなす副尺目盛ａ５を、その中央の線Ｃ８が主尺目盛線
３の中央の線Ｃと一直線になるように露光する。なお、
これら副尺目盛線４．５の方向は、夫々が対をなす主尺
目盛線２．３の方向と一致するように露光する。
端に、上記主尺目盛線２と対をなす副尺目盛線４を、そ
の中央の線Ｃ８が主尺目盛線２の中央のｆ４ Ｃと一直
線になるように露光すると共に、上記主尺す盛線３と対
をなす副尺目盛ａ５を、その中央の線Ｃ８が主尺目盛線
３の中央の線Ｃと一直線になるように露光する。なお、
これら副尺目盛線４．５の方向は、夫々が対をなす主尺
目盛線２．３の方向と一致するように露光する。
さて、これら目盛線は、境界ｌに対して４５″（または
１３５″）の角度を有している。従って同図中）に示す
如く、フィールドＦＬに対してフィールドＦＲのパター
ンが境界１に対して垂直な方向にｂだけずれたとすると
、副尺目盛線Ｐは同図から明らかなように、ずれが全く
ない場合のパターン位置ｙと比較して、あたかもフィー
ルドＦＲの、ｐｊターンが境界ｌと平行に（上方に）ｂ
だけすれた時に観測されるような位置に見える。−・方
副尺目盛線ｑは、ずれが全くない場合の位置ｑ′と比較
して、あたかもフィールドＦＲのノぐターンが境界１と
平行に（下方に）−ｂだけ１−れた時に観測されるよう
な位置に見える。
１３５″）の角度を有している。従って同図中）に示す
如く、フィールドＦＬに対してフィールドＦＲのパター
ンが境界１に対して垂直な方向にｂだけずれたとすると
、副尺目盛線Ｐは同図から明らかなように、ずれが全く
ない場合のパターン位置ｙと比較して、あたかもフィー
ルドＦＲの、ｐｊターンが境界ｌと平行に（上方に）ｂ
だけすれた時に観測されるような位置に見える。−・方
副尺目盛線ｑは、ずれが全くない場合の位置ｑ′と比較
して、あたかもフィールドＦＲのノぐターンが境界１と
平行に（下方に）−ｂだけ１−れた時に観測されるよう
な位置に見える。
従って、フィールドＰＲがフィールドＦＬに対して境界
１と平行な方向にａ１垂直な方向にｂだけずれ九とする
と、主尺目盛線２及び副尺目盛線４によるずれ量の読み
値Ｍ Ｆｉａ 十すであシ、−万主尺目盛線３及び副尺
目盛＃５によるずれ量の読み値Ｎはａ−ｂである。そこ
で露光終了後に、上から求めると共に、垂直な方向のず
れｔｂをｂ＝この従来例によれば、２重露光後の目盛線
位置をＦｔ、み取ってｈｉ）年な計３！ヲする事により
、フィールドの境界１における平行方向、及び垂直方向
に対する接続り度を求める事かでさる（特開昭５７−１
４８３４７号公報参照）。
１と平行な方向にａ１垂直な方向にｂだけずれ九とする
と、主尺目盛線２及び副尺目盛線４によるずれ量の読み
値Ｍ Ｆｉａ 十すであシ、−万主尺目盛線３及び副尺
目盛＃５によるずれ量の読み値Ｎはａ−ｂである。そこ
で露光終了後に、上から求めると共に、垂直な方向のず
れｔｂをｂ＝この従来例によれば、２重露光後の目盛線
位置をＦｔ、み取ってｈｉ）年な計３！ヲする事により
、フィールドの境界１における平行方向、及び垂直方向
に対する接続り度を求める事かでさる（特開昭５７−１
４８３４７号公報参照）。
しかしながら、上記従来例においては、フィール）′間
の接続精度評価用のノにターンが斜め／Ｊ？ターンであ
る為、成形ビーム方式には適するが、例えばＸ軸方向に
電子ビームをスキャンニングさせなからＸ、Ｙ両軸方向
にステージを移動させることによりマスク上にパターン
を描画するラスクー万式の場合には適せず、この為精度
良く評価でさなＬ／Ｉ Ｊ−ＸＡら藺穎づユあス− また、ノぐターン位置のずれ量の測定を目視で行うよう
にしている為、再現性に雛があるという問題もある。
の接続精度評価用のノにターンが斜め／Ｊ？ターンであ
る為、成形ビーム方式には適するが、例えばＸ軸方向に
電子ビームをスキャンニングさせなからＸ、Ｙ両軸方向
にステージを移動させることによりマスク上にパターン
を描画するラスクー万式の場合には適せず、この為精度
良く評価でさなＬ／Ｉ Ｊ−ＸＡら藺穎づユあス− また、ノぐターン位置のずれ量の測定を目視で行うよう
にしている為、再現性に雛があるという問題もある。
更に、フィールドの境界に対する平行方向と垂直方向の
ずれ童の測定は直接測定でない為、上述した精度の点に
ついての他に、計算ミス等紮銹き易いという問題もある
。
ずれ童の測定は直接測定でない為、上述した精度の点に
ついての他に、計算ミス等紮銹き易いという問題もある
。
従って本発明は、以上述べた諸問題を解消し、再現性に
優れ、しかも精度の高い測定に基〈ツクターン継ぎ合せ
鞘′度計価方法を提供することを目的とする。
優れ、しかも精度の高い測定に基〈ツクターン継ぎ合せ
鞘′度計価方法を提供することを目的とする。
本発明に係るノＲターン継ぎ合せ精度評価方法は、まず
Ｘ軸方向（（！ｉ接する２つの露光フィールドの境界に
対する平行方向）については、１つの露光フィールドに
収″′！シ、隣接する２つの露光フィールドの境界に対
し線対称の第１のラインをＸ軸方向に多数配する第１の
パターンと、隣接する２つの露光フィールドにまたがり
、境界に対し線対称で上記第１のラインと交互に多数配
される第２のラインから成る第２のパターンの境界から
半分のパターンとの合成パターンを露光し、次に上記第
２の、５ターンの残シを重ね露光し、この重ね露光によ
り得られるパターンのずれ址を寸法測長機で逐次測定す
ることにより行う。
Ｘ軸方向（（！ｉ接する２つの露光フィールドの境界に
対する平行方向）については、１つの露光フィールドに
収″′！シ、隣接する２つの露光フィールドの境界に対
し線対称の第１のラインをＸ軸方向に多数配する第１の
パターンと、隣接する２つの露光フィールドにまたがり
、境界に対し線対称で上記第１のラインと交互に多数配
される第２のラインから成る第２のパターンの境界から
半分のパターンとの合成パターンを露光し、次に上記第
２の、５ターンの残シを重ね露光し、この重ね露光によ
り得られるパターンのずれ址を寸法測長機で逐次測定す
ることにより行う。
そしてＸ軸方向（境界に対する垂直方向）については、
１つの露光フィールドに収すると共にＸ軸方向に一定の
ひらきを有する第１のセグメント対をＸ軸方向に多数配
した第３のｉＲパターン、上記第１のセグメント対と同
一のひらきを有する第２のセグメント対會境界をはさん
で上記第３のパターンと平行に多数配した第４のパター
ンとを１露光フィールド分露光し、次いで次の露光フィ
ールドに残シの第４のパターンを重ね露光し、第１のセ
グメント対と、継ぎ合わされた第２のセグメント対のひ
らきを寸法測長後で逐次測定することにより行う。
１つの露光フィールドに収すると共にＸ軸方向に一定の
ひらきを有する第１のセグメント対をＸ軸方向に多数配
した第３のｉＲパターン、上記第１のセグメント対と同
一のひらきを有する第２のセグメント対會境界をはさん
で上記第３のパターンと平行に多数配した第４のパター
ンとを１露光フィールド分露光し、次いで次の露光フィ
ールドに残シの第４のパターンを重ね露光し、第１のセ
グメント対と、継ぎ合わされた第２のセグメント対のひ
らきを寸法測長後で逐次測定することにより行う。
以上述べたように、本発明では評価用ノミター／にＸ軸
方向、Ｘ軸方向と平行なパターンを用いている為、ラス
ター１式にも適用できる。
方向、Ｘ軸方向と平行なパターンを用いている為、ラス
ター１式にも適用できる。
またｘＩｋＩＩ、 Ｘ軸方向のずれ量の画定は、夫々個
別測定であシ、しかも寸法測長機による多数個所につい
ての直接測定である為、測定誤差、再現性の低下を抑制
でき、信頼性を高めることができる。
別測定であシ、しかも寸法測長機による多数個所につい
ての直接測定である為、測定誤差、再現性の低下を抑制
でき、信頼性を高めることができる。
以下、本発明の一実施例を第１図及び第２図に基いて詳
細に説明する。なおこれらの図において、露光フィール
ドの境界３との平行方向をＸ軸方向とし、その直交する
方向をＸ軸方向とする。
細に説明する。なおこれらの図において、露光フィール
ドの境界３との平行方向をＸ軸方向とし、その直交する
方向をＸ軸方向とする。
最初、Ｘ軸方向に対する継ぎ合せ精度の評価方法につい
て説明する。第２図は、その評価用、＜ａターンを示す
ものである。即ち同図（ａ）は、１つの露光フィールド
ｌに収まると共に、露光時には論接する２つの露光フィ
ールド１．２の境界３に対し線対称となる、等幅の第１
のライン４ｔ−Ｘ軸方向に多数、等間隔に配した第１の
ノソターン５を示している。また同図（ｂ）は、露光時
において隣接する２つの露光フィールド１．２にまたが
ると共に上記第１のライン４と交互に描画される、等幅
の第２のライン６をＸ軸方向に多数、等間隔に配した第
２のノ々ターン７を示している。
て説明する。第２図は、その評価用、＜ａターンを示す
ものである。即ち同図（ａ）は、１つの露光フィールド
ｌに収まると共に、露光時には論接する２つの露光フィ
ールド１．２の境界３に対し線対称となる、等幅の第１
のライン４ｔ−Ｘ軸方向に多数、等間隔に配した第１の
ノソターン５を示している。また同図（ｂ）は、露光時
において隣接する２つの露光フィールド１．２にまたが
ると共に上記第１のライン４と交互に描画される、等幅
の第２のライン６をＸ軸方向に多数、等間隔に配した第
２のノ々ターン７を示している。
ここにおいて、ステージ（図示せず）′ｆ：図の左方（
負のＸ軸方向）に移動さぞながら電子ビームｆｆｙ＠方
向にスキャンニングしてゆくと、第１図（ａ） Ｋ示す
如く、隣接する２つの露光フィールド１゜２間の境界３
に対し線対称な第１のライン４と、境界３から上半分の
第２のライン６とが交互に描画され、これをｌｆｌ光フ
ィールド分まで繰シ返すと同図（ｂ）のような合成パタ
ーンが得られる。次にステージを元の位置に戻して重ね
露光すると、第２のパターン７の下半分が描１ｉｉｌｌ
され、同図（Ｃ）に示すような継ぎ゛合せのパターンか
形成される。
負のＸ軸方向）に移動さぞながら電子ビームｆｆｙ＠方
向にスキャンニングしてゆくと、第１図（ａ） Ｋ示す
如く、隣接する２つの露光フィールド１゜２間の境界３
に対し線対称な第１のライン４と、境界３から上半分の
第２のライン６とが交互に描画され、これをｌｆｌ光フ
ィールド分まで繰シ返すと同図（ｂ）のような合成パタ
ーンが得られる。次にステージを元の位置に戻して重ね
露光すると、第２のパターン７の下半分が描１ｉｉｌｌ
され、同図（Ｃ）に示すような継ぎ゛合せのパターンか
形成される。
ぞして上述した重ね露光の原に、ステージ移動手段（図
示せず）の歯車のあそび、ガタ等によりＸ軸方向にＭだ
け第２のノツター７７の継ぎ合せにずれが生ずると、こ
のずれ墓は、１０Ｊ図（ｄ）からも明とかできる。なお
、ａ、ｂは重ね露光後の第１及び第２のライン４．６間
の左右の寸法であり、Ｃ１ｄは合成ノＲターンにおける
第１及び第２のライン４．６間の左右の寸法である。
示せず）の歯車のあそび、ガタ等によりＸ軸方向にＭだ
け第２のノツター７７の継ぎ合せにずれが生ずると、こ
のずれ墓は、１０Ｊ図（ｄ）からも明とかできる。なお
、ａ、ｂは重ね露光後の第１及び第２のライン４．６間
の左右の寸法であり、Ｃ１ｄは合成ノＲターンにおける
第１及び第２のライン４．６間の左右の寸法である。
不実施例では、上記ずれ量を寸法測長後を用いて、継ぎ
合せのパターンにおいて逐次測定し、その平均値を以っ
て継ぎ合せ精度の評価を行うようにしている。
合せのパターンにおいて逐次測定し、その平均値を以っ
て継ぎ合せ精度の評価を行うようにしている。
次に、Ｘ軸方向に対する評価方法について説明する。評
価用パターンは、１つの露光フィールドｌ内に収まると
共にＸ軸方向に寸法ａｌのひらきｍ」隔を以った第１の
セグメント対ｌＯを、Ｘａ＋方向に多数、等ルＩＪ隔に
配した第３のノぐターン１１と、露光時において隣接す
る２つの露光フィールド１，２０境界３を同一のひらき
間隔を以ってはさむ第２のセグメント対１２を、Ｘ軸方
向に多数、等間隔（第１のセグメント対１０と同一間隔
）に配した第４のパターン１３とから構成されている。
価用パターンは、１つの露光フィールドｌ内に収まると
共にＸ軸方向に寸法ａｌのひらきｍ」隔を以った第１の
セグメント対ｌＯを、Ｘａ＋方向に多数、等ルＩＪ隔に
配した第３のノぐターン１１と、露光時において隣接す
る２つの露光フィールド１，２０境界３を同一のひらき
間隔を以ってはさむ第２のセグメント対１２を、Ｘ軸方
向に多数、等間隔（第１のセグメント対１０と同一間隔
）に配した第４のパターン１３とから構成されている。
そして最初の露光の際には、同図（ｅ）に示す如く、露
光フィールド１内において中央＃ ８ ｉ−はさんた第
３のパターン１１と、第４のノぐターン１３の下半分が
描画される。次に、ステージｆｚｒ、ｌ蕗光フイ−ルド
分だけ図の下方（負のＸ軸方向）に移動させて重ね露光
を行うと、次の隣接露光フィールド２内には上記第４の
パターン１３の上半分が描画される。なお、９は露光フ
ィールド２の中央線である。
光フィールド１内において中央＃ ８ ｉ−はさんた第
３のパターン１１と、第４のノぐターン１３の下半分が
描画される。次に、ステージｆｚｒ、ｌ蕗光フイ−ルド
分だけ図の下方（負のＸ軸方向）に移動させて重ね露光
を行うと、次の隣接露光フィールド２内には上記第４の
パターン１３の上半分が描画される。なお、９は露光フ
ィールド２の中央線である。
今、重ね露光において継き会ぜにずれが生じ、１？、キ
合わされた第４の、６ターン１３のセグメント対のひら
き間隔がす、になったとすれば、ずれ量ＮはＮ＝＝ａｌ
−ｂｉ から算出される。このＸ軸方向の継ぎ合せ精
度も、上述したＸ軸の場合と同様、寸法測定機を用いて
第１．第２のセグメント対１０゜１２の夫々のひらき間
隔を測定してずれ楡を求め、その平均値で評価する。
合わされた第４の、６ターン１３のセグメント対のひら
き間隔がす、になったとすれば、ずれ量ＮはＮ＝＝ａｌ
−ｂｉ から算出される。このＸ軸方向の継ぎ合せ精
度も、上述したＸ軸の場合と同様、寸法測定機を用いて
第１．第２のセグメント対１０゜１２の夫々のひらき間
隔を測定してずれ楡を求め、その平均値で評価する。
ゆ上詳細に説明したように、本発明によれば、Ｘ軸、Ｙ
軸筒方向の評価の場合とも、１露光フイールドに収まる
パターン（第１．第３のパターン）と隣接する２つのｉ
元フィールドにまたがる・ゼターン（第２．第４のパタ
ーン）とを組み合せたパターンを評価用パターンとして
用い、重ね露光後に最初露光された／９ターンの寸法を
基準として、継ぎ合されたノ々り〜ンの寸法全比較し、
多数個ハ「のずれ量ｆＸ軸、Ｙ軸方向とを個別に寸法ｍ
ｌｉ長機を用いて直接測定するものである。
軸筒方向の評価の場合とも、１露光フイールドに収まる
パターン（第１．第３のパターン）と隣接する２つのｉ
元フィールドにまたがる・ゼターン（第２．第４のパタ
ーン）とを組み合せたパターンを評価用パターンとして
用い、重ね露光後に最初露光された／９ターンの寸法を
基準として、継ぎ合されたノ々り〜ンの寸法全比較し、
多数個ハ「のずれ量ｆＸ軸、Ｙ軸方向とを個別に寸法ｍ
ｌｉ長機を用いて直接測定するものである。
従って、パターンの継ぎ合せのａａｊ定誤差１寸法の読
み取り誤差等を抑制でき、朽抗性並びにａｔ＋ｊ足精度
全精度することができるという効果がめる。
み取り誤差等を抑制でき、朽抗性並びにａｔ＋ｊ足精度
全精度することができるという効果がめる。
また、斜めパターンと異なるＸ軸、Ｘ軸方向に平行なパ
ターンを評価用パターンとして用いて重ね露光を行う為
、ラスタ一方式を始めとする各線露光方式の露光装置に
幅広く適用できるという効果もある。
ターンを評価用パターンとして用いて重ね露光を行う為
、ラスタ一方式を始めとする各線露光方式の露光装置に
幅広く適用できるという効果もある。
第１図は本発明の一実施例の説明図、第２図は本発明の
Ｘ軸方向に対する評価用、ｏターンの組み合せの説明図
、第３図は従来例の説明図である。 １・・・露光フィールド、２・・・隣接露光フィールド
、３・・・境界、４・・・第１のライン、５・・・第１
のノぐ７−ン、６・・・第２のライン、７・・・第２の
パターン、１０・・・第１のセグメント対、１１・・・
第３のパターン、１２・・・第２のセグメント対、１３
・・・第４のパターン。 特許出願人 沖電気工業株式会社 □×平１１１万藺 ↑ □Ｘ牟Φ匁匍 イガ弘円ミーイラ“］ 第 ： 乃ち先日同図 ３ 図
Ｘ軸方向に対する評価用、ｏターンの組み合せの説明図
、第３図は従来例の説明図である。 １・・・露光フィールド、２・・・隣接露光フィールド
、３・・・境界、４・・・第１のライン、５・・・第１
のノぐ７−ン、６・・・第２のライン、７・・・第２の
パターン、１０・・・第１のセグメント対、１１・・・
第３のパターン、１２・・・第２のセグメント対、１３
・・・第４のパターン。 特許出願人 沖電気工業株式会社 □×平１１１万藺 ↑ □Ｘ牟Φ匁匍 イガ弘円ミーイラ“］ 第 ： 乃ち先日同図 ３ 図
Claims (1)
- （１）（ａ）１つの露光フィールドに収まると共に隣接
する２つの露光フィールドの境界に対し線対称の第１の
ラインをＸ軸方向に多数配する第１のパターンと、隣接
する２つの露光フィールドにまたがると共に境界に対し
線対称で上記第１のラインと交互に配される多数の第２
のラインから成る第２のパターンの境界から半分のパタ
ーンとの合成パターンを露光し、次に上記第２のパター
ンの残りを重ね露光して、この重ね露光により得られる
パターンのずれ量を逐次測定することによりＸ軸方向の
パターン継ぎ合せ精度を評価するステップ、（ｂ）１つ
の露光フィールドに収まると共にＹ軸方向に一定のひら
きを有する第１のセグメント対をＸ軸方向に多数配した
第３のパターンと、上記第１のセグメント対と同一のひ
らきを有する第２のセグメント対を境界をはさんで上記
第３のパターンと平行に多数配した第４のパターンとを
１露光フィールド分露光し、次に隣接露光フィールドに
残りの第４のパターンを重ね露光し、上記第１のセグメ
ント対と、継ぎ合わされた第２のセグメント対のひらき
を逐次測定することによりＹ軸方向のパターン継ぎ合せ
精度を評価するステップとを含むことを特徴とするパタ
ーン継ぎ合せ精度の評価方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61003492A JPH07107910B2 (ja) | 1986-01-13 | 1986-01-13 | パタ−ン継ぎ合せ精度の評価方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61003492A JPH07107910B2 (ja) | 1986-01-13 | 1986-01-13 | パタ−ン継ぎ合せ精度の評価方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62162340A true JPS62162340A (ja) | 1987-07-18 |
| JPH07107910B2 JPH07107910B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=11558835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61003492A Expired - Fee Related JPH07107910B2 (ja) | 1986-01-13 | 1986-01-13 | パタ−ン継ぎ合せ精度の評価方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07107910B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07142352A (ja) * | 1993-11-17 | 1995-06-02 | Nec Corp | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 |
| JPH07142351A (ja) * | 1993-11-17 | 1995-06-02 | Nec Corp | 電子ビーム露光装置および電子ビーム偏向方法 |
| JP2012151314A (ja) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Nuflare Technology Inc | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画装置の評価方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5835922A (ja) * | 1981-08-28 | 1983-03-02 | Toshiba Corp | 電子ビ−ム露光装置によるパタ−ン形成方法 |
-
1986
- 1986-01-13 JP JP61003492A patent/JPH07107910B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5835922A (ja) * | 1981-08-28 | 1983-03-02 | Toshiba Corp | 電子ビ−ム露光装置によるパタ−ン形成方法 |
Cited By (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPH07142352A (ja) * | 1993-11-17 | 1995-06-02 | Nec Corp | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 |
| JPH07142351A (ja) * | 1993-11-17 | 1995-06-02 | Nec Corp | 電子ビーム露光装置および電子ビーム偏向方法 |
| JP2012151314A (ja) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Nuflare Technology Inc | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画装置の評価方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07107910B2 (ja) | 1995-11-15 |
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