JPS5983167A - 多層印刷の位置合わせ方法 - Google Patents
多層印刷の位置合わせ方法Info
- Publication number
- JPS5983167A JPS5983167A JP57192387A JP19238782A JPS5983167A JP S5983167 A JPS5983167 A JP S5983167A JP 57192387 A JP57192387 A JP 57192387A JP 19238782 A JP19238782 A JP 19238782A JP S5983167 A JPS5983167 A JP S5983167A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer pattern
- scale
- scales
- vernier
- main
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Methods (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はセラミック基板等にパターンを多層印刷する場
合の印刷位置の位置合わせ方法に関する○セラミック基
板等にパターンを多層に厚膜印刷する場合、従来は、例
えばセラミック基板上に第１層パターンを位置指示マー
カと共に印刷しておき、その後このセラミック基板を印
刷機テーブル上に装着して、その上に第２層ノくターン
用スクリーンマスクを重ね、この第２層ノくターン用ス
クリーンマスクに形成さ肛た位置指示マーカとセラミッ
ク基板上の位置指示マユ力との位置を見較べながら・セ
ラミック基板または第２層ノ（ターン１刊スクリーンマ
スクを移動させることにより位置合わぜする方法が採用
さ扛ていたＯ しかしながら、この従来の位置合わせ方法においては、
セラミック基板上に印刷された位置指示マーカと第２層
パターン用スクリーンマスクに形成さｆ’した位置指示
マーカを同一形状としているため、第１層パターンの印
刷前に位置ず扛が生じた場合でも、この位置ず扛を修正
する移動距離が１ヅ（りにくく、位置合わせが不正確で
時間がかかるという欠点があった。
合の印刷位置の位置合わせ方法に関する○セラミック基
板等にパターンを多層に厚膜印刷する場合、従来は、例
えばセラミック基板上に第１層パターンを位置指示マー
カと共に印刷しておき、その後このセラミック基板を印
刷機テーブル上に装着して、その上に第２層ノくターン
用スクリーンマスクを重ね、この第２層ノくターン用ス
クリーンマスクに形成さ肛た位置指示マーカとセラミッ
ク基板上の位置指示マユ力との位置を見較べながら・セ
ラミック基板または第２層ノ（ターン１刊スクリーンマ
スクを移動させることにより位置合わぜする方法が採用
さ扛ていたＯ しかしながら、この従来の位置合わせ方法においては、
セラミック基板上に印刷された位置指示マーカと第２層
パターン用スクリーンマスクに形成さｆ’した位置指示
マーカを同一形状としているため、第１層パターンの印
刷前に位置ず扛が生じた場合でも、この位置ず扛を修正
する移動距離が１ヅ（りにくく、位置合わせが不正確で
時間がかかるという欠点があった。
捷た、印刷途中で位置ず扛が生じた場合、第２層パター
ン用スクリーンマスク上にペーストがあるため、セラミ
ック基板上の位置指示マーカを第２層パターン用スクリ
ーンマスクを透して見較べることができず、そのためこ
のような位置ず扛の修正は第２層パターンを印刷して第
１層パターンとのす几を見ながら、試行錯誤を繰返して
、セラミック基板捷たは第２層パターン用スクリーンマ
スクを少しずつ移動させることにより行っており、非常
に手間のかかるものであった０ 本発明はこれらの欠点を解決することを目的とし、その
ため、セラミック基板上にある間隔の目盛から成る主尺
を第１層パターンと共に印刷し、この主尺の目盛と間隔
の異なる目盛から成る副尺を主尺と隣接するように第２
層パターン用スクリーンマスクに形成しておき、主尺の
目盛と副尺の目盛とで印刷位置のす扛量を測定して、セ
ラミック基板または第２層パターン用スクリーンマスク
を移動させることにより容易かつ正確に位置合わせを行
えるようにしたことを特燐とする０以下図面によυ本発
明の一実施例を説明すると、第１図において１はセラミ
ック基板、２は第１層パターン、３ａ〜３ｃはある間隔
の目盛から成る主尺で、この主尺３ａ〜３ｃは通常の厚
膜印刷工程によって第１層パターン２と共にセラミック
基板１上に図示しない第１層パターン用スクリーンマス
クにより印刷さ扛ている０尚、ここで主尺３ａ〜３ｃは
第１層パターン２と適当な間隔をあけて位置してｂる。
ン用スクリーンマスク上にペーストがあるため、セラミ
ック基板上の位置指示マーカを第２層パターン用スクリ
ーンマスクを透して見較べることができず、そのためこ
のような位置ず扛の修正は第２層パターンを印刷して第
１層パターンとのす几を見ながら、試行錯誤を繰返して
、セラミック基板捷たは第２層パターン用スクリーンマ
スクを少しずつ移動させることにより行っており、非常
に手間のかかるものであった０ 本発明はこれらの欠点を解決することを目的とし、その
ため、セラミック基板上にある間隔の目盛から成る主尺
を第１層パターンと共に印刷し、この主尺の目盛と間隔
の異なる目盛から成る副尺を主尺と隣接するように第２
層パターン用スクリーンマスクに形成しておき、主尺の
目盛と副尺の目盛とで印刷位置のす扛量を測定して、セ
ラミック基板または第２層パターン用スクリーンマスク
を移動させることにより容易かつ正確に位置合わせを行
えるようにしたことを特燐とする０以下図面によυ本発
明の一実施例を説明すると、第１図において１はセラミ
ック基板、２は第１層パターン、３ａ〜３ｃはある間隔
の目盛から成る主尺で、この主尺３ａ〜３ｃは通常の厚
膜印刷工程によって第１層パターン２と共にセラミック
基板１上に図示しない第１層パターン用スクリーンマス
クにより印刷さ扛ている０尚、ここで主尺３ａ〜３ｃは
第１層パターン２と適当な間隔をあけて位置してｂる。
第２図において、４は第２層パターン用スクリーンマス
クで、この第２層パターン用スクリーンマスク４には第
２層パターン５と、前記主尺３ａ〜３ｃの目盛と異なる
間隔の目盛から盛る副尺６ａ〜６ｃが形成さｎており、
この副尺６ａ〜６ｃは主尺３ａ〜３ｃと隣接するように
位置付けらｎているＯ そこで、位置合わせを行うには、まず第１図のセラミッ
ク基板１を図示しない印刷機テ゛−プル上に装着し、そ
の上に第２図の第２層パターン用スクリーンマスク４を
重ねて概略の位置を合わせ、次いで主尺３ａ〜３ｃと副
尺６ａ〜６ｃによって位置ず乳量を測定する。ここで第
１図に示す矢印入方向のすｎ量は主尺３ａと副尺６ａと
で行い、また矢印Ｂ方向のすし量は主尺３ｂと副尺６ｂ
及び主尺３ｃと副尺６Ｃとで行う。
クで、この第２層パターン用スクリーンマスク４には第
２層パターン５と、前記主尺３ａ〜３ｃの目盛と異なる
間隔の目盛から盛る副尺６ａ〜６ｃが形成さｎており、
この副尺６ａ〜６ｃは主尺３ａ〜３ｃと隣接するように
位置付けらｎているＯ そこで、位置合わせを行うには、まず第１図のセラミッ
ク基板１を図示しない印刷機テ゛−プル上に装着し、そ
の上に第２図の第２層パターン用スクリーンマスク４を
重ねて概略の位置を合わせ、次いで主尺３ａ〜３ｃと副
尺６ａ〜６ｃによって位置ず乳量を測定する。ここで第
１図に示す矢印入方向のすｎ量は主尺３ａと副尺６ａと
で行い、また矢印Ｂ方向のすし量は主尺３ｂと副尺６ｂ
及び主尺３ｃと副尺６Ｃとで行う。
その測定方法を第３図により説明すると、第３図におり
て例えば主尺３ａは１ｗｎ間隔の０〜１０までの目盛で
構成さｎｌ一方副尺６ａはイ。簡間隔のＯ〜１０までの
目盛で構成さｎており、この主尺３ａの目盛と副尺６ａ
の目盛が一致した点を読む。第３図では主尺３ａの５の
目盛と副尺６ａの５の目盛とが一致しており、従ってセ
ラミック基板１に対して第２層パターン用スクリーンマ
スク４が矢印Ａ方向右側に０．５悶ずｎていることが解
る。同様にして主尺３ｂと副尺６ｂ及び主尺３Ｃと副尺
６ｃの各々の目盛の一致点を読むことによシ矢印Ｂ方向
のすし量を測定する。
て例えば主尺３ａは１ｗｎ間隔の０〜１０までの目盛で
構成さｎｌ一方副尺６ａはイ。簡間隔のＯ〜１０までの
目盛で構成さｎており、この主尺３ａの目盛と副尺６ａ
の目盛が一致した点を読む。第３図では主尺３ａの５の
目盛と副尺６ａの５の目盛とが一致しており、従ってセ
ラミック基板１に対して第２層パターン用スクリーンマ
スク４が矢印Ａ方向右側に０．５悶ずｎていることが解
る。同様にして主尺３ｂと副尺６ｂ及び主尺３Ｃと副尺
６ｃの各々の目盛の一致点を読むことによシ矢印Ｂ方向
のすし量を測定する。
このようにして得らｎた矢印Ａ方向及びＢ方向の印刷位
置のす乳量に対応するように、セラミック基板１または
第２層パターン用スクリーンマスク４を印刷機に設けら
ｎている図示しないダイヤルゲージまたけマイクロメー
タで確認しながら縦横に移動して主尺３ａ〜３Ｃの各々
の００目盛と副尺６ａ〜６Ｃの各々のＯの目盛が一致す
るように位置合わせを行う０ そして、位置合わせ後は第２層パターン用スクリーンマ
スク４により通常の厚膜印刷工程でセラミック基板１上
に第２層パターン５と副尺６ａ〜６ｃを印刷する０ 次に、印刷途中で位置ず几が生じた場合は、第４図に示
すようにセラミック基板１上に隣接して印刷さ扛た主尺
３ａ〜３ｂと副尺６ａ〜６ｂにより位置ずｔｌ、量を測
定し、前記と同様に位置ず扛を修正する。
置のす乳量に対応するように、セラミック基板１または
第２層パターン用スクリーンマスク４を印刷機に設けら
ｎている図示しないダイヤルゲージまたけマイクロメー
タで確認しながら縦横に移動して主尺３ａ〜３Ｃの各々
の００目盛と副尺６ａ〜６Ｃの各々のＯの目盛が一致す
るように位置合わせを行う０ そして、位置合わせ後は第２層パターン用スクリーンマ
スク４により通常の厚膜印刷工程でセラミック基板１上
に第２層パターン５と副尺６ａ〜６ｃを印刷する０ 次に、印刷途中で位置ず几が生じた場合は、第４図に示
すようにセラミック基板１上に隣接して印刷さ扛た主尺
３ａ〜３ｂと副尺６ａ〜６ｂにより位置ずｔｌ、量を測
定し、前記と同様に位置ず扛を修正する。
尚、上述した実施例では第１層パターン２及び第２層パ
ターン５の周囲三方に主尺３ａ〜３ｃ及び副尺６ａ〜６
ｃを設けているが、主尺３ ａ ＊ ３ ｂと副尺６ａ
、６ｂだけでも位置合わせを行うことは可能であり、ま
た四方すべてに主尺と副尺とを設けｎばよシ良いことは
熱論である。
ターン５の周囲三方に主尺３ａ〜３ｃ及び副尺６ａ〜６
ｃを設けているが、主尺３ ａ ＊ ３ ｂと副尺６ａ
、６ｂだけでも位置合わせを行うことは可能であり、ま
た四方すべてに主尺と副尺とを設けｎばよシ良いことは
熱論である。
以上説明したように本発明は、セラミック基板上に第１
層パターンと共に印刷さｎた主尺と、第２層パターン用
スクリーンマスク上に第２層パターンと共に形成さｎた
副尺とにより、第２層パターン印刷前の第１層パターン
と第２層パターンとの位置ず乳量を数値的に測定できる
ため、位置ず扛の修正をダイヤルゲージまたはマイクロ
メータ等でセラミック基板または第２層パターン用スク
リーンマスクの移動距離を確認しながら容易かつ正確に
行うことができるという効果がある。
層パターンと共に印刷さｎた主尺と、第２層パターン用
スクリーンマスク上に第２層パターンと共に形成さｎた
副尺とにより、第２層パターン印刷前の第１層パターン
と第２層パターンとの位置ず乳量を数値的に測定できる
ため、位置ず扛の修正をダイヤルゲージまたはマイクロ
メータ等でセラミック基板または第２層パターン用スク
リーンマスクの移動距離を確認しながら容易かつ正確に
行うことができるという効果がある。
また、印刷途中で位置ずれが生じた場合でも、セラミッ
ク基板上に印刷された主尺と副尺とにより即座に位置ず
れ量を測定できるので、第２層パターン用スクリーンマ
スク上にペーストがあってもセラミツ、り基板または第
２層、パターン用スクリーンマスクの移動距離を数値的
に得ることができ、短時間で容易に位置ず扛の修正を行
うことが可能となり、正確な位置合わせができるという
効果もあるので、厚膜多層基板等の厚膜印刷の位置合わ
せ方法として利用することができる。
ク基板上に印刷された主尺と副尺とにより即座に位置ず
れ量を測定できるので、第２層パターン用スクリーンマ
スク上にペーストがあってもセラミツ、り基板または第
２層、パターン用スクリーンマスクの移動距離を数値的
に得ることができ、短時間で容易に位置ず扛の修正を行
うことが可能となり、正確な位置合わせができるという
効果もあるので、厚膜多層基板等の厚膜印刷の位置合わ
せ方法として利用することができる。
第１図は第１層パターン及び主尺を印刷したセラミック
基板の一例を示す平面図、第２図は第２層パターン及び
副尺を形成した第２層パターン用スクリーンマスクの一
例を示す平面図、第３図は本発明の位置合わせ方法に使
用さｎる主尺と副尺による位置ず乳量の測定方法の一例
を示す拡大図。 第４図は第１図のセラミック基板上に第２層パターン及
び副尺を印刷した状態を示す平面図である０１・・・セ
ラミック基板 ２・・・第１層パターン３ａ〜３ｃ・・
・主尺 ４・・・第２層パターン用スクリーンマスク
５・・・第２層パターン ６ａ〜６ｃ・・・副尺 特許 出 願人 沖電気工業株式会社代理人 弁理
士 金 倉 喬 二麺３−
基板の一例を示す平面図、第２図は第２層パターン及び
副尺を形成した第２層パターン用スクリーンマスクの一
例を示す平面図、第３図は本発明の位置合わせ方法に使
用さｎる主尺と副尺による位置ず乳量の測定方法の一例
を示す拡大図。 第４図は第１図のセラミック基板上に第２層パターン及
び副尺を印刷した状態を示す平面図である０１・・・セ
ラミック基板 ２・・・第１層パターン３ａ〜３ｃ・・
・主尺 ４・・・第２層パターン用スクリーンマスク
５・・・第２層パターン ６ａ〜６ｃ・・・副尺 特許 出 願人 沖電気工業株式会社代理人 弁理
士 金 倉 喬 二麺３−
Claims (1)
- １、 基板上に第１層パターンと共にある間隔の目盛か
ら成る主尺全印刷し、該基板上に第２層パターンを印刷
するための第２層パターン用スクリーンマスクには前記
主尺の目盛と異なる間隔の目盛から成る副尺を形成して
おき、前記基板上に第２層パターン用スクリーンマスク
を重ねたときの主尺と副尺との目盛の位置、または第２
層パターンと共に副尺を基板上に印刷したときの主尺と
副尺との目盛の位置により印刷位置のすｎ量を測定して
、基板または第２層パターン用スクリーンマスクをず扛
量だけ移動させることを特徴とする多層印刷の位置合わ
ぜ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57192387A JPS5983167A (ja) | 1982-11-04 | 1982-11-04 | 多層印刷の位置合わせ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57192387A JPS5983167A (ja) | 1982-11-04 | 1982-11-04 | 多層印刷の位置合わせ方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5983167A true JPS5983167A (ja) | 1984-05-14 |
Family
ID=16290446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57192387A Pending JPS5983167A (ja) | 1982-11-04 | 1982-11-04 | 多層印刷の位置合わせ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5983167A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6184649A (ja) * | 1984-10-02 | 1986-04-30 | Rohm Co Ltd | ホトマスク |
| US4869165A (en) * | 1986-07-04 | 1989-09-26 | Fabrication D'ouvrages De Dames | Silkscreen process for producing a design and proximate inscription |
| US5388517A (en) * | 1991-09-24 | 1995-02-14 | Levien; Raphael L. | Method and apparatus for automatic alignment of objects and register mark for use therewith |
| US5740733A (en) * | 1996-04-19 | 1998-04-21 | Schablonentechnik Kufstein Aktiengesellschaft | Method for producing a half-tone stencil including reference structures for assessing accuracy of printing with the stencil |
| WO2003051647A1 (en) * | 2001-12-18 | 2003-06-26 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Scaling factor tools |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5147028A (ja) * | 1974-10-21 | 1976-04-22 | Fukuda Metal Foil Powder | Dodenseitoryo |
| JPS5425620A (en) * | 1977-07-29 | 1979-02-26 | Hitachi Denshi Ltd | Automatic chroma control system using video pilot signal |
-
1982
- 1982-11-04 JP JP57192387A patent/JPS5983167A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5147028A (ja) * | 1974-10-21 | 1976-04-22 | Fukuda Metal Foil Powder | Dodenseitoryo |
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| US5402726A (en) * | 1991-09-24 | 1995-04-04 | Levien; Raphael L. | Register mark |
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| CN1115246C (zh) * | 1996-04-19 | 2003-07-23 | 库夫施泰因模板技术股份公司 | 半色调模版及其制造方法和设备 |
| WO2003051647A1 (en) * | 2001-12-18 | 2003-06-26 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Scaling factor tools |
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