JPS58223099A - 放射線増感スクリ−ンの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、放射線増感スクリーンの製造法に関するもの
である。

放射線増感スクリーンは、医療診断を目的とするＸ線撮
影等の医療用放射線撮影、物質の非破壊検査を目的とす
る工業用放射線撮影などの種々の分野における放射線撮
影において、撮影系の感度を向」ニさせるために、放射
線感応性写真フィルムの片面あるいは両面に密着させる
ように重ね合わせて使用するものである。そして、この
放射線増感スクリーンの基本構造は、支持体と、その片
面に設けられた放射線増感用蛍光体層とからなる。

なお、この放射線増感用蛍光体層の、支持体とは反対側
の表面（支持体に面していない側の・表面）には一般に
、透明な保護膜が設けられていて、蛍光体層を化学的な
変質あるいは物理的な衝撃から保護している。

放射線増感用蛍光体層は１１、放射線増感用蛍光体粒子
を分散状態で含有支持する結合剤からなるものであり、
この蛍光体粒子は、Ｘ線等の放射線によって励起された
時に高輝度の発光を示す性質を有するものである。従っ
て、被写体を通過した放射線の量に応じて蛍光体は高輝
度の発光を示し、放射線増感スクリーンの放射線増感用
蛍光体層の表面に接するようにして重ね合わ′されて置
かれた放射線感応性写真フィルムは、この蛍光体の発光
によっても感光するため、比較的少ない放射線量で写真
フィルムの充分な感光を達成するこ°とができる。

上記のような基本構造を有する放射線増感スクリーンに
ついては、感度が高いこと、および画質（鮮鋭度、粒状
性等）の良好な画像を与えるものであることが望まれる
。

従来、放射線増感スクリーンの製造において放射線増感
用蛍光体層の形成は、蛍光体粒子および結合剤を適当な
溶剤中に分散混合して調製した塗布液を、支持体上に塗
布乾燥することにより行なわれている。

ところで、上記塗布液を調製する際、放射線増感用蛍光
体粒子が塗布液中に充分に分散し難い、あるいは時間の
経過につれて蛍光体粒子がそれぞれ、あるいは凝集して
、沈降しやすいなどの問題があった。従って、−塗布液
中に蛍光体粒子からなる凝集固化物が生じたり、また、
支持体に蛍光体粒子の均一に分散した塗布液を塗布する
ことが困難となるなどの問題が生じていた。このような
場合、塗布液の塗布操作に支障を与えるのみでなく、得
られる放射線増感用蛍光体層は感度、画質の低下などが
生じる原因となる。特に、−Ｅ記蛍光体粒子が比重の大
きな粒子である場合、この傾向が著しい。

そこで、上記塗布液中における蛍光体粒子の分散性を向
上させ名ために、たとえば、フタル酸、ステアリン酸、
カプロン融　親油性界面活性剤などの分散剤を添加する
方法が提案され、また実際に行なわれている。

本発明は、放射線増感用蛍光体層形成用の塗布液の調製
および塗布操作にｍｌいて上記のような支。

障が発生することのない放射線増感スクリーンの製造法
を提供することを目的とするものである。

また、本発明は、放射線増感用蛍光体層形成のための塗
布操作を容易にし、均一な塗布の向上を可能にした放射
線増感スクリーンの製造法を提供することもその目的と
するものである。

上記の目的は、放射線増感用蛍光体粒子および結合剤を
含む分散液中に、微粒子状の疎水性シリカを蛍光体に対
し２重量％以下の量で分散含有させた塗布液を調製し、
この塗布液を用いて支持体上に上記蛍光体粒子および疎
水性シリカを分散状態で含有支持する結合剤からなる放
射線増感用蛍光体層を形成することを特徴とする本発明
の放射線増感スクリーンの製造法により達成することが
できる。

本発明は、放射線増感用蛍光体層の形成のための塗布液
中に、超微粒子状の疎水性シリカをある特定の割合で分
散含有させることにより、塗布液中における上記蛍光体
粒子の分散性を向上させ、かつ、上記蛍光体粒子の沈降
防止において優れた塗布液を得るとともに、放射線増感
スクリーンの製造工程における塗布時の問題点を改良し
、塗布操作を容易にするものである。

すなわち、放射線増感用蛍光体層（以下、単に蛍光体層
と略す）の形成のための塗布液は、一般に、蛍光体粒子
および結合剤を適当な溶剤中で混合することにより調製
される。そして、この塗布液をドクターブレード、ロー
ルコータ−、ナイフコーターなどによって支持体上に塗
布し、乾燥して蛍光体層が形成される。この塗布液の調
製において、塗布液中の蛍光体粒子は充分に分散し難く
、また時間の経過につれて蛍光体粒子が徐々に沈降しや
すい。従って、塗布液中で蛍光体粒子が凝集して凝集固
化物を生じたりするため、蛍光体粒子が均一に分散した
塗布液を塗布することが困難となる。特に、上記蛍光体
粒子が比重の大きな粒子である場合、この傾向が強く現
われる。

本発明者の検討によれば、このような塗布液中における
蛍光体粒子の沈降あるいは凝集による塗布操作の困難さ
、またそれに起因する画像の画質の低下は、上記塗布液
中に、微粒子状の疎水性シリカを蛍光体に対し２重量％
以下の量で分散含有させて塗布液を調製し、この塗布液
を用いて蛍光体層を形成することにより顕著に防ぐこと
が可能であることがわかった。

さらに、塗布液中に上記疎水性シリカを添加含有させて
も塗布液の流動性をほとんど低下させることなく、また
得られる放射線増感スクリーンの蛍光体層中に上記疎水
性シリカが分散状態で゛含有していても、Ｘ線などの放
射線に対する蛍光体層の感度はほとんど低下することな
く、上記の顕著な効果が達成できることがわかった。

次に本発明の詳細な説明する。

本発明の放射線増感用スクリーンの製造法は、たとえば
、以下に述べるような操作により実施される。

まず、放射線増感用蛍光体粒子と結合剤とを適当な溶剤
に加え、これを混合することにより結合剤溶液中に放射
線増感用蛍光体粒子が分散した分散液を調製する。

放射線増感用蛍光体粒子としてはすでに各種のものが知
られており、本発明においては、それらの各種の放射線
増感用蛍光体粒子を特に限定なく使用することができる
。本発明において使用するのが好ましい放射線増感用蛍
光体粒子の例としては、次のような物質からなる粒子を
挙げることができる。タングステン酸塩系蛍光体（Ｃａ
ＷＯ４、ＭｇＷＯ４、ＣａＷＯ４：Ｐｂ等）、テルビウ
ム賦活希土類酸硫化物系蛍光体［Ｙ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、Ｇ
ｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、Ｌａ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、（Ｙ、Ｇｄ）
２０□Ｓ：Ｔｂ、（Ｙ、Ｇｄ）２０２Ｓ：Ｔｂ、Ｔｍ等
］、テルビウム賦活希土類燐酸塩系蛍光体（ＹＰＯパ１
ｂ・ＧｄＰＯ““　　　　３．ｊＴｂ、ＬａＰＯ４：　
Ｔｂ等）、テルビウム賦活希土類オキシハロゲン化物系
蛍光体（ＬａＯＢｒ：Ｔｂ、Ｌａ０Ｂｒ　：Ｔｂ　、Ｔ
ｍ、Ｉ、ａＯｃｌ　：Ｔｂ　、　Ｌａ０Ｃ文　：Ｔｂ　
　、Ｔｍ、　　Ｇｄ０Ｂｒ　　：Ｔｂ、Ｇｄ０Ｃ１：　
Ｔｂ等）、ツリウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍
光体（ＬａＯＢｒ：Ｔｍ、Ｌａ０Ｃｌ　：　Ｔｍ等）、
硫酸バリウム系蛍光体［ＢａＳＯ４：　Ｐｂ、ＢａＳＯ
４：　Ｅｕ”、（Ｂａ　、Ｓ　ｒ）ＳＯ２：　Ｅｕ２＋
等］、２価ノユーロピウム賦活アルカリ土類金属燐酸塩
系蛍光体［Ｂａｇ　　（ＰＯ４）２　：　Ｅｕ”、（Ｂ
ａ、５ｒ）３（ＰＯａ）２　：　Ｅ　ｕ”＋等］、２価
（７）１−ロピウム賦活アルカリ土類金属弗化ハロゲン
化物系蛍光体［ＢａＦＣｕ：Ｅｕ”、Ｂ　ａ’ＦＢ　ｒ
　：　Ｅ　ｕ”、ＢａＦＣｕ：Ｅｕ”、Ｔｂ、ＢａＦＢ
ｒ：Ｅｕ”、Ｔｂ、Ｂ　ａＦ２　ｅ　ＢａＣｕ２　・Ｋ
ＣＪｌｊ　：　Ｅ　ｕ”、ＢａＦ２＠　ＢａＣｕ、＠　
ｘＢａｓ、ｏ４＊ＫＣｆＬ：　Ｅ　ｕ　”、（Ｂａ　、
Ｍｇ）Ｆ２　”ＢａＣＪＬｚ　ｅＫＣｕ：Ｅｕ２＋等］
、沃化物系蛍光体（ＣｓＩ：Ｎａ、Ｃ’ｓＩ：ＴＭ　　
、　　Ｎａｌ　　、　　ＫＩ　　　二　Ｔｉ　　等）　
　、硫化物系蛍光体［ＺｎＳ：Ａｇ、（Ｚｎ、Ｃｄ）Ｓ
：Ａｇ、（Ｚｎ　、Ｃｄ）Ｓ　：　Ｃｕ、（Ｚｎ。

Ｃｄ）Ｓ　：　Ｃｕ、Ａ文等］、燐酸ハフニウム系蛍光
体（ＨｆＰ２０ｙ：Ｃｕ等）。ただし１本発明に用いる
放射線増感用蛍光体粒子−は、これらのものに限られる
ものではなく、放射線の照射により可視領域あるいは近
紫外領域の発光を示す蛍光体の粒子であればいかなるも
のであってもよい。このような放射線増感用蛍光体粒子
のなかで特に好ましいものは、Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、Ｂ
ａＦＢｒ：　Ｅ　ｕ　”、およびＣａＷＯ４などの比重
の大きな粒子である。

蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン等の蛋白質、
デキストラン等のポリサッカライド、またはアラビアゴ
ムのような天然高分子物質；および、ポリビニルブチラ
ール、ポリ酢酸と・ニル、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、塩化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポ
リメチルメタクリレート、塩化ビニルΦ酢酸ビニルコポ
リマー、　′ポリウレタン、セルロースアセテートブチ
レート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステルなど
ような合成高分子物質などにより代表される結合剤を挙
げることができる。このような結合剤のなかで特に好ま
しいものは、ニトロセルロース、線状ポリエステル、お
よびニトロセルロースと線状ポリエステルとの混合物で
ある。

分散液調製用の溶剤の例と、しては、メタノールエタノ
ール、ｎ−プロパツール、ｎ−ブタノールなどの低級ア
ルコール；メチレンクロライド、エチレンクロライドな
どの塩素原子含有炭化水素；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級ア
ルコールとのエステル；ジオキサン、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレングリコール千ツメチル
エーテルなどのエーテル；そして、それらの混合物を挙
げることができる。

分散液における結合剤と放射線増感用蛍光体粒子との混
合比は、目的とする放射線増感スクリーンの特性、蛍光
体粒子の種類などによって異なるが、一般には結合剤と
蛍光体粒子との混合比は。

ｌ：１ないし１ｇ１ｏｏ（重量比）の範囲から選ばれ、
そして特にｌ：８ないし１：４０（重量比）の範囲から
選ぶことが好ましい。

次に、Ｌ配分散液に微粒子状の疎水性シリカを蛍光体粒
子に対し２重量％以下の量で添加し、ボールミル、イン
ペラーミル、ロールミルなどを用いて充分に゛混合して
塗布液を調製する。なお、軸木性シリカは、蛍光体粒子
に対して、０．０１〜１．０重量％の範囲の量で用いる
ことが好ましく、また、０．１〜０．５重量％の範囲の
量で用いることが特に好ましい。

本発明で用いる疎水性シリカとしては、−次粒子の平均
径が５〜８０ミリミクロンの範囲にあるものが好ましい
。

本発明で用いる疎水性シリカのＡ　ｎ、＋７１１として
、例えば、ジメチルジクロロシラン、オクチルトリメト
キシシラン、あるいはトリメチルへキサメチルジシラザ
ンで処理した微粒子状のシリカが挙げられる。

疎水性シリカは、塗布液中の溶剤などと反応せず、塗布
液中の溶剤などと水素結合を起こすこともなく、また、
溶剤への化学的吸着もほとんど生しることがない。また
、＠水性シリカは、非常に微細な粒子であるので、塗布
液の流動性をほとんど変化させることなく、塗布液中に
おける蛍光体粒子の分散性を向上させ、同時に蛍光体粒
子の沈降を防止することができる。特に、本発明におけ
る疎水性シリカの添加は、比重の大きな蛍光体粒子の沈
降を効果的に抑制するものである。

さらに、疎水性シリカは白色の粉末であり、Ｘ線などの
放射線の照射によって吸収および発光を、生じることが
なく、また蛍光体層中で水分を吸収して放射線増感スク
リーンの放射線に対する感度を低下させるようなことが
ない。

なお、塗布液中に、該塗布液中における蛍光体粒子の分
散性を向上させる目的で、疎水性シ１）力とともに、公
知の分散剤を添加することも可能である。そのような分
散剤の例としては、フタル酸、ステアリン酸、カプロン
酸、親−油性界面活性剤などを挙げることができる。

また、塗布液には、形成後の蛍光体層中における結合剤
と蛍光体粒子との間の結合力を向上させるだめの可塑剤
などの種々の添加剤が混合されていてもよい。そのよう
な目的に用いられる可動側の例としては、燐酸トリフェ
ニル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニルなどの燐酸エ
ステル；フタ、ル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチ
ルなどのフタル酸エステル：グリコール酸エチルフタリ
ルエチル、グリコール酸ブチルフタリルブチルなどのグ
リコール酸エステル；そして、トリエチレングリコール
とアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリコール
と、コハク酸とのポリエステルなどのポリエチレングリ
コールと脂肪族二塩基酸とのポリエステルなどを挙げる
ことができる。

上記のようにして調製された放射線増感用蛍光体粒子、
疎水性シリカ、および結合剤を分散含有する塗布液にお
いて、蛍光体粒子の分散性は著しく向上し、沈降も殆ど
発生しない。また、塗布液の流動性は疎水性シリカを添
加しないものと比較して、はとんど変化しない。このよ
うな理由により、塗布液中において蛍光体粒子が凝集し
て凝築固化物を生じたり、あるいは、塗布液の支持体へ
の塗布操作に支障をきたすことがない。

上記のようにして調製された蛍光体粒子、疎水性シリカ
、および結合剤を含有する塗布液を、次に、支持体の表
面に均一に塗布することにより塗布液の礫膜を形成する
。この塗布操作は、通常の塗布手段、たとえば、ドクタ
ーブレード、ロールコータ−、ナイフコーターなどを用
いることにより行なうことができる。

本発明に用いられる支持体は、放射線増感スクリーンの
製造のための材料として知られている各種の材料か、ら
任意に選ぶことができる。そのような材料の例としては
、セルロースアセテート、ポリエステル、ポリエチレン
テレフクレート、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテ
ート、ポリカーボネートなどのプラスチック物質のフィ
ルム、アルミニウム箔、アルミニウム合金箔などの金属
シート、通常の紙、バライタ紙、レジンコート紙、二酸
化チタンなどの顔料を含有するピグメント紙、ポリビニ
ルアルコールなどをサイジングしだ紙などを挙げること
ができる。このような支持体のなかで特に好ましい支持
体の材料は、プラスチックフィルムである。このプラス
チックフィルムにはカーボンブラックなどの光吸収性物
質が練り込まれていてもよく、あるいは二酸化チタンな
どの光反射性物質が練り込まれていてもよい。前者は高
鮮鋭度タイプの放射線増感用スクリーンに適した支持体
であり、後者は高感度タイプの放射線増感用スクリーン
に適した支持体である。

なお、支持体と蛍光体層の結合を強化するため、あるい
は放射線増感スクリーンとしての感度もしくは画質を向
上させるために、蛍光体層が設けられる側の支持体表面
にゼラチンなどの高分子物質を塗布して接着性付与層と
したり、あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質から
なる光反射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収
性物質からなる光吸収層を設けることも行なわれている
・″′″１物賀″ノド破壊検査を１自″′す６Ｉ業１放
身す　　　　　１、・線撮影に用いる放射線増感スクリ
ーンにおいては、蛍光体層が設けられる側の支持体表面
に、散乱放射線の除去などを目的として、鉛箔、鉛合金
箔５錫箔などの金属箔を設けることも行なわれている。

本発明に用いられる支持体についても、これらの各種の
層を設けることができ、それらの構成は所望の放射線増
感スクリー、ンの目的、用途などに応じて任意に選択す
ることができる。

＠膜形成後、塗膜を徐々に加熱することにより乾燥して
、支持体−ヒへの放射線増感用蛍光体層の形成を完了す
る。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線増感スクリー
ンの特性、蛍光体粒子の種類、結合剤と蛍光体粒子との
混合比などによって異なるが、通常は２０ミクロンない
し１ｍｍとする。ただし、この層厚は、５０ないし５０
０ミクロンとするのが好ましい。

なお、放射線増感用蛍光体層は、必ずしも上記のように
支持体上に塗布液を直接塗布して形成する必要はなく、
たとえば、別に、ガラス板、金属板、プラスチ・ンクシ
ートなどのシート上に塗布液を塗布し乾燥することによ
り蛍光体層を形成したのち、これを、支持体上に押圧す
るか、あるいは接着剤を用いるなどして支持体と蛍光体
層とを接合してもよい。

通常の放射線増感スクリーンにおいては、支持体に接す
る側とは反対側の蛍光体層の表面に、蛍光体層を物理的
および化学的に保護するための透明な保護膜が設けられ
ている。このような透明保護膜の設置は、本発明の放射
線増感スクリーンの製造法におい−ても行なわれること
が好ましい。

透明保護膜は、たとえば、酢酸セルロース、ニトロセル
ロースなどのセルロース誘導体；あるいはポリメチルメ
タクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニ
ル・酢酸ビニルコポリマーなどの合成高分子物質のよう
な透明な高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶
液を蛍光体層の表面に塗布する方法により形成すること
ができる。あるいはポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレン、塩化ビニリデン、ポリアミドなどから別に形
成した透明な薄膜を蛍光体層の表面に適当な接着剤を用
いて接着するなどの方法によっても形成することができ
る。このようにして形成する透明保護ｎ＠の膜厚は、約
３ないし２０ミクロンとするのが望ましい。

次に本発明の実施例および比較例を記載する。

ただし、これらの各個は本発明を制限するものではない
。

［実施例１］ 放射線増感用のテルビウム賦活酸硫化ガドリニウム蛍光
体（Ｇｄ２０２Ｓ：Ｔｂ）粒子と、線状ポリエステル樹
脂（東洋紡績製のバイロン５００゜とバイロン２００と
を１７：３のｉｔ比で混合したもの）との混合物にメチ
ルエチルケトンを添加し、さらに、硝化度１１．５％の
ニトロセルロースを添加し粗攪拌して、蛍光体と結合剤
との重量比が２０；１の、蛍光体粒子と結合剤とを含有
する分散液を調製した。次に、この分散液に粒子径が約
１６ミリミクロンの疎水性シリカ（日本アエロジル（株
）製、ＡＥＲＯ８ＩＬ　Ｒ′Ｌ’ｉ　７２）　０　、０
５％（蛍光体粒子に対する重量％）を添加した後、さら
に、燐酸トリクレジル、ｎ−ブタノール、およびメチル
エチルケトンを添加し、　プロペラミキサーを用いて充
分に攪拌混合して、粘度が３０ＦＳ（２５°Ｃ）の、蛍
光体粒子が均一に分散した塗布液（塗布液Ｎｏ、１’）
を調製した。

次いで、ガラス板」二に水平に置いたカーホン練り込み
ポリエチレンテレフタレートシート（支持体、厚み：２
５０ミクロン）上に塗布液をドクターブレードを用いて
均一に塗布した。そして塗布後に、塗膜が形成された支
持体を乾燥器内に入れ、この乾燥器の内部の温度を２５
°Ｃから１００°Ｃに徐々に上Ａさせて、塗膜の乾燥を
行なった。このようにして、支持体上に層厚が約１２０
ミクロンの蛍光体層を形成した。

、そして、この蛍光体層の上にポリエチレンテレフタレ
ートの透明フィルム（厚み：１２ミクロン、ポリエステ
ル系接着剤が付与されているもの）を接着剤層側を下に
向けて置いて接着することにより、透明保護膜を形成し
、支持体、蛍光体層、　　　　　１″およｑ透明保護膜
から構成された放射線増感スクリーン（スクリーンＮｏ
、１）を製造した。

また、」−述と同様にして下記第１表に示されるような
割合（蛍光体粒子に対する重量％）で疎水性シリカを含
有する塗布液Ｎ００２〜６を調製し、各々の塗布液を用
いて上述と同様にして放射線増感スクリーンＮｏ、、２
〜６を製造した。なお塗布液Ｎｏ、６および放射線増感
スクリーンＮ０１６は比較のために製造されたものであ
る。

第１表 塗布液　　　　　　疎水性シリカ Ｎｏ、１　　　　　　０．０５％ Ｎｏ、２　　　　　　０　、１　　％ Ｎｏ、３　　　　　　０．２　　％ Ｎｏ、４　　　　　　０　、３　　％ Ｎｏ、５　　　　　　０　、５　　％ Ｎｏ、６　　　　　　０　　　　％ 次に、上記のようにして製造した各々の塗布液（塗布液
Ｎ００１〜６）を次に記載する液比型試験により評価し
た。

まず、塗布液を円筒状容器内に液高３０ｃｍとなるよう
に注入し、３０分間プロペラミキサーで攪拌した後、５
時間静置した。容器内の塗布液を仮想的に上から均等に
３等分して、上から順に上層部、中層部、および下層部
とし、各部から塗布液をピペッＩ・で少量取り出しその
液比型を測定した。

また、上記のようにして製造した各々の放射線増感スク
リーン（スクリーンＮｏ、１〜６）に、８０ＫＶｐのＸ
線を照射した時の感度を測定した。

各々の塗布液および相当する放射線増感スクリーンＮｏ
、１〜６について得られた結果を第２表に示す。ただし
、疎水性シリカの含有量は蛍光体粒子に対する重量％で
表示した。

［比較例１］ 実施例１の分散液中に疎水性シリカの代りに、粒子径が
約７ミリミクロンの親木性シリカ（日本アエロジル（株
）製、ＡＥＲＯ３ＩＬ　３８０）　０　、０５％を添加
すること以外は実施例１と同様な処理を行なうことによ
り、塗布液（塗布液Ｎ　ｏ、　７　）を調製し、さらに
この塗布液を用いて実施例１と同様な処理を行なうこと
により、支持体、蛍光体層、および透明保護膜から構成
された放射線増感スクリーン（スクリーンＮｏ、７）を
製造した。

また、上述と同様にして下記の第３表に示されるような
割合（蛍光体粒子に対する重量％）で親水性シリカを含
有する塗布液Ｎｏ、８〜１１を調製し、各々の塗布液を
用いて上述と同様にして放射線増感スクリーンＮ０２８
〜１１を製造した。

１ 第３表 塗布液　　　　　　親木性シリカ Ｎｏ、　　７　　　　　０．０５％ Ｎｏ、８　　　　　０’、１　　％ Ｎｏ、９　　　　　０．２　　％ Ｎｏ、、１０　　　　　０．３　　％ Ｎｏ、１１　　　　　０．５　　％ 」−記のようにして製造した各々の塗布液（塗布液Ｎｏ
、７〜１１）を、前記の液比型試験により評価した６ また、」、記のようにして製造した各々の放射線増感ス
クリーン（スクリーンＮｏ、７〜１１）に８０ＫＶｐの
Ｘ線を照射した時の感度を測定した。

各々の塗布液および相当する放射線増感スクリーンＮｏ
、７〜１１について得られた結果を第４表に示す。また
、塗布液Ｎｏ、６および放射線増感スクリーンＮｏ、６
についての結果も併記した。ただし、親木性シリカの含
有量は蛍光体粒子に対する重量％で表示した。

上記の第２表から明らかなように、本発明の製造法に従
う塗布液（Ｎｏ、１〜５）は、疎水性シリカを含有、し
ない従来の塗布液（Ｎｏ、６）よりも、蛍光体粒子の分
散性において優れている。従来の塗布液（Ｎｏ、６）で
は、蛍光体粒子の沈降の度合が著しく、下層部には蛍光
体粒子の凝集による凝集固化物が生じたが、本発明の製
造法に従う塗布液（、Ｎｏ、１〜５）では、蛍光体粒子
の沈降は減少し凝集固化物は全く見られなかった。特に
、疎水性シリカの添加率が０．１〜０．５重量％の範囲
である場合には、塗布液中の蛍光体粒子の沈降をほぼ完
全に防ぐことが可能であることがわかる。

また１本発明の製造法によって上記各塗布液を用いて製
造された放射線増感スクリーン（Ｎｏ、１〜５）のＸ線
照射時の感度は、従来の増感スクリーンの感度と比較し
てほとんど変わらないことがわかる。　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　゛′□上記の第２表およ
び第４表から明らかなように親木性シリカを含有してい
る塗布液（Ｎｏ、７〜１１）は、本発明の製造法に従う
疎水性シリカを含有する塗布ｆ＆（Ｎｏ、１〜５）と比
較して、蛍光体粒子の分散性において明らかに劣ってい
る。塗布液（Ｎｏ、７〜１１）は、塗布液中における蛍
光体粒子の沈降の度合が著しく、大きく、全ての塗布液
中に蛍光体粒子の凝集による凝集固化物が生じている。

また、上記各塗布液を用いて製造された放射線増感スク
リーン（Ｎ　ｏ、　７〜１１）のＸ線照射時の感度は、
本発明の製造法によって製造された増感スクリーン（Ｎ
ｏ、１〜５）の感度と比較しても明らかに低下している
ことがわかる。

すなわち、本発明の製造法によって調製される塗布液（
Ｎ訳１〜５）は、塗布液中における蛍光体粒子の分散性
および沈降防止において非常に優れている。

特許出願人　富士写真フィルム株式会社代理人　　　弁
理士　　　柳川泰男 手続補正書 特許庁長官　　　若杉和夫　　　　　殿■、事件の表示 昭和５７年　　　特許　願第１０６１８７号２、　発明
の名称　　　　放射線増感スクリーンの制洗法３、　補
正をする者 小件との関係　　　特許出願人 ４、代理人 ６、　補正により増加する発明の数　　　　な　し７、
補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄を下記の如く補正致
します。

記 （１）４頁５行目〜回頁１２行目 一一一補正前一一一 ところで、上記塗布液を調製する際、放射線増感用蛍光
体粒子が塗布液中に充分に分散し難い、あるいは時間の
経過につれて蛍光体粒子がそれぞれ、あるいは凝集して
、沈降しやすいなどの問題があった。従って、塗布液中
に蛍光体粒子からなる凝集固化物が生じたり、また、支
持体に蛍光体粒子の均一に分散した塗布液を塗布するこ
とが困難となるなどの問題が生じていた。

−一一捕正氷一−− か生玉工兄ム。

（２）６頁１４行目〜同頁２０行目 −−１組■Ｌ−− この塗布液の調製において、塗布液中の蛍光体粒子は充
分に分散し難く、また時間の経過につれて蛍光体粒子が
徐々に沈降しやすい。従って、塗布液中で蛍光体粒子が
凝集して凝集固化物を生じたすするため、蛍光体粒子が
均一に分散した塗布液を塗布することが困難となる。

一一一補正蚤一一一 以」二 １１”

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｌ。放射線増感用蛍光体粒子および結合剤を含む分散液
   中に、微粒子状の疎水性シリカを蛍光体粒子に対し２重
   量％以下の量で分散含有させた塗布液を調製し、この塗
   布液を用いて支持体上に上記蛍光体粒子および疎水性シ
   リカを分散状態で含有支持する結合剤からなる放射線増
   感用蛍光体層を形成することを特徴とする放射線増感ス
   クリーンの製造法。 ２゜微粒子状の疎水性シリカが、放射線増感用蛍光体粒
   子に対して０．０１〜１．０重量％の範囲の量で用いら
   れていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   放射線増感スクリーンの製造法。 ３゜微粒子状の疎水性シリカが、放射線増感用蛍光体粒
   子に対して０．１〜０．５重量％の範囲の量で用いられ
   ていることを特徴とする特許請求の範囲第２１項記載の
   放射線増感スクリーンの製造法。 ４゜放射線増感用蛍光体が、テルビウム賦活耐硫化ガド
   リニウム蛍光体であることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項乃至第３項のいずれかの項記載の放射線増感スク
   リーンの製造法。