JPS6216145A - スクリ−ン印刷用ポリエステル製メツシユ - Google Patents

スクリ−ン印刷用ポリエステル製メツシユ

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JPS6216145A
JPS6216145A JP15585885A JP15585885A JPS6216145A JP S6216145 A JPS6216145 A JP S6216145A JP 15585885 A JP15585885 A JP 15585885A JP 15585885 A JP15585885 A JP 15585885A JP S6216145 A JPS6216145 A JP S6216145A
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JP
Japan
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mesh
polyester
base material
pattern
printing
Prior art date
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Pending
Application number
JP15585885A
Other languages
English (en)
Inventor
Susumu Ueno
進 上野
Noboru Nakanishi
暢 中西
Kenji Fushimi
伏見 賢治
Keiichi Ishikawa
石川 啓一
Yasuo Emori
江守 康雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NIPPON TOKUSHU ORIMONO KK
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Akebono Brake Industry Co Ltd
Original Assignee
NIPPON TOKUSHU ORIMONO KK
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Akebono Sangyo Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NIPPON TOKUSHU ORIMONO KK, Shin Etsu Chemical Co Ltd, Akebono Sangyo Co Ltd filed Critical NIPPON TOKUSHU ORIMONO KK
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Priority to EP86401510A priority patent/EP0208618A3/en
Priority to US06/883,172 priority patent/US4741920A/en
Publication of JPS6216145A publication Critical patent/JPS6216145A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/12Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はスクリーン印刷用ポリエステル製メツシュに関
し、特に微細パターンの焼付けが可能な高密度配線印刷
用のスクリーンメツシュに係るものである。
(従来技術と問題点) スクリーン印刷用メツシュとしては、従来シルク、ステ
ンレス等が用いられていたが、シルクは強度、寸法安定
性に、ステンレスは弾性回復性、瞬発性にそれぞれ問題
があり、かついずれも高価であるため、現在はポリエス
テルおよびナイロン製がこれに代り、特に寸法安定性の
点でポリエステル製メツシュが多用されるようになって
いる。
しかしながら、これらは乳剤の塗布性が悪く、均一な膜
厚を形成させるためには、職人的手芸において数多くの
重ね塗りを必要とするなど、生産性が低く、メツシュと
乳剤樹脂との密着性、耐溶剤性に劣るため耐刷性が悪く
、かつ250 gm以下の微細パターン印刷においては
メツシュに焼きつけられた乳剤がはく離しやすく歩留り
がよくない等の欠点がある。
従来これらの問題を解決すべく、酸、アルカリ等の化学
処理、火炎処理、コロナ処理等が検討されたが、十分な
効果が得られず材質の強度低下を招くなどの問題を生ず
るため上記の欠点を克服したスクリーンメツシュは開発
されていない。
さらに他の問題としてポリエステルファイバーは白色で
あり、これを編みあげたクロスは純白であるため、ハレ
ーションが強く、スクリーン上に焼付けたパターンにぼ
け、かぶり等が生じやすいという問題がある。
このため、赤、オレンジ、紫、黄、等に染色されたポリ
エステル製メツシュが供給されるようになってきたが、
このメツシュは染色性が悪くビーム染色法などの特殊方
法によっても耐性のある染色が困難で、表面に染料や各
種処理剤等が異物となって残りやす〈、これがパターン
焼付け、洗出し後も残存して、微細なパターンの形成を
妨げ、鮮明な印刷を困難にしていた。
これらの諸問題についてはユーザーから早期解決が要望
されているが、末だ解決された例を見ない現状である。
(発明の構成) 本発明者らは、前記従来の問題点を解決すべく鋭意研究
を進めた結果、ポリエステル製のメツシュ基材を、あら
かじめ無機ガス中で低温プラズマ処理することにより、
特に、基材上に塗布される乳剤樹脂層との密着性が著る
しくよくなり耐刷性にすぐれ高密度配線印刷が可能にな
ることを見出し、本発明に到達した。すなわち、木発明
は250メツシュ以上で表面がぬれ指数40以上のぬれ
試薬で湿潤するポリエステル基材と基材上の感光性樹脂
層とからなり、250pm以下の線幅のパターン形成が
可能なスクリーン印刷用ポリエステル製メツシュに係る
ものである。以下これについてさらに詳しく説明すると
、本発明のポリエステル製メツシュは、基材としてポリ
エステルファイバーを250メツシュ以上、好ましくは
250〜350メツシユに編み上げ、好ましくは黄色に
染色したポリエステルメツシュを用い、これをプラズマ
処理に供するのである。
この場合の処理は、減圧可能な低温プラズマ発生装置内
に前記メツシュを保持し、0.01〜10)ルの低圧下
に無機ガスを通気しながら電極間に、たとえば1OKH
z〜100MHzの高周波電力を印加することによって
行われる。放電周波数帯としては、前記高周波のほかに
低周波、マイクロ波、さらには直流なども用いることが
できる。
前記低温プラズマ発生装置は内部電極型が好ましいが、
場合によっては外部電極型あるいはコイル型などのいず
れであってもよい。
しかし、どのような方法によるとしても放電熱により被
処理面が変質しないようにしなければならない。
木発明の方法は前記したように内部電極方式で実施する
のが望ましいが、この際の、電極の形状については特に
制限はなく、入力側電極とアース側電極が同一形状でも
、あるいは異なった形状のいずれであってもよく、それ
らは平板状、リング状、棒状、シリンダー状等、種々可
能であり、さらには処理装置の金属内壁を一方の電極と
してアースした形式のものであってもよい、なお、入力
側電極としては一般に銅、鉄、アルミ等が使われるが放
電を安定して維持するためには、耐電圧10000 V
以上を有するガラス、ホーロー、セラミック等で絶縁コ
ートされていることが好ましい、特に絶縁コートされた
棒状電極は、局部的に効果的なプラズマを発生させる上
で好適とされる。
電極間も印加される電力については、それが大きすぎる
と発熱等により被処理物が分解、劣化を起すようになる
ので好ましくなく、ある一定範囲内に制御する必要があ
るが、特にポリエステルの場合、比較的##熱性にすぐ
れているため、むしろ印加電力を増大して行なった方が
改質効果は顕著であり、かかる観点から電極間に印加す
る電力を5KW/rn’以上とすることが好ましい。
本発明で使用される無機ガスとしては、ヘリウム、ネオ
ン、アルゴン、窒素、亜酸化窒素、二酸化窒素、酸素、
空気、−酸化炭素、二酸化炭素。
水素、塩素、さらには塩化水素、亜硫酸ガス、硫化水素
などが例示され、これらのガスは単独または混合して使
用される。
プラズマ発生装置のガス圧は、0.0l−10)ル、好
ましくはQ、l−10)ルの範囲で行なうのが好ましい
、 o、o t  トル以下の圧力では本発明の企図す
る接着性の改善効果は少なく、また10トル以上では安
定な放電を維持するのが困難であり、かつ接着性の改善
効果も少ない。
プラズマ処理されたポリエステル製メツシュは以下の実
施例に示すように、表面を洗浄し、乾燥した後、感光性
または感熱性樹脂乳剤の塗布工程へ供される。
感光性または感熱性樹脂乳剤としては市販されているも
ので十分であり、感光剤としては重クロム酸アンモニウ
ム塩等の重クロム酸塩類、各種のジアゾ化合物、乳剤樹
脂としてはゼラチン、アラビアゴム、ポリビニルアルコ
ール、酢酸ビニル、アクリル系樹脂等、あるいはこれ等
の混合物が使用され、この他、乳化剤、耐電防止剤、そ
の他必要な添加剤を加えて形成される。
ポリエステル製メツシュに対する乳剤の塗布厚みは3〜
15gmとするのが好ましい、プラズマ処理によって基
材ノー221表面のぬれ性が向上しているため、本発明
のポリエステルメツシュは塗布性がきわて良好で、従来
に比べて均一な膜厚の樹脂層を容易に形成せしめること
が可衡となる。
重ね塗りによって所定の膜厚になる様に乳剤を塗布した
後、乾燥されたポリエステルメツシュは露光、または加
熱工程によって微細パターンの焼付けが行なわれる。
パターンの焼付けの条件は使用する乳剤等によって異な
るが、通常は高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲ
ンランプ等(4KW程度)を光源に用い1−1.5mの
距離で2.5〜6分間露光する。この時の積算光量は4
00〜700ミリジユール/crn’である。
本発明のスクリーン印刷用ポリエステルメツシュは、樹
脂層とメツシュの密着性が非常に強固であり、印刷工程
における耐刷性を著しく向上せしめる。特にトリクレン
、メチレンクロライド等の塩素化溶剤、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール
、インプロパツール等のアルコール類、トルエン、キシ
レン等の芳香族系溶剤、その他酢酸エチル、酢酸ブチル
、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、シクロヘキサ
ン等への耐溶剤性が著しく向上しているため、印刷工程
において行なわれる溶剤洗浄工程での耐久性が格段に向
上する。このため従来は耐溶剤性不良のため、印刷イン
クを除去する工程で生じた焼付はパターンの、剥離等の
問題は解消され耐刷性は著しく向上した。
また以上の結果、従来は、剥離しやすかった微細パター
ン用の薄い膜厚の乳剤層も、以下の実施例に示すように
メツシュ表面に強く保持され、さらにそのスクリーンメ
ツシュ表面は非常に清浄であり、従来、染色メツシュを
使用した時に問題となった異物の存在が認められない、
これはメツシュのプラズマ処理工程で異物が除去される
のとプラズマ処理により、ぬれ指数40以上のぬれ指数
で湿潤する、十分な親木性が得られるためである。
このことから、本発明のポリエステル製メツシュによっ
て250μm以下の線幅のパターン形成が可使で、実施
例でも示すように回路幅50〜100gmの乳剤を強固
に保持することができ、人工繊維メツシュ最大の目標で
ある、微細パターン印刷を達成することができる。
以下実施例において本発明の詳細な説明する。
実施例1 低温プラズマ発生装を内へ250および300メツシユ
の黄色に染色されたポリエステル製メツシュ[日本特殊
織物(株)製、スーパーストロング]をセットした後、
減圧し圧力を0.01 トルとした。この状態で酸素ガ
スを通気し、圧力を0.9トルに調整保持した後、11
0KHz、 25KWc7)電力を印加し約15秒間プ
ラズマ処理を行なった。
ついで上記プラズマ処理されたポリエステル製メツシュ
を0.1%中性洗剤水溶液で洗浄、乾燥した後、PVA
−酢ビ系の感光性乳剤NK−14(独、カーレー社製)
を塗布乾燥し、重ね塗りによって膜厚を10−12終m
とした。
上記ターンシュに0.25■■角20行×50列の基盤
ロバターンを焼付けた。この時の焼付条件は4kw高圧
水銀ランプを用い1.4mの距離で3.5分間露光した
。なおこの時の積算光量は550ミリジユ一ル/cm″
であった。つぎに水に3分間浸漬した後、水スプレーに
よって未感光部分を除去した。このものについてテープ
引きはがし強度を未処理メツシュと比較した結果を表−
1に示す0次いで耐溶剤性試験を行った結果を未処理メ
ツシュと比較して表−2に示す。
表−1 テープ引きはがしテスト方法 上記の方法に従って、基盤目パターンを焼きつけた各ポ
リエステルメツシュについて住友スリーエム、フィラメ
ントテープ#880をそのパターン上にはりつけた後に
テープを引きはがした。この操作を3回繰り返し行ない
、その時にテープに付着した基盤目の数を記録した。
表−2 耐溶剤性テスト方法 り記の方法に従って基盤目パターンを焼付けたサンプル
を5分間各溶剤に浸漬した後に、同様のテープ引きはが
しテストを行なった。
パターン焼付は後の表面状態を電子顕微鏡で撮影し、未
処理のものと比較した。第1図〜第4図はこの場合の顕
微鏡写真である。第1図のプラズマ処理したものは、第
2図のような不純物が見られず、鮮明なパターンが焼付
けられているのが明らかに認められた。また、第3図の
プラズマ処理したものは、第4図に比較して微細パター
ンがメツシュ上に強固に形成されていることがわかる。
実施例2 実施例1と同様の条件で300メツシユのスクリーン上
に線幅100 pmのネガパターンを焼付け、さらに実
際に印刷を行なった結果を電子顕微鏡で撮影した。第5
図はこの場合の顕微鏡写真であって、倍率は約100倍
とした。
本発明のスクリーンメツシュによって微細パターン印刷
が確実に行なえることが明かになった。
【図面の簡単な説明】
第1図は、実施例1における250メツシユのプラズマ
処理品の顕微鏡写真(X350)である。 第2図は、実施例1における250メツシユのプラズマ
処理品の顕微鏡写真(X350)である。 第3図は、実施例1における300メツシユのプラズマ
処理品の顕微鏡写真(X350)である。 fJSJ図は、実施例1における300メツシユのプラ
ズマ未処理品の顕微鏡写真(X350)である。 第5図は、実施例2における基材にパターンを焼付けた
状態を示す顕微鏡写真(xtoo)である。 第1図 第2図 第3図 第4図 手続補正書    7 昭和60年8月15日 1、事件の表示 昭和60年特許願第155858号 2、発明の名称 スクリーン印刷用ポリエステル製メツシュ3、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 名称 信越化学工業株式会社 名称 曙産業株式會社 名称 日本特殊織物株式会社 4、代理人 明細書 、補正の内容 1)本願特許請求の範囲を別紙の通り補正する。 2)明細書第2頁第11行の「乳剤樹脂」を「樹脂乳剤
Jと補正する。 3)同第4頁第2行の「乳剤樹脂」を1樹脂乳剤Jと補
正する。 4)同第4頁第7行の「樹脂層」をr樹脂乳剤層Jと補
正する。 5)同第7頁第6行の「または感熱性」を削除する。 6)同第7頁第8行の「または感熱性」を削除する。 7)同第7頁第11行の「乳剤樹脂」をr樹脂乳剤J。 と補正する。 8)同第7頁第16行の「拳・に対する乳剤の塗布」「
・・に対する樹脂乳剤の1と補正する。 9)同第7頁第17行の「みは3〜15ルm」をrみは
目的とする用途によって異なるが3〜15ルmjと補正
する。 10)同第7真下1行から同第8頁第1行の「膜厚の樹
脂層」をr樹脂乳剤の塗布やはり合わせ」と補正する。 +1)−1t==JOI4;同第8頁第3から6行の「
改ね塗り・・・・行なわれる。」をr所定の厚みになる
ように感光性樹脂乳剤を塗71、あるいははり合わせさ
れたポリエステル製メツシュは乾燥後、露光、現像工程
によって微細なパターンの焼付けが行われる。1と補正
する。 12)同第8頁第14行の「樹脂層」をr樹脂乳剤層J
と補正する。 13)同第9頁第9行の「乳剤層」をr樹脂乳剤層Jと
補正する。 14)同第10頁第15行の「感光性乳剤」を「感光性
樹脂乳剤Jと補正する。 特許請求の範囲 1.250メツシユ以」二で1表面がぬれ指数40以り
のぬれ試薬で湿潤するポリエステル基材と該基材上の感
光性樹脂乳剤層とからなり、250ttm以下の線幅の
パターン形成が可濠なスクリーン印刷用ポリエステル製
メツシュ。 2゜前記ポリエステル基材が0.01〜10トルの無機
ガスの低温プラズマで処理されたものである特許請求の
範囲第1項記載のスクリーン印刷用ポリエステル製メツ
シュ。 手続補正書 昭和60年9月12日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、250メッシュ以上で、表面がぬれ指数40以上の
    ぬれ試薬で湿潤するポリエステル基材と該基材上の感光
    性樹脂層とからなり、250μm以下の線幅のパターン
    形成が可能なスクリーン印刷用ポリエステル製メッシュ
    。 2、前記ポリエステル基材が0.01〜10トルの無機
    ガスの低温プラズマで処理されたものである特許請求の
    範囲第1項記載のスクリーン印刷用ポリエステル製メッ
    シュ。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62104795A (ja) * 1985-10-31 1987-05-15 Toray Ind Inc スクリ−ン紗
JPS62109056A (ja) * 1985-11-08 1987-05-20 Hiraoka & Co Ltd 印刷用スクリ−ン
JPS62220389A (ja) * 1986-03-20 1987-09-28 Shin Etsu Chem Co Ltd スクリ−ン印刷用ポリエステルメツシユ
JPS62220390A (ja) * 1986-03-20 1987-09-28 Shin Etsu Chem Co Ltd スクリ−ン印刷用ポリエステルメツシユ
JPS62220392A (ja) * 1986-03-22 1987-09-28 Shin Etsu Chem Co Ltd 印刷用スクリ−ン

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