JPS6215499A - 放射線画像変換媒体 - Google Patents
放射線画像変換媒体Info
- Publication number
- JPS6215499A JPS6215499A JP15634585A JP15634585A JPS6215499A JP S6215499 A JPS6215499 A JP S6215499A JP 15634585 A JP15634585 A JP 15634585A JP 15634585 A JP15634585 A JP 15634585A JP S6215499 A JPS6215499 A JP S6215499A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective layer
- layer
- screen
- phosphor
- phosphor layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は放射線エネルギーの大小によって蛍光体層に形
成される放射線画像の潜像を可視化する画像変換媒体に
関し、特にX線写真撮影に用いられる蛍光体層を有する
画像変換スクリーンに関する。
成される放射線画像の潜像を可視化する画像変換媒体に
関し、特にX線写真撮影に用いられる蛍光体層を有する
画像変換スクリーンに関する。
(発明の背景)
医学用X線写真の撮影に於ては、被写体を通過したX線
の波長を、ハロゲン化銀感光材料の感光波長域に変換す
るため、一旦該X線を蛍光体スフ。
の波長を、ハロゲン化銀感光材料の感光波長域に変換す
るため、一旦該X線を蛍光体スフ。
リーンに吸収せしめX線刺戟によって発生する前記感光
波長域の蛍光の強弱に従って感光させ現像処理によって
X線画像が作成される。
波長域の蛍光の強弱に従って感光させ現像処理によって
X線画像が作成される。
前記蛍光体スクリーンは用途によって、直接撮影用増感
スクリーン(intensifying 5creen
、一般に増感紙と呼ばれる)及び間接撮影用蛍光スクリ
ーン(fluorescent 5creen 、一般
に蛍光板と呼ばれる)があり、X線によって蛍光を発す
る蛍光体を、X線撮影に支障のない支持体上に塗設し、
更に形成された蛍光体層を保護層で被覆したものである
。
スクリーン(intensifying 5creen
、一般に増感紙と呼ばれる)及び間接撮影用蛍光スクリ
ーン(fluorescent 5creen 、一般
に蛍光板と呼ばれる)があり、X線によって蛍光を発す
る蛍光体を、X線撮影に支障のない支持体上に塗設し、
更に形成された蛍光体層を保護層で被覆したものである
。
増感紙は撮影に使用するXレイフィルムがフィルム支持
体の表裏に夫々感光層が塗設されているので夫々の感光
層に増感紙を宛かい受光効率を上げており、蛍光板に於
てはX線遮断のためにカメ゛う側に鉛入りガラスを設け
ている。
体の表裏に夫々感光層が塗設されているので夫々の感光
層に増感紙を宛かい受光効率を上げており、蛍光板に於
てはX線遮断のためにカメ゛う側に鉛入りガラスを設け
ている。
前記増感紙及び蛍光板(以後一括してスクリーンと称す
)共にX線が人体等の被写体を通過し、強弱のパターン
を有する画像X線束となり、該画像X線束が蛍光体層に
吸収され該層の蛍光体粒子を刺激して蛍光を生じて画像
蛍光束となり、該画像蛍光束にXレイフィルムが感光し
、固定画像を形成する仲介をするものである。
)共にX線が人体等の被写体を通過し、強弱のパターン
を有する画像X線束となり、該画像X線束が蛍光体層に
吸収され該層の蛍光体粒子を刺激して蛍光を生じて画像
蛍光束となり、該画像蛍光束にXレイフィルムが感光し
、固定画像を形成する仲介をするものである。
該スクリーンに要求される特性としては、効率のよい画
像変換を行うだめの感ILt N残光の長短等の発光特
性及び耐用性がある。
像変換を行うだめの感ILt N残光の長短等の発光特
性及び耐用性がある。
スクリーンの而」用件は手操作のIA合には3年程度、
機械搬送の場合でも2年程度が通常要求され、蛍光体層
の損傷からの保護には保護層が設けられる。
機械搬送の場合でも2年程度が通常要求され、蛍光体層
の損傷からの保護には保護層が設けられる。
更に耐用性の大きな問題としては、蛍光体が一般的に湿
度に弱い点から、タングステン酸カルシウム或は適当な
付活素を含むカドニウム化合物等比較的湿度に強い蛍光
体が実用的に選ばれ、感度或は蛍光スペクトル等の要求
は犠牲にされている状況であり防湿についての技術が望
まれている。
度に弱い点から、タングステン酸カルシウム或は適当な
付活素を含むカドニウム化合物等比較的湿度に強い蛍光
体が実用的に選ばれ、感度或は蛍光スペクトル等の要求
は犠牲にされている状況であり防湿についての技術が望
まれている。
即ち、蛍光体層が水分を収着するとAil Meスクリ
ーンのX a感度が低下したりあるい(寸X線画像の画
質の劣化をもたらすため、前記蛍光体層に水分が到達し
ないよう保護する必要がある。
ーンのX a感度が低下したりあるい(寸X線画像の画
質の劣化をもたらすため、前記蛍光体層に水分が到達し
ないよう保護する必要がある。
従来のスクリーンにおいては、上記の問題の解決を図る
だめ、スクリーンの支持口辺上の蛍光体層面を被覆する
保護層を設ける方法がとられてきた。
だめ、スクリーンの支持口辺上の蛍光体層面を被覆する
保護層を設ける方法がとられてきた。
この保護層は、たとえば、特開昭59−42500号に
記述されている」=うに、保護層用塗布液を蛍光体層上
に直接塗布して形成されるか、あるいは、あらかじめ別
途形成した保護層を蛍光体層−J二に接着する方法によ
り形成されている。
記述されている」=うに、保護層用塗布液を蛍光体層上
に直接塗布して形成されるか、あるいは、あらかじめ別
途形成した保護層を蛍光体層−J二に接着する方法によ
り形成されている。
特願昭60−1.8934号に於て本発明者等は、放射
線照射および/または加熱によって重縮合あるいは架橋
反応して硬化する樹脂素材すなわちモノマー、オリゴマ
ーあるいはポリマー(以下これらを放射線硬化型樹脂あ
るいは熱硬化型樹脂と称する。)を含有する保護層用塗
布液を輝尽性蛍光体層上に塗布した後、放射線の照射お
よび/または加熱により前記樹脂素材を硬化させて保護
層を形成する方法を提案している。
線照射および/または加熱によって重縮合あるいは架橋
反応して硬化する樹脂素材すなわちモノマー、オリゴマ
ーあるいはポリマー(以下これらを放射線硬化型樹脂あ
るいは熱硬化型樹脂と称する。)を含有する保護層用塗
布液を輝尽性蛍光体層上に塗布した後、放射線の照射お
よび/または加熱により前記樹脂素材を硬化させて保護
層を形成する方法を提案している。
スクリーンの長寿命化を達成するために、特に耐湿性の
点でのよりいっそうの改良が望寸れているが、前記保護
層の透湿性を低下させるだめの方法に関してはほとんど
検電されていないのが現状である。
点でのよりいっそうの改良が望寸れているが、前記保護
層の透湿性を低下させるだめの方法に関してはほとんど
検電されていないのが現状である。
(発明の目的)
本発明は、蛍光体を用いた放射線画像変換媒体における
前述のような現状に鑑みてなされたものであり、本発明
の目的は蛍光体層への水分の浸透が小さく長期間にわた
り良好々状態で使用が可能である放熱線画像変換媒体、
特にX線画像変換スクリーンを提供することにある。
前述のような現状に鑑みてなされたものであり、本発明
の目的は蛍光体層への水分の浸透が小さく長期間にわた
り良好々状態で使用が可能である放熱線画像変換媒体、
特にX線画像変換スクリーンを提供することにある。
(発明の構成)
前記した本発明の目的は、支持体上に蛍光体層及び保護
層を有する放射線画像変換媒体に於て、該保護層が互に
吸湿性の異る少くとも2つの層を有するととを特徴とす
る放射線画像変換媒体によ、 って達成される。
層を有する放射線画像変換媒体に於て、該保護層が互に
吸湿性の異る少くとも2つの層を有するととを特徴とす
る放射線画像変換媒体によ、 って達成される。
ここで「吸湿性が異なる」という表現は具体的には以下
のような意味である。すなわち、保護層が、A、B2層
よりなるとすれば、該A層とB層とで吸湿性が異なると
いうことは、前記スクリーンが通常の使用方法に、1′
?いて暴されると考えうるある気温のもとてのA層の平
衡吸湿等温曲線が該= 5− 気温のもとてのB層の平衡吸湿等温曲線と一致し々いと
いうことを表している。
のような意味である。すなわち、保護層が、A、B2層
よりなるとすれば、該A層とB層とで吸湿性が異なると
いうことは、前記スクリーンが通常の使用方法に、1′
?いて暴されると考えうるある気温のもとてのA層の平
衡吸湿等温曲線が該= 5− 気温のもとてのB層の平衡吸湿等温曲線と一致し々いと
いうことを表している。
以下、本発明の詳細な説明する。
第1図(1)に、本発明のスクリーンの構造例を断面図
として示す。11は支持体、12は蛍光体層、13aお
よび13bは保護層であシ、蛍光体層に接する13aは
相対的に吸湿性の大きい保護層を、そして最も外側の1
31〕は相対的に吸湿性の小さい保護層を表している。
として示す。11は支持体、12は蛍光体層、13aお
よび13bは保護層であシ、蛍光体層に接する13aは
相対的に吸湿性の大きい保護層を、そして最も外側の1
31〕は相対的に吸湿性の小さい保護層を表している。
保護層を第1図(1)のごとき層構成にすることにより
スクリーンの耐湿性を大幅に向上することができとくに
好捷しい。すなわち、ス ゛クリーンの外部に存
在する水あるいは水蒸気は捷ず保護層131)によりス
クリーン内部への浸透を阻止される。しかし保護層13
bが水分を完全に遮断することは不可能であり、常にあ
る程度の水分透過量が存在する。その水分透過量は、一
般に外界と保護層13bの内側との湿度差に用例して増
大する。保護層13bを透過した水分は保護層13 a
の表面に到達するが、保護層13aはその吸湿性が太き
いため、前記水分を層の13bと接する側の表面および
層の内部において保持し、蛍光体層への水分の到達を防
ぐ機能を果たす。結果として−1■記スif光体層の吸
水による劣化は従\1(のスクリーン搬送系比べて著し
く減少する。
スクリーンの耐湿性を大幅に向上することができとくに
好捷しい。すなわち、ス ゛クリーンの外部に存
在する水あるいは水蒸気は捷ず保護層131)によりス
クリーン内部への浸透を阻止される。しかし保護層13
bが水分を完全に遮断することは不可能であり、常にあ
る程度の水分透過量が存在する。その水分透過量は、一
般に外界と保護層13bの内側との湿度差に用例して増
大する。保護層13bを透過した水分は保護層13 a
の表面に到達するが、保護層13aはその吸湿性が太き
いため、前記水分を層の13bと接する側の表面および
層の内部において保持し、蛍光体層への水分の到達を防
ぐ機能を果たす。結果として−1■記スif光体層の吸
水による劣化は従\1(のスクリーン搬送系比べて著し
く減少する。
さらに、第1[ツ1(1)に示す層構造を有するL(1
合保護層は、保護層用月1の適すノな選択に」:す、1
31)−>13aの方向の、b湿1.1(がO・し上り
に小さくか一つJ−+3a −>i−3bの方向の透湿
度が比較的大きい性)i’Tを有する複合保護層とする
ことができ奸才しい。一般に吸湿性の小さい膜はi%湿
係数の湿「!(依存1牛が小さく、吸湿141:の大き
い)]・;瀘d:j秀湿係数の湿度依存性が大きいとい
う件1.djを有する。したがって保護層13I)は透
湿係数の深度依存性が小さく保護層1,32は透湿係数
の湿度依存性が犬であるため、両者の複合系はよく知ら
れている複合膜の)秀湿の二面性を示す。すなわち13
1)が高湿側に接するように配した場合の透湿度ば]、
3aを高湿側1でおいプこ場合の透湿度より小となる。
合保護層は、保護層用月1の適すノな選択に」:す、1
31)−>13aの方向の、b湿1.1(がO・し上り
に小さくか一つJ−+3a −>i−3bの方向の透湿
度が比較的大きい性)i’Tを有する複合保護層とする
ことができ奸才しい。一般に吸湿性の小さい膜はi%湿
係数の湿「!(依存1牛が小さく、吸湿141:の大き
い)]・;瀘d:j秀湿係数の湿度依存性が大きいとい
う件1.djを有する。したがって保護層13I)は透
湿係数の深度依存性が小さく保護層1,32は透湿係数
の湿度依存性が犬であるため、両者の複合系はよく知ら
れている複合膜の)秀湿の二面性を示す。すなわち13
1)が高湿側に接するように配した場合の透湿度ば]、
3aを高湿側1でおいプこ場合の透湿度より小となる。
保Wb層用材旧の適切なホl]み合わせにより両透湿度
間の差を拡大すれば、耐温性にすぐれ、かつ蛍光体層が
水分を吸収した場合には低湿度の外気に暴すことにより
速やかに該水分を放出するスクリーンを作製することが
できる。
間の差を拡大すれば、耐温性にすぐれ、かつ蛍光体層が
水分を吸収した場合には低湿度の外気に暴すことにより
速やかに該水分を放出するスクリーンを作製することが
できる。
第1図(2)に、本発明のスクリーンの構造の別の一例
を示す。第1図(2)に示すスクリーンは、蛍光体層に
接する相対的に吸湿性の小さい保護層131〕と、その
外側の相対的に吸湿性の大きい保護層]3aとを有する
。前記スクリーンの外界に存在する水分は吸湿性の大き
い保護層13aの表面および内部で保持され、さらに保
護層1.3 aが保持しきれずに透過した水分は吸湿性
の小さい保護層1−31.11により蛍光体層への浸透
を阻止される。保護層1−31)はとくに透湿性の小さ
い材料より成ることが好丑しい。賛だ、保護層13 a
の外側にさらに透湿性の小さいもうひとつの保護層を設
けてもよい。
を示す。第1図(2)に示すスクリーンは、蛍光体層に
接する相対的に吸湿性の小さい保護層131〕と、その
外側の相対的に吸湿性の大きい保護層]3aとを有する
。前記スクリーンの外界に存在する水分は吸湿性の大き
い保護層13aの表面および内部で保持され、さらに保
護層1.3 aが保持しきれずに透過した水分は吸湿性
の小さい保護層1−31.11により蛍光体層への浸透
を阻止される。保護層1−31)はとくに透湿性の小さ
い材料より成ることが好丑しい。賛だ、保護層13 a
の外側にさらに透湿性の小さいもうひとつの保護層を設
けてもよい。
本発明のスクリーンの構造は、第1図に示しだ例に限る
ものではない。
ものではない。
本発明のスクリーンにおいて、蛍光体層の表面を被覆す
る二層以上の保護層のうち少々くとも最も外側の保護層
jd表面硬度の高い層であるととが好ましい。表面硬度
の高い保護層を設けることにより、!Vl記スタスクリ
ーンり返し使用中にスクリーン搬送系その他の機械部分
等から受ける物理的衝*による傷の発生と、そ−比に伴
うイ(IられるX線画像の画質の劣化を防止することが
できる。
る二層以上の保護層のうち少々くとも最も外側の保護層
jd表面硬度の高い層であるととが好ましい。表面硬度
の高い保護層を設けることにより、!Vl記スタスクリ
ーンり返し使用中にスクリーン搬送系その他の機械部分
等から受ける物理的衝*による傷の発生と、そ−比に伴
うイ(IられるX線画像の画質の劣化を防止することが
できる。
丑だ、保護層の設置される面は蛍光体層の支持体側と反
対側の面(スクリーン表面と称する)に限らずスクリー
ン周辺の厚み断面(スクリーン側面と称する)あるいは
蛍光体層側とは反対側の支持体面(スクリーン裏面と称
する)に設けてもよい。その際、たとえばスクリーン表
面を被覆する保護層とスクリーン裏面を被覆する保護層
と(佳同−の構造を有する必要はない。
対側の面(スクリーン表面と称する)に限らずスクリー
ン周辺の厚み断面(スクリーン側面と称する)あるいは
蛍光体層側とは反対側の支持体面(スクリーン裏面と称
する)に設けてもよい。その際、たとえばスクリーン表
面を被覆する保護層とスクリーン裏面を被覆する保護層
と(佳同−の構造を有する必要はない。
以」二に述べたような好丑しい特性を持った本発明のス
クリーンは、たとえば以下に述べるよう外方法に従い、
支持体」−に蛍光体層を形成した後に該蛍光体層−ヒそ
の他の面に少なくとも二層の所望の保護層を形成あるい
け伺設するととにより製造することができる。
クリーンは、たとえば以下に述べるよう外方法に従い、
支持体」−に蛍光体層を形成した後に該蛍光体層−ヒそ
の他の面に少なくとも二層の所望の保護層を形成あるい
け伺設するととにより製造することができる。
本発明のスクリーンにおいて用いられる支持体として(
は各種高分子材料、ガラス、X線透過に実胴上支障のな
い金属等が用いられる。特に情報記録桐料としての取り
扱い」−可撓性のあるシートあるいはウェブに加工でき
るものが好適であり、こ〕点カラ例工ばセルロースアセ
テートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレン
テレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイ
ミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネ
イトフィルム等のプラスチックフィルム、アルミニウム
、鉄、銅、クロム等の金属シートが奸才しい。
は各種高分子材料、ガラス、X線透過に実胴上支障のな
い金属等が用いられる。特に情報記録桐料としての取り
扱い」−可撓性のあるシートあるいはウェブに加工でき
るものが好適であり、こ〕点カラ例工ばセルロースアセ
テートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレン
テレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイ
ミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネ
イトフィルム等のプラスチックフィルム、アルミニウム
、鉄、銅、クロム等の金属シートが奸才しい。
丑だ、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等によ
って異なるが、一般的には80μm〜1000μmであ
り、取り扱い上の点から、さらに好オしくけ801tm
〜500μmである。
って異なるが、一般的には80μm〜1000μmであ
り、取り扱い上の点から、さらに好オしくけ801tm
〜500μmである。
これら支持体の表面は滑面であってもよいし、蛍光体層
との接着性を向上させる目的でマット面としてもよい。
との接着性を向上させる目的でマット面としてもよい。
丑だ、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、隔絶され
た微小タイル状板を敷きつめた構造成はハニーカム構造
としてもよい。
た微小タイル状板を敷きつめた構造成はハニーカム構造
としてもよい。
さらに、これら支持体は、蛍光体層との接着性を向上さ
ぜる目的で蛍光体層が設けられる面(で下引層を設けて
もよい。
ぜる目的で蛍光体層が設けられる面(で下引層を設けて
もよい。
本発明のスクリーンにおいて蛍光体とは、最初の光もし
くは高エネルギー放射線が照射された後に、蛍光を発し
或は先約、熱的、機械的、化学的または電気的等の刺激
(輝尽励起)により、最初の光もしくは高エネルギーの
放射線の照射量に対応した輝尽発光を示す蛍光体を含ん
で言う。
くは高エネルギー放射線が照射された後に、蛍光を発し
或は先約、熱的、機械的、化学的または電気的等の刺激
(輝尽励起)により、最初の光もしくは高エネルギーの
放射線の照射量に対応した輝尽発光を示す蛍光体を含ん
で言う。
本発明に用いられる蛍光体としては、従来知られている
CaWO4、Gd 2028 i TI)或はZn S
i Ag等を1はじめとして、特開昭50−1.16
168号、同5]−80190号、同52−1.156
85号、特公昭55−33560号、同55−3440
0号、同56−3395号、同56−4651、4号、
同58−2640号等に開示された蛍光体、或は特開昭
48−80487号、同58−8FN88号、同48−
80489号、同51−29889号、同52−304
87号、同53−39277号、同54−47883号
、同55−12142号、同55−1.60078号及
び同57−148285号等に開示された蛍光体が用い
られる。
CaWO4、Gd 2028 i TI)或はZn S
i Ag等を1はじめとして、特開昭50−1.16
168号、同5]−80190号、同52−1.156
85号、特公昭55−33560号、同55−3440
0号、同56−3395号、同56−4651、4号、
同58−2640号等に開示された蛍光体、或は特開昭
48−80487号、同58−8FN88号、同48−
80489号、同51−29889号、同52−304
87号、同53−39277号、同54−47883号
、同55−12142号、同55−1.60078号及
び同57−148285号等に開示された蛍光体が用い
られる。
本発明のスクリーンに用いられる蛍光体を具体的に例示
すれば Y、、028:Tb、 Gd、、02S:Tb、La2
O2S:Tb、(Y、G(1)202S :Tb、(Y
、Gd)202S:Tb 、 Tm、 Y2O28:E
u、 Gd2O,、S:Et+、(Y、Gd)、、0.
、S:Eu1Y203:Eu、Gd203 : Eu
1(Y 、Od )202Eu、 YVO4:Eu、
YPO4:TI)、GdPO4:Th、LaP 04:
Tl)、YPO4:Eu、 La0Br :Tl)、
La0Br :Tb 、Tm 、 La0Br :Ce
。
すれば Y、、028:Tb、 Gd、、02S:Tb、La2
O2S:Tb、(Y、G(1)202S :Tb、(Y
、Gd)202S:Tb 、 Tm、 Y2O28:E
u、 Gd2O,、S:Et+、(Y、Gd)、、0.
、S:Eu1Y203:Eu、Gd203 : Eu
1(Y 、Od )202Eu、 YVO4:Eu、
YPO4:TI)、GdPO4:Th、LaP 04:
Tl)、YPO4:Eu、 La0Br :Tl)、
La0Br :Tb 、Tm 、 La0Br :Ce
。
LaOCl: Tl)、T、aool:Tl+、TmX
LadCl:Ce、 0dOFlr:Tl)、0dOC
1! :Tl:l 、 0aWO4、0aWO: Pb
、 八IfgWo4、 Ba、91’)4 : 円)
、13a S 04 : B +i 2+、(Ba、5
r)S04:Bu2→−1Ba3(PO4)2.Eu2
−1\(Ba 、5r)3 (PO4)2 :Eu2+
、BaPOl :Eu 2+、BaF’Br :F;u
2+、BaFCl:Eu” 、Tb、Ba、l”Br
:Eu2+、TI)、BaF2.BaO,e□。
LadCl:Ce、 0dOFlr:Tl)、0dOC
1! :Tl:l 、 0aWO4、0aWO: Pb
、 八IfgWo4、 Ba、91’)4 : 円)
、13a S 04 : B +i 2+、(Ba、5
r)S04:Bu2→−1Ba3(PO4)2.Eu2
−1\(Ba 、5r)3 (PO4)2 :Eu2+
、BaPOl :Eu 2+、BaF’Br :F;u
2+、BaFCl:Eu” 、Tb、Ba、l”Br
:Eu2+、TI)、BaF2.BaO,e□。
KCl:Eu2+、BaF2.Ba0l、、 、 Ba
5O,、KOl:Et+ 2+、(Ba。
5O,、KOl:Et+ 2+、(Ba。
Mg)F、、、Ba(J2 、KC!、6:Eu2+、
CsI:Na、 CsT:IVl NaT、ZnS
:Ag、 (Zn、Cd)S:Ag、 ZnS:Ou、
ZnSCu、Al、 (Zn。
CsI:Na、 CsT:IVl NaT、ZnS
:Ag、 (Zn、Cd)S:Ag、 ZnS:Ou、
ZnSCu、Al、 (Zn。
Cd)S:Cu、 (Zn、Cd)S:Ct+、Al、
(Zn、Cd)S:Au、Al。
(Zn、Cd)S:Au、Al。
](fP、、07・Cu等のX線用蛍光体があげられる
。
。
使用する蛍光体の平均粒子径は、蛍光体の感度や粒状性
を考慮して、平均粒子径0.1〜100μm1好捷しく
は]〜30μmのものが用いられる。これら蛍光体は混
用されてもよい。
を考慮して、平均粒子径0.1〜100μm1好捷しく
は]〜30μmのものが用いられる。これら蛍光体は混
用されてもよい。
本発明のスクリーンにおいて、一般的には上述の蛍光体
は蒸着等の気相堆積法によるか或は適当な結着剤中1に
分散され塗設される。該結着剤としては、例えばゼラチ
ンの如き蛋白質、デキストランの如きポリサツカライド
又はアラビアコ゛ム、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸
ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ビ
リニデンー塩化ビニルコポリマー、ポリメチルメタクリ
レート、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、ポリウレ
タン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルア
ルコール等のような通常層形成に用いられる結着剤が使
用される。一般に結着剤は蛍光体1重量部に対して0.
01乃至1重量部の範囲で使用される。しかし々から得
られるスクリーン感度と鮮鋭度の点では結着剤は少ない
方が好ましく、塗布の容易さとの兼合いから0.03乃
至0.2重量部の範囲がより好ましい。
は蒸着等の気相堆積法によるか或は適当な結着剤中1に
分散され塗設される。該結着剤としては、例えばゼラチ
ンの如き蛋白質、デキストランの如きポリサツカライド
又はアラビアコ゛ム、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸
ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ビ
リニデンー塩化ビニルコポリマー、ポリメチルメタクリ
レート、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、ポリウレ
タン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルア
ルコール等のような通常層形成に用いられる結着剤が使
用される。一般に結着剤は蛍光体1重量部に対して0.
01乃至1重量部の範囲で使用される。しかし々から得
られるスクリーン感度と鮮鋭度の点では結着剤は少ない
方が好ましく、塗布の容易さとの兼合いから0.03乃
至0.2重量部の範囲がより好ましい。
丑り特願昭59−1.96365号において提案されて
いるように、気相堆積法によって蛍光体層が結着剤を含
有゛しない構造としてもよい。結着剤を含有−13= しない蛍光体層の形成方法としては、以下のような方法
があげられる。
いるように、気相堆積法によって蛍光体層が結着剤を含
有゛しない構造としてもよい。結着剤を含有−13= しない蛍光体層の形成方法としては、以下のような方法
があげられる。
第1の方法として蒸着法がある。該方法に於ては、1ず
支持体を蒸着装置内に設置した後装置8内を排気して1
.0−6Torr @度の真空度とする。次いで、前記
蛍光体の少なくとも一つを抵抗加熱法、x v りl−
ロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて前記支持体表面
に蛍光体を所望の厚さに堆積させる。
支持体を蒸着装置内に設置した後装置8内を排気して1
.0−6Torr @度の真空度とする。次いで、前記
蛍光体の少なくとも一つを抵抗加熱法、x v りl−
ロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて前記支持体表面
に蛍光体を所望の厚さに堆積させる。
この結果、結着剤を含有しない蛍光体層が形成されるが
、前記蒸着工程では複数回に分けて蛍光体層を形成する
ととも可能である。まだ、前記蒸着工程では複数の抵抗
加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着を行
うことも可能である。
、前記蒸着工程では複数回に分けて蛍光体層を形成する
ととも可能である。まだ、前記蒸着工程では複数の抵抗
加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着を行
うことも可能である。
甘た、前記蒸着法においては、蛍光体原料を複数の抵抗
加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着し、
支持体」二で目的とする蛍光体を合成すると同時に蛍光
体層を形成することも可能である0 さらに前記蒸着法においては、蒸着時、必要にll− 応じて被蒸気”−物を冷却ある1ねけ加熱してもよい。
加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着し、
支持体」二で目的とする蛍光体を合成すると同時に蛍光
体層を形成することも可能である0 さらに前記蒸着法においては、蒸着時、必要にll− 応じて被蒸気”−物を冷却ある1ねけ加熱してもよい。
丑だ、蒸着終了後蛍光体層を加熱処理してもよい。
第2の方法としてスパッタ法がある。該方法においては
、蒸着法と同様に支持体をスパッタ装置内に設置した後
装置内を一旦排気して1.0−6Torr程度の真空度
とし、次いでスパッタ用のガスとしてAr、Ne等の不
活性ガスをスパッタ装置内に導入して10 ” ’I”
orr程度のガス圧とする。
、蒸着法と同様に支持体をスパッタ装置内に設置した後
装置内を一旦排気して1.0−6Torr程度の真空度
とし、次いでスパッタ用のガスとしてAr、Ne等の不
活性ガスをスパッタ装置内に導入して10 ” ’I”
orr程度のガス圧とする。
次に、前記蛍光体をターゲットとして、スパッタリング
することにより、前記支持体表面に蛍光体を所望の厚さ
に堆積させる。
することにより、前記支持体表面に蛍光体を所望の厚さ
に堆積させる。
前記スパッタ工程では蒸着法と同様に複数回に分けて蛍
光体層を形成することも可能であるし、寸だ、それぞれ
異った蛍光体からなる複数のターゲットを用いて、同時
あるいは順次、前記ターゲットをスパッタリングして蛍
光体層を形成することも可能である。
光体層を形成することも可能であるし、寸だ、それぞれ
異った蛍光体からなる複数のターゲットを用いて、同時
あるいは順次、前記ターゲットをスパッタリングして蛍
光体層を形成することも可能である。
前言己スパゲノタ法においては、複数の蛍光体原料をタ
ーゲットとして用い、これを同時あるいは順次スパッタ
リングして、支持体上で目的とする蛍光体を合成すると
同時に蛍光体層を形成することも可能である。寸だ、前
記スパッタ法においては、必要に応じて02.■42等
のガスを導入して反応性スパッタを行ってもよい。
ーゲットとして用い、これを同時あるいは順次スパッタ
リングして、支持体上で目的とする蛍光体を合成すると
同時に蛍光体層を形成することも可能である。寸だ、前
記スパッタ法においては、必要に応じて02.■42等
のガスを導入して反応性スパッタを行ってもよい。
さらに、前記スパッタ法においては、スパッタ時必要に
応じて被蒸着物を冷却あるいは加熱してもよい。寸だ、
スパッタ終了後蛍光体層を加熱処理してもよい。
応じて被蒸着物を冷却あるいは加熱してもよい。寸だ、
スパッタ終了後蛍光体層を加熱処理してもよい。
第3の方法としてCVD法がある。該方法は目的とする
蛍光体あるい1d蛍光体原料を含有する有機金属化合物
を熱、高周波電力等のエネルギーで分解することにより
、支持体上に結着剤を含有しない蛍光体層を得る。
蛍光体あるい1d蛍光体原料を含有する有機金属化合物
を熱、高周波電力等のエネルギーで分解することにより
、支持体上に結着剤を含有しない蛍光体層を得る。
第4の方法として吹き着は法がある。該方法は蛍光体粉
末を粘着層上に吹き着けることにより支持体上に結着剤
を含有しない蛍光体層を得る。
末を粘着層上に吹き着けることにより支持体上に結着剤
を含有しない蛍光体層を得る。
本発明のスクリーンの蛍光体層の層厚は、目的とするス
クリーンの放射線に対する感度、蛍光体の種類等によっ
て異なるが、結着剤を含有しない場合で10μm〜10
00μmの範囲、さらに好ましくは20/ln〕〜80
0/1mの範囲から選ばれるのが好A・シく、結着剤を
含有する。]易合で1oltn1〜100011m、の
範囲、さらに好ましくは50μn]〜500μmηの範
囲、更に好ましくは90μIη〜300μmの範囲から
選ばれるのが好丑しい。
クリーンの放射線に対する感度、蛍光体の種類等によっ
て異なるが、結着剤を含有しない場合で10μm〜10
00μmの範囲、さらに好ましくは20/ln〕〜80
0/1mの範囲から選ばれるのが好A・シく、結着剤を
含有する。]易合で1oltn1〜100011m、の
範囲、さらに好ましくは50μn]〜500μmηの範
囲、更に好ましくは90μIη〜300μmの範囲から
選ばれるのが好丑しい。
次に、蛍光体層の支持体側と(は反対側の面および必要
に応じてその他の面に保護層を設ける。保護層の形成方
法としてjd 、IBI、下に述べるような方法が用い
られる。
に応じてその他の面に保護層を設ける。保護層の形成方
法としてjd 、IBI、下に述べるような方法が用い
られる。
第1の方法として、特開昭59−42500号に開示さ
れているように透明性の高い高分子物質を適当な溶媒に
溶解して調整した溶液を保護層を設置すべき面に塗布し
、乾燥させて保護層を形成する方法がある。
れているように透明性の高い高分子物質を適当な溶媒に
溶解して調整した溶液を保護層を設置すべき面に塗布し
、乾燥させて保護層を形成する方法がある。
第2の方法として、同じく特開昭59−4−2500号
に開示されているように透明な高分子物質より成る薄膜
の片面に適当な接着剤を付与し、保護層を設置すべき面
に接着する方法がある。
に開示されているように透明な高分子物質より成る薄膜
の片面に適当な接着剤を付与し、保護層を設置すべき面
に接着する方法がある。
第1の方法および第2の方法において用いられる保護層
用材料としては、たとえば酢酸セルロース、ニトロセル
ロース、エチルセルロースナトノセルローズ誘導体、あ
るいはポリメチル、メタクリレート、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ
酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメチルアリル
アルコール、ポリメチルビニルケトン、セルロースジア
セテート、セルローストリアセテート、ポリビニルアル
コール、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリグリ
シン、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポ
リビニルアミン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリア
ミド(ナイロン)、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ
化−塩化工、チレン、ポリプロピレン、四フッ化エチレ
ンー六フッ化プロピレン共重合体、ポリビニルイソブチ
ルエーテル、ポリスチレンなどがあげられる。
用材料としては、たとえば酢酸セルロース、ニトロセル
ロース、エチルセルロースナトノセルローズ誘導体、あ
るいはポリメチル、メタクリレート、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ
酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメチルアリル
アルコール、ポリメチルビニルケトン、セルロースジア
セテート、セルローストリアセテート、ポリビニルアル
コール、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリグリ
シン、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポ
リビニルアミン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリア
ミド(ナイロン)、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ
化−塩化工、チレン、ポリプロピレン、四フッ化エチレ
ンー六フッ化プロピレン共重合体、ポリビニルイソブチ
ルエーテル、ポリスチレンなどがあげられる。
第3の方法としては、特願昭60−18934号に述べ
られているように、放射線硬化型樹脂または熱硬化型樹
脂の少なくともいずれか一方を含有する塗布液を保護層
を設置すべき面に塗布し特願昭60−18934号に示
しだよう々装置を用いて紫外線あるいけ電子線などの放
射線の照吋膠よび/または加熱を施して前記塗布液を硬
化させる方法がある。
られているように、放射線硬化型樹脂または熱硬化型樹
脂の少なくともいずれか一方を含有する塗布液を保護層
を設置すべき面に塗布し特願昭60−18934号に示
しだよう々装置を用いて紫外線あるいけ電子線などの放
射線の照吋膠よび/または加熱を施して前記塗布液を硬
化させる方法がある。
前記放射線硬化型樹脂としては、不飽和二重結合を有す
る化合物まだ(はこれを含む組成物であればよく、この
よう彦化合物は、好1しくけ、不飽和二重結合を2個以
上有するプレポリマーおよび7号たけオリゴマーであり
、さらに、これらに不飽和二重結合を有する単量体(ビ
ニルモノマー)を反応性希釈剤として含有させることが
できる。
る化合物まだ(はこれを含む組成物であればよく、この
よう彦化合物は、好1しくけ、不飽和二重結合を2個以
上有するプレポリマーおよび7号たけオリゴマーであり
、さらに、これらに不飽和二重結合を有する単量体(ビ
ニルモノマー)を反応性希釈剤として含有させることが
できる。
不飽和二重結合を2個以上有するプレポリマーまたはオ
リゴマーの具体例として((i下記のようなものがある
。
リゴマーの具体例として((i下記のようなものがある
。
1)不飽和ポリエステル
2)変性不飽和ポリエステル
ウレタン変性不飽和ポリエステル、アクリルウレタン変
性不飽和ポリエステルおよび末端にアクリル基を有する
液状の不飽和ポリエステル。
性不飽和ポリエステルおよび末端にアクリル基を有する
液状の不飽和ポリエステル。
3)アクリル系ポリマー
ポリエステルアクリレート、エポキシアクリ1/−ト、
シリコンアクリレートお、にびウレタンアクリレート 4)ブタジェン系ポリマー 5)エポキシ系ポリマー 脂肪族ポリオールのポリグリシジルエーテル、ビスフェ
ノールA(あるいはF、S)ジグリシジルエーテル、ジ
カルボン酸エポキシシクロへキシルアルキルむよびシク
ロペンテンオキシド基1個まだは2個以上を含有するエ
ポキシド。
シリコンアクリレートお、にびウレタンアクリレート 4)ブタジェン系ポリマー 5)エポキシ系ポリマー 脂肪族ポリオールのポリグリシジルエーテル、ビスフェ
ノールA(あるいはF、S)ジグリシジルエーテル、ジ
カルボン酸エポキシシクロへキシルアルキルむよびシク
ロペンテンオキシド基1個まだは2個以上を含有するエ
ポキシド。
6)ポリチオール・ポリエン樹脂
また、本発明に関わる前記熱硬化型樹脂の具体例として
は、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、アミン樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂
等があげられる。以上に述べた放射線硬化型樹脂および
熱硬化型樹脂は学独寸たは2種以上混合して用いてもか
まわ々い。
は、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、アミン樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂
等があげられる。以上に述べた放射線硬化型樹脂および
熱硬化型樹脂は学独寸たは2種以上混合して用いてもか
まわ々い。
前記放射線硬化型樹脂および/または熱硬化(!11脂
であるプレポリマーに、必要に応じて反応性希釈剤であ
るビニルモノマー、非反応性)くイングー、架橋剤、光
重合開始剤、光増感剤、貯蔵安定剤ニし・よび接着性改
良剤その他の添加剤を混合して分散し、保護層用塗布液
を作成する。
であるプレポリマーに、必要に応じて反応性希釈剤であ
るビニルモノマー、非反応性)くイングー、架橋剤、光
重合開始剤、光増感剤、貯蔵安定剤ニし・よび接着性改
良剤その他の添加剤を混合して分散し、保護層用塗布液
を作成する。
ここで、組成物の粘度を低下さぜ、かつ放射線硬化速度
を向上させる効果をもつ前記反応性希釈剤の具体例とし
ては以下のよう鹿ものがある。
を向上させる効果をもつ前記反応性希釈剤の具体例とし
ては以下のよう鹿ものがある。
a)単官能モノマー
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアク
リレート、2−エチルへキシルメタアクリレート、2−
ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチル
メタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、n−
へキシルアクリレート、ラウリルアクリレートなどb)
2官能モノマー 1.6−ヘキサンジオールジアクリレート、1.6−ヘ
キサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコー
ル、′1,4−ブタンジオールジアクリレート、エチレ
ングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール
ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート
、ジビニルベンゼンなど c) 3官能以上のモノマー トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレートペンタエリスリトール
トリアクリレート、ジペンタエリスリトールへキサアク
リレート、エチレンジアミンのアクリル酸エステルなど
前記保護層用塗布液には、放射線照射および加熱により
硬化しないバインターを必要に応じて含有させてもよい
。たとえばセルロースエステル、ポリビニルブチラール
、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
スチロール−アクリル酸共重合体などである。
リレート、2−エチルへキシルメタアクリレート、2−
ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチル
メタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、n−
へキシルアクリレート、ラウリルアクリレートなどb)
2官能モノマー 1.6−ヘキサンジオールジアクリレート、1.6−ヘ
キサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコー
ル、′1,4−ブタンジオールジアクリレート、エチレ
ングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール
ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート
、ジビニルベンゼンなど c) 3官能以上のモノマー トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレートペンタエリスリトール
トリアクリレート、ジペンタエリスリトールへキサアク
リレート、エチレンジアミンのアクリル酸エステルなど
前記保護層用塗布液には、放射線照射および加熱により
硬化しないバインターを必要に応じて含有させてもよい
。たとえばセルロースエステル、ポリビニルブチラール
、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
スチロール−アクリル酸共重合体などである。
前記保護層用塗布液を硬化させる手段として紫外線照射
を用いる場合には、紫外線エネルギーを吸収して樹脂の
重合反応を開始させる触媒である光重合開始剤を必要に
応じて添加してもよく、さらに該光重合開始剤の効果を
促進する目的で光増感剤を添加してもよい。
を用いる場合には、紫外線エネルギーを吸収して樹脂の
重合反応を開始させる触媒である光重合開始剤を必要に
応じて添加してもよく、さらに該光重合開始剤の効果を
促進する目的で光増感剤を添加してもよい。
前記光重合開始剤としては、カルボニル化合物− 22
= が多く用いられ、その具体例として(伐ベンゾインイソ
プロピル、イソブチルエーテルなどのベンゾインエーテ
ル系化合物、ベンゾフェノン、0−ベンゾイルメチルベ
ンゾニートナどのベンゾフェノン系化合物、アセトフェ
ノン、トリクロロアセトフェノン、1,1−ジクロロア
セトフェノン、2゜2−ジェトキシアセトフェノン、2
,2−ジメトキ−7−2−フェニルアセトフェノンをと
ノア(l−フェノン系化合物、2−クロロチオキサント
ン、2−アルキルチオギザントンなどのチオキサントン
系化合物、および2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオ
フェノン、2−ヒドロキシ−47−イソプロビル−2−
メチルプロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトンナトの化合物があげられる。
= が多く用いられ、その具体例として(伐ベンゾインイソ
プロピル、イソブチルエーテルなどのベンゾインエーテ
ル系化合物、ベンゾフェノン、0−ベンゾイルメチルベ
ンゾニートナどのベンゾフェノン系化合物、アセトフェ
ノン、トリクロロアセトフェノン、1,1−ジクロロア
セトフェノン、2゜2−ジェトキシアセトフェノン、2
,2−ジメトキ−7−2−フェニルアセトフェノンをと
ノア(l−フェノン系化合物、2−クロロチオキサント
ン、2−アルキルチオギザントンなどのチオキサントン
系化合物、および2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオ
フェノン、2−ヒドロキシ−47−イソプロビル−2−
メチルプロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトンナトの化合物があげられる。
捷だ、とくにエポキシ系ポリマーに対する光重合開始剤
としては芳香族オニウム塩、す外わち、ルイス酸ジアゾ
ニウム塩庁どのジアゾニウム塩、ヘキザフルオロリン酸
トリフェニルフェナシルホスホニウムなどのホスホニウ
ム塩、テトラフルオロホウ酸トリフェニルスルホニウム
、ヘキザフルオロリン酸トリフェニルスルホニウム々と
のスルホニウム塩および塩化ジフェニルヨードニウムな
どのヨードニウム塩などが有用である。その他にもイオ
ウ化合物、アゾ化合物、ハロゲン化合物および有機過酸
化物等が光重合開始剤として用いられる。
としては芳香族オニウム塩、す外わち、ルイス酸ジアゾ
ニウム塩庁どのジアゾニウム塩、ヘキザフルオロリン酸
トリフェニルフェナシルホスホニウムなどのホスホニウ
ム塩、テトラフルオロホウ酸トリフェニルスルホニウム
、ヘキザフルオロリン酸トリフェニルスルホニウム々と
のスルホニウム塩および塩化ジフェニルヨードニウムな
どのヨードニウム塩などが有用である。その他にもイオ
ウ化合物、アゾ化合物、ハロゲン化合物および有機過酸
化物等が光重合開始剤として用いられる。
前記光重合開始剤は単独で田いてもよいし2種以」二混
合してもよい。
合してもよい。
1、た、光増感剤の例としてはアミン、尿素、ニトリル
およびイオウ、リン、窒素、塩素などの化合1勿があげ
られる。
およびイオウ、リン、窒素、塩素などの化合1勿があげ
られる。
前記第1の方法、第2の方法または第3の方法により形
成される保護層の一層の膜厚は1μm〜10μm程度、
さらに好丑しくけ2μm〜10μm程度の範囲にあるこ
とが好ましい。
成される保護層の一層の膜厚は1μm〜10μm程度、
さらに好丑しくけ2μm〜10μm程度の範囲にあるこ
とが好ましい。
第4の方法としては、SiO□、 Sin、 SiN、
Al2O3等の無機物質層を真空蒸着法、スパッタ法
等により形成する方法がある。前記無機物質層の層厚は
01μm〜100μm程度が好ましい。
Al2O3等の無機物質層を真空蒸着法、スパッタ法
等により形成する方法がある。前記無機物質層の層厚は
01μm〜100μm程度が好ましい。
本発明のスクリーンにおける少なくとも二層の保護層群
1は、そのすべてが同一の形成方法により形成されてい
る必要Id:々い。本発明のスクリーンは支持体上に蛍
光体層を設けた後に該蛍光体層上に複数の保護層を順次
形成して製造してもよいし、あらかじめ形成した多層構
造の保護層を前記蛍光体層上に付設して製造してもよい
。あるいは保護層上に蛍光体層を形成した後、支持体を
設ける手順をとってもよい。
1は、そのすべてが同一の形成方法により形成されてい
る必要Id:々い。本発明のスクリーンは支持体上に蛍
光体層を設けた後に該蛍光体層上に複数の保護層を順次
形成して製造してもよいし、あらかじめ形成した多層構
造の保護層を前記蛍光体層上に付設して製造してもよい
。あるいは保護層上に蛍光体層を形成した後、支持体を
設ける手順をとってもよい。
本発明のスクリーンにおいて、保護層は互いに吸湿性の
累々る二つ以上の層の組み合わせより成る。前記保護層
のうち、相対的に吸湿性の小さい保護層用に用いられる
材料としては、たとえばポリエチレン、ポリ四フッ化エ
チレン、ポリ三フッ化−壇化エチレン、ポリプロピレン
、四フッ化エチレンー六フッ化プロピレン共重合体、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリビニルイソブチルエーテル、ポ
リエチレンテレフタレート、塩化ビニリデン−塩化ビニ
ル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合
体、塩化ビニリデン−イソブチレン共重合体、ポリスチ
レン、エポキシ系ポリマーの一部およびアクリル系ポリ
マーの一部々どが好丑しい。まだ、相対的に吸湿性の大
きい保護層用に用いられる材料としては、たとえばポリ
ビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリグリシン
、ポリメタ、クリル酸、ポリアクリル酸、ポリビニルピ
ロリドン、ポリビニルアミン、セルロースジアセテート
、セルローストリアセテート、ナイロン4、ナイロン6
、ナイロン12、ナイロン66、ポリ酢酸ビニル、ポリ
メチルアリルアルコールなどが好ましい。
累々る二つ以上の層の組み合わせより成る。前記保護層
のうち、相対的に吸湿性の小さい保護層用に用いられる
材料としては、たとえばポリエチレン、ポリ四フッ化エ
チレン、ポリ三フッ化−壇化エチレン、ポリプロピレン
、四フッ化エチレンー六フッ化プロピレン共重合体、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリビニルイソブチルエーテル、ポ
リエチレンテレフタレート、塩化ビニリデン−塩化ビニ
ル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合
体、塩化ビニリデン−イソブチレン共重合体、ポリスチ
レン、エポキシ系ポリマーの一部およびアクリル系ポリ
マーの一部々どが好丑しい。まだ、相対的に吸湿性の大
きい保護層用に用いられる材料としては、たとえばポリ
ビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリグリシン
、ポリメタ、クリル酸、ポリアクリル酸、ポリビニルピ
ロリドン、ポリビニルアミン、セルロースジアセテート
、セルローストリアセテート、ナイロン4、ナイロン6
、ナイロン12、ナイロン66、ポリ酢酸ビニル、ポリ
メチルアリルアルコールなどが好ましい。
本発明の実施態様中とくに好ましいのは、前記吸湿性の
小さい保護層用の材料として挙げた一層の材料の中から
少なくとも一種類を選び、才だ前記吸湿性の大きい保護
層用の材料として挙げた一層の材料の中から少々くとも
一種類を選んで、前者を外側、後者を内側すなわち、蛍
光体層に接する側に配置した複合保護層を有するスクリ
ーンである0 (実施例) 次に、実施例j/rCよって本発明を説明する。
小さい保護層用の材料として挙げた一層の材料の中から
少なくとも一種類を選び、才だ前記吸湿性の大きい保護
層用の材料として挙げた一層の材料の中から少々くとも
一種類を選んで、前者を外側、後者を内側すなわち、蛍
光体層に接する側に配置した複合保護層を有するスクリ
ーンである0 (実施例) 次に、実施例j/rCよって本発明を説明する。
実施例1
十分乾燥させた厚さ51層mのナイロン6フィルムと厚
さ5μn]の塩化ビニリデン−1:liX化ビニル共重
合f4M フィルムとエポキシ変性ポリオレフィン系接
着剤により貼り合わぜ、2層より成る保護層を作成した
。次に、平均粒径5μmのLaOT−3r : Oe蛍
光体8重量部およびポリビニルブチラール(結着剤)1
重量部をシクロヘサキノン(溶剤)ヲ用いテ混合分散し
て蛍光体塗布液とした。該蛍光体塗布液を前記保護層の
ナイロン6而に蛍光体塗布型−叶がおよそ40mg/m
2と々るように均一に塗布し、−昼夜放置して蛍光体層
を形成し、さらにこの蛍光体層上に厚さ約200μ丁]
〕のポリエチレンテレフタレート支持体を接着し、本発
明のスクリーンAを製造した。
さ5μn]の塩化ビニリデン−1:liX化ビニル共重
合f4M フィルムとエポキシ変性ポリオレフィン系接
着剤により貼り合わぜ、2層より成る保護層を作成した
。次に、平均粒径5μmのLaOT−3r : Oe蛍
光体8重量部およびポリビニルブチラール(結着剤)1
重量部をシクロヘサキノン(溶剤)ヲ用いテ混合分散し
て蛍光体塗布液とした。該蛍光体塗布液を前記保護層の
ナイロン6而に蛍光体塗布型−叶がおよそ40mg/m
2と々るように均一に塗布し、−昼夜放置して蛍光体層
を形成し、さらにこの蛍光体層上に厚さ約200μ丁]
〕のポリエチレンテレフタレート支持体を接着し、本発
明のスクリーンAを製造した。
実°施例2
十分乾燥させた厚さ]074mのポリビニルアルコール
フィルムを第1の保護層とし、その片面に実施例1に示
した材に′−1および方法を用いて蛍光体層を形成した
。さらに実施例]に示した支持体と同様のものを前記蛍
光体層上に接着した。
フィルムを第1の保護層とし、その片面に実施例1に示
した材に′−1および方法を用いて蛍光体層を形成した
。さらに実施例]に示した支持体と同様のものを前記蛍
光体層上に接着した。
次に、下記の組成物をボールミルにて分散して第2の保
護層用塗布液を作成した。
護層用塗布液を作成した。
ビスフェノールAグリシジルエーテル
75重危係
3.4−エポキシシクロヘキシル
メチルカルボキシレート18重量係
トリアリルスルホニウムへキザフルオロアンチモン塩
7重量係 このようにして作成した保護層用塗布液を、前記第1の
採掘層上にドクターコータで被覆厚が5ノ和となるよう
に塗布した。との塗布層に、出力8゜W / cxの高
圧水銀灯によ910秒間紫外線を照射し、完全に硬化さ
せて第2の保護層を作成し、本発明のスクリーンBを製
造した。
7重量係 このようにして作成した保護層用塗布液を、前記第1の
採掘層上にドクターコータで被覆厚が5ノ和となるよう
に塗布した。との塗布層に、出力8゜W / cxの高
圧水銀灯によ910秒間紫外線を照射し、完全に硬化さ
せて第2の保護層を作成し、本発明のスクリーンBを製
造した。
実施例3
厚さ3μmのポリプロピレンフィルムト厚す3μmのポ
リ酢酸ビニルフィルムとをポリエステル系接着剤によシ
貼り合わせ、2層より成る保護層を作成した。次に、前
記保護層のポリプロピレンフィルム面に、実施例1に示
しだ材料および方法を用いて蛍光体層を形成した。さら
に実施例1に示した支持体と同様のものを前記蛍光体層
上に接着し、本発明のスクリーンCを製造した。
リ酢酸ビニルフィルムとをポリエステル系接着剤によシ
貼り合わせ、2層より成る保護層を作成した。次に、前
記保護層のポリプロピレンフィルム面に、実施例1に示
しだ材料および方法を用いて蛍光体層を形成した。さら
に実施例1に示した支持体と同様のものを前記蛍光体層
上に接着し、本発明のスクリーンCを製造した。
比較例1
厚さ5μIllの塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体
フィルムを保護層とし、その片面に実施例1に示した材
料t・よび方法を用いて蛍光体層を形成した。さらに実
施例1に示した支持体と同様のものを前記蛍光体層−に
に接着し、比較のスクリーンDを製造した。
フィルムを保護層とし、その片面に実施例1に示した材
料t・よび方法を用いて蛍光体層を形成した。さらに実
施例1に示した支持体と同様のものを前記蛍光体層−に
に接着し、比較のスクリーンDを製造した。
比り佼例2
実施例1で用いた支持体と同様のものに実施例]に示し
た材料および方法を用いて蛍光体層を形成した。次に、
該蛍光体層上に実施例2で作成した第2の保護層用塗布
液と同様の保護層用塗布液をドクターコータで被覆厚が
5μmとなるように塗布した。この塗布層に、出力80
〜V/lstの高圧水銀灯によす10秒間紫外線を照照
し、完全に硬化さ−2つ − せて保護層を作成し、比較のスクリーンEを製造した。
た材料および方法を用いて蛍光体層を形成した。次に、
該蛍光体層上に実施例2で作成した第2の保護層用塗布
液と同様の保護層用塗布液をドクターコータで被覆厚が
5μmとなるように塗布した。この塗布層に、出力80
〜V/lstの高圧水銀灯によす10秒間紫外線を照照
し、完全に硬化さ−2つ − せて保護層を作成し、比較のスクリーンEを製造した。
比較例3
厚さ3μm月のポリプロピレンフィルムを保護層とし、
その片面に、実施例1に示した材料および方法を用いて
蛍光体層を形成した。さらに実施例1に示した支持体と
同様のものを前記蛍光体層上に接着し、比較のスクリー
ンFを製造した。
その片面に、実施例1に示した材料および方法を用いて
蛍光体層を形成した。さらに実施例1に示した支持体と
同様のものを前記蛍光体層上に接着し、比較のスクリー
ンFを製造した。
以上のようにして製造した本発明のスクリーンA、 、
B 、 Oおよび比較のスクリーンD、E、Fを乾燥
ボッ′クス内に2日間放置したのち、放射靜に
□対する感度を測定した。次(で、これらのスクリー′
ンを気温50°C1相対湿度80 %の恒温恒湿槽内に
350時間放置して強制劣化させ、さらに再び乾燥ボッ
クス内に5時間置き、その間の放射線感度の変化を、最
初に測定したそれぞれの放射線感度を1とした場合の相
対感度で表した。その結果を第2図 □に示す。
B 、 Oおよび比較のスクリーンD、E、Fを乾燥
ボッ′クス内に2日間放置したのち、放射靜に
□対する感度を測定した。次(で、これらのスクリー′
ンを気温50°C1相対湿度80 %の恒温恒湿槽内に
350時間放置して強制劣化させ、さらに再び乾燥ボッ
クス内に5時間置き、その間の放射線感度の変化を、最
初に測定したそれぞれの放射線感度を1とした場合の相
対感度で表した。その結果を第2図 □に示す。
第2図より明らかなように、本発明のスクリーンA、B
およびCは、比較のスクリーンD、EおよびFに叱べて
蛍光体層の吸湿による放射線感度の低下が小さい。iW
jに本発明のスクリーンAおよびBは耐湿性にひじょう
に優れている。さらに、本発明のスクリーンAおよび■
3は、低湿度の外気に暴したときの感度の回復が速い。
およびCは、比較のスクリーンD、EおよびFに叱べて
蛍光体層の吸湿による放射線感度の低下が小さい。iW
jに本発明のスクリーンAおよびBは耐湿性にひじょう
に優れている。さらに、本発明のスクリーンAおよび■
3は、低湿度の外気に暴したときの感度の回復が速い。
(発明の効果)
以上述べてきだように、本発明のスクリーンはその保設
層が互いに吸湿性の異なる二つ以上の啼からなる多層構
造を有しているため、耐湿性に優れ、長期間にわたり良
好な状態で使用することができろ。
層が互いに吸湿性の異なる二つ以上の啼からなる多層構
造を有しているため、耐湿性に優れ、長期間にわたり良
好な状態で使用することができろ。
第1図(ri、本発明のスクリーンの基本的構造を示す
断面、図である。第2図d−1本発明のスクリーンおよ
び従来のスクリーンを恒温恒湿槽内に放置したI0合の
放射線感度の変化の様子を示した図である。 11 支持体 12 輝尽性蛍光体層1.3a
及び131〕 保護層 出願人 小西六写真T条凍式・公社 第1図 手続補正書 昭和60年8月22日 1、事件の表示 ど。−7f−13Hr昭和60
年7月15日特許出願 (1)2、発明の名称 放射線画像変換媒体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号連絡先 〒191 東京都日野市さくら町1番地 5、補正の対象 明細書の1発明の詳細な説明」の欄および図面 6、補正の内容 (1)「発明の詳細な説明」の欄 (2)図面 第2図を別添第2図に差換える。
断面、図である。第2図d−1本発明のスクリーンおよ
び従来のスクリーンを恒温恒湿槽内に放置したI0合の
放射線感度の変化の様子を示した図である。 11 支持体 12 輝尽性蛍光体層1.3a
及び131〕 保護層 出願人 小西六写真T条凍式・公社 第1図 手続補正書 昭和60年8月22日 1、事件の表示 ど。−7f−13Hr昭和60
年7月15日特許出願 (1)2、発明の名称 放射線画像変換媒体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号連絡先 〒191 東京都日野市さくら町1番地 5、補正の対象 明細書の1発明の詳細な説明」の欄および図面 6、補正の内容 (1)「発明の詳細な説明」の欄 (2)図面 第2図を別添第2図に差換える。
Claims (1)
- 支持体上に蛍光体層及び保護層を有する放射線画像変換
媒体に於て、該保護層が互に吸湿性の異る少くとも2つ
の層を有することを特徴とする放射線画像変換媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60156345A JPH0631892B2 (ja) | 1985-07-15 | 1985-07-15 | 放射線画像変換媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60156345A JPH0631892B2 (ja) | 1985-07-15 | 1985-07-15 | 放射線画像変換媒体 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10507095A Division JPH0843598A (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 放射線画像変換媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6215499A true JPS6215499A (ja) | 1987-01-23 |
JPH0631892B2 JPH0631892B2 (ja) | 1994-04-27 |
Family
ID=15625732
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60156345A Expired - Lifetime JPH0631892B2 (ja) | 1985-07-15 | 1985-07-15 | 放射線画像変換媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0631892B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0843598A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-02-16 | Konica Corp | 放射線画像変換媒体 |
US6075250A (en) * | 1996-08-27 | 2000-06-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Radiation image storage panel |
WO2014034371A1 (ja) * | 2012-08-29 | 2014-03-06 | 浜松ホトニクス株式会社 | 放射線像変換パネル |
JP2017129580A (ja) * | 2016-01-13 | 2017-07-27 | シーメンス メディカル ソリューションズ ユーエスエー インコーポレイテッドSiemens Medical Solutions USA,Inc. | 金属ハロゲン化物のパッシベーション |
US10087367B2 (en) | 2013-01-21 | 2018-10-02 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Passivation of metal halide scintillators |
US11098248B2 (en) | 2013-01-21 | 2021-08-24 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Passivation of metal halide scintillators |
US11597877B2 (en) | 2013-01-21 | 2023-03-07 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Passivation of metal halide scintillators |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58122500A (ja) * | 1982-01-14 | 1983-07-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線像変換パネル |
JPS58223099A (ja) * | 1982-06-22 | 1983-12-24 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線増感スクリ−ンの製造法 |
JPS5942500A (ja) * | 1982-09-01 | 1984-03-09 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線像変換パネル |
JPS5977400A (ja) * | 1982-10-26 | 1984-05-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線像変換パネル |
-
1985
- 1985-07-15 JP JP60156345A patent/JPH0631892B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH0843598A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-02-16 | Konica Corp | 放射線画像変換媒体 |
US6075250A (en) * | 1996-08-27 | 2000-06-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Radiation image storage panel |
WO2014034371A1 (ja) * | 2012-08-29 | 2014-03-06 | 浜松ホトニクス株式会社 | 放射線像変換パネル |
JP2014048058A (ja) * | 2012-08-29 | 2014-03-17 | Hamamatsu Photonics Kk | 放射線像変換パネル |
US9417336B2 (en) | 2012-08-29 | 2016-08-16 | Hamamatsu Photonics K.K. | Radiation image conversion panel |
US10087367B2 (en) | 2013-01-21 | 2018-10-02 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Passivation of metal halide scintillators |
US11098248B2 (en) | 2013-01-21 | 2021-08-24 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Passivation of metal halide scintillators |
US11597877B2 (en) | 2013-01-21 | 2023-03-07 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Passivation of metal halide scintillators |
JP2017129580A (ja) * | 2016-01-13 | 2017-07-27 | シーメンス メディカル ソリューションズ ユーエスエー インコーポレイテッドSiemens Medical Solutions USA,Inc. | 金属ハロゲン化物のパッシベーション |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0631892B2 (ja) | 1994-04-27 |
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Legal Events
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