JPS62161793A - 新規セフアロスポリン誘導体，その製法およびそれらを有効成分とする抗菌剤 - Google Patents
新規セフアロスポリン誘導体，その製法およびそれらを有効成分とする抗菌剤Info
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- JPS62161793A JPS62161793A JP60147359A JP14735985A JPS62161793A JP S62161793 A JPS62161793 A JP S62161793A JP 60147359 A JP60147359 A JP 60147359A JP 14735985 A JP14735985 A JP 14735985A JP S62161793 A JPS62161793 A JP S62161793A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野１
本発明は一般式（Ｉ）
（式中、Ｒ１は水素原子またはアミン保護基を表し、Ｒ
２およびＲ３は水素原子、カルボキシル基。
２およびＲ３は水素原子、カルボキシル基。
保護されたカルボキシル基またはメチル基を表し。
Ｒ４は水素原子またはカルボキシル保護基を表し。
Ｘは基
を表し、Ｒ５は水酸基または保護された水酸基を表し、
Ｒ６は水素原子、メチル基、塩素原子、イソプロピル基
、水酸基、保護された水酸基、カルボキシル基または保
護されたカルボキシル基を表し、Ｒフは水素原子、アセ
トキシ基、水酸基または保護された水酸基を表し Ｒ８
およびＲ９は水素原子、アセトキシ基、アミノ基、保護
されたアミノ基、水酸基または保護された水酸基を表し
。
Ｒ６は水素原子、メチル基、塩素原子、イソプロピル基
、水酸基、保護された水酸基、カルボキシル基または保
護されたカルボキシル基を表し、Ｒフは水素原子、アセ
トキシ基、水酸基または保護された水酸基を表し Ｒ８
およびＲ９は水素原子、アセトキシ基、アミノ基、保護
されたアミノ基、水酸基または保護された水酸基を表し
。
Ｙは基
を表し、ＲＩＧは水素原子、カルボキシル基、保護され
たカルボキシル基、ヒドロキシスルホニル基または保護
されたヒドロキシスルホニル基を表し。
たカルボキシル基、ヒドロキシスルホニル基または保護
されたヒドロキシスルホニル基を表し。
Ｒ１１は水素原子、メチル基、カルボキシル基または保
護されたカルボキシル基を表し１点線を含む結合は単結
合または二重結合を表し、波線の結合は点線を含む結合
が二重結合の時アンチ（ａ ｎ ｔｉ）形またはシン（
ｓｙｎ）形の結合を表し、ａ。
護されたカルボキシル基を表し１点線を含む結合は単結
合または二重結合を表し、波線の結合は点線を含む結合
が二重結合の時アンチ（ａ ｎ ｔｉ）形またはシン（
ｓｙｎ）形の結合を表し、ａ。
ｂおよびＣはＯまたは１の整数を表す。）で表されるセ
ファロスポリン誘導体、その塩、その化合物および塩の
水和物、その製造中間体ならびにこれらの製造法に関す
る。本発明はさらに該セファロスポリン誘導体を倉荷す
ることを特徴とする感染症の治療および予防のための製
剤に関する。
ファロスポリン誘導体、その塩、その化合物および塩の
水和物、その製造中間体ならびにこれらの製造法に関す
る。本発明はさらに該セファロスポリン誘導体を倉荷す
ることを特徴とする感染症の治療および予防のための製
剤に関する。
「従来の技術」
セファロスポリン誘導体の開発はめざましく。
ダラム陰性菌に対する抗菌力においては優れたものが開
発されている。しかしながら、これらセファロスポリン
誘導体のダラム陽性菌に対する抗菌力は概して弱く、ま
た、ダラム陽性菌感染症の治療に繁用されてきたセファ
ロスポリン系抗生物質に耐性を示すダラム陽性菌（例え
ば、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌、ＭＲ３Ａ）が年々
増加の傾向にある。
発されている。しかしながら、これらセファロスポリン
誘導体のダラム陽性菌に対する抗菌力は概して弱く、ま
た、ダラム陽性菌感染症の治療に繁用されてきたセファ
ロスポリン系抗生物質に耐性を示すダラム陽性菌（例え
ば、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌、ＭＲ３Ａ）が年々
増加の傾向にある。
「発明が解決しようとする問題点ｊ
この様な背景に鑑み２本発明者らは、ダラム陰性菌、特
に難治性感染症の起炎菌として分離頻度の高い緑膿菌、
セラチアに対しても充分な抗菌力を保持し、且つダラム
陽性菌にも強い抗菌力を有するセファロスポリン誘導体
を開発するために鋭意研究を重ねた結果、一般式（Ｉ）
で表されるセファロスポリン誘導体が、これらの条件を
具備することを見いだし１本発明を完成した。
に難治性感染症の起炎菌として分離頻度の高い緑膿菌、
セラチアに対しても充分な抗菌力を保持し、且つダラム
陽性菌にも強い抗菌力を有するセファロスポリン誘導体
を開発するために鋭意研究を重ねた結果、一般式（Ｉ）
で表されるセファロスポリン誘導体が、これらの条件を
具備することを見いだし１本発明を完成した。
「問題点を解決するための手段」
本発明は、セファスポリン骨格の３位置換基としてＳ−
トリアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン環または１，３．
４−チアジアゾロ（３，２−ａ）ピリミジン環を有する
置換基を選択し、また７位置換基として、ヒドロキシイ
ミノ構造、アリルカルボニルオキシイミノ構造、カルボ
キシアルキルオキシイミノ構造、アリルカルボキシアル
キルオキシイミノ構造、アリルアミノカルボニルアルキ
ルオキシイミノ構造またはアリルカルボニルアミノ構造
を有する置換基を選択したことに基づく。
トリアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン環または１，３．
４−チアジアゾロ（３，２−ａ）ピリミジン環を有する
置換基を選択し、また７位置換基として、ヒドロキシイ
ミノ構造、アリルカルボニルオキシイミノ構造、カルボ
キシアルキルオキシイミノ構造、アリルカルボキシアル
キルオキシイミノ構造、アリルアミノカルボニルアルキ
ルオキシイミノ構造またはアリルカルボニルアミノ構造
を有する置換基を選択したことに基づく。
一般式（Ｉ）で表される本発明のセファロスポリン誘導
体において、７位置換基のアミノチアゾ（但し１式中Ｒ
１，Ｒ２，Ｒ３，Ｘ、ａ、ｂ、ｃ。
体において、７位置換基のアミノチアゾ（但し１式中Ｒ
１，Ｒ２，Ｒ３，Ｘ、ａ、ｂ、ｃ。
点線の結合および波線の結合は前記と同一の怠味を有す
る。） 互変異性の関係にあることが知られており、一般に両者
は同一物質として扱われているため２本発明においては
９両異性体を含めてアミノチアゾール部分として表して
いる。従って、一般式（Ｉ）で表される本発明化合物は
、この両互変異性をも包含するものである。
る。） 互変異性の関係にあることが知られており、一般に両者
は同一物質として扱われているため２本発明においては
９両異性体を含めてアミノチアゾール部分として表して
いる。従って、一般式（Ｉ）で表される本発明化合物は
、この両互変異性をも包含するものである。
一般式（Ｉ）で表される化合物の塩の例としては次のも
のが挙げられる。たとえば、ナトリウム塩、カリウム塩
などのアルカリ金属塩、カルシウム塩などのアルカリ土
類金属塩、アンモニウム塩。
のが挙げられる。たとえば、ナトリウム塩、カリウム塩
などのアルカリ金属塩、カルシウム塩などのアルカリ土
類金属塩、アンモニウム塩。
ベンジルアミン塩、ジエチルアミン塩などの有機塩基と
の塩、およびアルギニン塩、リジン塩などの製薬掌上許
容される塩が挙げられる。該化合物の塩はモノ塩、ジ塩
またはトリ塩であっても良く。
の塩、およびアルギニン塩、リジン塩などの製薬掌上許
容される塩が挙げられる。該化合物の塩はモノ塩、ジ塩
またはトリ塩であっても良く。
モノ塩またはジ塩の場合は、セフェム骨格の２位カルボ
キシル基、トリアゾロピリミジン環のカルボキシル基、
セフェム骨格７位置換基のカルボキシル基のいずれの塩
であっても良い。
キシル基、トリアゾロピリミジン環のカルボキシル基、
セフェム骨格７位置換基のカルボキシル基のいずれの塩
であっても良い。
また一般式（１）の化合物は、製薬掌上許容されるを機
酸または無機酸との酸付加物を形成することができる。
酸または無機酸との酸付加物を形成することができる。
これらの塩の例としては、塩酸塩。
臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩、などの鉱酸塩。
また酢酸塩、クエン酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、安
息香酸塩、アスコルビン酸塩、エタンスルホン酸塩、ト
ルエンスルホン酸塩などの有機酸塩が挙げられる。該化
合物の塩はモノ塩、またはジ塩であっても良い。モノ塩
の場合はセフェム骨格３位置換基トリアゾロピリミジン
環が塩を形成していても、セフェム骨格７位置換基に含
まれるアミノチアゾール部分が塩を形成していても良い
。
息香酸塩、アスコルビン酸塩、エタンスルホン酸塩、ト
ルエンスルホン酸塩などの有機酸塩が挙げられる。該化
合物の塩はモノ塩、またはジ塩であっても良い。モノ塩
の場合はセフェム骨格３位置換基トリアゾロピリミジン
環が塩を形成していても、セフェム骨格７位置換基に含
まれるアミノチアゾール部分が塩を形成していても良い
。
一般式＜ｒ）で表される本発明化合物は、ｓｙ（式中Ｒ
１，Ｒ２，Ｒ３，Ｘ、ａ、ｂ、ｃは前記と同一の意味を
有する。）として、またはａｎｔ（式中Ｒ１，Ｒ２，Ｒ
３，Ｘ、ａ、ｂ、ｃは前記と同一の意味を有する。）と
して、またはこれら異性体の混合物として存在しうる。
１，Ｒ２，Ｒ３，Ｘ、ａ、ｂ、ｃは前記と同一の意味を
有する。）として、またはａｎｔ（式中Ｒ１，Ｒ２，Ｒ
３，Ｘ、ａ、ｂ、ｃは前記と同一の意味を有する。）と
して、またはこれら異性体の混合物として存在しうる。
とりわけｓｙｎ異性体が好ましく、ｓｙｎ異性体が主要
部分を占めている混合物もまた好ましい。
部分を占めている混合物もまた好ましい。
一般式（Ｉ）で表される本発明化合物において。
アミノ保護基としては、たとえばホルミル、アセチル、
クロロアセチル、ｔ−ブトキシカルボニル。
クロロアセチル、ｔ−ブトキシカルボニル。
ベンジルオキシカルボニル等のアシル基、あるいはベン
ジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル等のアラ
ルキル基が挙げられる。カルボキシ保護基としては、エ
ステル化によるカルボキシの保護が挙げられ、ここでエ
ステルとしては２例えばメチルエステル、エチルエステ
ル等のアルキルエステル、あるいはベンジルエステル、
ジフェニルメチルエステル、トリフェニルメチルエステ
ル等のアラルキルエステルが挙げられる。またヒドロキ
シ保護基としては２例えばベンジル等のアラルキル基、
あるいはメトキシメチル、１−メトキシ−１−メチルエ
チル等のアルコキシアルキル基が挙げられる。これら保
護基のなかでも、各種の操作、保護体の合成、脱保護の
条件等を総括的に考えると、アミノ保護基としてトリフ
ェニルメチル基、カルボキシ保護基としてジフェニルメ
チルエステル、ヒドロキシ保護基として１−メトキシ−
１−メチルエチル基の使用が好ましい。
ジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル等のアラ
ルキル基が挙げられる。カルボキシ保護基としては、エ
ステル化によるカルボキシの保護が挙げられ、ここでエ
ステルとしては２例えばメチルエステル、エチルエステ
ル等のアルキルエステル、あるいはベンジルエステル、
ジフェニルメチルエステル、トリフェニルメチルエステ
ル等のアラルキルエステルが挙げられる。またヒドロキ
シ保護基としては２例えばベンジル等のアラルキル基、
あるいはメトキシメチル、１−メトキシ−１−メチルエ
チル等のアルコキシアルキル基が挙げられる。これら保
護基のなかでも、各種の操作、保護体の合成、脱保護の
条件等を総括的に考えると、アミノ保護基としてトリフ
ェニルメチル基、カルボキシ保護基としてジフェニルメ
チルエステル、ヒドロキシ保護基として１−メトキシ−
１−メチルエチル基の使用が好ましい。
一般式（Ｉ）で表される本発明化合物は一般に以下の様
に製造することができる。すなわち。
に製造することができる。すなわち。
方法Ａ
一般式（ＩＩＩ）
（式中Ｒ４およびＹは前記と同一の意味を有する。
）で表される化合物と、一般式（ＩＶ）（式中Ｒ１，Ｒ
２，Ｒ３，Ｘ、ａ、ｂ、ｃ、点線を含む結合および波線
の結合は前記と同一の意味を有する。）で表される化合
物とを反応させることによって製造することができる。
２，Ｒ３，Ｘ、ａ、ｂ、ｃ、点線を含む結合および波線
の結合は前記と同一の意味を有する。）で表される化合
物とを反応させることによって製造することができる。
本製造法において、一般式（１）で表される化合物は、
所望ならばそのアミン基を適当な反応性誘導体とするこ
ともできる。
所望ならばそのアミン基を適当な反応性誘導体とするこ
ともできる。
また一般式（ＴＶ）で表される化合物、すなわち酸と、
適当な縮合剤１例えば、Ｎ、Ｎ−ジシクロへキシルカル
ボジイミド、またはＮ−エチル−５−フェニル−イソキ
サゾリウム−３゛ −スルホネート等を用いて、一般式
（Ｉ［ｒ）の化合物と反応させることもでき、またこの
酸を適当な反応性誘導体とした後、一般式（ＩＩ［）の
化合物と反応させることもできる。
適当な縮合剤１例えば、Ｎ、Ｎ−ジシクロへキシルカル
ボジイミド、またはＮ−エチル−５−フェニル−イソキ
サゾリウム−３゛ −スルホネート等を用いて、一般式
（Ｉ［ｒ）の化合物と反応させることもでき、またこの
酸を適当な反応性誘導体とした後、一般式（ＩＩ［）の
化合物と反応させることもできる。
適当な反応性誘導体としては、酸ハライド（例えば酸ク
ロライド）、アジド、酸無水物、活性エステル（例えば
Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドエステル）および活性ア
ミド（例えばイミダゾリド。
ロライド）、アジド、酸無水物、活性エステル（例えば
Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドエステル）および活性ア
ミド（例えばイミダゾリド。
トリアゾリド）などの例を挙げることができる。
一般式（ＩＩＩ）の化合物と一般式（ＩＶ）の化合物と
の反応は、一般的には不活性溶媒１例えばジオキサン、
テトラヒドロフラン、アセトニトリル。
の反応は、一般的には不活性溶媒１例えばジオキサン、
テトラヒドロフラン、アセトニトリル。
クロロホルム、塩化メチレン、酢酸エチル、ジメチルホ
ルムアミド等の有機溶媒、また所望によって水あるいは
水と有機溶媒の混液中で、好ましくは脱酸剤の存在下に
実施される。脱酸剤としては。
ルムアミド等の有機溶媒、また所望によって水あるいは
水と有機溶媒の混液中で、好ましくは脱酸剤の存在下に
実施される。脱酸剤としては。
有機溶媒系においては、トリエチルアミン、ジエチルア
ニリン等が、水系においては水性アルカリ。
ニリン等が、水系においては水性アルカリ。
好ましくは水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸カリウム等が用いられる。
酸カリウム等が用いられる。
これらの反応は約−３０℃ないし室温で行い得るが、−
１０℃ないし１０℃で実施するのが好ましい。
１０℃ないし１０℃で実施するのが好ましい。
この様にして得られた一般式（１）で表されるセファロ
スポリン誘導体は、所望ならばその保護基を脱離するこ
とができる。
スポリン誘導体は、所望ならばその保護基を脱離するこ
とができる。
本製造法で使用する一般式（ＩＩＩ）で表される化合物
は、自体公知の化合物である７−アミノ−セファロスポ
ラン酸と、２−カルボキシ−７−メルカブトー５−メチ
ル−３−トリアゾロ（１，５−ａ〕ピリミジンあるいは
これらのカルボキシル基保護誘導体（特願昭５８−２４
７２５１号）とを反応させることにより製造できる。本
反応は、アルコール、ジメチルホルムアミド、アセトニ
トリル等の有機溶媒あるいは水を溶媒として実施できる
。有機溶媒を使用して実施する場合には、三弗化ホウ素
・エーテル錯体等のルイス酸の存在下に行うのが好まし
い。また水を溶媒として使用する場合には、所定量の水
性アルカリ （例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウ
ム等）の存在下、また更にはｐＨ６，０〜７．８の緩衝
液を溶媒として使用しうる。本反応は約４０℃〜８０℃
の範囲で行い得るが、好ましくは約５５℃〜６５℃で実
施される。
は、自体公知の化合物である７−アミノ−セファロスポ
ラン酸と、２−カルボキシ−７−メルカブトー５−メチ
ル−３−トリアゾロ（１，５−ａ〕ピリミジンあるいは
これらのカルボキシル基保護誘導体（特願昭５８−２４
７２５１号）とを反応させることにより製造できる。本
反応は、アルコール、ジメチルホルムアミド、アセトニ
トリル等の有機溶媒あるいは水を溶媒として実施できる
。有機溶媒を使用して実施する場合には、三弗化ホウ素
・エーテル錯体等のルイス酸の存在下に行うのが好まし
い。また水を溶媒として使用する場合には、所定量の水
性アルカリ （例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウ
ム等）の存在下、また更にはｐＨ６，０〜７．８の緩衝
液を溶媒として使用しうる。本反応は約４０℃〜８０℃
の範囲で行い得るが、好ましくは約５５℃〜６５℃で実
施される。
この様にして得られた一般式（１）で表される化合物は
、所望ならばその保護基を脱離することができる。
、所望ならばその保護基を脱離することができる。
方法Ｂ
（式中Ｒ１，Ｒ４，Ｙ、点線の結合および波線の結合は
前記と同一の意味を有し、Ｚは水素原子または水酸基を
表す。）で表される化合物と、一般式（Ｖｌ） （式中、Ｒ２，Ｒ３，Ａ、Ｘ、ｂ、ｃは前記と同一の意
味を有する。）で表される化合物とを反応させることに
よって製造することができる。 本製造法において、一
般式（ＶＩ）で表される化合物がアルコールの場合、こ
れを適当な縮合剤１例えば、トリフェニルホスフィンお
よびアゾジカルボン酸エチル等を用いて一般式（Ｖ）の
化合物と反応させるか、あるいは一般式（Ｖｒ）で表さ
れる化合物を適当な反応性誘導体２例えばトシレートと
した後、一般式（Ｖ）の化合物と反応させることもでき
るが、殊にその反応性、操作性から・般式（Ｖｌ）で表
される化合物はハライドであることが望ましく、これを
一般式（Ｖ）の化合物と反応させる方法が好ましい。
前記と同一の意味を有し、Ｚは水素原子または水酸基を
表す。）で表される化合物と、一般式（Ｖｌ） （式中、Ｒ２，Ｒ３，Ａ、Ｘ、ｂ、ｃは前記と同一の意
味を有する。）で表される化合物とを反応させることに
よって製造することができる。 本製造法において、一
般式（ＶＩ）で表される化合物がアルコールの場合、こ
れを適当な縮合剤１例えば、トリフェニルホスフィンお
よびアゾジカルボン酸エチル等を用いて一般式（Ｖ）の
化合物と反応させるか、あるいは一般式（Ｖｒ）で表さ
れる化合物を適当な反応性誘導体２例えばトシレートと
した後、一般式（Ｖ）の化合物と反応させることもでき
るが、殊にその反応性、操作性から・般式（Ｖｌ）で表
される化合物はハライドであることが望ましく、これを
一般式（Ｖ）の化合物と反応させる方法が好ましい。
一般式（Ｖ）の化合物と一般式（Ｖｌ）の化合物との反
応は、一般的には不活性溶媒２例えばジオキサン、テト
ラヒドロフラン、アセトニトリル。
応は、一般的には不活性溶媒２例えばジオキサン、テト
ラヒドロフラン、アセトニトリル。
クロロホルム、塩化メチレン、酢酸エチル、ジメチルホ
ルムアミド等の有機溶媒、また所望によって水あるいは
水と有機溶媒の混液中で、好ましくは脱酸剤の存在下に
実施される。脱酸剤としては。
ルムアミド等の有機溶媒、また所望によって水あるいは
水と有機溶媒の混液中で、好ましくは脱酸剤の存在下に
実施される。脱酸剤としては。
有機溶媒系においては、トリエチルアミン、ジエチルア
ニリン等が、水系においては水性アルカリ。
ニリン等が、水系においては水性アルカリ。
好ましくは水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸カリウム等が用いられる。
酸カリウム等が用いられる。
これらの反応は約−３０℃ないし室温で行い得るが、−
１０℃ないし１０℃で実施するのが好ましい。
１０℃ないし１０℃で実施するのが好ましい。
この様にして得られた一般式（１）で表されるセファロ
スポリン誘導体は、所望ならばその保護基を脱離するこ
とができる。本製造法で使用する一般式（Ｖ）で表され
る化合物は、特願昭５９−２４９１９３号に記載された
製造法に従って合成することができる。
スポリン誘導体は、所望ならばその保護基を脱離するこ
とができる。本製造法で使用する一般式（Ｖ）で表され
る化合物は、特願昭５９−２４９１９３号に記載された
製造法に従って合成することができる。
一般式（ｒＶ）で表される本発明化合物は、一般に以下
のようにして製造することができる。すなわち。
のようにして製造することができる。すなわち。
方法Ｃ
自体公知の化合物である一般式（■）
（式中ＲＩＲ４，Ｚ、点線を含む結合および波線の結合
は前記と同一の意味を有する。）で表される化合物と、
一般式（Ｖｌ） （式中、Ｒ’２．Ｒ３，Ｘ、ｂ、ｃは前記と同一の意味
を有する。）で表される化合物とを反応させることによ
って製造できる。 本製造法において一般式（Ｗ）で表
される化合物がアルコールの場合、適当な縮合剤１例え
ば、トリフェニルホスフィンおよびアゾジカルボン酸エ
チル等を用いて一般式（■）の化合物と反応させるか、
あるいは一般式（Ｖｌ）で表される化合物を適当な反応
性誘導体２例えばトシレートとした後、一般式（■）の
化合物と反応させることもできるが、殊にその反応性、
操作性から一般式（Ｖｌ）で表される化合物はハライド
であることが望ましく、これを一般式（■）の化合物と
反応させる方法が好ましい。
は前記と同一の意味を有する。）で表される化合物と、
一般式（Ｖｌ） （式中、Ｒ’２．Ｒ３，Ｘ、ｂ、ｃは前記と同一の意味
を有する。）で表される化合物とを反応させることによ
って製造できる。 本製造法において一般式（Ｗ）で表
される化合物がアルコールの場合、適当な縮合剤１例え
ば、トリフェニルホスフィンおよびアゾジカルボン酸エ
チル等を用いて一般式（■）の化合物と反応させるか、
あるいは一般式（Ｖｌ）で表される化合物を適当な反応
性誘導体２例えばトシレートとした後、一般式（■）の
化合物と反応させることもできるが、殊にその反応性、
操作性から一般式（Ｖｌ）で表される化合物はハライド
であることが望ましく、これを一般式（■）の化合物と
反応させる方法が好ましい。
一般式（Ｖｌ）の化合物と一般式（■）の化合物との反
応は、一般的には不活性溶媒１例えばジオキサン、テト
ラヒドロフラン、アセトニトリル。
応は、一般的には不活性溶媒１例えばジオキサン、テト
ラヒドロフラン、アセトニトリル。
クロロホルム、塩化メチレン、酢酸エチル、ジメチルホ
ルムアミド等の有機溶媒、また所望によって水あるいは
水と有機溶媒の混液中で、好ましくは脱酸剤の存在下に
実施される。脱酸剤としては。
ルムアミド等の有機溶媒、また所望によって水あるいは
水と有機溶媒の混液中で、好ましくは脱酸剤の存在下に
実施される。脱酸剤としては。
有機溶媒系においては、トリエチルアミン、ジエチルア
ニリン等が、水系においては水性アルカリ。
ニリン等が、水系においては水性アルカリ。
好ましくは水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸カリウム等が用いられる。
酸カリウム等が用いられる。
これらの反応は約−３０℃ないし室温で行い得るが、−
１０℃ないし１０℃で実施するのが好ましい。
１０℃ないし１０℃で実施するのが好ましい。
方法り
自体公知の化合物である一般式（■）
（式中、Ｒ４，Ｚ、点線を含む結合および波線の結合は
前記と同一の意味を表し、Ｂはハロゲン原子を表す。）
で表される化合物と、一般式（ＶＴ）（式中、Ｒ２，Ｒ
３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７゜Ｒ８，Ｒ９，Ａ、Ｘ、ａ
、ｂは前記と同一の意味を有する。）で表される化合物
とを、前述と同様の方法で反応させた後、一般式（ＩＸ
）ＲＮＨ−Ｃ−Ｎｔ−ｔ２ （ＩＸ）（式中、Ｒ
１は前記と同一の意味を有する。）で表されるチオ尿素
誘導体と縮合させることにより製造できる。
前記と同一の意味を表し、Ｂはハロゲン原子を表す。）
で表される化合物と、一般式（ＶＴ）（式中、Ｒ２，Ｒ
３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７゜Ｒ８，Ｒ９，Ａ、Ｘ、ａ
、ｂは前記と同一の意味を有する。）で表される化合物
とを、前述と同様の方法で反応させた後、一般式（ＩＸ
）ＲＮＨ−Ｃ−Ｎｔ−ｔ２ （ＩＸ）（式中、Ｒ
１は前記と同一の意味を有する。）で表されるチオ尿素
誘導体と縮合させることにより製造できる。
本製造法において、チオ尿素誘導体との縮合は。
一般的には、メタノール、エタノール、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、塩化メチレン、酢酸エチル等の溶媒
中で、好ましくは脱酸剤（トリエチルアミン、ジエチル
アニリン、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等）の存
在下に行いうる。これらの反応は、室温ないし加温条件
下で実施される。
トラヒドロフラン、塩化メチレン、酢酸エチル等の溶媒
中で、好ましくは脱酸剤（トリエチルアミン、ジエチル
アニリン、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等）の存
在下に行いうる。これらの反応は、室温ないし加温条件
下で実施される。
方法Ｅ
自体公知の化合物である一般式（Ｘ）
（式中、Ｒ１およびＲ４は前記と同一の意味を有する。
）で表される化合物と一般式（ＸＩ）（式中、Ｒ２，Ｒ
３，Ｘ、ｂおよびＣは前記と同一の意味を有する。）で
表される化合物とを、縮合させることにより製造できる
。
３，Ｘ、ｂおよびＣは前記と同一の意味を有する。）で
表される化合物とを、縮合させることにより製造できる
。
本製造法においては、一般的にメタノール、エタノール
、ジオキサン、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、酢
酸エチル等の溶媒中で、場合によってはモレキュラーシ
ーブ等の存在下に行いうる。
、ジオキサン、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、酢
酸エチル等の溶媒中で、場合によってはモレキュラーシ
ーブ等の存在下に行いうる。
これらの反応は、室温ないし加温条件下で実施される。
「発明の効果ｊ
本発明の化合物は、グラム陰性菌および緑膿菌をふくむ
グラム陰性菌に対して広範な抗菌スペクトルを有し、更
にはメチシリン耐性黄色ブドウ球菌にも強い抗菌力を示
し、感染症の治療薬として極めて有用である。
グラム陰性菌に対して広範な抗菌スペクトルを有し、更
にはメチシリン耐性黄色ブドウ球菌にも強い抗菌力を示
し、感染症の治療薬として極めて有用である。
つぎに本発明の化合物の有用性を示すため２代表的化合
物について抗菌活性のデータを示す。
物について抗菌活性のデータを示す。
試験化合物
化合物１ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ〜（２−クロロ−４
，５−ジヒドロキシベンゾイル）オキシイミノ〕アセタ
ミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル−５−１
−リアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオ
メチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（
４，２，０）オクト−２−エン−２−カルボン酸 化合物２ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−（４，５−ジヒド
ロキシ−２−メチルベンゾイル）オキシイミノ〕アセタ
ミド）−３−（（７−メチル−５ト■−５−オン−１，
３，４−チアジアゾロ〔３゜２−ａ〕ピリミジン−２−
イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザ
ビシクロ〔４゜２．０〕オクト−２−エン−２−カルボ
ン酸化合物３ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２
−アミノ−４−チアゾリル） −２−（Ｚ−（４，５
−ジヒドロキシ−２−イソプロピルベンゾイル）オキシ
イミノ〕アセタミド）−３−（（２−カルボキシ−５−
メチル−３−トリアゾロ（１，５−ａ〕ピリミジン−７
−イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−ア
ザビシクロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カル
ボン酸化合物４： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２
−アミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−（２−メチル
−３，４，５−）リアセトキシベンゾイル）オキシイミ
ノ〕アセタミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチ
ル−５−）リアゾロ（１，５−ａ〕ピリミジン−７−イ
ル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビ
シクロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン
酸化合物５ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−（４，５−ジヒ
ドロキシ−２−メチルベンゾイル）オキシイミノ〕アセ
タミド）−３−（（２−スルホキシ−５−メチル−５−
）リアゾロ（１，５−３）ピリミジン−７−イル）チオ
メチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（
４，２，０）オクト−２−エン−２−カルボン酸 化合物６ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−（１−（３，４−
ジヒドロキシフェニルアミノ）カルボニル−１−メチル
エチル〕オキシイミノ〕アセタミド）−３−（（２−カ
ルボキシ−５−メチル−３−トリアゾロ（１，５−ａ）
ピリミジン−７−イル）チオメチルツー８−オキソ−５
−チア−１−アザビシクロ（４，２，０）オクト−２−
エン−２−カルボン酸 化合物７ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−（カルボキシ（４
，５−ジヒドロキシ−２〜メチルフエニル）メチル〕オ
キシイミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−力ルボキシ−
５−メチル−５−）リアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン
−７−イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１
−アザビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−
カルボン酸 化合物８ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−２−ＣＺ−（４−アセトキシ
−２−カルボキシ−５−ヒドロキシフェニルメチル）オ
キシイミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ−
５−メチル−３−トリアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン
−７−イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１
−アザビシクロ（４，２，０３オクト−２−エン−２−
カルボン酸 化合物９ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−２−（３，４−ジヒドロキシ
ベンゾイル）アミノアセタミド〕−３−〔（２−カルボ
キシ−５−メチル−３−トリアゾロ（１，５−ａ）ピリ
ミジン−７−イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チ
ア−１−アザビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン
−２−カルボン酸 実験例１ 試験管内抗菌活性を寒天平板希釈法によって求めた。す
なわちミューラー・ヒントン・ブロス（Ｍｕｅｌｌｅｒ
ｌ１ｉｎｔｏｎ ｂｒｏｔｈ）中で培養した試験苗株
（菌数１０６１固／ｍ１）の−白金耳を、試験化合物が
各濃度で含まれているミューラー・ヒントン・アガー（
ＭＨ−寒天）に接種した。３７℃で２０時間培養した後
、最小発育阻止濃度（Ｍ Ｉ Ｃ，μｇ／ｍｌ）を測定
した。
ミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ〜（２−クロロ−４
，５−ジヒドロキシベンゾイル）オキシイミノ〕アセタ
ミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル−５−１
−リアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオ
メチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（
４，２，０）オクト−２−エン−２−カルボン酸 化合物２ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−（４，５−ジヒド
ロキシ−２−メチルベンゾイル）オキシイミノ〕アセタ
ミド）−３−（（７−メチル−５ト■−５−オン−１，
３，４−チアジアゾロ〔３゜２−ａ〕ピリミジン−２−
イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザ
ビシクロ〔４゜２．０〕オクト−２−エン−２−カルボ
ン酸化合物３ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２
−アミノ−４−チアゾリル） −２−（Ｚ−（４，５
−ジヒドロキシ−２−イソプロピルベンゾイル）オキシ
イミノ〕アセタミド）−３−（（２−カルボキシ−５−
メチル−３−トリアゾロ（１，５−ａ〕ピリミジン−７
−イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−ア
ザビシクロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カル
ボン酸化合物４： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２
−アミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−（２−メチル
−３，４，５−）リアセトキシベンゾイル）オキシイミ
ノ〕アセタミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチ
ル−５−）リアゾロ（１，５−ａ〕ピリミジン−７−イ
ル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビ
シクロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン
酸化合物５ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−（４，５−ジヒ
ドロキシ−２−メチルベンゾイル）オキシイミノ〕アセ
タミド）−３−（（２−スルホキシ−５−メチル−５−
）リアゾロ（１，５−３）ピリミジン−７−イル）チオ
メチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（
４，２，０）オクト−２−エン−２−カルボン酸 化合物６ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−（１−（３，４−
ジヒドロキシフェニルアミノ）カルボニル−１−メチル
エチル〕オキシイミノ〕アセタミド）−３−（（２−カ
ルボキシ−５−メチル−３−トリアゾロ（１，５−ａ）
ピリミジン−７−イル）チオメチルツー８−オキソ−５
−チア−１−アザビシクロ（４，２，０）オクト−２−
エン−２−カルボン酸 化合物７ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−（カルボキシ（４
，５−ジヒドロキシ−２〜メチルフエニル）メチル〕オ
キシイミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−力ルボキシ−
５−メチル−５−）リアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン
−７−イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１
−アザビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−
カルボン酸 化合物８ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−２−ＣＺ−（４−アセトキシ
−２−カルボキシ−５−ヒドロキシフェニルメチル）オ
キシイミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ−
５−メチル−３−トリアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン
−７−イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１
−アザビシクロ（４，２，０３オクト−２−エン−２−
カルボン酸 化合物９ ： （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−２−（３，４−ジヒドロキシ
ベンゾイル）アミノアセタミド〕−３−〔（２−カルボ
キシ−５−メチル−３−トリアゾロ（１，５−ａ）ピリ
ミジン−７−イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チ
ア−１−アザビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン
−２−カルボン酸 実験例１ 試験管内抗菌活性を寒天平板希釈法によって求めた。す
なわちミューラー・ヒントン・ブロス（Ｍｕｅｌｌｅｒ
ｌ１ｉｎｔｏｎ ｂｒｏｔｈ）中で培養した試験苗株
（菌数１０６１固／ｍ１）の−白金耳を、試験化合物が
各濃度で含まれているミューラー・ヒントン・アガー（
ＭＨ−寒天）に接種した。３７℃で２０時間培養した後
、最小発育阻止濃度（Ｍ Ｉ Ｃ，μｇ／ｍｌ）を測定
した。
結果を第１−ａないし１−ｂ表に示した。
実験例２
生体内感染防禦能を以下の様に測定した。一群１０匹の
ＩＣＲ４週齢マウスを用い、被験菌を水性懸濁液として
腹腔内に感染させた。感染一時間後に、試験化合物を静
脈内投与した。−週間後に生存動物の数を数え、試験動
物の５０％が生存する投与＋２ （ＥＤｓｏ ； ｍｇ
／ｋｇ）を算出した。
ＩＣＲ４週齢マウスを用い、被験菌を水性懸濁液として
腹腔内に感染させた。感染一時間後に、試験化合物を静
脈内投与した。−週間後に生存動物の数を数え、試験動
物の５０％が生存する投与＋２ （ＥＤｓｏ ； ｍｇ
／ｋｇ）を算出した。
結果を第２表に示した。
次に０本発明の化合物の代表例のＬＤ５ｏを第３表に示
した。なお、ＬＤｓ、はＩ’ｒｏｂｉｔ （プロピント
）の方法により求めた。
した。なお、ＬＤｓ、はＩ’ｒｏｂｉｔ （プロピント
）の方法により求めた。
第３表
１化合物Ｎｏ、 ｌ ＬＤｓｏ （ｍｇ／ｋｇ） ｉ
、ｖ、Ｉ＋ １ １ ＞１０００ １１
２ ＋ ＞１０００ １＋ ４ １
＞１０００ １＋ ６ １ ＞１０００
１ １ ７ １ ＞１０００ １＋ ８ １
＞１０００ １ 本発明の化合物は９例えば黄色ブドウ球菌、連鎖球菌等
のダラム陽性菌、または例えば大腸菌。
、ｖ、Ｉ＋ １ １ ＞１０００ １１
２ ＋ ＞１０００ １＋ ４ １
＞１０００ １＋ ６ １ ＞１０００
１ １ ７ １ ＞１０００ １＋ ８ １
＞１０００ １ 本発明の化合物は９例えば黄色ブドウ球菌、連鎖球菌等
のダラム陽性菌、または例えば大腸菌。
肺炎棹菌、変形菌２モルガン菌、霊菌、シトロバクタ−
、エンテロバクタ−、フラボバクター等のダラム陰性菌
による感染により生ずる感染症の治療に有用である。
、エンテロバクタ−、フラボバクター等のダラム陰性菌
による感染により生ずる感染症の治療に有用である。
本発明によって提供されるセファロスポリン誘導体は、
医薬組成物として９例えばそれらを製薬上許容される適
当な担体物質２例えば乳糖、カルボキシメチルセルロー
スなどと一緒に含有する製剤の形で使用することができ
る。製剤の例としては固体（例えば錠剤、カプセル剤な
ど）または液体（例えば注射剤など）の形態にすること
ができる。また該製剤は、滅菌をすることができ、また
製薬上一般に使用されている助剤５例えば、炭酸水素ナ
トリウム、クエン酸、プロピレングリコール、ツイン８
０ （Ｔｗｅｅｎ８０）などを含有することもできる。
医薬組成物として９例えばそれらを製薬上許容される適
当な担体物質２例えば乳糖、カルボキシメチルセルロー
スなどと一緒に含有する製剤の形で使用することができ
る。製剤の例としては固体（例えば錠剤、カプセル剤な
ど）または液体（例えば注射剤など）の形態にすること
ができる。また該製剤は、滅菌をすることができ、また
製薬上一般に使用されている助剤５例えば、炭酸水素ナ
トリウム、クエン酸、プロピレングリコール、ツイン８
０ （Ｔｗｅｅｎ８０）などを含有することもできる。
さらに該化合物を凍結乾燥物または乾燥粉末の形とし２
通常の溶解剤９例えば水または生理的食塩水にて用時溶
解して用いることも好ましい。該化合物は、経口、非経
口投与により使用することができ、患者の年齢、状態、
疾病の種類、病状により異なるが、大人１人の１日投与
量として約０゜０１ｇ〜約１０ｇが使用できるが、好ま
しくは約０．１ｇ〜約５ｇの投与量が使用される。また
。
通常の溶解剤９例えば水または生理的食塩水にて用時溶
解して用いることも好ましい。該化合物は、経口、非経
口投与により使用することができ、患者の年齢、状態、
疾病の種類、病状により異なるが、大人１人の１日投与
量として約０゜０１ｇ〜約１０ｇが使用できるが、好ま
しくは約０．１ｇ〜約５ｇの投与量が使用される。また
。
本発明によって提供される化合物の非経口投与は殊に好
ましい。
ましい。
以下に本発明の実施例を示すが９本発明は以下の実施例
に限定される本のではない。
に限定される本のではない。
以下余白
実施例 １
（６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（４，５−ビス（クロルアセチルオ
キシ）−２−メチルヘンゾイル］オキシイミノ〕アセタ
ミド）−３−（（７−メチル−５Ｈ−５−オン−１，３
，４−チアジアゾロ（３，２−ａ）ピリミジン−２−イ
ル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビ
シクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カルボン
酸の製造 工程 １ （６Ｒ，７Ｒ）−７−アミノ−３−（（７−メチル−５
Ｈ−５−オン−１，３，４−チアジアゾロ（３，２−ａ
）ピリミジン−２−イル）チオメチル）−８−オキソ−
５−チア−１−アザビシクロ（４，２，０３オクト−２
−エン−３−カルボン酸の製造 ７−７ミノセフアロスボラン酸１２．２４ｇと２−メル
カプト−７−メチル−５Ｈ−５−オン＝１．３．４−チ
アジアゾロ（３，２−ａ）ピリミジン９ｇをアセトニト
リルに懸濁し、三フッ化ホウ素エーテル錯体２６ｇを加
え、６０℃で３時間攪拌後、室温で１晩攪拌した。反応
液に水７０ｍ１を加え、析出した結晶を濾過し、水、ア
セトン。
リル）−２−（Ｚ−（４，５−ビス（クロルアセチルオ
キシ）−２−メチルヘンゾイル］オキシイミノ〕アセタ
ミド）−３−（（７−メチル−５Ｈ−５−オン−１，３
，４−チアジアゾロ（３，２−ａ）ピリミジン−２−イ
ル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビ
シクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カルボン
酸の製造 工程 １ （６Ｒ，７Ｒ）−７−アミノ−３−（（７−メチル−５
Ｈ−５−オン−１，３，４−チアジアゾロ（３，２−ａ
）ピリミジン−２−イル）チオメチル）−８−オキソ−
５−チア−１−アザビシクロ（４，２，０３オクト−２
−エン−３−カルボン酸の製造 ７−７ミノセフアロスボラン酸１２．２４ｇと２−メル
カプト−７−メチル−５Ｈ−５−オン＝１．３．４−チ
アジアゾロ（３，２−ａ）ピリミジン９ｇをアセトニト
リルに懸濁し、三フッ化ホウ素エーテル錯体２６ｇを加
え、６０℃で３時間攪拌後、室温で１晩攪拌した。反応
液に水７０ｍ１を加え、析出した結晶を濾過し、水、ア
セトン。
エーテルで順に洗浄し上記標題化合物４．９ｇを淡茶色
結晶として得た。
結晶として得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−ｌ ）１８０１
．１６９６，１５７０，１５６１ｊ１５０６．１４７２
，１４６７．１４０７゜ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−
ｄａ ； ｐｐｍ）６．３ （ＩＨ，ｓ） ５．１ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ） ４．９ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ） ４．４ （２Ｈ，ＡＢｑ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．３ （３Ｈ，ｓ） 工程 ２ （６Ｒ，７Ｒ）−７−アミノ−３−Ｃ（７−メチル−５
８−５−オン−１，３，４−チアジアゾロ（３，２−ａ
）ピリミジン−２−イル）チオメチルツー８−オキソ−
５−チア−■−アザビシクロ（４，２，０）オクト−２
−エン−２−カルボン酸ジフェニルメチルエステルの製
造 工程 １で得られた化合物４．９ｇをアセトン４０ｍ１
に懸濁し、ジフェニルジアゾメタン８゜２ｇを加え、室
温で１晩攪拌した。不溶物を濾取し濾液を濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
上記標題化合物２゜９４ｇを黄色結晶として得た。
．１６９６，１５７０，１５６１ｊ１５０６．１４７２
，１４６７．１４０７゜ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−
ｄａ ； ｐｐｍ）６．３ （ＩＨ，ｓ） ５．１ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ） ４．９ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ） ４．４ （２Ｈ，ＡＢｑ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．３ （３Ｈ，ｓ） 工程 ２ （６Ｒ，７Ｒ）−７−アミノ−３−Ｃ（７−メチル−５
８−５−オン−１，３，４−チアジアゾロ（３，２−ａ
）ピリミジン−２−イル）チオメチルツー８−オキソ−
５−チア−■−アザビシクロ（４，２，０）オクト−２
−エン−２−カルボン酸ジフェニルメチルエステルの製
造 工程 １で得られた化合物４．９ｇをアセトン４０ｍ１
に懸濁し、ジフェニルジアゾメタン８゜２ｇを加え、室
温で１晩攪拌した。不溶物を濾取し濾液を濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
上記標題化合物２゜９４ｇを黄色結晶として得た。
ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄｓ ； ｐｐｍ）７
．７〜７．４ （ＩＯＨ，ｍ） ６．９ （ＩＨ，ｓ） ６．３ （ＩＨ，ｓ） ５．７ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ） ５．２ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ） ４．３ （２Ｈ，Ａｌ３ｑ） ３．７ （２１−１，ＡＢｑ） ２．３ （３Ｈ，ｓ） 工程 ３ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−１−ジフェニルメチ
ルアミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−〔１−メトキ
シ−１−メチルエチル〕オキシイミノ〕アセタミド）−
３−〔（７−メチル−５Ｈ−５−オン−１，３，４−チ
アジアゾロ（３，２−ａ〕ピリミジン−２−イル）チオ
メチルクー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（
４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステルの製造 工程 ２で得られた化合物３．２５ｇと公知の化合物２
−（２−トリフェニルメチルアミノ−４−チアゾリル）
−２−（Ｚ−（１−メトキシ−１−メチルエチル〕オキ
シイミノ酢酸５．６４ｇを。
．７〜７．４ （ＩＯＨ，ｍ） ６．９ （ＩＨ，ｓ） ６．３ （ＩＨ，ｓ） ５．７ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ） ５．２ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ） ４．３ （２Ｈ，Ａｌ３ｑ） ３．７ （２１−１，ＡＢｑ） ２．３ （３Ｈ，ｓ） 工程 ３ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−１−ジフェニルメチ
ルアミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−〔１−メトキ
シ−１−メチルエチル〕オキシイミノ〕アセタミド）−
３−〔（７−メチル−５Ｈ−５−オン−１，３，４−チ
アジアゾロ（３，２−ａ〕ピリミジン−２−イル）チオ
メチルクー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（
４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステルの製造 工程 ２で得られた化合物３．２５ｇと公知の化合物２
−（２−トリフェニルメチルアミノ−４−チアゾリル）
−２−（Ｚ−（１−メトキシ−１−メチルエチル〕オキ
シイミノ酢酸５．６４ｇを。
塩化メチレン９３ｍ１．テトラヒドロフラン９３ｍ１に
溶解し、窒素置換し０℃に冷却した。このｌ容ン夜にジ
シクロヘキシルカルボジイミドｇを少量ずつ加え，室温
で１晩攪拌した。不溶物を濾過し，濾液を濃縮し，酢酸
エチルを加えさらに不溶物を濾過した。濾液を濃縮し，
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し
上記標題化合物２．５ｇを黄色結晶として得た。
溶解し、窒素置換し０℃に冷却した。このｌ容ン夜にジ
シクロヘキシルカルボジイミドｇを少量ずつ加え，室温
で１晩攪拌した。不溶物を濾過し，濾液を濃縮し，酢酸
エチルを加えさらに不溶物を濾過した。濾液を濃縮し，
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し
上記標題化合物２．５ｇを黄色結晶として得た。
ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ；ｐｐｍ）９、
５ （ｉｌｌ． ｄ， Ｊ＝ＥＮ（ｚ）８、８
（ＩＨ，ｓ） ７、１〜１．２ （２５Ｈ，ｍ） ６、９ （ＩＨ，ｓ） ６、７ （ＩＨ，ｓ） ６、３ （ＩＨ，ｓ） ５、８ （ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）５、 ２
（ＩＨ， ｄ， Ｊ＝５Ｈｚ）４、３
（２Ｈ，ＡＢｑ） ３、８ （２Ｈ，ＡＢｑ） ３、１ （３Ｈ，Ｓ） ２、３ （３Ｈ，ｓ） １、 ４ （６１１， ｓ） 工程 ４ （６Ｒ．７Ｒ）−７− （２− （２−）ジフェニルメ
チルアミノ−４−チアゾリル）−２− （Ｚ−ヒドロキ
シイミノ）アセタミド）−３− Ｃ （７−メチル−５
Ｈ−５−オン−１．３．４−チアジアゾロ（３．２−ａ
〕ピリミジン−２−イル）チオメチルクー８−オキソ−
５ーチア−１−アザビシクロ（４．２．０）オクト−２
−エン−２−カルボン酸ジフェニルメチルエステルの製
造工程 ３で得られた化合物１．５ｇをアセトン１２ｍ
ｌに熔解し，ＩＮ塩酸２．６ｍ’ｌを滴下した後．室温
で３．５時間攪拌した。この溶液に酢酸エチルを加えて
抽出し，水．５％炭酸水素ナトリウム溶液で洗い．さら
に飽和食塩水で洗い，無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
５ （ｉｌｌ． ｄ， Ｊ＝ＥＮ（ｚ）８、８
（ＩＨ，ｓ） ７、１〜１．２ （２５Ｈ，ｍ） ６、９ （ＩＨ，ｓ） ６、７ （ＩＨ，ｓ） ６、３ （ＩＨ，ｓ） ５、８ （ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）５、 ２
（ＩＨ， ｄ， Ｊ＝５Ｈｚ）４、３
（２Ｈ，ＡＢｑ） ３、８ （２Ｈ，ＡＢｑ） ３、１ （３Ｈ，Ｓ） ２、３ （３Ｈ，ｓ） １、 ４ （６１１， ｓ） 工程 ４ （６Ｒ．７Ｒ）−７− （２− （２−）ジフェニルメ
チルアミノ−４−チアゾリル）−２− （Ｚ−ヒドロキ
シイミノ）アセタミド）−３− Ｃ （７−メチル−５
Ｈ−５−オン−１．３．４−チアジアゾロ（３．２−ａ
〕ピリミジン−２−イル）チオメチルクー８−オキソ−
５ーチア−１−アザビシクロ（４．２．０）オクト−２
−エン−２−カルボン酸ジフェニルメチルエステルの製
造工程 ３で得られた化合物１．５ｇをアセトン１２ｍ
ｌに熔解し，ＩＮ塩酸２．６ｍ’ｌを滴下した後．室温
で３．５時間攪拌した。この溶液に酢酸エチルを加えて
抽出し，水．５％炭酸水素ナトリウム溶液で洗い．さら
に飽和食塩水で洗い，無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
濃縮後．残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製し上記標題化合物１．０６ｇを乳白色結晶として
得た。
て精製し上記標題化合物１．０６ｇを乳白色結晶として
得た。
ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ； ｐｌ）ｍ）
１１、３ （ＬＨ，ｓ） ９、５ （ＬＨ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） ８、７ （ＩＨ，ｓ） ７、６ 〜７．２ （２５Ｈ，ｍ） ７、０ （ＩＨ，ｓ） ６、６ （ＬＨ．Ｓ） ６、 ２ （ＩＨ， ｓ） ５、 ８ （ＩＨ， ｄｄ， Ｊ＝４． ８
Ｈｚ）５、 ２ （ＩＨ， ｄ， Ｊ＝４Ｈｚ
）４、 ３ （２Ｈ，ＡＢｑ） ３、 ７ （２Ｈ．ＡＢｑ） ２、 ３ （３Ｈ． ｓ） 工程 ５ （６Ｒ，７Ｒ）−７− （２− （２−トリフェニルメ
チルアミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−〔４．５−
ビス（クロルアセチルオキシ）−２−メチルベンゾイル
〕オキシイミノ〕アセタミド〕−３−（（７−メチル−
５Ｈ−５−オン−１．３。
１１、３ （ＬＨ，ｓ） ９、５ （ＬＨ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） ８、７ （ＩＨ，ｓ） ７、６ 〜７．２ （２５Ｈ，ｍ） ７、０ （ＩＨ，ｓ） ６、６ （ＬＨ．Ｓ） ６、 ２ （ＩＨ， ｓ） ５、 ８ （ＩＨ， ｄｄ， Ｊ＝４． ８
Ｈｚ）５、 ２ （ＩＨ， ｄ， Ｊ＝４Ｈｚ
）４、 ３ （２Ｈ，ＡＢｑ） ３、 ７ （２Ｈ．ＡＢｑ） ２、 ３ （３Ｈ． ｓ） 工程 ５ （６Ｒ，７Ｒ）−７− （２− （２−トリフェニルメ
チルアミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−〔４．５−
ビス（クロルアセチルオキシ）−２−メチルベンゾイル
〕オキシイミノ〕アセタミド〕−３−（（７−メチル−
５Ｈ−５−オン−１．３。
４−チアジアゾロ（３．２−ａ）ピリミジン−２−イル
）チオメチルクー８−オキソ−５ーチア−１−アザビシ
クロ（４．２．０）オクト−２−エン−２−カルボン酸
ジフェニルメチルエステルの製造 工程 ４で得られた化合物０．６ｇを乾燥塩化メチレン
１５ｍｌに熔解し，０℃に冷却し，無水炭酸カリウムを
加えたｔｈ．４．５−ビス−（クロルアセトキシ）−２
−メチルヘンジイルクロライド０．２５ｇの乾燥塩化メ
チレンｌＱｍｌ溶液を滴下した。０゛Ｃで１時間、室温
で２時間攪拌後、不溶物を濾過し、濾液を水、飽和食塩
水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグライーにて精製
し上記標題化合物０．４７ｇを得た。
）チオメチルクー８−オキソ−５ーチア−１−アザビシ
クロ（４．２．０）オクト−２−エン−２−カルボン酸
ジフェニルメチルエステルの製造 工程 ４で得られた化合物０．６ｇを乾燥塩化メチレン
１５ｍｌに熔解し，０℃に冷却し，無水炭酸カリウムを
加えたｔｈ．４．５−ビス−（クロルアセトキシ）−２
−メチルヘンジイルクロライド０．２５ｇの乾燥塩化メ
チレンｌＱｍｌ溶液を滴下した。０゛Ｃで１時間、室温
で２時間攪拌後、不溶物を濾過し、濾液を水、飽和食塩
水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグライーにて精製
し上記標題化合物０．４７ｇを得た。
ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ；ｐｐｍ）１０
．１ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）９．０ （ＬＨ，ｓ
） ７．８〜７．１ （２８Ｈ，ｍ） ７．０ （ＬＨ，ｓ） ６．３ （ＬＨ，ｓ） ５．８ （１１−１，ｄｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ）５．２
（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ） ４．７ （２Ｈ，ｓ） ４．５ （２Ｈ，ｓ） ４．３ （２Ｈ，ＡＢｑ） ３．６ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．５ （３Ｈ，ｓ） ２、 ３ （３Ｈ，ｓ） 工程 ６ （６Ｒ，７Ｒ） −７−（２−（２−アミノ−４−チア
ゾリル）−２−（Ｚ−（４，５−ビス（クロルアセチル
オキシ）−２−メチルベンゾイル〕オキシイミノ〕アセ
タミド）−３−（（７−メチル−５Ｈ−５−オン−１，
３，４−チアジアゾロ（３，２−３）ピリミジン−２−
イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザ
ビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カルボ
ン酸の製造 工程 ５で得られた化合物０．４７ｇをジクロロエタン
３．５ｍｌに溶解し０℃に冷却し、アニソール０．２３
ｍ１．ｌ−リフルオロ酢酸０．４７ｍ１を加え、室温で
５時間攪拌した。濃縮後、残渣にエーテルを加えて結晶
化し上記標題化合物０゜３ｇを得た。
．１ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）９．０ （ＬＨ，ｓ
） ７．８〜７．１ （２８Ｈ，ｍ） ７．０ （ＬＨ，ｓ） ６．３ （ＬＨ，ｓ） ５．８ （１１−１，ｄｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ）５．２
（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ） ４．７ （２Ｈ，ｓ） ４．５ （２Ｈ，ｓ） ４．３ （２Ｈ，ＡＢｑ） ３．６ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．５ （３Ｈ，ｓ） ２、 ３ （３Ｈ，ｓ） 工程 ６ （６Ｒ，７Ｒ） −７−（２−（２−アミノ−４−チア
ゾリル）−２−（Ｚ−（４，５−ビス（クロルアセチル
オキシ）−２−メチルベンゾイル〕オキシイミノ〕アセ
タミド）−３−（（７−メチル−５Ｈ−５−オン−１，
３，４−チアジアゾロ（３，２−３）ピリミジン−２−
イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザ
ビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カルボ
ン酸の製造 工程 ５で得られた化合物０．４７ｇをジクロロエタン
３．５ｍｌに溶解し０℃に冷却し、アニソール０．２３
ｍ１．ｌ−リフルオロ酢酸０．４７ｍ１を加え、室温で
５時間攪拌した。濃縮後、残渣にエーテルを加えて結晶
化し上記標題化合物０゜３ｇを得た。
ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ； ｐｐｍ）１
０．１ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）７．８ （ＩＨ，
ｓ） ７、 ４ （ＬＨ，ｓ） ７、 ２ （ＩＨ，ｓ） ６、 ３ （ＬＨ，ｓ） ５、 ９ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝４． ８Ｈｚ）５
、 ２ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝４Ｈｚ）４、 ７
（２Ｈ，ｓ） ４．６ （２Ｈ，ｓ） ４、 ４ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ５ （３Ｈ，ｓ） ２、 ３ （３Ｈ，ｓ） 実施例 ２ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−ＣＺ−（４，５−ジヒドロキシ−２−メチ
ルヘンゾイル〕オキシイミノ〕アセクミド）−３−（（
７−メチル−５Ｈ−５−オン−１，３，４−チアジアゾ
ロ（３，２−ａ）ピリミジン−２−イル）チオメチルツ
ー８−オキソ−５−チア−１〜アザビシクロ（４，２，
Ｏ）オクト−２−エン−２〜カルボン酸の製造実施例
１の工程 ６で得られた化合物０．２９ｇをジメチルホ
ルムアミド３ｍｌに溶解しチオウレア０．１３ｇを加え
、室温で７時間攪拌した。
０．１ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）７．８ （ＩＨ，
ｓ） ７、 ４ （ＬＨ，ｓ） ７、 ２ （ＩＨ，ｓ） ６、 ３ （ＬＨ，ｓ） ５、 ９ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝４． ８Ｈｚ）５
、 ２ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝４Ｈｚ）４、 ７
（２Ｈ，ｓ） ４．６ （２Ｈ，ｓ） ４、 ４ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ５ （３Ｈ，ｓ） ２、 ３ （３Ｈ，ｓ） 実施例 ２ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−ＣＺ−（４，５−ジヒドロキシ−２−メチ
ルヘンゾイル〕オキシイミノ〕アセクミド）−３−（（
７−メチル−５Ｈ−５−オン−１，３，４−チアジアゾ
ロ（３，２−ａ）ピリミジン−２−イル）チオメチルツ
ー８−オキソ−５−チア−１〜アザビシクロ（４，２，
Ｏ）オクト−２−エン−２〜カルボン酸の製造実施例
１の工程 ６で得られた化合物０．２９ｇをジメチルホ
ルムアミド３ｍｌに溶解しチオウレア０．１３ｇを加え
、室温で７時間攪拌した。
反応液にエーテルを加え結晶化し、さらに塩化メチレン
で洗った。結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製し上記標題化合物０．７ｇを乳白色結晶として
得た。
で洗った。結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製し上記標題化合物０．７ｇを乳白色結晶として
得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７７３．
１６Ｂ５，１６７７．１６４８゜１６３７．１５０７．
１４７４ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ； Ｉ）ｐｍ）
１０．１ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８１−１ｚ）７．３ （
ＬＨ，ｓ） ７、 １ （１１−１，ｓ） ６．７ （ＩＨ，ｓ） ６、 ３ （ＩＨ，ｓ） ５．９ （ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ＞５．２ （Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．６（２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ４ （３Ｈ，ｓ） ２． ３ （３Ｈ，ｓ） 実施例 ３ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（４，５−ビス（クロルアセチルオ
キシ）−２−イソプロピルベンゾイル〕オキシイミノ〕
アセタミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル−
ｓ−トリアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）
チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシク
ロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カルボン酸の
製造 実施例 １と同様の方法で上記標題化合物を得た。
１６Ｂ５，１６７７．１６４８゜１６３７．１５０７．
１４７４ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ； Ｉ）ｐｍ）
１０．１ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８１−１ｚ）７．３ （
ＬＨ，ｓ） ７、 １ （１１−１，ｓ） ６．７ （ＩＨ，ｓ） ６、 ３ （ＩＨ，ｓ） ５．９ （ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．８Ｈｚ＞５．２ （Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．６（２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ４ （３Ｈ，ｓ） ２． ３ （３Ｈ，ｓ） 実施例 ３ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（４，５−ビス（クロルアセチルオ
キシ）−２−イソプロピルベンゾイル〕オキシイミノ〕
アセタミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル−
ｓ−トリアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）
チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシク
ロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カルボン酸の
製造 実施例 １と同様の方法で上記標題化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ａｍ−１）１７７３．
１５９５．１５０８ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ； ｐＩ）ｍ）
１０．１ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）７．７ （Ｌ
Ｈ，ｓ） ７．５ （ＩＨ，ｓ） ７．４ （ＩＨ，ｓ） ７、 １ （ＩＨ，ｓ＞ ５、 ８ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ＝５． ９Ｈｚ）
５、 ２ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ７
（２Ｈ，ｓ） ４、 ６ （２Ｈ，ｓ） ４、 ４ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ６ （２Ｈ，ＡＢｑ） ３、 ５ （ＩＨ，ｍ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） １、 ２〜１． ０ （６Ｈ，ｓ） 実施例 ４ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（４，５−ジヒドロキシ−２−イソ
プロピルベンゾイル〕オキシイミノ〕アセタミド）−３
−（（２−カルボキシ−５−メチル−３−トリアゾロ（
１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチルツー８
−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，２，０）
オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 実施例 ３で得られた化合物を実施例 １と同様の方法
で処理し上記標題化合物を得た。
１５９５．１５０８ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ； ｐＩ）ｍ）
１０．１ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）７．７ （Ｌ
Ｈ，ｓ） ７．５ （ＩＨ，ｓ） ７．４ （ＩＨ，ｓ） ７、 １ （ＩＨ，ｓ＞ ５、 ８ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ＝５． ９Ｈｚ）
５、 ２ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ７
（２Ｈ，ｓ） ４、 ６ （２Ｈ，ｓ） ４、 ４ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ６ （２Ｈ，ＡＢｑ） ３、 ５ （ＩＨ，ｍ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） １、 ２〜１． ０ （６Ｈ，ｓ） 実施例 ４ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（４，５−ジヒドロキシ−２−イソ
プロピルベンゾイル〕オキシイミノ〕アセタミド）−３
−（（２−カルボキシ−５−メチル−３−トリアゾロ（
１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチルツー８
−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，２，０）
オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 実施例 ３で得られた化合物を実施例 １と同様の方法
で処理し上記標題化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７７３．
１７４１．１６５４．１６３０゜１５９７．１５１５．
１５０９ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ｉ Ｉ） ｐｍ
）１０．０ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ７．４ （ＩＨ，ｓ） ７．２ （ＩＨ，ｓ） ７．１ （ＩＨ，ｓ） ６．８ （ＩＨ，ｓ） ５．９ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）５．２ （Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ４、 ４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，、ＡＢｑ） ３．６ （ＩＨ，ｍ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） １．１ （６Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ） 実施例 ５ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（２−クロル−４，５−ジヒドロキ
シベンゾイル〕オキシイミノ〕アセタミド） −３−（
（２−カルボキシ−５−メチル−Ｓ−トリアゾロ（１，
５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチルツー８−オ
キソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，２，０）オク
ト−２−エン−２−カルボン酸の製造 実施例 １と同様の方法で上記標題化合物を得た。
１７４１．１６５４．１６３０゜１５９７．１５１５．
１５０９ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ｉ Ｉ） ｐｍ
）１０．０ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ７．４ （ＩＨ，ｓ） ７．２ （ＩＨ，ｓ） ７．１ （ＩＨ，ｓ） ６．８ （ＩＨ，ｓ） ５．９ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）５．２ （Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ４、 ４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，、ＡＢｑ） ３．６ （ＩＨ，ｍ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） １．１ （６Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ） 実施例 ５ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（２−クロル−４，５−ジヒドロキ
シベンゾイル〕オキシイミノ〕アセタミド） −３−（
（２−カルボキシ−５−メチル−Ｓ−トリアゾロ（１，
５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチルツー８−オ
キソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，２，０）オク
ト−２−エン−２−カルボン酸の製造 実施例 １と同様の方法で上記標題化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７７２、
１？６４． １７５３． １６３７゜１５９７．１５
１２．１２０８ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄｓ ｉ Ｉ） Ｉ）ｍ
）１０．０ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ７．４ （ＩＨ，ｓ） ７．３ （ＬＨ，ｓ） ７．１ （ＩＨ，Ｓ） ６．９ （ＩＨ，Ｓ） ５．８ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）５．２ （Ｌ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ６ （２１−１，ＡＢｑ） ２． ６ （３Ｈ，ｓ） 実施例 ６ （６Ｒ，７Ｒ）−７−Ｃ２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（４，５−ジアセトキシ−２−イソ
プロピルベンゾイル〕オキシイミノ〕アセタミド）−３
−（（２−カルボキシ−５−メチル−３−トリアゾロ（
１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチル〕−８
−オキソー５−チア−１−アザビシクロ（４，２，０）
オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 実施例 １と同様の方法で上記標題化合物を得た。
１？６４． １７５３． １６３７゜１５９７．１５
１２．１２０８ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄｓ ｉ Ｉ） Ｉ）ｍ
）１０．０ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ７．４ （ＩＨ，ｓ） ７．３ （ＬＨ，ｓ） ７．１ （ＩＨ，Ｓ） ６．９ （ＩＨ，Ｓ） ５．８ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）５．２ （Ｌ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ６ （２１−１，ＡＢｑ） ２． ６ （３Ｈ，ｓ） 実施例 ６ （６Ｒ，７Ｒ）−７−Ｃ２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（４，５−ジアセトキシ−２−イソ
プロピルベンゾイル〕オキシイミノ〕アセタミド）−３
−（（２−カルボキシ−５−メチル−３−トリアゾロ（
１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチル〕−８
−オキソー５−チア−１−アザビシクロ（４，２，０）
オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 実施例 １と同様の方法で上記標題化合物を得た。
ＪＲスペクトル（ＫＢｒ；ｃｍ゛１）
１７７８．１７７４，１７６４．１？３６゜１５０９．
１２０４．１１４１ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄｓ ；Ｐｐｍ）１０
．１ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）７．６ （ＩＨ，ｓ
） ７．４２ （ＬＨ，ｓ） ７、 ３９ （ＬＩＴ、 ｓ） ７、 １ （Ｌ Ｈ，ｓ） ５．９ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ、）５、 ２
（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ４ （２Ｈ
，ｂｓ） ３、 ７ （２＋夏、 ＡＢｑ） ３、 ６ （ＬＨ，ｍ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２４ （３Ｈ，ｓ） １．２ （３ｔｌ、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）１．１ （３
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） 実施例 ７ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル） −２−（Ｚ−（２−メチル−３，４゜５−トリ
アセトキシベンゾイル〕オキシイミノ〕アセタミド）−
３−（（２−カルボキシ−５−メチル−３−トリアゾロ
（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチル〕−
８−オキソー５−チア−１−アザビシクロ（４，２，０
）オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 実施例 １と同様の方法で上記標題化合物を得た。
１２０４．１１４１ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄｓ ；Ｐｐｍ）１０
．１ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）７．６ （ＩＨ，ｓ
） ７．４２ （ＬＨ，ｓ） ７、 ３９ （ＬＩＴ、 ｓ） ７、 １ （Ｌ Ｈ，ｓ） ５．９ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ、）５、 ２
（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ４ （２Ｈ
，ｂｓ） ３、 ７ （２＋夏、 ＡＢｑ） ３、 ６ （ＬＨ，ｍ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２４ （３Ｈ，ｓ） １．２ （３ｔｌ、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）１．１ （３
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） 実施例 ７ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル） −２−（Ｚ−（２−メチル−３，４゜５−トリ
アセトキシベンゾイル〕オキシイミノ〕アセタミド）−
３−（（２−カルボキシ−５−メチル−３−トリアゾロ
（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチル〕−
８−オキソー５−チア−１−アザビシクロ（４，２，０
）オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 実施例 １と同様の方法で上記標題化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ；ｃｍ−１）
１７７５．１６７６．１６３７．１５９７゜１５０９．
１３７４．１３１６，１１９９゜ＮＭＲスペクトル（Ｄ
ＭＳＯ−ｄｓ ； ｐｐｍ）１０．１ （ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝９Ｈ２）７．７ （ＬＨ，ｓ） ７．４ （ＩＨ，ｓ） ７．１ （ＬＨ，ｓ） ５．８ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−５，９Ｈｚ）５．２ （Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５ｆ（ｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） ２．４ （３Ｈ，ｓ） ２．３ （６Ｈ，ｓ） ２．２ （３Ｈ，ｓ） 実施例 ８ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル”）−２−（Ｚ−（３，４−ジアミノベンゾイル〕
オキシイミノ〕アセタミド） −３−（（２−カルボキ
シ−５−メチル−３−トリアゾロ（１゜５−ａ）ピリミ
ジン−７−イル）チオメチル〕−８−オキソー５−チア
−１−アザビシクロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−
２−カルボン酸の製造実施例 １と同様の方法で上記標
題化合物を得た。
１３７４．１３１６，１１９９゜ＮＭＲスペクトル（Ｄ
ＭＳＯ−ｄｓ ； ｐｐｍ）１０．１ （ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝９Ｈ２）７．７ （ＬＨ，ｓ） ７．４ （ＩＨ，ｓ） ７．１ （ＬＨ，ｓ） ５．８ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−５，９Ｈｚ）５．２ （Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５ｆ（ｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） ２．４ （３Ｈ，ｓ） ２．３ （６Ｈ，ｓ） ２．２ （３Ｈ，ｓ） 実施例 ８ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル”）−２−（Ｚ−（３，４−ジアミノベンゾイル〕
オキシイミノ〕アセタミド） −３−（（２−カルボキ
シ−５−メチル−３−トリアゾロ（１゜５−ａ）ピリミ
ジン−７−イル）チオメチル〕−８−オキソー５−チア
−１−アザビシクロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−
２−カルボン酸の製造実施例 １と同様の方法で上記標
題化合物を得た。
ＩＲスペクトル（Ｋ Ｂ ｒ ； ｃ ｙＨ−１）１７
７５、 １？３５． １６７６、 １６３４゜１５９９
．１５０８，１２６２．１２０２ＮＭＲスペクトル（Ｄ
ＭＳＯ−ｄ６ ； Ｉ）Ｉ）ｍ）１０、 ０
（ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝８Ｈｚ）７．６〜６．７ （
５Ｈ，ｍ） ６．０ （ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）５．３ （
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） 実施例 ９ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル’）−２−（Ｚ−（４，５−ジヒドロキシ−２−メ
チルヘンゾイル〕オキシイミノ〕アセタミド）−３−１
（５−メチル−２−スルホキシ−８−トリアゾロ（１５
−ａ３ ピリミジン−７−イル）チオメチルツー８−オ
キソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，２，，０）オ
クト−２−エン−２−カルボン酸の製造 実施例 １と同様の方法で上記標題化合物を得た。
７５、 １？３５． １６７６、 １６３４゜１５９９
．１５０８，１２６２．１２０２ＮＭＲスペクトル（Ｄ
ＭＳＯ−ｄ６ ； Ｉ）Ｉ）ｍ）１０、 ０
（ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝８Ｈｚ）７．６〜６．７ （
５Ｈ，ｍ） ６．０ （ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）５．３ （
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） 実施例 ９ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル’）−２−（Ｚ−（４，５−ジヒドロキシ−２−メ
チルヘンゾイル〕オキシイミノ〕アセタミド）−３−１
（５−メチル−２−スルホキシ−８−トリアゾロ（１５
−ａ３ ピリミジン−７−イル）チオメチルツー８−オ
キソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，２，，０）オ
クト−２−エン−２−カルボン酸の製造 実施例 １と同様の方法で上記標題化合物を得た。
■Ｒスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７７３．
１６５４，１５９５．１５０９゜ＮＭＲスペクトル（Ｄ
ＭＳＯ−ｄ６ ； ｐ ｐｍ）１０．０ （ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝８Ｈｚ） １− ４ （ＬＨ，ｓ） ７．３ （ＩＨ，ｓ） ７．１ （ＩＨ，ｓ） ６、 ７ （ＬＨ，ｓ） ５、 ９ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝５． ８Ｈｚ）５
、 ２ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ４
（２Ｈ，ｂｓ） ３、 ６ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，５） ２− ４ （３Ｈ，ｓ） 実施例 １Ｏ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（３，４−ビス（ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ）ベンゾイル〕オキシイミノ〕アセタミ
ド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル−ｓ−トリ
アゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチ
ルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，
２，０）オフトル２−ニンー２−カルボン酸の製造 実施例 １と同様の方法で上記標題化合物を得た。
１６５４，１５９５．１５０９゜ＮＭＲスペクトル（Ｄ
ＭＳＯ−ｄ６ ； ｐ ｐｍ）１０．０ （ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝８Ｈｚ） １− ４ （ＬＨ，ｓ） ７．３ （ＩＨ，ｓ） ７．１ （ＩＨ，ｓ） ６、 ７ （ＬＨ，ｓ） ５、 ９ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝５． ８Ｈｚ）５
、 ２ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ４
（２Ｈ，ｂｓ） ３、 ６ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，５） ２− ４ （３Ｈ，ｓ） 実施例 １Ｏ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（３，４−ビス（ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ）ベンゾイル〕オキシイミノ〕アセタミ
ド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル−ｓ−トリ
アゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチ
ルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，
２，０）オフトル２−ニンー２−カルボン酸の製造 実施例 １と同様の方法で上記標題化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７８０．
１？７３，１７３０，１６１７゜１５９７、 １５０９
． １２１９． １１９９ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ
−ｄｓ ｉ ｆ） ｐｍ）１ ０、 ２ （ＩＨ，
ｄ、 Ｊ＝８Ｈｚ）９− ３ （ＩＨ，ｓ） ９、 ２ （ＩＨ，ｓ） ８、 ３〜７． １ （１５Ｈ，ｍ）５、．９ （
ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝５． ８Ｈｚ）５、 ３ （Ｉ
Ｈ，ｄ、 Ｊ ＝５Ｈｚ）５、 ２ （４Ｈ，ｓ） ４、 ４ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） 実施例 １１ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２〜アミノ〜４−チアヅ
リル）−２−（Ｚ−ヒドロキシイミノ）アセタミド）−
３−（（６−カルポキシー７−ヒドロキジーｓ−トリア
ゾロ（１，５−ａ） ピリミジン−２〜イル）チオメチ
ルツー８−オキソ−５−チア−」−アザビシクロＣ４，
２，０７オクトー２−エン−２−カルボン酸の製造 工程 １ （６Ｒ，７Ｒ）−７−アミノ−３−（（６−カルポキシ
ー７−ヒドロキシーＳ−）リアゾロ〔１゜５−ａ〕ピリ
ミジン−２−イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チ
ア−１−アザビシクロ〔４゜２．０〕オクト−２−エン
−２−カルボン酸の製造 ６−カルポキシー７−ヒドロキシ〜２−メルカプト−５
−）リアゾロＣ１，５−ａ〕ピリミジン５．０ｇを０．
１ＭＩＪン酸緩（封ン夜（ｐＨ６，４）２７０ｍｌにＶ
Ｃし、炭酸水素ナトリウム４．３５ｇを加え４０℃に加
温し溶解した。この溶液に攪拌下に７−アミツセフアロ
スボラン酸６．４ｇを少量ずつ加えた。６０℃に加熱し
２時間攪拌した。室温に冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ６，５
にした後、酢酸エチルで不純物を抽出除去した。水層を
さらに、ｐＨ５，０にし、析出した結晶を濾過し。
１？７３，１７３０，１６１７゜１５９７、 １５０９
． １２１９． １１９９ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ
−ｄｓ ｉ ｆ） ｐｍ）１ ０、 ２ （ＩＨ，
ｄ、 Ｊ＝８Ｈｚ）９− ３ （ＩＨ，ｓ） ９、 ２ （ＩＨ，ｓ） ８、 ３〜７． １ （１５Ｈ，ｍ）５、．９ （
ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝５． ８Ｈｚ）５、 ３ （Ｉ
Ｈ，ｄ、 Ｊ ＝５Ｈｚ）５、 ２ （４Ｈ，ｓ） ４、 ４ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） 実施例 １１ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２〜アミノ〜４−チアヅ
リル）−２−（Ｚ−ヒドロキシイミノ）アセタミド）−
３−（（６−カルポキシー７−ヒドロキジーｓ−トリア
ゾロ（１，５−ａ） ピリミジン−２〜イル）チオメチ
ルツー８−オキソ−５−チア−」−アザビシクロＣ４，
２，０７オクトー２−エン−２−カルボン酸の製造 工程 １ （６Ｒ，７Ｒ）−７−アミノ−３−（（６−カルポキシ
ー７−ヒドロキシーＳ−）リアゾロ〔１゜５−ａ〕ピリ
ミジン−２−イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チ
ア−１−アザビシクロ〔４゜２．０〕オクト−２−エン
−２−カルボン酸の製造 ６−カルポキシー７−ヒドロキシ〜２−メルカプト−５
−）リアゾロＣ１，５−ａ〕ピリミジン５．０ｇを０．
１ＭＩＪン酸緩（封ン夜（ｐＨ６，４）２７０ｍｌにＶ
Ｃし、炭酸水素ナトリウム４．３５ｇを加え４０℃に加
温し溶解した。この溶液に攪拌下に７−アミツセフアロ
スボラン酸６．４ｇを少量ずつ加えた。６０℃に加熱し
２時間攪拌した。室温に冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ６，５
にした後、酢酸エチルで不純物を抽出除去した。水層を
さらに、ｐＨ５，０にし、析出した結晶を濾過し。
水で洗浄し上記標題化合物６．４ｇを得た。
ＪＲスペクトル（ＫＢｒ；ｃｍ−１）
１８００．１７０１．１６２３．１５５１゜１４１０、
１３５０． １２３５ ＮＭＲスペクトル＜ＤＭＳＯ−ｄ６ 、； ｐ ｐ ｍ
）８、 ６ （ＩＨ，ｓ） ４、 ９ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈ２）４、 ７
（ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ３ （２Ｈ，
ＡＢｑ） ３、 ６ （２Ｈ，ＡＢｑ） 工程 ２ （６Ｒ，７Ｒ）−７−アミノ−３−（（６−シフエニル
メチルオキシカルボニルー７−ヒドロキシーｓ−トリア
ゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−２−イル）チオメチル
ツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，２
，０３オクト−２−エン−２−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステルの製造 工程 １で得られた化合物６．４ｇをアセトン：メタノ
ール（３： １）７０ｍｌに懸濁し、室温でジフェニル
ジアゾメタン８．７ｇを加えて１晩攪拌した。不溶物を
濾過し、濾液を濃縮し、残渣にエーテルを加え結晶化し
て上記標題化合物３．５７ｇを得た。
１３５０． １２３５ ＮＭＲスペクトル＜ＤＭＳＯ−ｄ６ 、； ｐ ｐ ｍ
）８、 ６ （ＩＨ，ｓ） ４、 ９ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈ２）４、 ７
（ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ３ （２Ｈ，
ＡＢｑ） ３、 ６ （２Ｈ，ＡＢｑ） 工程 ２ （６Ｒ，７Ｒ）−７−アミノ−３−（（６−シフエニル
メチルオキシカルボニルー７−ヒドロキシーｓ−トリア
ゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−２−イル）チオメチル
ツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，２
，０３オクト−２−エン−２−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステルの製造 工程 １で得られた化合物６．４ｇをアセトン：メタノ
ール（３： １）７０ｍｌに懸濁し、室温でジフェニル
ジアゾメタン８．７ｇを加えて１晩攪拌した。不溶物を
濾過し、濾液を濃縮し、残渣にエーテルを加え結晶化し
て上記標題化合物３．５７ｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ；Ｃｍ−１）
１７７４、 １７３３． １５３４． １２３５゜ＮＭ
Ｒスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ； ｐｐｍ）８．６
（ＩＨ，ｓ） ７、 ５〜７． ２ （２１Ｈ，ｍ）７．０（ＩＨ，
ｓ） ５、 ０ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４ 、 ８
（Ｉ １１ 、 ｄ 、 Ｊ ＝ ５１−１
ｚ ）４、 ２ （２Ｈ，ＡＢｑ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） 工程 ３ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−トリフェニルメチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−（１−メトキシ
−１−メチルエチル）オキシイミノ〕アセタミド）−３
−（（６−シフエニルメチルオキシカルボニルー７−ヒ
ドロキシーｓ−トリアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−
２−イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−
７ザビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステルの製造工程 ２で得
られた化合物３．９７ｇをテトラヒドロフラン８８ｍ１
と塩化メチレン８８ｍ１の混合溶媒に熔解し、２−（２
−）ジフェニルメチルアミノ−４−チアゾリル）−２−
（Ｚ−１−メトキシ−１−メチルエチル）オキシイミノ
酢酸５゜２６ｇを加え窒素気流中で氷冷した。この溶液
にジシクロへキシルカルボジイミド２．１６ｇを加え室
温で２時間攪拌した。不溶物を濾過し濾液を濃縮した。
Ｒスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ； ｐｐｍ）８．６
（ＩＨ，ｓ） ７、 ５〜７． ２ （２１Ｈ，ｍ）７．０（ＩＨ，
ｓ） ５、 ０ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４ 、 ８
（Ｉ １１ 、 ｄ 、 Ｊ ＝ ５１−１
ｚ ）４、 ２ （２Ｈ，ＡＢｑ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） 工程 ３ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−トリフェニルメチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−（１−メトキシ
−１−メチルエチル）オキシイミノ〕アセタミド）−３
−（（６−シフエニルメチルオキシカルボニルー７−ヒ
ドロキシーｓ−トリアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−
２−イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−
７ザビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステルの製造工程 ２で得
られた化合物３．９７ｇをテトラヒドロフラン８８ｍ１
と塩化メチレン８８ｍ１の混合溶媒に熔解し、２−（２
−）ジフェニルメチルアミノ−４−チアゾリル）−２−
（Ｚ−１−メトキシ−１−メチルエチル）オキシイミノ
酢酸５゜２６ｇを加え窒素気流中で氷冷した。この溶液
にジシクロへキシルカルボジイミド２．１６ｇを加え室
温で２時間攪拌した。不溶物を濾過し濾液を濃縮した。
残渣に酢酸エチルを加え不溶物を濾過し濾液を濃縮した
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製
し上記標題化合物４． ０ｇを得た。
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製
し上記標題化合物４． ０ｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ；ｃｍ−１）
１７Ｂ９．１７１４．１６８７，１５３８゜１３７４．
１２３７．１１６９ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄｓ ； ｐｐｍ）９
．６ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ） ８．８ （ＩＨ，ｓ） ８、 ６ （ＩＨ，ｓ） ７、 ６〜７． １ （３５Ｈ，ｍ）６、 ６９
（ＩＨ，ｓ） ６、 ６６ （Ｉ 夏１． ５）６− ７
（ＩＨ，ｓ） ５、 ８ （ＬＨ，ｄｄ、 Ｊ＝４． ７Ｈｚ）５
、 ２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝４Ｈｚ）４、 ４
（２Ｈ，ＡＢｑ） ３、 ７ ＜２Ｈ，ＡＢｑ） ３、 １ （３Ｈ，ｓ） １、 ４ （６Ｈ，ｓ） 工程 ４ （６Ｒ，７１”２）−７−（２−（２−トリフェニルメ
チルアミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−ヒドロキシ
イミノ）アセタミド）−３−（（６−シフエニルメチル
オキシカルボニルー７−ヒドロキシーＳ−トリアゾロＮ
、５−ａ）ピリミジン−２−イル）チオメチル）−８−
オキソ−５−チアー■−アザビシクロ（４，２，０）オ
クト−２−エン−２−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テルの製造 工程 ３で得られた化合物１．６７ｇをアセトン１２ｍ
１に溶解し、室温でＩＮ塩酸２．８ｍｌを加えて４時間
攪拌した。半分量まで６１縮し酢酸エチル２００ｍ１を
加えて抽出し、５％炭酸水素ナトリウム溶液、飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、
濾液を濃縮し上記標題化合物１．３２ｇを得た。
１２３７．１１６９ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄｓ ； ｐｐｍ）９
．６ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ） ８．８ （ＩＨ，ｓ） ８、 ６ （ＩＨ，ｓ） ７、 ６〜７． １ （３５Ｈ，ｍ）６、 ６９
（ＩＨ，ｓ） ６、 ６６ （Ｉ 夏１． ５）６− ７
（ＩＨ，ｓ） ５、 ８ （ＬＨ，ｄｄ、 Ｊ＝４． ７Ｈｚ）５
、 ２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝４Ｈｚ）４、 ４
（２Ｈ，ＡＢｑ） ３、 ７ ＜２Ｈ，ＡＢｑ） ３、 １ （３Ｈ，ｓ） １、 ４ （６Ｈ，ｓ） 工程 ４ （６Ｒ，７１”２）−７−（２−（２−トリフェニルメ
チルアミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−ヒドロキシ
イミノ）アセタミド）−３−（（６−シフエニルメチル
オキシカルボニルー７−ヒドロキシーＳ−トリアゾロＮ
、５−ａ）ピリミジン−２−イル）チオメチル）−８−
オキソ−５−チアー■−アザビシクロ（４，２，０）オ
クト−２−エン−２−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テルの製造 工程 ３で得られた化合物１．６７ｇをアセトン１２ｍ
１に溶解し、室温でＩＮ塩酸２．８ｍｌを加えて４時間
攪拌した。半分量まで６１縮し酢酸エチル２００ｍ１を
加えて抽出し、５％炭酸水素ナトリウム溶液、飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、
濾液を濃縮し上記標題化合物１．３２ｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７８５．
１７１８，１７０２，１５３５゜１３１１．１２３７，
１１６９． ７０１ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ
６ ； ｐ ｐｍ）１１．３ （ＬＨ，ｓ） ９．６ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ） ８．６１ （ＩＨ，ｓ） ８．６０ （１１（、ｓ） ７．５〜７．３ （３５Ｈ，ｍ） ７．０ （ＩＨ，ｓ） ６．９ （ＬＨ，ｓ） ６．６ （ＩＨ，ｓ） ５、 ８ （ＩＩ−１，ｄｄ、 Ｊ＝４． ７Ｉ（
ｚ）５ 、 ２ （Ｉ Ｈ、ｄ 、 Ｊ ＝ ４
Ｈｚ ）４、３ （２Ｉ−１、Ａ Ｂ ｑ ）３、
７ （２１１，ＡＢｑ） 工程 ５ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−ヒドロキシイミノ）アセタミド）−
’３−（（６−カルポキシー７−ヒドロキシーｓ−）リ
アゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−２−イル）チオメチ
ル〕−８−オキソー５−チア−１−アザビシクロ（４，
２，０）オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 工程 ４で得られた化合物０．７ｇをジクロロエタン７
ｍ ｌに溶解し、水冷下にアニソール０゜４ｍｌ、ｔ
−リフルオロ酢酸０．８ｍｌを加え、溶解した。水冷下
で１０分、室温で９０分攪拌後濃縮した。残渣にエーテ
ルを加え結晶化し、結晶をアセトンで洗い上記標題化合
物１３２ｇを得た。
１７１８，１７０２，１５３５゜１３１１．１２３７，
１１６９． ７０１ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ
６ ； ｐ ｐｍ）１１．３ （ＬＨ，ｓ） ９．６ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ） ８．６１ （ＩＨ，ｓ） ８．６０ （１１（、ｓ） ７．５〜７．３ （３５Ｈ，ｍ） ７．０ （ＩＨ，ｓ） ６．９ （ＬＨ，ｓ） ６．６ （ＩＨ，ｓ） ５、 ８ （ＩＩ−１，ｄｄ、 Ｊ＝４． ７Ｉ（
ｚ）５ 、 ２ （Ｉ Ｈ、ｄ 、 Ｊ ＝ ４
Ｈｚ ）４、３ （２Ｉ−１、Ａ Ｂ ｑ ）３、
７ （２１１，ＡＢｑ） 工程 ５ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−ヒドロキシイミノ）アセタミド）−
’３−（（６−カルポキシー７−ヒドロキシーｓ−）リ
アゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−２−イル）チオメチ
ル〕−８−オキソー５−チア−１−アザビシクロ（４，
２，０）オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 工程 ４で得られた化合物０．７ｇをジクロロエタン７
ｍ ｌに溶解し、水冷下にアニソール０゜４ｍｌ、ｔ
−リフルオロ酢酸０．８ｍｌを加え、溶解した。水冷下
で１０分、室温で９０分攪拌後濃縮した。残渣にエーテ
ルを加え結晶化し、結晶をアセトンで洗い上記標題化合
物１３２ｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７７３．
１６９５．１６４７．１５８８゜ＮＭＲスペクトル（Ｄ
ＭＳＯ−ｄａ ； ｐｐｍ）１１、 ９ （ＩＨ，
ｓ） ９．６ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ８、 ６ （ＩＩＩ、 Ｓ） ６、 ８ （ＩＨ，ｓ） ５、．８ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）５．２
（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ４．３ （２Ｈ，ＡＢＱ） ３．７ （２１（、ＡＢｑ） 実施例 １２ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−ヒドロキシイミノ）アセタミド）−
３−Ｃ（５−カルボキシ−ｓ−トリアゾロ（１，５−ａ
）ピリミジン−７−イル）チオメチル〕−８−オキソー
５−チア−１−アザビシクロ（４，２，０）オクト−２
−エン−２＝カルボン酸の製造 実施例 １１と同様の方法で上記標題化合物を得た。
１６９５．１６４７．１５８８゜ＮＭＲスペクトル（Ｄ
ＭＳＯ−ｄａ ； ｐｐｍ）１１、 ９ （ＩＨ，
ｓ） ９．６ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ８、 ６ （ＩＩＩ、 Ｓ） ６、 ８ （ＩＨ，ｓ） ５、．８ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）５．２
（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ４．３ （２Ｈ，ＡＢＱ） ３．７ （２１（、ＡＢｑ） 実施例 １２ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−ヒドロキシイミノ）アセタミド）−
３−Ｃ（５−カルボキシ−ｓ−トリアゾロ（１，５−ａ
）ピリミジン−７−イル）チオメチル〕−８−オキソー
５−チア−１−アザビシクロ（４，２，０）オクト−２
−エン−２＝カルボン酸の製造 実施例 １１と同様の方法で上記標題化合物を得た。
ｒＲスペクトル（ＫＢｒＨｃｍ−１）
１７７４、 １６Ｂ４． １６３０． １５４１゜１３
７０、 １１８７ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄｓ ；ｐｐｍ）１
１、 ３ （ＬＨ，ｂｓ） ９、 ４ （ＩＩ−１，ｄ、 Ｊ＝８１ｒｚ）８、
５ （ＬＨ，ｓ） ７、 ５ （ＩＨ，ｓ） ６、 ６ ＜ＩＨ，ｓ） ５、 ８ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝５． ８Ｈｚ）５
、 １ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ ＝５Ｈｚ）４、 ４
（２Ｈ，ＡＢｑ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） 実施例 １３ （６Ｒ，７Ｒ）−７−［２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（カルボキシ（３，４゜５−トリア
セトキシフェニル）メチル〕オキシイミノ〕アセクミド
）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル−５−１−リ
アゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチ
ル〕−８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，
２，０’）オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 工程 １ ３、、 ４． ５−１−リヒドロキシフェニル酢酸の製
造３．４．５−）リメトキシフェニル酢酸３５ｇを酢酸
４２０ｍ１と４７％臭化水素酸５３０ｍ１に溶解し、３
時間還流した。室温に冷却し、水５００ｍ１を化え、炭
酸ナトリウムを添加しｐＨ３に調整し不純物を酢酸エチ
ル５００ ｍ ｌで抽出した。水層をＩＮ塩酸でｐ Ｈ
１とし、酢酸エチル５００ｍ１で４回抽出した。有機層
を合わせて、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。濾液を濃縮し上記標題化合物２０．２ｇを
得た。
７０、 １１８７ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄｓ ；ｐｐｍ）１
１、 ３ （ＬＨ，ｂｓ） ９、 ４ （ＩＩ−１，ｄ、 Ｊ＝８１ｒｚ）８、
５ （ＬＨ，ｓ） ７、 ５ （ＩＨ，ｓ） ６、 ６ ＜ＩＨ，ｓ） ５、 ８ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝５． ８Ｈｚ）５
、 １ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ ＝５Ｈｚ）４、 ４
（２Ｈ，ＡＢｑ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） 実施例 １３ （６Ｒ，７Ｒ）−７−［２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（カルボキシ（３，４゜５−トリア
セトキシフェニル）メチル〕オキシイミノ〕アセクミド
）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル−５−１−リ
アゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチ
ル〕−８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，
２，０’）オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 工程 １ ３、、 ４． ５−１−リヒドロキシフェニル酢酸の製
造３．４．５−）リメトキシフェニル酢酸３５ｇを酢酸
４２０ｍ１と４７％臭化水素酸５３０ｍ１に溶解し、３
時間還流した。室温に冷却し、水５００ｍ１を化え、炭
酸ナトリウムを添加しｐＨ３に調整し不純物を酢酸エチ
ル５００ ｍ ｌで抽出した。水層をＩＮ塩酸でｐ Ｈ
１とし、酢酸エチル５００ｍ１で４回抽出した。有機層
を合わせて、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。濾液を濃縮し上記標題化合物２０．２ｇを
得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ４ ）１７１８．
１７０６，１６１５，１５４１゜１３２４．１１８０．
１０１０ ３５Ｎスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ； ｐｐｍ）９．
４ （４Ｈ，ｂｓ） ６．１ （２Ｈ，ｓ） ３．２ （２Ｈ，ｓ） 工程 ２ ３．４．５−１−リアセトキシフェニル酢酸の！！Ｉ！
！造工程 １で得られた化合物２３ｇを無水酢酸９０ｍ
１に懸濁し、水冷下に濃硫酸０．８５ｍ１を滴下した。
１７０６，１６１５，１５４１゜１３２４．１１８０．
１０１０ ３５Ｎスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ； ｐｐｍ）９．
４ （４Ｈ，ｂｓ） ６．１ （２Ｈ，ｓ） ３．２ （２Ｈ，ｓ） 工程 ２ ３．４．５−１−リアセトキシフェニル酢酸の！！Ｉ！
！造工程 １で得られた化合物２３ｇを無水酢酸９０ｍ
１に懸濁し、水冷下に濃硫酸０．８５ｍ１を滴下した。
この溶液を室温で１時間攪拌した後、４００ｍ１の水に
注ぎ、 Ｆｒ出した結晶を濾取した。結晶を酢酸エチル
５１に熔解し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾液を濃
縮し、上記標題化合物３４．５ｇを得た。
注ぎ、 Ｆｒ出した結晶を濾取した。結晶を酢酸エチル
５１に熔解し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾液を濃
縮し、上記標題化合物３４．５ｇを得た。
ｒＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ゛Ｉ ）１７７０
．１７０２，１４４１，１３７３゜１２０１．１１７９
，１１４７，１０５３゜ＮＭＲスペクト／Ｌ／ （ＤＭ
ＳＯ−ｄａ ； ｐ ｐｍ）７．１ （２Ｈ，ｓ） ３．６ （２Ｈ，５） ２．３ （９Ｈ，ｓ） 工程、３ α−プロモー３．４．５−）リア上１−キシフェニル酢
酸ジフェニルメチルエステルの製造工程 ２で得られた
化合物３４．５ｇを９０ｍ１の四塩化炭素に懸濁し塩化
チオニル３２．５ｍ１、ジメチルホルムアミド０．２ｍ
ｌを加え、６０℃に加熱した。１時間後、室温に冷却し
、Ｎ−ブロモスクシンイミド２３．７ｇ、四塩化炭素６
Ｑｍｌ、微量の臭化水素酸を加え６０℃で２０分攪拌後
、加熱還流した。３時間後、濾過し濾液を濃縮した。残
渣をアセトン２００ｍ１に熔解し水冷下に飽和炭酸水素
ナトリウム溶液を滴下し、ＰＨ５，０に調整した後、Ｉ
Ｎ塩酸でｐＨ１にし。
．１７０２，１４４１，１３７３゜１２０１．１１７９
，１１４７，１０５３゜ＮＭＲスペクト／Ｌ／ （ＤＭ
ＳＯ−ｄａ ； ｐ ｐｍ）７．１ （２Ｈ，ｓ） ３．６ （２Ｈ，５） ２．３ （９Ｈ，ｓ） 工程、３ α−プロモー３．４．５−）リア上１−キシフェニル酢
酸ジフェニルメチルエステルの製造工程 ２で得られた
化合物３４．５ｇを９０ｍ１の四塩化炭素に懸濁し塩化
チオニル３２．５ｍ１、ジメチルホルムアミド０．２ｍ
ｌを加え、６０℃に加熱した。１時間後、室温に冷却し
、Ｎ−ブロモスクシンイミド２３．７ｇ、四塩化炭素６
Ｑｍｌ、微量の臭化水素酸を加え６０℃で２０分攪拌後
、加熱還流した。３時間後、濾過し濾液を濃縮した。残
渣をアセトン２００ｍ１に熔解し水冷下に飽和炭酸水素
ナトリウム溶液を滴下し、ＰＨ５，０に調整した後、Ｉ
Ｎ塩酸でｐＨ１にし。
水２００ｍ１を加え酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水
で洗い無水硫酸す） ＩＪカラム乾燥後、濃縮して、ブ
ロム体を粗生成物として４０．３ｇ得た。
で洗い無水硫酸す） ＩＪカラム乾燥後、濃縮して、ブ
ロム体を粗生成物として４０．３ｇ得た。
これをアセ１−ン２００ｍ１に溶解し、ジフェニルジア
ゾメタン２０．５ｇを加えた。原料が消失したのを確認
し、１時間後２反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより精製し。
ゾメタン２０．５ｇを加えた。原料が消失したのを確認
し、１時間後２反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより精製し。
上記標題化合物３０［を得た。
ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ｉ ｐｐｍ）７．
５〜７．３ （１２Ｈ，ｍ） ６、 ９ （ＬＨ，ｓ） ６、 ２ （ＩＨ，３） ２、 ３ （９Ｈ，ｓ） 工程 ４ α−Ｎ−フタロイルオキシ−３，４，５−トリアセトキ
シフェニル酢酸ジフェニルメチルエステルの製造 Ｎ−ヒドロキシフタルイミド８．８ｇをアセトニトリル
１８０ｍ１に恐濁し水冷化にトリエチルアミン７．５ｍ
ｌを加えた。攪拌下に、工程 ３で得られた化合物３０
ｇをアセトニトリル１２’Ｏｍｌに溶かした溶液を一度
に加え１５分攪ｔ’ｐ した。
５〜７．３ （１２Ｈ，ｍ） ６、 ９ （ＬＨ，ｓ） ６、 ２ （ＩＨ，３） ２、 ３ （９Ｈ，ｓ） 工程 ４ α−Ｎ−フタロイルオキシ−３，４，５−トリアセトキ
シフェニル酢酸ジフェニルメチルエステルの製造 Ｎ−ヒドロキシフタルイミド８．８ｇをアセトニトリル
１８０ｍ１に恐濁し水冷化にトリエチルアミン７．５ｍ
ｌを加えた。攪拌下に、工程 ３で得られた化合物３０
ｇをアセトニトリル１２’Ｏｍｌに溶かした溶液を一度
に加え１５分攪ｔ’ｐ した。
反応液を酢酸エチルで１．５１で希釈し、氷冷したＩＮ
クエン酸６００ｍ１．ｉ３和食塩水５００ｍ１で１回ず
つ洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
上記標題化合物Ｌｏｇを得た。
クエン酸６００ｍ１．ｉ３和食塩水５００ｍ１で１回ず
つ洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し
上記標題化合物Ｌｏｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７８２．
１７３５，１３７２．１２０Ｂ。
１７３５，１３７２．１２０Ｂ。
１１８７．１０５４． ７０Ｏ
ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ； ｐ ｐｍ）
７、 ８ （４Ｈ，ｓ） ７、 ４〜７． ２ （１２Ｈ，ｍ）６、 ９ （
ＩＨ，ｓ） ６、 ２ （ＩＨ，ｓ） ２、 ３２ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２９ （６Ｈ，ｓ） 工程 ５ α−アミノオキシ−３，４，５−トリアセトキシフェニ
ル酢酸ジフェニルメチルエステルの製造工程 ４で得ら
れた化合物Ｌｏｇを乾燥塩化メチレン１２０ｍ１に溶解
し、−６０℃に冷却しメチルヒドラジン０．８３ｍ１を
ゆっくり加えた。
７、 ８ （４Ｈ，ｓ） ７、 ４〜７． ２ （１２Ｈ，ｍ）６、 ９ （
ＩＨ，ｓ） ６、 ２ （ＩＨ，ｓ） ２、 ３２ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２９ （６Ｈ，ｓ） 工程 ５ α−アミノオキシ−３，４，５−トリアセトキシフェニ
ル酢酸ジフェニルメチルエステルの製造工程 ４で得ら
れた化合物Ｌｏｇを乾燥塩化メチレン１２０ｍ１に溶解
し、−６０℃に冷却しメチルヒドラジン０．８３ｍ１を
ゆっくり加えた。
滴下後、徐々に０℃まで昇温し４０分攪拌した。
不溶物を濾取し濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製し上記標題化合物２．
２ｇを得た。
ムクロマトグラフィーにより精製し上記標題化合物２．
２ｇを得た。
ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３；Ｉ）ｐｍ）７．３〜７
．１ （１２Ｈ，ｍ） ６、 ９ （ＬＨ，ｓ） ５、 ２ （ＩＨ，ｓ） ２、 ２７ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２３ （６Ｈ，ｓ） 工程 ６ ２−（２−）リフ上ニルメチルアミノ−４−チアゾリル
）−２−（Ｚ−ジフェニルメチルオキシカルボニル（３
，４，５−１−リアセトキシフェニル）メチル〕オキシ
イミノ酢酸の製造 （２−トリフェニルメチルアミンチアゾール−４−イル
）グリオキシル酸１．７ｇをメタノール１００ｍ１に熔
解し室温で攪拌下に、工程 ５で得られた化合物２．２
ｇのメタノール４０ｍ１溶液を滴下した。１時間後１反
応液を濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィにて＄ｉＮし上記標題化合物２．２ｇを得た。
．１ （１２Ｈ，ｍ） ６、 ９ （ＬＨ，ｓ） ５、 ２ （ＩＨ，ｓ） ２、 ２７ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２３ （６Ｈ，ｓ） 工程 ６ ２−（２−）リフ上ニルメチルアミノ−４−チアゾリル
）−２−（Ｚ−ジフェニルメチルオキシカルボニル（３
，４，５−１−リアセトキシフェニル）メチル〕オキシ
イミノ酢酸の製造 （２−トリフェニルメチルアミンチアゾール−４−イル
）グリオキシル酸１．７ｇをメタノール１００ｍ１に熔
解し室温で攪拌下に、工程 ５で得られた化合物２．２
ｇのメタノール４０ｍ１溶液を滴下した。１時間後１反
応液を濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィにて＄ｉＮし上記標題化合物２．２ｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７８０．
１？５２，１４９６，１３７０゜１２０６．１１Ｂ６，
１０５３． ７０１ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ
ａ ； ｐｐｍ）８、 ９ （ＩＨ，ｓ） ７、 ３〜７． ２ （２７Ｈ，ｍ）６、 ８６
（ＩＨ，ｓ） ６、 ８３ （ＩＨ，ｓ） ５、 ９ （ＩＨ，ｓ） ２、 ３０ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２８ （６Ｈ，ｓ） 工程 ７ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−トリフェニルメチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−〔ジフェニルメ
チルオキシカルボニル（３，４゜５−トリアセトキシフ
ェニル）メチル〕オキシイミノ〕アセタミド）−３−（
（２−ジフェニルメチルオキシカルボニル−５−メチル
−５−トリアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル
）千オメチル〕−８−オキソー５−チア−１−アザビシ
クロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カルホン酸
ジフェニルメチルエステルの製造工程 ６で得られた化
合物２．２ｇと（６Ｒ１７Ｒ）−７−アミノ−３−（（
２−ジフェニルメチルオキシカルボニル−５−メチル−
５−ｔ−リアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル
）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロ（４，２，０３オクト−２−エン−２−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル１．８４ｇを塩化メチレン６
５ｍ１に溶解し水冷下にジシクロへキシルカルボジイミ
ド０．５９ｇを加え、室温で１晩攪拌した。不溶物を濾
取し、濾液を濃縮後。
１？５２，１４９６，１３７０゜１２０６．１１Ｂ６，
１０５３． ７０１ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ
ａ ； ｐｐｍ）８、 ９ （ＩＨ，ｓ） ７、 ３〜７． ２ （２７Ｈ，ｍ）６、 ８６
（ＩＨ，ｓ） ６、 ８３ （ＩＨ，ｓ） ５、 ９ （ＩＨ，ｓ） ２、 ３０ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２８ （６Ｈ，ｓ） 工程 ７ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−トリフェニルメチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−〔ジフェニルメ
チルオキシカルボニル（３，４゜５−トリアセトキシフ
ェニル）メチル〕オキシイミノ〕アセタミド）−３−（
（２−ジフェニルメチルオキシカルボニル−５−メチル
−５−トリアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル
）千オメチル〕−８−オキソー５−チア−１−アザビシ
クロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カルホン酸
ジフェニルメチルエステルの製造工程 ６で得られた化
合物２．２ｇと（６Ｒ１７Ｒ）−７−アミノ−３−（（
２−ジフェニルメチルオキシカルボニル−５−メチル−
５−ｔ−リアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル
）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロ（４，２，０３オクト−２−エン−２−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル１．８４ｇを塩化メチレン６
５ｍ１に溶解し水冷下にジシクロへキシルカルボジイミ
ド０．５９ｇを加え、室温で１晩攪拌した。不溶物を濾
取し、濾液を濃縮後。
残渣に酢酸エチルを加え不溶物を濾取した。濾液を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮
し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精
製し上記標題化合物低極性体 ０．８６ｇ および 高極性体 ０．９４ｇを得た。
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮
し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精
製し上記標題化合物低極性体 ０．８６ｇ および 高極性体 ０．９４ｇを得た。
低極性体
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ；Ｃｍ−１）
１７８２．１７４２，１５２１，１５０８゜１４９８．
１３７１．１１Ｂ５，１０５４゜０Ｏ ＮＭＲスペクトルＣＤＭＳＯｄ６ Ｂ ｐ ｐｍ）９
、 ６ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝９Ｈｚ）８． ７
（ＬＨ，Ｓ） ７、 ５〜７． ２ （４９Ｈ，ｍ）６、 ９ （
ＩＨ，ｓ） ６、 ８３ （ＬＨ，ｓ） ６、 ８０ （ＬＨ，ｓ） ５、 ９ （ＬＨ，ｓ） ５、 ８ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝５． ９Ｈｚ）５
、 ２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ３
（２Ｈ，ｂｓ） ３、 ６ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２０ （３Ｈ，ｓ） ２、 １８ （６Ｈ，ｓ） 高極性体 ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７８２．
１？４２，１５９６，１４９８゜１４５０．１３７１．
７４４． ７００゜０Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ；ｐｐｍ）９、
８ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝７Ｈｚ）８、 ９ （
ＩＨ，ｓ） ７、 ５〜７． ２ （４９Ｈ，ｍ）６、 ９ （
Ｉｆ（、ｓ） ６、 ８２ （ＬＨ，ｓ） ６、 ７６ （ＩＨ，ｓ） ５、 ９ （ＬＨ，ｓ） ５、 ８ （ＬＨ，ｄｄ、 Ｊ＝５． ７Ｈ２）５
、 ２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ３
（２Ｈ，ｂｓ） ３、 ６ （２Ｈ，ＡＢｑ＞ ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ３ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２ （６Ｈ，ｓ） 工程 ８ （６Ｒ，７Ｒ）−７−Ｃ２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−ＣＺ−Ｃカルボキシ（３，４゜５−トリア
セトキシフェニル）メチル〕オキシイミノ〕アセタミド
）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル−５−）リア
ゾロ［１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチル
〕−８−オキソー５−チア−１−アザビシクロ（４，２
，０）オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 工程 ７で得られた化合物（低極性体）０．８６ｇをジ
クロロエタン７ ｍ ｌに熔解し氷冷した。
１３７１．１１Ｂ５，１０５４゜０Ｏ ＮＭＲスペクトルＣＤＭＳＯｄ６ Ｂ ｐ ｐｍ）９
、 ６ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝９Ｈｚ）８． ７
（ＬＨ，Ｓ） ７、 ５〜７． ２ （４９Ｈ，ｍ）６、 ９ （
ＩＨ，ｓ） ６、 ８３ （ＬＨ，ｓ） ６、 ８０ （ＬＨ，ｓ） ５、 ９ （ＬＨ，ｓ） ５、 ８ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝５． ９Ｈｚ）５
、 ２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ３
（２Ｈ，ｂｓ） ３、 ６ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２０ （３Ｈ，ｓ） ２、 １８ （６Ｈ，ｓ） 高極性体 ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７８２．
１？４２，１５９６，１４９８゜１４５０．１３７１．
７４４． ７００゜０Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ；ｐｐｍ）９、
８ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝７Ｈｚ）８、 ９ （
ＩＨ，ｓ） ７、 ５〜７． ２ （４９Ｈ，ｍ）６、 ９ （
Ｉｆ（、ｓ） ６、 ８２ （ＬＨ，ｓ） ６、 ７６ （ＩＨ，ｓ） ５、 ９ （ＬＨ，ｓ） ５、 ８ （ＬＨ，ｄｄ、 Ｊ＝５． ７Ｈ２）５
、 ２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ３
（２Ｈ，ｂｓ） ３、 ６ （２Ｈ，ＡＢｑ＞ ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ３ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２ （６Ｈ，ｓ） 工程 ８ （６Ｒ，７Ｒ）−７−Ｃ２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−ＣＺ−Ｃカルボキシ（３，４゜５−トリア
セトキシフェニル）メチル〕オキシイミノ〕アセタミド
）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル−５−）リア
ゾロ［１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチル
〕−８−オキソー５−チア−１−アザビシクロ（４，２
，０）オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 工程 ７で得られた化合物（低極性体）０．８６ｇをジ
クロロエタン７ ｍ ｌに熔解し氷冷した。
この溶液にアニソール０．３６ｍ１．ｔ−リフルオロ酢
酸０．７３ｍ１を加えた後、室温で３時間攪拌した。上
清をデカントで除き、残渣をジクロロエタン５ ｍ ｌ
で洗い、エーテルで結晶化して上記標題化合物０．４５
ｇを得た。
酸０．７３ｍ１を加えた後、室温で３時間攪拌した。上
清をデカントで除き、残渣をジクロロエタン５ ｍ ｌ
で洗い、エーテルで結晶化して上記標題化合物０．４５
ｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ；ｃｍ−１）
１７７４．１６７６．１６３０，１５９７゜１５０９．
１１９３ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ；ｆ）ｌ）ｍ）
９．５ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ７．４ （ＩＨ，ｓ） ７．３ （２Ｈ，ｓ） ６．８ （ＩＨ，ｓ） ５．８ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９ｌ−１ｚ）５．６
（ＩＨ，ｓ） ５、 ２ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４− ４
（２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ３ （９Ｈ，ｓ） 工程 ９ 工程 ８の異性体の製造 工程 ７で得られた化合物（高極性体）を工程８と同様
の操作を行い、上記標題化合物０． ２５ｇを得た。
１１９３ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ；ｆ）ｌ）ｍ）
９．５ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ７．４ （ＩＨ，ｓ） ７．３ （２Ｈ，ｓ） ６．８ （ＩＨ，ｓ） ５．８ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９ｌ−１ｚ）５．６
（ＩＨ，ｓ） ５、 ２ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４− ４
（２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ３ （９Ｈ，ｓ） 工程 ９ 工程 ８の異性体の製造 工程 ７で得られた化合物（高極性体）を工程８と同様
の操作を行い、上記標題化合物０． ２５ｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７７４．
１６７６．１６３６．１６２５゜１５９７．１５０９．
１３７４，１１９４ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ
；ｐｐｍ）９、．８ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ） ７．４ （ＩＨ，Ｓ） ７．３ （２Ｈ，５） ６− ８ （ＩＨ，ｓ） ５．８ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．７［（ｚ）５．６
（ＩＨ，ｓ） ５、 ２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ ＝５Ｈｚ）４． ４
（２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ ＜２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ３ （９Ｈ，ｓ） 実施例 １４ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（カルボキシ（３゜４．５−１−リ
ヒドロキシフェニル）メチル〕オキシイミノ）アセタミ
ド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル−３−トリ
アゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチ
ル〕−８−オキソー５−チア−１−アザビシクロ（４，
２，０）オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造工程
１ 実施例 １３の工程 ８で得られた化合物０゜４３ｇを
水１２ｍ１に懸濁し、炭酸水素ナトリウムをゆっくり加
えてｐＨ８，０に調整して、窒素置換した。室温で５時
間攪拌後２反応液をダイヤイオンＨＰＩＯに吸着し、水
で溶出し、目的物を含む分画を集め凍結乾燥して上記標
題化合物０゜１５ｇを得た。
１６７６．１６３６．１６２５゜１５９７．１５０９．
１３７４，１１９４ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ
；ｐｐｍ）９、．８ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ） ７．４ （ＩＨ，Ｓ） ７．３ （２Ｈ，５） ６− ８ （ＩＨ，ｓ） ５．８ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．７［（ｚ）５．６
（ＩＨ，ｓ） ５、 ２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ ＝５Ｈｚ）４． ４
（２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ ＜２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ３ （９Ｈ，ｓ） 実施例 １４ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（カルボキシ（３゜４．５−１−リ
ヒドロキシフェニル）メチル〕オキシイミノ）アセタミ
ド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル−３−トリ
アゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチ
ル〕−８−オキソー５−チア−１−アザビシクロ（４，
２，０）オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造工程
１ 実施例 １３の工程 ８で得られた化合物０゜４３ｇを
水１２ｍ１に懸濁し、炭酸水素ナトリウムをゆっくり加
えてｐＨ８，０に調整して、窒素置換した。室温で５時
間攪拌後２反応液をダイヤイオンＨＰＩＯに吸着し、水
で溶出し、目的物を含む分画を集め凍結乾燥して上記標
題化合物０゜１５ｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７？２．
１５９７．１５１３．１４０２゜ＮＭＲスペクトル（Ｄ
２０ ； ｐ ｐｍ）１．２ （ＩＨ，ｓ） ７．０ （ＬＨ，ｓ） ６．６ （２Ｈ，ｓ） ５．６ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ５．３ （ＩＨ，ｓ） ５．０ （１１−１，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）４．３ （２Ｈ
，ＡＢｑ） ３．４ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） 工程 ２ 実施例 １３の工程 ９で得られた化合物を。
１５９７．１５１３．１４０２゜ＮＭＲスペクトル（Ｄ
２０ ； ｐ ｐｍ）１．２ （ＩＨ，ｓ） ７．０ （ＬＨ，ｓ） ６．６ （２Ｈ，ｓ） ５．６ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ５．３ （ＩＨ，ｓ） ５．０ （１１−１，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）４．３ （２Ｈ
，ＡＢｑ） ３．４ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） 工程 ２ 実施例 １３の工程 ９で得られた化合物を。
同様に処理し、上記標題化合物０．１ｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ；ｃｍ−１）
１７？３，１５９６．１５１７．１３１１ＮＭＲスペク
トル（Ｄ２０ ； ｐｐｍ）７、 ２ （ＩＨ，ｓ） ７、 ０ （ＩＨ，ｓ） ６、 ６ （２Ｈ，ｓ） ５、 ６ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ−４Ｈｚ）５、 ３
（ＬＨ，ｓ） ５、 ０ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝４Ｈｚ）４、 ４
（２Ｈ，ＡＢＱ） ３、 ３ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） 実施例 １５ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−ＣＺ−（カルボキシ（４゜５−ジアセトキ
シ−２−メチルフェニル）メチル〕オキシイミノ〕アセ
タミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル−ｓ
−、）リアゾロ〔ｌ、５−ａ）ピリミジン−７−イル）
チオメチル〕−８−オキソー５−チア−１−アザビシク
ロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸の
製造実施例 １３と同様の方法で上記標題化合物を得た
。
トル（Ｄ２０ ； ｐｐｍ）７、 ２ （ＩＨ，ｓ） ７、 ０ （ＩＨ，ｓ） ６、 ６ （２Ｈ，ｓ） ５、 ６ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ−４Ｈｚ）５、 ３
（ＬＨ，ｓ） ５、 ０ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝４Ｈｚ）４、 ４
（２Ｈ，ＡＢＱ） ３、 ３ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） 実施例 １５ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−ＣＺ−（カルボキシ（４゜５−ジアセトキ
シ−２−メチルフェニル）メチル〕オキシイミノ〕アセ
タミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル−ｓ
−、）リアゾロ〔ｌ、５−ａ）ピリミジン−７−イル）
チオメチル〕−８−オキソー５−チア−１−アザビシク
ロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸の
製造実施例 １３と同様の方法で上記標題化合物を得た
。
ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ；Ｉ）ｐｍ）９
．４ （ＩＨ，ｄ、Ｊ−８Ｈ２） ７．４ （ＩＨ，ｓ） ７．３ （ＩＨ，ｓ） ７．０ （ＬＨ，ｓ） ６．８ （ＩＨ，ｓ） ５、 ８ （Ｉ Ｈ，ｄｄ、 Ｊ＝４．
８Ｈ２）５．７ （ＩＨ，ｓ） ５．１ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．６ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３１１，ｓ） ２．４ （３Ｈ，ｓ） ２．２ （６Ｈ，ｓ） 実施例 １６ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（カルボキシ（４゜５−ジヒドロキ
シ−２−メチルフェニル）メチル）オキシイミノ〕アセ
タミド）−３−（（２−カルボキシー５−メチル〜Ｓ−
）リアゾロ〔１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオ
メチルクー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（
４，２゜０〕オクト−２〜エン−２−カルボン酸の製造
実施例 １５で得られた化合物を実施例 １４と同様の
方法で処理し上記標題化合物を得た。
．４ （ＩＨ，ｄ、Ｊ−８Ｈ２） ７．４ （ＩＨ，ｓ） ７．３ （ＩＨ，ｓ） ７．０ （ＬＨ，ｓ） ６．８ （ＩＨ，ｓ） ５、 ８ （Ｉ Ｈ，ｄｄ、 Ｊ＝４．
８Ｈ２）５．７ （ＩＨ，ｓ） ５．１ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．６ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３１１，ｓ） ２．４ （３Ｈ，ｓ） ２．２ （６Ｈ，ｓ） 実施例 １６ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（カルボキシ（４゜５−ジヒドロキ
シ−２−メチルフェニル）メチル）オキシイミノ〕アセ
タミド）−３−（（２−カルボキシー５−メチル〜Ｓ−
）リアゾロ〔１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオ
メチルクー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（
４，２゜０〕オクト−２〜エン−２−カルボン酸の製造
実施例 １５で得られた化合物を実施例 １４と同様の
方法で処理し上記標題化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７７０．
１５９７．１５１３，１４０７゜１３８４．１３１１ ＮＭＲスペクトル（Ｄ２０ ； ｐ ｐｍ）７．３〜６
．６ （４Ｈ，ｍ） ５．６３〜５．５９ （２Ｈ，ｍ） ５．０１〜４．９５ （ＩＨ，ｍ） ４．８〜４．４ （２Ｈ，ｍ） ３．６〜３．０ （２Ｈ，ｍ） ２− ６ （３Ｈ，ｓ） ２．２３および２． １７ （３Ｈ，ｓ）実施例 １７ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２〜（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（（４−アセトキシ−２−カルボキ
シ−５−ヒドロキシフェニル）メチル〕オキシイミノ〕
アセタミド）−３’−［（２−カルボキシ−５〜メチル
−５−）リアゾロ〔１゜５−ａ〕ピリミジン−７−イル
）チオメチルクー８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロ〔４゜２、Ｏ〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
の製造 実施例 １３と同様の方法で上記標題化合物を得た。
１５９７．１５１３，１４０７゜１３８４．１３１１ ＮＭＲスペクトル（Ｄ２０ ； ｐ ｐｍ）７．３〜６
．６ （４Ｈ，ｍ） ５．６３〜５．５９ （２Ｈ，ｍ） ５．０１〜４．９５ （ＩＨ，ｍ） ４．８〜４．４ （２Ｈ，ｍ） ３．６〜３．０ （２Ｈ，ｍ） ２− ６ （３Ｈ，ｓ） ２．２３および２． １７ （３Ｈ，ｓ）実施例 １７ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２〜（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（（４−アセトキシ−２−カルボキ
シ−５−ヒドロキシフェニル）メチル〕オキシイミノ〕
アセタミド）−３’−［（２−カルボキシ−５〜メチル
−５−）リアゾロ〔１゜５−ａ〕ピリミジン−７−イル
）チオメチルクー８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロ〔４゜２、Ｏ〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
の製造 実施例 １３と同様の方法で上記標題化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ；ｃｍ−１）
１７７２．１６８４，１６３７，１５９８゜１５１２．
１２０２ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ；ｐｐｍ）９．
７ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ＞ ７．６ （ＩＨ，ｓ） ７．４ （ＩＨ，ｓ） ７．０ ＜ＬＨ，ｓ） ６．８ （ＩＨ，ｓ） ５．９ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）５．５
（２Ｈ，ｂｓ） ５、 ２ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ４
（２Ｈ，ｂｓ） ３、 ６ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２ （３Ｈ，ｓ） 実施例 １８ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル”）−２−（Ｚ−（カルボキシメチル）オキシイミ
ノ〕アセタミド）−３−（（５−メチル−８−トリアゾ
ロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチルク
ー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，２，
０）オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 実施例 １３と同様の方法で上記標題化合物を得た。
１２０２ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ；ｐｐｍ）９．
７ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ＞ ７．６ （ＩＨ，ｓ） ７．４ （ＩＨ，ｓ） ７．０ ＜ＬＨ，ｓ） ６．８ （ＩＨ，ｓ） ５．９ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）５．５
（２Ｈ，ｂｓ） ５、 ２ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ４
（２Ｈ，ｂｓ） ３、 ６ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ２ （３Ｈ，ｓ） 実施例 １８ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル”）−２−（Ｚ−（カルボキシメチル）オキシイミ
ノ〕アセタミド）−３−（（５−メチル−８−トリアゾ
ロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチルク
ー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，２，
０）オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 実施例 １３と同様の方法で上記標題化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７７５．
１５９５，１５１５，１３５５゜１２５５．１１９５．
１０１０ ８ＯＮスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ； ｐ ｐｍ）
９．５ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ８、 ６ （ＬＨ，Ｓ） ７、 ３ （ＩＨ，ｓ） ６、 ８ （ＩＨ，ｓ） ５．８ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）５．２
（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ６ （２Ｈ，Ｓ
） ４、 ４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） 実施例 １９ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（カルボキシメチル）オキシイミノ
）アセタミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル
−３−トリアゾロＣＩ、５−ａ）ピリミジン−７−イル
）チオメチルクー８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
の製造実施例 １３と同様の方法で上記標題化合物を得
た。
１５９５，１５１５，１３５５゜１２５５．１１９５．
１０１０ ８ＯＮスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ； ｐ ｐｍ）
９．５ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ８、 ６ （ＬＨ，Ｓ） ７、 ３ （ＩＨ，ｓ） ６、 ８ （ＩＨ，ｓ） ５．８ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）５．２
（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）４、 ６ （２Ｈ，Ｓ
） ４、 ４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） 実施例 １９ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（カルボキシメチル）オキシイミノ
）アセタミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル
−３−トリアゾロＣＩ、５−ａ）ピリミジン−７−イル
）チオメチルクー８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
の製造実施例 １３と同様の方法で上記標題化合物を得
た。
ｒＲスペクトル（ＫＢｒ；ｃｍ−１）
１７７４、 １６３０． １５９５． １５０５゜１４
００． １２４Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ； ｐ ｐｍ）
９、 ５ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝９Ｈｚ）７、 ４
（ＩＨ，ｓ） ６、 ８ （ＬＨ，ｓ） ５、 ８ ＜ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝５． ９Ｈｚ）５
、 ２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈ−ｚ）４、 ６
（２Ｈ，ｓ） ４、 ４ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｔ（、ｓ） 実施例 ２０ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（１−カルボキシ−１−メチルエチ
ル）オキシイミノ〕アセタミド〕−３−（（５−メチル
−５−１−リアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イ
ル）チオメチルゴー８−オキソ−５−チア−１−アザビ
シクロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン
酸の製造実施例 １３と同様の方法で上記標題化合物を
得た。
００． １２４Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ； ｐ ｐｍ）
９、 ５ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝９Ｈｚ）７、 ４
（ＩＨ，ｓ） ６、 ８ （ＬＨ，ｓ） ５、 ８ ＜ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝５． ９Ｈｚ）５
、 ２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈ−ｚ）４、 ６
（２Ｈ，ｓ） ４、 ４ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｔ（、ｓ） 実施例 ２０ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（１−カルボキシ−１−メチルエチ
ル）オキシイミノ〕アセタミド〕−３−（（５−メチル
−５−１−リアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イ
ル）チオメチルゴー８−オキソ−５−チア−１−アザビ
シクロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン
酸の製造実施例 １３と同様の方法で上記標題化合物を
得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ４ ）１７ ？
５． １６７５． １６３０． １５９５゜１５１５．
１３６０．１１９Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ；ｐＩ）ｍ）９
．５ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ８．６ （ＩＨ，Ｓ） ７．３ （ＩＨ，ｓ） ６．７ （ＩＨ，ｓ） ５．８ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）５．２
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） １．４ （６Ｈ，ｓ） 実施例 ２１ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル”）−２−（Ｚ−（１−（３，４−ジヒドロキシフ
ェニルアミノカルボニル）−１−メチルエチル〕オキシ
イミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ−５−
メチル−５−１−リアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−
７−イル）チオメチルゴー８−オキソ−５−チア−１−
７ザビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カ
ルボン酸の製造 工程 １ ４−ニトロ−１，２−ビス（２−メトキシエトキシメチ
ル）カテコールの製造 水素化ナトリウム１６．８ｇを無水エーテル１００ｍ１
で２回洗浄し、テトラヒドロフラン５２ｍ１に懸濁し、
窒素置換した。−１０℃に冷却し。
５． １６７５． １６３０． １５９５゜１５１５．
１３６０．１１９Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ；ｐＩ）ｍ）９
．５ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ８．６ （ＩＨ，Ｓ） ７．３ （ＩＨ，ｓ） ６．７ （ＩＨ，ｓ） ５．８ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）５．２
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） １．４ （６Ｈ，ｓ） 実施例 ２１ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル”）−２−（Ｚ−（１−（３，４−ジヒドロキシフ
ェニルアミノカルボニル）−１−メチルエチル〕オキシ
イミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ−５−
メチル−５−１−リアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−
７−イル）チオメチルゴー８−オキソ−５−チア−１−
７ザビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カ
ルボン酸の製造 工程 １ ４−ニトロ−１，２−ビス（２−メトキシエトキシメチ
ル）カテコールの製造 水素化ナトリウム１６．８ｇを無水エーテル１００ｍ１
で２回洗浄し、テトラヒドロフラン５２ｍ１に懸濁し、
窒素置換した。−１０℃に冷却し。
４−ニトロカテコール２５ｇのテトラヒドロフラン１６
０ｍ１ｉ液を１時間で滴下した。２０分後。
０ｍ１ｉ液を１時間で滴下した。２０分後。
溶液の温度が０℃を越えないようにしながら、２−メト
キシエトキシメチルクロライド５８．９ｍｌのテトラヒ
ドロフラン５２ ｍ ｌ溶液を滴下し。
キシエトキシメチルクロライド５８．９ｍｌのテトラヒ
ドロフラン５２ ｍ ｌ溶液を滴下し。
１０℃に昇温して１時間攪拌した。さらに室温で１時間
攪拌した。反応液を水中に注ぎ、エーテル３００ｍ１で
抽出し、ＩＮ水酸化ナトリウム溶液。
攪拌した。反応液を水中に注ぎ、エーテル３００ｍ１で
抽出し、ＩＮ水酸化ナトリウム溶液。
水、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにて精製し上記標題化合物３５．３ｇを得た。
た。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにて精製し上記標題化合物３５．３ｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）２８８２．
１５Ｂ９，１５１９，１３４４゜１２７０．１２５４．
１１１０． ９７４゜ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３
； ｐｐｍ）８．１〜７．９ （２Ｈ，ｍ） ７．３〜１．２ （ＩＨ，ｍ） ５．４１ （２Ｈ，ｓ） ５．３７ （２Ｈ，ｓ） ３．９〜３．８ （４Ｈ，ｍ） ３．６〜３．５ （４Ｈ，ｍ） ３．３８ （３Ｈ，ｓ） ３．３６ （３Ｈ，ｓ） 工程 ２ ４−アミノ−１，２−ビス（２−メトキシエトキシメチ
ル）カテコールの製造 工程 １で得られた化合物３５．３ｇをエタノール２５
０ｍ１に溶解し、ラネーニッケル１０１０ｍ１（６を加
え、水素気流中で３日間攪拌した。
１５Ｂ９，１５１９，１３４４゜１２７０．１２５４．
１１１０． ９７４゜ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３
； ｐｐｍ）８．１〜７．９ （２Ｈ，ｍ） ７．３〜１．２ （ＩＨ，ｍ） ５．４１ （２Ｈ，ｓ） ５．３７ （２Ｈ，ｓ） ３．９〜３．８ （４Ｈ，ｍ） ３．６〜３．５ （４Ｈ，ｍ） ３．３８ （３Ｈ，ｓ） ３．３６ （３Ｈ，ｓ） 工程 ２ ４−アミノ−１，２−ビス（２−メトキシエトキシメチ
ル）カテコールの製造 工程 １で得られた化合物３５．３ｇをエタノール２５
０ｍ１に溶解し、ラネーニッケル１０１０ｍ１（６を加
え、水素気流中で３日間攪拌した。
触媒を濾過し、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し上記標題化合物２０ｇを
得た。
クロマトグラフィーにて精製し上記標題化合物２０ｇを
得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）３３６１．
２９４０，２９３０，２８９１゜１５１３．１２２１．
１１００． ９９’８Ｎ Ｍ Ｒスペクトル（ＣＤＣ
１３； ｐｐｍ）７、Ｏ（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈ２） ６．６ （１１−Ｉ、ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）６．２ （ＬＨ
，ｄｄ、Ｊ＝３．９Ｈｚ）５．３ （２Ｈ，ｓ） ５．２ （２Ｈ，ｓ） ３．９〜３．８ （４Ｈ，ｍ） ３．６〜３．５ （４Ｈ，ｍ） ３．４ （６Ｈ，ｓ） 工程 ３ α−ブロモ−Ｎ−（３，４−ビス（２−メトキシエトキ
シメトキシ）フェニル〕イソブチリルアミドの製造 工程 ２で得られた化合ＩＦｊＡ１０．９ｇを塩化メチ
レン５６０ｍ１に熔解し、窒素置換し一２０°Ｃに冷却
した。ビス（トリメチルシリル）アセタミド１８ｍ１を
加え、３０分攪拌後、α−ブロモイソブチリルブロマイ
ド４．５ｍｌを加え、１時間攪拌した。さらに−１０℃
で１時間攪拌後２反応液を濃縮し、残渣に酢酸エチルを
加え飽和食塩水で２回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。
２９４０，２９３０，２８９１゜１５１３．１２２１．
１１００． ９９’８Ｎ Ｍ Ｒスペクトル（ＣＤＣ
１３； ｐｐｍ）７、Ｏ（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈ２） ６．６ （１１−Ｉ、ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）６．２ （ＬＨ
，ｄｄ、Ｊ＝３．９Ｈｚ）５．３ （２Ｈ，ｓ） ５．２ （２Ｈ，ｓ） ３．９〜３．８ （４Ｈ，ｍ） ３．６〜３．５ （４Ｈ，ｍ） ３．４ （６Ｈ，ｓ） 工程 ３ α−ブロモ−Ｎ−（３，４−ビス（２−メトキシエトキ
シメトキシ）フェニル〕イソブチリルアミドの製造 工程 ２で得られた化合ＩＦｊＡ１０．９ｇを塩化メチ
レン５６０ｍ１に熔解し、窒素置換し一２０°Ｃに冷却
した。ビス（トリメチルシリル）アセタミド１８ｍ１を
加え、３０分攪拌後、α−ブロモイソブチリルブロマイ
ド４．５ｍｌを加え、１時間攪拌した。さらに−１０℃
で１時間攪拌後２反応液を濃縮し、残渣に酢酸エチルを
加え飽和食塩水で２回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。
濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製し上記標題化合物８ｇを得た。
ィーにて精製し上記標題化合物８ｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）２９２５．
２８９７，２８９２．１６７１゜１６０５、 １５１２
． １２１９． １１０６゜ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ
１３ｉｐ＋）ｍ）８、 ４ （ＩＨ，ｓ） ７、 ３ （ＬＨ，Ｓ） ７、 ２ （２Ｈ，ｓ） ５、 ３１ （２Ｈ，Ｓ） ５、 ２７ （２Ｈ，ｓ） ３、 ９〜３． ８ （４Ｈ，ｍ） ３、 ６〜３． ５ （４Ｈ，ｍ） ３、 ４ （６Ｈ，ｓ） ２、 ０ （６Ｈ，ｓ） 工程 ４ ２−（２−トリフェニルメチルアミノ−４−チアゾリル
）−２−（Ｚ−１−（３，４−ビス（２−メトキシエト
キシメトキシ）フェニルアミノカルボニル）−１−メチ
ルエチル）オキシイミノ〕＃酸エチルエステルの製造 公知の化合物２−（２−トリフェニルメチルアミノ−４
−チアゾリル）−２−Ｚ−ヒドロキシイミノ酢酸エチル
エステル１．７ｇを、ジメチルスルホキシド６ｍｌに溶
解し、窒素気流中、無水炭酸カリウム０．６１ｇを加え
た。２０分後、工程３で得られた化合物２ｇのジメチル
スルホキシド２ｍｌ溶液を加え、室温で２日間攪拌した
。反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
２８９７，２８９２．１６７１゜１６０５、 １５１２
． １２１９． １１０６゜ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ
１３ｉｐ＋）ｍ）８、 ４ （ＩＨ，ｓ） ７、 ３ （ＬＨ，Ｓ） ７、 ２ （２Ｈ，ｓ） ５、 ３１ （２Ｈ，Ｓ） ５、 ２７ （２Ｈ，ｓ） ３、 ９〜３． ８ （４Ｈ，ｍ） ３、 ６〜３． ５ （４Ｈ，ｍ） ３、 ４ （６Ｈ，ｓ） ２、 ０ （６Ｈ，ｓ） 工程 ４ ２−（２−トリフェニルメチルアミノ−４−チアゾリル
）−２−（Ｚ−１−（３，４−ビス（２−メトキシエト
キシメトキシ）フェニルアミノカルボニル）−１−メチ
ルエチル）オキシイミノ〕＃酸エチルエステルの製造 公知の化合物２−（２−トリフェニルメチルアミノ−４
−チアゾリル）−２−Ｚ−ヒドロキシイミノ酢酸エチル
エステル１．７ｇを、ジメチルスルホキシド６ｍｌに溶
解し、窒素気流中、無水炭酸カリウム０．６１ｇを加え
た。２０分後、工程３で得られた化合物２ｇのジメチル
スルホキシド２ｍｌ溶液を加え、室温で２日間攪拌した
。反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製し上記標題化合物０．４４ｇを得た。
ィーにて精製し上記標題化合物０．４４ｇを得た。
ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２ ；ｐｐｍ）８．２ （
ＬＨ，ｓ） ７．６〜７．１ （１９Ｈ，ｍ） ６．７ ＜ＬＨ，Ｓ） ５．２８ （２Ｈ，ｓ） ５．２５ （２Ｈ，ｓ） ４．５ （２ｔＬ ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）３．９〜３．８
（４Ｈ，ｍ） ３ 、 ６〜３． ５ （４Ｈ，ｍ）３．３７
（３Ｈ，ｓ） ３．３４ （３Ｈ，ｓ） １．６ （６Ｈ，ｓ） １．４ （３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ） 工程 ５ ２−（２−）ジフェニルメチルアミノ−４−チアゾリル
）−２−（Ｚ−１−１：３．４−ビス（２−メトキシエ
トキシメトキシ）フェニルアミノカルボニル〕−１−メ
チルエチル〕オキシイミノ〕酢酸の製造 工程 ３で得られた化合物０．４４ｇをテトラヒドロフ
ラン５．２ｍｌに溶解し、水酸化カリウム０．１２ｇ、
水０．５３ｍ１を加え、室温で１晩攪拌した。水酸化カ
リウム０．４ｇを追加し、４５℃で６時間攪拌後、エタ
ノール５ ｍ ｌを加え均一とし４５℃で更に１時間攪
拌した。氷水に注ぎエーテル抽出した後、水層をＩＮク
エン酸でｐ Ｈ２に調整し酢酸エチルで抽出し、飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾液
を濃縮し、残渣をエーテル、ヘキサンで結晶化し上記標
題化合物０．４４ｇを得た。
ＬＨ，ｓ） ７．６〜７．１ （１９Ｈ，ｍ） ６．７ ＜ＬＨ，Ｓ） ５．２８ （２Ｈ，ｓ） ５．２５ （２Ｈ，ｓ） ４．５ （２ｔＬ ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）３．９〜３．８
（４Ｈ，ｍ） ３ 、 ６〜３． ５ （４Ｈ，ｍ）３．３７
（３Ｈ，ｓ） ３．３４ （３Ｈ，ｓ） １．６ （６Ｈ，ｓ） １．４ （３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ） 工程 ５ ２−（２−）ジフェニルメチルアミノ−４−チアゾリル
）−２−（Ｚ−１−１：３．４−ビス（２−メトキシエ
トキシメトキシ）フェニルアミノカルボニル〕−１−メ
チルエチル〕オキシイミノ〕酢酸の製造 工程 ３で得られた化合物０．４４ｇをテトラヒドロフ
ラン５．２ｍｌに溶解し、水酸化カリウム０．１２ｇ、
水０．５３ｍ１を加え、室温で１晩攪拌した。水酸化カ
リウム０．４ｇを追加し、４５℃で６時間攪拌後、エタ
ノール５ ｍ ｌを加え均一とし４５℃で更に１時間攪
拌した。氷水に注ぎエーテル抽出した後、水層をＩＮク
エン酸でｐ Ｈ２に調整し酢酸エチルで抽出し、飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾液
を濃縮し、残渣をエーテル、ヘキサンで結晶化し上記標
題化合物０．４４ｇを得た。
ＴＲスペクトル（ＫＢｒ；ｃｍ−１）
１６８５．１６００，１５３３．１５２１゜１５０９．
１１９７． ９９６． ７０２ＮＭＲスペクトル（
ＤＭＳＯ−ｄｓ ； Ｐ ｐｍ）８．９１ （１１
〜Ｌ ｓ） ８．９０ （ＩＨ，ｓ） ７、 ５〜７． １ （１８Ｈ，ｍ）６、 ９ （
ＩＨ，ｓ） ５、 ２ （４Ｈ，ｓ） ３、 ８〜３． ７ ＜４Ｈ，ｍ） ３、 ５〜３． ４ （４Ｈ，ｍ） ３、 ２２ （３１（、ｓ） ３、 ２１ （３Ｈ，ｓ） １、 ５ （６Ｈ，ｓ） 工程 ６ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−）リフエールメチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−１−（３，４−
ビス（２−メトキシエトキシメトキシ）フェニルアミノ
カルボニル〕−１−メチルエチル〕オキシイミノ）−３
−（（２−ジフェニルメチルオキシカルボニル−５−メ
チル−５−）リアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−
イル）チオメチル〕−８−オキソー５−チア−１−アザ
ビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２＝カルボ
ン酸ジフエニルメチルエステルの製造工程 ５で得られ
た化合物０．３６ｇと（６Ｒ９７Ｒ）−７−アミノ−３
−（（２−ジフェニルメチルオキシカルボニル−５−メ
チル−３−トリアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−
イル）チオメチル〕−８−オキソー５−チア−１−アザ
ビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル０．３４ｇの塩化メチレ
ン５．３ｍｌの溶液に、水冷下にジシクロへキシルカル
ボジイミド０．０９３ｇを加えた。室温で１晩攪拌後、
濃縮し残渣に酢酸エチル３０ｍ１を加え、不溶物を濾過
し濾液を濃縮し。
１１９７． ９９６． ７０２ＮＭＲスペクトル（
ＤＭＳＯ−ｄｓ ； Ｐ ｐｍ）８．９１ （１１
〜Ｌ ｓ） ８．９０ （ＩＨ，ｓ） ７、 ５〜７． １ （１８Ｈ，ｍ）６、 ９ （
ＩＨ，ｓ） ５、 ２ （４Ｈ，ｓ） ３、 ８〜３． ７ ＜４Ｈ，ｍ） ３、 ５〜３． ４ （４Ｈ，ｍ） ３、 ２２ （３１（、ｓ） ３、 ２１ （３Ｈ，ｓ） １、 ５ （６Ｈ，ｓ） 工程 ６ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−）リフエールメチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−１−（３，４−
ビス（２−メトキシエトキシメトキシ）フェニルアミノ
カルボニル〕−１−メチルエチル〕オキシイミノ）−３
−（（２−ジフェニルメチルオキシカルボニル−５−メ
チル−５−）リアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−
イル）チオメチル〕−８−オキソー５−チア−１−アザ
ビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２＝カルボ
ン酸ジフエニルメチルエステルの製造工程 ５で得られ
た化合物０．３６ｇと（６Ｒ９７Ｒ）−７−アミノ−３
−（（２−ジフェニルメチルオキシカルボニル−５−メ
チル−３−トリアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−
イル）チオメチル〕−８−オキソー５−チア−１−アザ
ビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル０．３４ｇの塩化メチレ
ン５．３ｍｌの溶液に、水冷下にジシクロへキシルカル
ボジイミド０．０９３ｇを加えた。室温で１晩攪拌後、
濃縮し残渣に酢酸エチル３０ｍ１を加え、不溶物を濾過
し濾液を濃縮し。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し
上記標題化合物０．４４ｇを得た。
上記標題化合物０．４４ｇを得た。
ＴＲスペクトル（ＫＢｒ；ｃｍ−１）
１７９２．１？４１，１６８５，１５９７゜１５０９．
１２０１，１００２． ７０１ＮＭＲスペクトル（Ｄ
ＭＳＯ−ｄａ ； ｐｐｍ）９．８ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
８Ｈｚ） ８．８ （２Ｈ，ｓ） ７．５〜７．１ （４０Ｈ，ｍ） ６．９ （ＩＨ，ｓ） ６、 ８ （ＩＨ，ｓ） ５、 ８ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝５． ８Ｈｚ＞５
、 ２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）５、 １
（４Ｈ，ｓ） ４、 ３ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７〜３． ６ （６Ｈ，ｍ） ３、 ５〜３． ４ （４Ｈ，ｍ） ３、 ２０ （３Ｈ，ｓ） ３、 １７ （３Ｈ，５） ２− ６ （３Ｈ，ｓ） １、 ５ （６Ｈ，ｓ） 工程 ７ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（１−（３，４−ジヒドロキシフェ
ニルアミノカルボニル）−１−メチルエチル〕オキシイ
ミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ−５−メ
チル−３−トリアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−
イル）チオメチル〕−８−オキソー５−チア−１−アザ
ビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カルボ
ン酸の製造 工程 ６で得られた化合物０．４９ｇをジクロロエタン
４ｍｌに溶解し、水冷下にアニソール０．２３ｍ１．）
リフルオロ酢酸２．３ｍｌを加え２時間、５〜１０℃で
１．５時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣にジクロル
エタンを加え、不溶物を濾過し、結晶をエーテルで洗い
上記標題化合物０．２ｇを得た。
１２０１，１００２． ７０１ＮＭＲスペクトル（Ｄ
ＭＳＯ−ｄａ ； ｐｐｍ）９．８ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
８Ｈｚ） ８．８ （２Ｈ，ｓ） ７．５〜７．１ （４０Ｈ，ｍ） ６．９ （ＩＨ，ｓ） ６、 ８ （ＩＨ，ｓ） ５、 ８ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝５． ８Ｈｚ＞５
、 ２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈｚ）５、 １
（４Ｈ，ｓ） ４、 ３ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７〜３． ６ （６Ｈ，ｍ） ３、 ５〜３． ４ （４Ｈ，ｍ） ３、 ２０ （３Ｈ，ｓ） ３、 １７ （３Ｈ，５） ２− ６ （３Ｈ，ｓ） １、 ５ （６Ｈ，ｓ） 工程 ７ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−（１−（３，４−ジヒドロキシフェ
ニルアミノカルボニル）−１−メチルエチル〕オキシイ
ミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ−５−メ
チル−３−トリアゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−
イル）チオメチル〕−８−オキソー５−チア−１−アザ
ビシクロ（４，２，０）オクト−２−エン−２−カルボ
ン酸の製造 工程 ６で得られた化合物０．４９ｇをジクロロエタン
４ｍｌに溶解し、水冷下にアニソール０．２３ｍ１．）
リフルオロ酢酸２．３ｍｌを加え２時間、５〜１０℃で
１．５時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣にジクロル
エタンを加え、不溶物を濾過し、結晶をエーテルで洗い
上記標題化合物０．２ｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； Ｃｍ−１）１７７４．
１６８３，１５９７．１５１２Ｎ Ｍ Ｒスペクトル（
ＤＭＳＯ−ｄ６ ； ｐｐｍ）９．９ （ＬＨ，ｄ、Ｊ
＝８Ｈｚ） ８．７ （ＩＨ，ｓ） ７．４ （ＬＨ，Ｓ） ７．１〜６．６ （４Ｈ，ｍ） ５．９ （ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）５．３ （
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５ｔＩｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３、’ ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） １、 ５ （６Ｈ，ｓ） 実施例 ２２ ＜６Ｒ，７Ｒ）−７−Ｃ２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−Ｃカルボキシ（２゜３−ジヒドロキ
ジフェニル）メチル〕オキシイミノ〕アセタミド）−３
−Ｃ（２−カルボキシ−５−メチル−ｓ−トリアゾロ（
１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチルツー８
−オキソ−５−チア−１−アザビシクロＣ４，２，０）
オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 実施例 １３と同様の方法で上記標題化合物を得た。
１６８３，１５９７．１５１２Ｎ Ｍ Ｒスペクトル（
ＤＭＳＯ−ｄ６ ； ｐｐｍ）９．９ （ＬＨ，ｄ、Ｊ
＝８Ｈｚ） ８．７ （ＩＨ，ｓ） ７．４ （ＬＨ，Ｓ） ７．１〜６．６ （４Ｈ，ｍ） ５．９ （ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）５．３ （
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５ｔＩｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３、’ ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） １、 ５ （６Ｈ，ｓ） 実施例 ２２ ＜６Ｒ，７Ｒ）−７−Ｃ２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（Ｚ−Ｃカルボキシ（２゜３−ジヒドロキ
ジフェニル）メチル〕オキシイミノ〕アセタミド）−３
−Ｃ（２−カルボキシ−５−メチル−ｓ−トリアゾロ（
１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチルツー８
−オキソ−５−チア−１−アザビシクロＣ４，２，０）
オクト−２−エン−２−カルボン酸の製造 実施例 １３と同様の方法で上記標題化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７７４・
、１６７６．１６３７，１５９７゜１５１１．１１９８ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ； ｐ ｐｍ）
９．５ （ＬＨ，ｍ） ７．４ （ＩＨ，Ｓ） ６．８４および６．８１ （ＩＨ，ｓ）６．７ （３
Ｈ，ｍ） ５．９６および５．９１’（ＩＨ，ｓ）５、 ８ （
ＩＨ，ｍ） ５、 ２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ−５Ｈｚ）４、 ４
（２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） 実施例 ２３ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（３，４−ジアセトキシベンゾイルアミノ
）アセタミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル
−５−）リアゾロ〔ｌ、５−ａ）ピリミジン−７−イル
）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロＣ４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
の製造工程 １ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−、（２−）リフェニルメチ
ルアミノー４−チアゾリル）−２−（ｔ−ブチルオキシ
カルボニルアミノ）アセタミド〕−３−（（２−ジフェ
ニルメチルオキシカルボニル−５−メチル−５−）リア
ゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチル
ツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，２
，０）オクト−２−エン−２−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステルの製造 公知の化合物２− （ｔ−ブチルオキシカルボニルアミ
ノ”）−２−（２−トリフェニルメチルアミノ−４−チ
アゾリル）酢酸６．８３ｇをジメチルホルムアミド２０
ｍ ｌに溶解し、 （６Ｒ，７Ｒ）−７−アミノ−
３−（（２−ジフェニルメチルオキシカルボニル−５−
メチル−８−トリアゾロ〔１，５−ａ）Ｉ？ピリミジン
７−イル）千オメチル〕−８−オキソー５−チア−１−
アザビシクロ〔４，２，０）オクト−２−エン−２−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル１０ｇおよび塩化メ
チレン２００ｍ１を加え氷冷した。攪拌下にジシクロへ
キシルカルボジイミド２．７３ｇを加え、室温で１時間
攪拌した。不溶物を濾過し濾液を濃縮した。残渣に酢酸
エチルを加え、さらに不溶物を濾過し濾液を飽和食塩水
で洗い、無水硫酸す） ＩＪウムで乾燥した。濃縮後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し
上記標題化合物１０．８ｇを得た。
、１６７６．１６３７，１５９７゜１５１１．１１９８ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６ ； ｐ ｐｍ）
９．５ （ＬＨ，ｍ） ７．４ （ＩＨ，Ｓ） ６．８４および６．８１ （ＩＨ，ｓ）６．７ （３
Ｈ，ｍ） ５．９６および５．９１’（ＩＨ，ｓ）５、 ８ （
ＩＨ，ｍ） ５、 ２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ−５Ｈｚ）４、 ４
（２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） 実施例 ２３ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（３，４−ジアセトキシベンゾイルアミノ
）アセタミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル
−５−）リアゾロ〔ｌ、５−ａ）ピリミジン−７−イル
）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロＣ４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
の製造工程 １ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−、（２−）リフェニルメチ
ルアミノー４−チアゾリル）−２−（ｔ−ブチルオキシ
カルボニルアミノ）アセタミド〕−３−（（２−ジフェ
ニルメチルオキシカルボニル−５−メチル−５−）リア
ゾロ（１，５−ａ）ピリミジン−７−イル）チオメチル
ツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ（４，２
，０）オクト−２−エン−２−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステルの製造 公知の化合物２− （ｔ−ブチルオキシカルボニルアミ
ノ”）−２−（２−トリフェニルメチルアミノ−４−チ
アゾリル）酢酸６．８３ｇをジメチルホルムアミド２０
ｍ ｌに溶解し、 （６Ｒ，７Ｒ）−７−アミノ−
３−（（２−ジフェニルメチルオキシカルボニル−５−
メチル−８−トリアゾロ〔１，５−ａ）Ｉ？ピリミジン
７−イル）千オメチル〕−８−オキソー５−チア−１−
アザビシクロ〔４，２，０）オクト−２−エン−２−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル１０ｇおよび塩化メ
チレン２００ｍ１を加え氷冷した。攪拌下にジシクロへ
キシルカルボジイミド２．７３ｇを加え、室温で１時間
攪拌した。不溶物を濾過し濾液を濃縮した。残渣に酢酸
エチルを加え、さらに不溶物を濾過し濾液を飽和食塩水
で洗い、無水硫酸す） ＩＪウムで乾燥した。濃縮後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し
上記標題化合物１０．８ｇを得た。
ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳ Ｏ−ｄａ ； Ｉ） ｐ
ｍ）８．５ （ＩＨ，ｍ） ８．３ （ＩＨ，ｍ） ７．５〜７．１ （３７Ｈ，ｍ） ７．０ （ＩＨ，ｓ） ６．４ （ＩＨ，ｓ） ５．８ （ＩＨ，ｍ） ５．２ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ５．０ （ＩＨ，ｍ） ４．３ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ）。
ｍ）８．５ （ＩＨ，ｍ） ８．３ （ＩＨ，ｍ） ７．５〜７．１ （３７Ｈ，ｍ） ７．０ （ＩＨ，ｓ） ６．４ （ＩＨ，ｓ） ５．８ （ＩＨ，ｍ） ５．２ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ５．０ （ＩＨ，ｍ） ４．３ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ）。
２．６ （３Ｈ，ｓ）
１．４ （９Ｈ，ｓ）
工程 ２
（６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−アミノ−２−（２−トリフ
ェニルメチルアミノ−４−チアゾリル）アセタミド）−
３−（（２−ジフェニルメチルオキシカルボニル−５−
メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ）ピリミジン−７
−イル）チオメチル〕−８−オキソー５−チア−１−ア
ザビシクロ〔４，２，０１オクト−２−エン−２−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステルの製造 工程 １で得られた化合物１ｇを乾燥塩化メチレンに溶
解し氷冷した。この溶液に塩化水素飽和メタノール３
ｍ ｌを滴下した。１５分後、飽和炭酸水素ナトリウム
溶液に注ぎ、塩化メチレンで抽出し飽和食塩水で洗い、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し上記標題化合
物０．８ｇを得た。
ェニルメチルアミノ−４−チアゾリル）アセタミド）−
３−（（２−ジフェニルメチルオキシカルボニル−５−
メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ）ピリミジン−７
−イル）チオメチル〕−８−オキソー５−チア−１−ア
ザビシクロ〔４，２，０１オクト−２−エン−２−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステルの製造 工程 １で得られた化合物１ｇを乾燥塩化メチレンに溶
解し氷冷した。この溶液に塩化水素飽和メタノール３
ｍ ｌを滴下した。１５分後、飽和炭酸水素ナトリウム
溶液に注ぎ、塩化メチレンで抽出し飽和食塩水で洗い、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し上記標題化合
物０．８ｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７Ｂ？、
１７３７．１５９６，１５０７゜１４９８．１２２２，
１２０２，１１８３゜７５５、 ７０Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ； ｐｐｍ）８
．５ （ＩＨ，ｍ） ７．５〜７．２ （３７Ｈ，ｍ） ７．０ （ＩＨ，ｓ） ６、 ４ （ＩＨ，Ｓ） ５、 ９〜５． １ （３Ｈ，ｍ） ４、 ３ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢＱ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） 工程 ３ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−）ジフェニルメチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−（３゜４−ジアセトキ
シベンゾイルアミノ）アセタミド）−３−（（２−ジフ
ェニルメチルオキシカルボニル−５−メチル−５−）リ
アゾロ（１，５−ａ〕ピリミジン−７−イル）チオメチ
ル〕−８−オキソー５−チア−１−アザビシクロ（４，
２，０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸ジフェニル
メチルエステルの製造 工程 ２で得られた化合物０．７５ｇを乾燥塩化メチレ
ン１０ｍ１に溶解し、室温でビス（トリメチルシリル）
アセタミド０．３２ｍ１を加え。
１７３７．１５９６，１５０７゜１４９８．１２２２，
１２０２，１１８３゜７５５、 ７０Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ； ｐｐｍ）８
．５ （ＩＨ，ｍ） ７．５〜７．２ （３７Ｈ，ｍ） ７．０ （ＩＨ，ｓ） ６、 ４ （ＩＨ，Ｓ） ５、 ９〜５． １ （３Ｈ，ｍ） ４、 ３ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢＱ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） 工程 ３ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−）ジフェニルメチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−（３゜４−ジアセトキ
シベンゾイルアミノ）アセタミド）−３−（（２−ジフ
ェニルメチルオキシカルボニル−５−メチル−５−）リ
アゾロ（１，５−ａ〕ピリミジン−７−イル）チオメチ
ル〕−８−オキソー５−チア−１−アザビシクロ（４，
２，０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸ジフェニル
メチルエステルの製造 工程 ２で得られた化合物０．７５ｇを乾燥塩化メチレ
ン１０ｍ１に溶解し、室温でビス（トリメチルシリル）
アセタミド０．３２ｍ１を加え。
３０分攪拌した。この溶液を一１０℃に冷却し。
３．４−ジアセトキシベンゾイルクロライド００１７ｇ
の乾燥塩化メチレン５ ｍ ｌ溶液をゆっくり滴下した
。１時間後９反応液を濃縮し酢酸エチル１２０ｍ１に溶
解し、飽和食塩水で２回洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。濾液を濃縮し上記標題化合物０．７ｇを淡黄色粉
末として得た。
の乾燥塩化メチレン５ ｍ ｌ溶液をゆっくり滴下した
。１時間後９反応液を濃縮し酢酸エチル１２０ｍ１に溶
解し、飽和食塩水で２回洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。濾液を濃縮し上記標題化合物０．７ｇを淡黄色粉
末として得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ；ｃｍ−１）
１７８０．１７４１．１５０８．１４９７゜１３７２．
１２０５，１１８２． ７０ＯＮＭＲスペクトル（Ｄ
ＭＳＯ−ｄａ ｉｐＩ）ｍ）９、 ０ （ＩＨ，
ｄ、 Ｊ＝７Ｈｚ）８．５ （ＩＨ，ｓ） ８．２〜１．１ （４０Ｈ，ｍ） ６．９ （ＩＨ，ｓ） ６．５ （１）１．ｓ） ５．８〜５．１ （３Ｈ，ｍ） ４．３ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） ２．３ （６Ｈ，ｓ） 工程 ４ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（３，４−ジアセトキシベンゾイルアミノ
）アセタミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル
−５−）リアゾロ〔１，５−ａ）ピリミジン−７−イル
）チオメチル〕−８＝オキソー５−チア−１−アザビシ
クロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
の製造工程 ３で得られた化合物０．６５ｇをジクロロ
エタン’ｌ ｍ ｌに溶解し、水冷下にアニソール０．
５ｍｌ、）リフルオロ酢酸ｌ ｍ ｌを加え、室温で２
時間攪拌した。上清をデカントで除き、残渣を少量のジ
クロロエタンで洗い、さらにエーテルを加えて結晶化し
た。結晶を濾過し、上記標題化合物０．３１ｇを淡黄色
粉末として得た。
１２０５，１１８２． ７０ＯＮＭＲスペクトル（Ｄ
ＭＳＯ−ｄａ ｉｐＩ）ｍ）９、 ０ （ＩＨ，
ｄ、 Ｊ＝７Ｈｚ）８．５ （ＩＨ，ｓ） ８．２〜１．１ （４０Ｈ，ｍ） ６．９ （ＩＨ，ｓ） ６．５ （１）１．ｓ） ５．８〜５．１ （３Ｈ，ｍ） ４．３ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） ２．３ （６Ｈ，ｓ） 工程 ４ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（３，４−ジアセトキシベンゾイルアミノ
）アセタミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル
−５−）リアゾロ〔１，５−ａ）ピリミジン−７−イル
）チオメチル〕−８＝オキソー５−チア−１−アザビシ
クロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
の製造工程 ３で得られた化合物０．６５ｇをジクロロ
エタン’ｌ ｍ ｌに溶解し、水冷下にアニソール０．
５ｍｌ、）リフルオロ酢酸ｌ ｍ ｌを加え、室温で２
時間攪拌した。上清をデカントで除き、残渣を少量のジ
クロロエタンで洗い、さらにエーテルを加えて結晶化し
た。結晶を濾過し、上記標題化合物０．３１ｇを淡黄色
粉末として得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７７４．
１６５４． １６４７．１５０９゜ＮＭＲスペクトル（
ＤＭＳＯ−ｄｓ ；ｐｐｍ）９．２ （ＬＨ，ｄ） ８．９〜８．８ （ＬＨ，ｍ） ７、 ９〜７． ３ （４Ｈ，ｍ） ６、 ６ （ＩＩ−１，ｓ） ５、 ８〜５． ６ （２Ｈ，ｍ） ５、 １ （ＩＩＩ、 ｄ、 Ｊ＝４Ｈｚ）４、
４ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ３ （６Ｈ，ｓ） 実施例 ２４ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（３，４−ジヒドロキシベンゾイルアミノ
）アセタミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル
−５−）リアゾロ〔１，５−ａ）ピリミジン−７−イル
）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
の製造実施例 ２３の工程 ４で得られた化合物０゜２
８ｇを水１０ｍ１に恐濁し、室温で炭酸水素ナトリウム
を加え、ｐＨ８に調整し熔解した。３時間後、３０℃に
して３０分攪拌した。反応液をダイヤイオンＨＰＩＯに
吸着し、メタノール：水（１：５）で溶出した。目的物
を含む分画を集め。
１６５４． １６４７．１５０９゜ＮＭＲスペクトル（
ＤＭＳＯ−ｄｓ ；ｐｐｍ）９．２ （ＬＨ，ｄ） ８．９〜８．８ （ＬＨ，ｍ） ７、 ９〜７． ３ （４Ｈ，ｍ） ６、 ６ （ＩＩ−１，ｓ） ５、 ８〜５． ６ （２Ｈ，ｍ） ５、 １ （ＩＩＩ、 ｄ、 Ｊ＝４Ｈｚ）４、
４ （２Ｈ，ｂｓ） ３、 ７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２、 ６ （３Ｈ，ｓ） ２、 ３ （６Ｈ，ｓ） 実施例 ２４ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（３，４−ジヒドロキシベンゾイルアミノ
）アセタミド）−３−（（２−カルボキシ−５−メチル
−５−）リアゾロ〔１，５−ａ）ピリミジン−７−イル
）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロ（４，２゜０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
の製造実施例 ２３の工程 ４で得られた化合物０゜２
８ｇを水１０ｍ１に恐濁し、室温で炭酸水素ナトリウム
を加え、ｐＨ８に調整し熔解した。３時間後、３０℃に
して３０分攪拌した。反応液をダイヤイオンＨＰＩＯに
吸着し、メタノール：水（１：５）で溶出した。目的物
を含む分画を集め。
凍結乾燥し、上記標題化合物０．１６ｇを得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７６３．
１６２４．１５９９．１５１４゜１４０６．１３５２．
１３１４ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ｉ ｐｐｍ）９
．０ （ＩＨ，ｍ） ８．１ （ＬＨ，ｍ） ７．６ （ＩＨ，ｓ） ７．３〜６．７ （３Ｈ，ｍ） ６．４ （ＩＨ，ｓ） ５．７〜５．５ （２Ｈ，ｍ） ５．１〜４．９ （Ｉ Ｈ，ｍ） ４．６ （２Ｈ，ＡＢｑ） ３．６ （２）（、ＡＢｑ） ２．５ （３Ｈ，ｓ） 実施例 ２５ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（３，４，５−１−ジアセトキシベンゾイ
ルアミノ）アセタミド） −３−（（２−カルボキシ−
５−メチル−５−）リアゾロ〔１，５−ａ）ピリミジン
−７−イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１
−アザビシクロ〔４，２，０）オクト−２−エン−２−
カルボン酸の製造 実施例 ２３と同様の方法で上記標題化合物を得た。
１６２４．１５９９．１５１４゜１４０６．１３５２．
１３１４ ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄａ ｉ ｐｐｍ）９
．０ （ＩＨ，ｍ） ８．１ （ＬＨ，ｍ） ７．６ （ＩＨ，ｓ） ７．３〜６．７ （３Ｈ，ｍ） ６．４ （ＩＨ，ｓ） ５．７〜５．５ （２Ｈ，ｍ） ５．１〜４．９ （Ｉ Ｈ，ｍ） ４．６ （２Ｈ，ＡＢｑ） ３．６ （２）（、ＡＢｑ） ２．５ （３Ｈ，ｓ） 実施例 ２５ （６Ｒ，７Ｒ）−７−（２−（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（３，４，５−１−ジアセトキシベンゾイ
ルアミノ）アセタミド） −３−（（２−カルボキシ−
５−メチル−５−）リアゾロ〔１，５−ａ）ピリミジン
−７−イル）チオメチルツー８−オキソ−５−チア−１
−アザビシクロ〔４，２，０）オクト−２−エン−２−
カルボン酸の製造 実施例 ２３と同様の方法で上記標題化合物を得た。
ＩＲスペクトル（ＫＢ ｒ ； ｃｍ−１）１７７９．
１５１２，１２０３．１１９１ＮＭＲスペクトル（ＤＭ
ＳＯ−ｄｓ ｉｐＩ）ｍ）９．２ （ＬＨ，ｄ、Ｊ
＝８Ｈｚ） ８、 ８ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝６Ｈｚ）７．
８ （２Ｈ，ｓ） ７．４ （ＬＨ，ｓ） ６．６ （ＬＨ，ｓ） ５．８ （ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）５．６
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ） ５．１ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） ２．３ （９Ｈ，ｓ）
１５１２，１２０３．１１９１ＮＭＲスペクトル（ＤＭ
ＳＯ−ｄｓ ｉｐＩ）ｍ）９．２ （ＬＨ，ｄ、Ｊ
＝８Ｈｚ） ８、 ８ （ＬＨ，ｄ、 Ｊ＝６Ｈｚ）７．
８ （２Ｈ，ｓ） ７．４ （ＬＨ，ｓ） ６．６ （ＬＨ，ｓ） ５．８ （ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）５．６
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ） ５．１ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） ４．４ （２Ｈ，ｂｓ） ３．７ （２Ｈ，ＡＢｑ） ２．６ （３Ｈ，ｓ） ２．３ （９Ｈ，ｓ）
Claims (71)
- （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１は水素原子またはアミノ保護基を表し、
Ｒ＾２およびＲ＾３は水素原子、カルボキシル基、保護
されたカルボキシル基またはメチル基を表し、Ｒ＾４は
水素原子またはカルボキシル保護基を表し、Ｘは水素原
子、水酸基、または基 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ を表し、Ｒ＾５は水酸基または保護された水酸基を表し
、Ｒ＾６は水素原子、メチル基、塩素原子、イソプロピ
ル基、水酸基、保護された水酸基、カルボキシル基また
は保護されたカルボキシル基を表し、Ｒ＾７は水素原子
、アセトキシ基、水酸基または保護された水酸基を表し
、Ｒ＾８およびＲ＾９は水素原子、アセトキシ基、アミ
ノ基、保護されたアミノ基、水酸基または保護された水
酸基を表し、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ を表し、Ｒ＾１＾０は水素原子、カルボキシル基、保護
されたカルボキシル基、ヒドロキシスルホニル基または
保護されたヒドロキシスルホニル基を表し、Ｒ＾１＾１
は水素原子、メチル基、カルボキシル基または保護され
たカルボキシル基を表し、点線を含む結合は単結合また
は二重結合を表し、波線の結合は点線を含む結合が二重
結合の時アンチ（ａｎｔｉ）形またはシン（ｓｙｎ）形
の結合を表し、ａ、ｂおよびｃは０または１の整数を表
す。）で表されるセファロスポリン誘導体、その塩、そ
の水和物および塩の水和物。 - （２）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃが１であり、ｂが０である特許請求
の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その塩、
その水和物および塩の水和物。 - （３）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃが１であり、ｂが０である特許請求
の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その塩、
その水和物および塩の水和物。 - （４）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃが１であり、ｂが０である特許請求
の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その塩、
その水和物および塩の水和物。 - （５）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃが１であり、ｂが０である特許請求
の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その塩、
その水和物および塩の水和物。 - （６）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃが１であり、ｂが０である特許請求
の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その塩、
その水和物および塩の水和物。 - （７）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃが１であり、ｂが０である特許請求
の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その塩、
その水和物および塩の水和物。 - （８）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃが１であり、ｂが０である特許請求
の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その塩、
その水和物および塩の水和物。 - （９）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃが１であり、ｂが０である特許請求
の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その塩、
その水和物および塩の水和物。 - （１０）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃが１であり、ｂが０である特許請求
の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その塩、
その水和物および塩の水和物。 - （１１）Ｘは水素原子であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａが１であり、ｂおよびｃは０である特許請求
の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その塩、
その水和物および塩の水和物。 - （１２）Ｘは水素原子であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａが１であり、ｂおよびｃは０である特許請求
の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その塩、
その水和物および塩の水和物。 - （１３）Ｘは水酸基であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２およびＲ＾３は水素原子であり、ａ、ｂ
およびｃは１である特許請求の範囲第１項記載のセファ
ロスポリン誘導体、その塩、その水和物および塩の水和
物。 - （１４）Ｘは水酸基であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２およびＲ＾３は水素原子であり、ａ、ｂ
およびｃは１である特許請求の範囲第１項記載のセファ
ロスポリン誘導体、その塩、その水和物および塩の水和
物。 - （１５）Ｘは水酸基であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２およびＲ＾３はメチル基であり、ａ、ｂ
およびｃは１である特許請求の範囲第１項記載のセファ
ロスポリン誘導体、その塩、その水和物および塩の水和
物。 - （１６）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２およびＲ＾３はメチル基であり、ａ、ｂ
およびｃは１である特許請求の範囲第１項記載のセファ
ロスポリン誘導体、その塩、その水和物および塩の水和
物。 - （１７）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２は水素原子であり、Ｒ＾３はカルボキシ
ル基であり、ａおよびｂは１であり、ｃは０である特許
請求の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その
塩、その水和物および塩の水和物。 - （１８）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２は水素原子であり、Ｒ＾３はカルボキシ
ル基であり、ａおよびｂは１であり、ｃは０である特許
請求の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その
塩、その水和物および塩の水和物。 - （１９）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２およびＲ＾３は水素原子であり、ａおよ
びｂは１であり、ｃは０である特許請求の範囲第１項記
載のセファロスポリン誘導体、その塩、その水和物およ
び塩の水和物。 - （２０）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２は水素原子であり、Ｒ＾３はカルボキシ
ル基であり、ａおよびｂは１であり、ｃは０である特許
請求の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その
塩、その水和物および塩の水和物。 - （２１）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２は水素原子であり、Ｒ＾３はカルボキシ
ル基であり、ａおよびｂは１であり、ｃは０である特許
請求の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その
塩、その水和物および塩の水和物。 - （２２）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２は水素原子であり、Ｒ＾３はカルボキシ
ル基であり、ａおよびｂは１であり、ｃは０である特許
請求の範囲第１項記載のセファロスポリン誘導体、その
塩、その水和物および塩の水和物。 - （２３）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｂは０であり、ｃは１であり、点線を
ふくむ結合は単結合である特許請求の範囲第１項記載の
セファロスポリン誘導体、その塩、その水和物および塩
の水和物。 - （２４）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｂは０であり、ｃは１であり、点線を
ふくむ結合は単結合である特許請求の範囲第１項記載の
セファロスポリン誘導体、その塩、その水和物および塩
の水和物。 - （２５）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｂは０であり、ｃは１であり、点線を
ふくむ結合は単結合である特許請求の範囲第１項記載の
セファロスポリン誘導体、その塩、その水和物および塩
の水和物。 - （２６）波線の結合がシン（ｓｙｎ）形の結合である特
許請求の範囲第２項ないし第２１項のいずれか一項記載
のセファロスポリン誘導体、その塩、その水和物および
塩の水和物。 - （２７）一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＾１は水素原子またはアミノ保護基を表し、
Ｒ＾２およびＲ＾３は水素原子、カルボキシル基、保護
されたカルボキシル基またはメチル基を表し、Ｒ＾４は
水素原子またはカルボキシ保護基を表し、Ｘは水素原子
、水酸基、または基 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ を表し、Ｒ＾５は水酸基または保護された水酸基を表し
、Ｒ＾６は水素原子、メチル基、塩素原子、イソプロピ
ル基、水酸基、保護された水酸基、カルボキシル基、ま
たは保護されたカルボキシル基を表し、Ｒ＾７は水素原
子、アセトキシ基、水酸基または保護された水酸基を表
し、Ｒ＾８およびＲ＾９は水素原子、アセトキシ基、ア
ミノ基、保護されたアミノ基、水酸基または保護された
水酸基を表し、点線を含む結合は単結合または二重結合
を表し、波線の結合は点線を含む結合が二重結合の時ア
ンチ（ａｎｔｉ）形またはシン（ｓｙｎ）形の結合を表
し、ａ、ｂおよびｃは０または１の整数を表す。）で表
されるセファロスポリン誘導体合成における中間化合物
。 - （２８）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃは１であり、ｂは０である特許請求
の範囲第２７項記載の化合物。 - （２９）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃは１であり、ｂは０である特許請求
の範囲第２７項記載の化合物。 - （３０）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃは１であり、ｂは０である特許請求
の範囲第２７項記載の化合物。 - （３１）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃは１であり、ｂは０である特許請求
の範囲第２７項記載の化合物。 - （３２）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃは１であり、ｂは０である特許請求
の範囲第２７項記載の化合物。 - （３３）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｃは１であり、ｂは０である特許請求
の範囲第２７項記載の化合物。 - （３４）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２およびＲ＾３はメチル基であり、ａ、ｂ
およびｃは１である特許請求の範囲第２７項記載の化合
物。 - （３５）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２は水素原子であり、Ｒ＾３はカルボキシ
ル基または保護されたカルボキシル基であり、ａおよび
ｂは１であり、ｃは０である特許請求の範囲第２７項記
載の化合物。 - （３６）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２は水素原子であり、Ｒ＾３はカルボキシ
ル基または保護されたカルボキシル基であり、ａおよび
ｂは１であり、ｃは０である特許請求の範囲第２７項記
載の化合物。 - （３７）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２およびＲ＾３は水素原子であり、Ｒ＾４
は水素原子またはカルボキシル保護基であり、ａおよび
ｂは１であり、ｃは０である特許請求の範囲第２７項記
載の化合物。 - （３８）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２は水素原子であり、Ｒ＾３はカルボキシ
ル基または保護されたカルボキシル基であり、ａおよび
ｂは１であり、ｃは０である特許請求の範囲第２７項記
載の化合物。 - （３９）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２は水素原子であり、Ｒ＾３はカルボキシ
ル基または保護されたカルボキシル基であり、ａおよび
ｂは１であり、ｃは０である特許請求の範囲第２７項記
載の化合物。 - （４０）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＾２は水素原子であり、Ｒ＾３はカルボキシ
ル基または保護されたカルボキシル基であり、ａおよび
ｂは１であり、ｃは０である特許請求の範囲第２７項記
載の化合物。 - （４１）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｂは０であり、ｃは１であり、点線を
含む結合は単結合である特許請求の範囲第２７項記載の
化合物。 - （４２）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｂは０であり、ｃは１であり、点線を
含む結合は単結合である特許請求の範囲第２７項記載の
化合物。 - （４３）Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ａおよびｂは０であり、ｃは１であり、点線を
含む結合は単結合である特許請求の範囲第２７項記載の
化合物。 - （４４）波線の結合がシン（ｓｙｎ）形の結合である特
許請求の範囲第２８項ないし第４２項のいずれか一項記
載の化合物。 - （４５）一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＾４は水素原子またはカルボキシ保護基を表
し、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ を表し、Ｒ＾１＾０は水素原子、カルボキシル基、保護
されたカルボキシル基、ヒドロキシスルホニル基または
保護されたヒドロキシスルホニル基を表し、Ｒ＾１＾１
は水素原子、メチル基、カルボキシル基または保護され
たカルボキシル基を表す。）で表される化合物もしくは
そのアミノ基における反応性誘導体またはそれらの塩類
に、一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒ＾１は水素原子またはアミノ保護基を表し、
Ｒ＾２およびＲ＾３は水素原子、カルボキシル基、保護
されたカルボキシル基またはメチル基を表し、Ｘは水素
原子、水酸基、または基 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ を表し、Ｒ＾５は水酸基または保護された水酸基を表し
、Ｒ＾６は水素原子、メチル基、塩素原子、イソプロピ
ル基、水酸基、保護された水酸基、カルボキシル基また
は保護されたカルボキシル基を表し、Ｒ＾７は水素原子
、アセトキシ基、アミノ基、保護されたアミノ基、水酸
基または保護された水酸基を表し、点線を含む結合は単
結合または二重結合を表し、波線の結合は点線を含む結
合が二重結合の時アンチ（ａｎｔｉ）形またはシン（ｓ
ｙｎ）形の結合を表し、ａ、ｂおよびｃは０または１の
整数を表す。）で表される化合物もしくはカルボキシル
基における反応性誘導体またはそれらの塩類を反応させ
ることを、そして所望によっては、アミノ保護基、ヒド
ロキシ保護基および／またはカルボキシ保護基を除去す
ることを特徴とする一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｘ、Ｙ、ａ
、ｂ、ｃ、点線を含む結合および波線の結合は前記と同
一の意味を有する。）で表されるセファロスポリン誘導
体の製造法。 - （４６）一般式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （式中、Ｒ＾１は水素原子またはアミノ保護基を表し、
Ｒ＾４は水素原子またはカルボキシ保護基を表し、Ｙは
基 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ を表し、Ｒ＾１＾０は水素原子、カルボキシル基、保護
されたカルボキシル基、ヒドロキシスルホニル基または
保護されたヒドロキシスルホニル基を表し、Ｒ＾１＾１
は水素原子、メチル基、カルボキシル基または保護され
たカルボキシル基を表し、Ｚは水素原子または水酸基を
表し、点線を含む結合は単結合または二重結合を表し、
波線の結合は点線を含む結合が二重結合の時アンチ（ａ
ｎｔｉ）形またはシン（ｓｙｎ）形の結合を表される化
合物もしくはそれらの塩類に一般式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） （式中、Ｒ＾２およびＲ＾３は水素原子、カルボキシル
基、保護されたカルボキシル基またはメチル基を表し、
Ａはハロゲン原子または水酸基を表し、Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ を表し、Ｒ＾５は水酸基または保護された水酸基を表し
、Ｒ＾６は水素原子、メチル基、塩素原子、イソプロピ
ル基、水酸基、保護された水酸基、カルボキシル基また
は保護されたカルボキシル基を表し、Ｒ＾７は水素原子
、アセトキシ基、水酸基または保護された水酸基を表し
、Ｒ＾８およびＲ＾９は水素原子、アセトキシ基、アミ
ノ基、保護されたアミノ基、水酸基または保護された水
酸基を表し、ｂおよびｃは０または１の整数を表す。）
で表される化合物あるいはその塩類、もしくはＡが水酸
基の場合、その水酸基における反応性誘導体を反応させ
ることを、そして所望によっては、アミノ保護基、ヒド
ロキシ保護基および／またはカルボキシ保護基を除去す
ることを特徴とする一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｘ、Ｙ、ａ
、ｂ、ｃ、点線を含む結合および波線の結合は前記と同
一の意味を有する。）で表されるセファロスポリン誘導
体の製造法。 - （４７）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１は水素原子またはアミノ保護基を表し、
Ｒ＾２およびＲ＾３は水素原子、カルボキシル基、保護
されたカルボキシル基またはメチル基を表し、Ｒ＾４は
水素原子またはカルボキシ保護基を表し、Ｘは水素原子
、水酸基、または基 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ を表し、Ｒ＾５は水酸基または保護された水酸基を表し
、Ｒ＾６は水素原子、メチル基、塩素原子、イソプロピ
ル基、水酸基、保護された水酸基、カルボキシル基また
は保護されたカルボキシル基を表し、Ｒ＾７は水素原子
、アセトキシ基、水酸基または保護された水酸基を表し
、Ｒ＾８およびＲ＾９は水素原子、アセトキシ基、アミ
ノ基、保護されたアミノ基、水酸基または保護された水
酸基を表し、Ｙは基 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ を表し、Ｒ＾１＾０は水素原子、カルボキシル基、保護
されたカルボキシル基、ヒドロキシスルホニル基または
保護されたヒドロキシスルホニル基を表し、Ｒ＾１＾１
は水素原子、メチル基、カルボキシル基または保護され
たカルボキシル基を表し、点線を含む結合は単結合また
は二重結合を表し、波線の結合は点線を含む結合が二重
結合の時アンチ（ａｎｔｉ）形またはシン（ｓｙｎ）形
の結合を表し、ａ、ｂおよびｃは０または１の整数を表
す。）で表されるセファロスポリン誘導体、その塩、そ
の化合物および／または塩の水和物を有効成分とするこ
とを特徴とする感染症の治療および予防のための製剤。 - （４８）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−（２−クロロ−
４，５−ジヒドロキシベンゾイル）オキシイミノ〕アセ
タミド〕−３−〔（２−カルボキシ−５−メチル−ｓ−
トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−イル）チオ
メチル〕−８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ〔
４，２，０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸、その
塩、その水和物および／または塩の水和物である特許請
求の範囲第４７項記載の製剤。 - （４９）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−〔４，５−ビス
（クロロアセチルオキシ）−２−メチルベンゾイル〕オ
キシイミノ〕アセタミド〕−３−〔（７−メチル−５Ｈ
−５−オン−１，３，４−チアジアゾロ〔３，２−ａ〕
ピリミジン−２−イル）チオメチル〕−８−オキソ−５
−チア−１−アザビシクロ〔４，２，０〕オクト−２−
エン−２−カルボン酸、その塩、その水和物および／ま
たは塩の水和物である特許請求の範囲第４７項記載の製
剤。 - （５０）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−（４，５−ジヒ
ドロキシ−２−メチルベンゾイル）オキシイミノ〕アセ
タミド〕−３−〔（７−メチル−５Ｈ−５−オン−１，
３，４−チアジアゾロ〔３，２−ａ〕ピリミジン−２−
イル）チオメチル〕−８−オキソ−５−チア−１−アザ
ビシクロ〔４．２．０〕オクト−２−エン−２−カルボ
ン酸、その塩、その水和物および／または塩の水和物で
ある特許請求の範囲第４７項記載の製剤。 - （５１）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−〔４，５−ビス
（クロロアセチルオキシ）−２−イソプロピルベンゾイ
ル〕オキシイミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボ
キシ−５−メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリ
ミジン−７−イル）チオメチル〕−８−オキソ−５−チ
ア−１−アザビシクロ〔４．２．０〕オクト−２−エン
−２−カルボン酸、その塩、その水和物および／または
塩の水和物である特許請求の範囲第４７項記載の製剤。 - （５２）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−（４，５−ジヒ
ドロキシ−２−イソプロピルベンゾイル）オキシイミノ
〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ−５−メチル
−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−イル
）チオメチル〕−８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロ〔４．２．０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
、その塩、その水和物および／または塩の水和物である
特許請求の範囲第４７項記載の製剤。 - （５３）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−（４，５−ジア
セトキシ−２−イソプロピルベンゾイル）オキシイミノ
〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ−５−メチル
−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−イル
）チオメチル〕−８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロ〔４．２．０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
、その塩、その水和物および／または塩の水和物である
特許請求の範囲第４７項記載の製剤。 - （５４）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−（２−メチル−
３，４，５−トリアセトキシベンゾイル）オキシイミノ
〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ−５−メチル
−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−イル
）チオメチル〕−８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロ〔４．２．０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
、その塩、その水和物および／または塩の水和物である
特許請求の範囲第４７項記載の製剤。 - （５５）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−（３，４−ジア
ミノベンゾイル）オキシイミノ〕アセタミド〕−３−〔
（２−カルボキシ−５−メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，
５−ａ〕ピリミジン−７−イル）チオメチル〕−８−オ
キソ−５−チア−１−アザビシクロ〔４．２．０〕オク
ト−２−エン−２−カルボン酸、その塩、その水和物お
よび／または塩の水和物である特許請求の範囲第４７項
記載の製剤。 - （５６）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−（４，５−ジヒ
ドロキシ−２−メチルベンゾイル）オキシイミノ〕アセ
タミド〕−３−〔（２−スルホキシ−５−メチル−ｓ−
トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−イル）チオ
メチル〕−８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ〔
４．２．０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸、その
塩、その水和物および／または塩の水和物である特許請
求の範囲第４７項記載の製剤。 - （５７）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−ヒドロキシイミ
ノ）アセタミド〕−３−〔（６−カルボキシ−７−ヒド
ロキシ−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−２
−イル）チオメチル〕−８−オキソ−５−チア−１−ア
ザビシクロ〔４．２．０〕オクト−２−エン−２−カル
ボン酸、その塩、その水和物および／または塩の水和物
である特許請求の範囲第４７項記載の製剤。 - （５８）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−ヒドロキシイミ
ノ）アセタミド〕−３−〔（５−カルボキシ−ｓ−トリ
アゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−イル）チオメチ
ル〕−８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ〔４．
２．０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸、その塩、
その水和物および／または塩の水和物である特許請求の
範囲第４７項記載の製剤。 - （５９）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ− ４−チアゾリル）−２−（Ｚ−カルボキシメ
チルオキシイミノ）アセタミド〕−３−〔（５−メチル
−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−イル
）チオメチル〕−８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロ〔４．２．０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
、その塩、その水和物および／または塩の水和物である
特許請求の範囲第４７項記載の製剤。 - （６０）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−（Ｚ−カルボキシメチ
ルオキシイミノ）アセタミド〕−３−〔（２−カルボキ
シ−５−メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミ
ジン−７−イル）チオメチル〕−８−オキソ−５−チア
−１−アザビシクロ〔４．２．０〕オクト−２−エン−
２−カルボン酸、その塩、その水和物および／または塩
の水和物である特許請求の範囲第４７項記載の製剤。 - （６１）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−（１−カルボキ
シ−１−メチルエチル）オキシイミノ〕アセタミド〕−
３−〔（５−メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピ
リミジン−７−イル）チオメチル〕−８−オキソ−５−
チア−１−アザビシクロ〔４．２．０〕オクト−２−エ
ン−２−カルボン酸、その塩、その水和物および／また
は塩の水和物である特許請求の範囲第４７項記載の製剤
。 - （６２）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ〔１−（３，４−
ジヒドロキシフェニルアミノ）カルボニル−１−メチル
エチル〕オキシイミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−カ
ルボキシ−５−メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕
ピリミジン−７−イル）チオメチル〕−８−オキソ−５
−チア−１−アザビシクロ〔４．２．０〕オクト−２−
エン−２−カルボン酸、その塩、その水和物および／ま
たは塩の水和物である特許請求の範囲第４７項記載の製
剤。 - （６３）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−〔カルボキシ（
４，５−ジアセトキシ−２−メチルフェニル）メチル〕
オキシイミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ
−５−メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジ
ン−７−イル）チオメチル〕−８−オキソ−５−チア−
１−アザビシクロ〔４．２．０〕オクト−２−エン−２
−カルボン酸、その塩、その水和物および／または塩の
水和物である特許請求の範囲第４７項記載の製剤。 - （６４）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−〔カルボキシ（
４，５−ジヒドロキシ−２−メチルフェニル）メチル〕
オキシイミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ
−５−メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジ
ン−７−イル）チオメチル〕−８−オキソ−５−チア−
１−アザビシクロ〔４．２．０〕オクト−２−エン−２
−カルボン酸、その塩、その水和物および／または塩の
水和物である特許請求の範囲第４７項記載の製剤。 - （６５）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−（４−アセトキ
シ−２−カルボキシ−５−ヒドロキシフェニルメチル）
オキシイミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ
−５−メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジ
ン−７−イル）チオメチル〕−８−オキソ−５−チア−
１−アザビシクロ〔４．２．０〕オクト−２−エン−２
−カルボン酸、その塩、その水和物および／または塩の
水和物である特許請求の範囲第４７項記載の製剤。 - （６６）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−〔カルボキシ（
３，４，５−トリアセトキシフェニル）メチル〕オキシ
イミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ−５−
メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７
−イル）チオメチル〕−８−オキソ−５−チア−１−ア
ザビシクロ〔４．２．０〕オクト−２−エン−２−カル
ボン酸、その塩、その水和物および／または塩の水和物
である特許請求の範囲第４７項記載の製剤。 - （６７）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−〔カルボキシ（
３，４，５−トリヒドロキシフェニル）メチル〕オキシ
イミノ〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ−５−
メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７
−イル）チオメチル〕−８−オキソ−５−チア−１−ア
ザビシクロ〔４．２．０〕オクト−２−エン−２−カル
ボン酸、その塩、その水和物および／または塩の水和物
である特許請求の範囲第４７項記載の製剤。 - （６８）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−（３，４−ジアセトキ
シベンゾイル）アミノアセタミド〕−３−〔（２−カル
ボキシ−５−メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピ
リミジン−７−イル）チオメチル〕−８−オキソ−５−
チア−１−アザビシクロ〔４．２．０〕オクト−２−エ
ン−２−カルボン酸、その塩、その水和物および／また
は塩の水和物である特許請求の範囲第４７項記載の製剤
。 - （６９）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−（３，４−ジヒドロキ
シベンゾイル）アミノアセタミド〕−３−〔（２−カル
ボキシ−５−メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピ
リミジン−７−イル）チオメチル〕−８−オキソ−５−
チア−１−アザビシクロ〔４．２．０〕オクト−２−エ
ン−２−カルボン酸、その塩、その水和物および／また
は塩の水和物である特許請求の範囲第４７項記載の製剤
。 - （７０）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−（３，４，５−トリア
セトキシベンゾイル）アミノアセタミド〕−３−〔（２
−カルボキシ−５−メチル−ｓ−トリアゾロ〔１，５−
ａ〕ピリミジン−７−イル）チオメチル〕−８−オキソ
−５−チア−１−アザビシクロ〔４．２．０〕オクト−
２−エン−２−カルボン酸、その塩、その水和物および
／または塩の水和物である特許請求の範囲第４７項記載
の製剤。 - （７１）有効成分が（６Ｒ，７Ｒ）−７−〔２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−〔Ｚ−〔カルボキシ（
２，３−ジヒドロキシフェニル）メチル〕オキシイミノ
〕アセタミド〕−３−〔（２−カルボキシ−５−メチル
−ｓ−トリアゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−イル
）チオメチル〕−８−オキソ−５−チア−１−アザビシ
クロ〔４．２．０〕オクト−２−エン−２−カルボン酸
、その塩、その水和物および／または塩の水和物である
特許請求の範囲第４７項記載の製剤。
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| GR860852A GR860852B (en) | 1985-04-01 | 1986-03-31 | Method for the preparation of cephalosporin derivatives |
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| FI864825A FI86430C (fi) | 1985-04-01 | 1986-11-26 | Foerfarande foer framstaellning av terapeutiskt aktiva cefalosporinderivat. |
| SU864028552A SU1722229A3 (ru) | 1985-04-01 | 1986-11-28 | Способ получени производных цефалоспорина или их солей, гидратов или солей их гидратов |
| NO864794A NO169654C (no) | 1985-04-01 | 1986-11-28 | Analogifremgangsmaate for fremstilling av terapeutisk aktive 7-aminotiazolyl - oksyimino - acetamido - cefalosporinderivater |
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| PH35930A PH24371A (en) | 1985-04-01 | 1987-10-13 | An intermediate compound of cephalosporin derivatives |
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| IL93601A IL93601A0 (en) | 1985-04-01 | 1990-03-01 | 7-aminothiazolyl oxyimino acetamino cephalosporin derivatives |
| NO91910713A NO910713D0 (no) | 1985-04-01 | 1991-02-22 | Mellomprodukter ved syntesen av terapeutisk aktive cefalosporinderivater. |
| FI915479A FI915479A0 (fi) | 1985-04-01 | 1991-11-20 | Mellanfoerening foer syntes av kefalosporinderivater. |
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| JP60147359A JPS62161793A (ja) | 1985-07-04 | 1985-07-04 | 新規セフアロスポリン誘導体，その製法およびそれらを有効成分とする抗菌剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62161793A true JPS62161793A (ja) | 1987-07-17 |
Family
ID=15428413
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60147359A Pending JPS62161793A (ja) | 1985-04-01 | 1985-07-04 | 新規セフアロスポリン誘導体，その製法およびそれらを有効成分とする抗菌剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62161793A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5095012A (en) * | 1990-08-23 | 1992-03-10 | Bristol-Myers Squibb Company | Antibiotic c-7 catechol-substituted cephalosporin compounds, compositions, and method of use thereof |
| US5234920A (en) * | 1990-08-23 | 1993-08-10 | Bristol-Myers Squibb Company | Antibiotic C-7 catechol-substituted cephalosporin compounds, compositions, and method of use thereof |
| JP2007134128A (ja) * | 2005-11-09 | 2007-05-31 | Sanki Shoji:Kk | 誘導加熱調理装置と食品パッキング体 |
-
1985
- 1985-07-04 JP JP60147359A patent/JPS62161793A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5095012A (en) * | 1990-08-23 | 1992-03-10 | Bristol-Myers Squibb Company | Antibiotic c-7 catechol-substituted cephalosporin compounds, compositions, and method of use thereof |
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| JP2007134128A (ja) * | 2005-11-09 | 2007-05-31 | Sanki Shoji:Kk | 誘導加熱調理装置と食品パッキング体 |
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