JPH0843598A - 放射線画像変換媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 蛍光体層への水分の浸透が小さく長期間にわ
たり良好な状態で使用が可能な放射線画像変換媒体を提
供する。 【構成】 支持体上に蛍光体層と、該蛍光体層上に順次
設けられた第１の保護層及び第２の保護層を有し、該第
２の保護層の吸湿性が前記第１の保護層の吸湿性よりも
大きく、かつ、前記第２の保護層の透湿性が前記第１の
保護層の透湿性よりも大きいことを特徴とする放射線画
像変換媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は放射線エネルギーの大小
によって蛍光体層に形成される放射線画像の潜像を可視
化する画像変換媒体に関し、特にＸ線写真撮影に用いら
れる蛍光体層を有する画像変換スクリーンに関する。

【０００２】

【従来の技術】医学用Ｘ線写真の撮影に於いては、被写
体を通過したＸ線の波長を、ハロゲン化銀感光材料の感
光波長域に変換するため、一旦該Ｘ線を蛍光体スクリー
ンに吸収せしめＸ線刺激によって発生する前記感光波長
域の蛍光の強弱に従って感光させ現像処理によってＸ線
画像が作成される。

【０００３】前記蛍光体スクリーンは用途によって、直
接撮影用増感スクリーン（ｉｎｔｅｎｓｉｆｙｉｎｇ
ｓｃｒｅｅｎ，一般に増感紙と呼ばれる）及び間接撮影
用蛍光スクリーン（ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ ｓｃｒｅ
ｅｎ，一般に蛍光板と呼ばれる）があり、Ｘ線によって
蛍光を発する蛍光体を、Ｘ線撮影に支障のない支持体上
に塗設し、更に形成された蛍光体層を保護層で被覆した
ものである。

【０００４】増感紙は撮影に使用するＸレイフィルムが
フィルム支持体の表裏に夫々感光層が塗設されているの
で夫々の感光層に増感紙を宛がい受光効率を上げてお
り、蛍光板に於いてはＸ線遮断のためにカメラ側に鉛入
りガラスを設けている。

【０００５】前記増感紙及び蛍光板（以後一括にしてス
クリーンと称す）共にＸ線が人体等の被写体を通過し、
強弱のパターンを有する画像Ｘ線束となり、該画像Ｘ線
束が蛍光体層に吸収され該層の蛍光体粒子を刺激して蛍
光を生じて画像蛍光束となり、該画像形成束にＸレイフ
ィルムが感光し、固定画像を形成する仲介をするもので
ある。

【０００６】該スクリーンに要求される特性としては、
効率のよい画像変換を行うための感度、残光の長短等の
発光特性及び耐用性がある。

【０００７】スクリーンの耐用性は手操作の場合には３
年程度、機械搬送の場合でも２年程度が通常要求され、
蛍光体層の損傷からの保護には保護層が設けられる。

【０００８】更に耐用性の大きな問題としては、蛍光体
が一般的に湿度に弱い点から、タングステン酸カルシウ
ム或いは適当な付活素を含むカドリニウム化合物等比較
的湿度に強い蛍光体が実用的に選ばれ、感度或いは蛍光
スペクトル等の要求は犠牲にされている状況であり防湿
についての技術が望まれている。

【０００９】即ち、蛍光体層が水分を収着すると前記ス
クリーンのＸ線感度が低下したり或いはＸ線画像の画質
の劣化をもたらすため、前記蛍光体層に水分が到達しな
いよう保護する必要がある。

【００１０】従来のスクリーンにおいては、上記の問題
の解決を図るため、スクリーンの支持体上の蛍光体層面
を被覆する保護層を設ける方法がとられてきた。

【００１１】この保護層は、例えば、特開昭５９−４２
５００号に記述されているように、保護層用塗布液を蛍
光体層上に直接塗布して形成されるか、或いは、予め別
途形成した保護層を蛍光体層上に接着する方法により形
成されている。

【００１２】特願昭６０−１８９３４号に於いて本発明
者等は、放射線照射及び／又は加熱によって重縮合或い
は架橋反応して硬化する樹脂素材即ちモノマー、オリゴ
マー或いはポリマー（以下これらを放射線硬化型樹脂或
いは熱硬化型樹脂と称する）を含有する保護層用塗布液
を輝尽性蛍光体層上に塗布した後、放射線の照射及び／
又は加熱により前記樹脂素材を硬化させて保護層を形成
する方法を提案している。

【００１３】スクリーンの長寿命化を達成するために、
特に耐湿性の点でのより一層の改良が望まれているが、
前記保護層の透湿性を低下させるための方法に関しては
殆ど検討されていないのが現状である。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、蛍光体を用
いた放射線画像変換媒体における前述のような現状に鑑
みてなされたものであり、本発明の目的は蛍光体層への
水分の浸透が小さく長期間にわたり良好な状態で使用が
可能である放射線画像変換媒体、特にＸ線画像変換スク
リーンを提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】前記した本発明の目的
は、支持体上に蛍光体層と、該蛍光体層上に順次設けら
れた第１の保護層及び第２の保護層を有し、該第２の保
護層の吸湿性が前記第１の保護層の吸湿性よりも大き
く、かつ、前記第２の保護層の透湿性が前記第１の保護
層の透湿性よりも大きいことを特徴とする放射線画像変
換媒体によって達成される。

【００１６】ここで「吸湿性が異なる」という表現は具
体的には以下のような意味である。即ち、保護層がＡ，
Ｂ２層よりなるとすれば、該Ａ層とＢ層とで吸湿性が異
なるということは、前記スクリーンが通常の使用方法に
おいて暴されると考えうるある気温のもとでのＡ層の平
衡吸湿等温曲線が該気温のもとでのＢ層の平衡吸湿等温
曲線と一致しないということを表している。

【００１７】以下、本発明を詳細に説明する。

【００１８】図１（１）に、本発明のスクリーンの構造
例を断面図として示す。１１は支持体、１２は蛍光体
層、１３ａ及び１３ｂは保護層であり、蛍光体層に接す
る１３ａは相対的に吸湿性の大きい保護層を、そして最
も外側の１３ｂは相対的に吸湿性の小さい保護層を表し
ている。保護層を図１（１）の如き層構成にすることに
よりスクリーンの耐湿性を大幅に向上することができ、
特に好ましい。即ちスクリーンの外部に存在する水或い
は水蒸気はまず保護層１３ｂによりスクリーン内部への
浸透を阻止される。しかし保護層１３ｂが水分を完全に
遮断することは不可能であり、常にある程度の水分透過
量が存在する。その水分透過量は、一般に外界と保護層
１３ｂの内側との湿度差に比例して増大する。保護層１
３ｂを透過した水分は保護層１３ａの表面に到達する
が、保護層１３ａはその吸湿性が大きいため、前記水分
を層の１３ｂと接する側の表面及び層の内部において保
持し、蛍光体層への水分の到達を防ぐ機能を果たす。結
果として前記蛍光体層の吸水による劣化は従来のスクリ
ーンに比べて著しく減少する。

【００１９】更に、図１（１）に示す層構造を有する複
合保護層は、保護層用材料の適切な選択により、１３ｂ
→１３ａの方向の透湿度が非常に小さくかつ１３ａ→１
３ｂの方向の透湿度が比較的大きい性質を有する複合保
護層とすることができ好ましい。一般に吸湿性の小さい
膜は透湿係数の湿度依存性が小さく、吸湿性の大きい膜
は透湿係数の湿度依存性が大きいという性質を有する。
従って保護層１３ｂは透湿係数の湿度依存性が小さく保
護層１３ａは透湿係数の湿度依存性が大であるため、両
者の複合系はよく知られている複合膜の透湿の二面性を
示す。即ち１３ｂが高湿側に接するように配した場合の
透湿度は１３ａを高湿側においた場合の透湿度より小と
なる。保護層用材料の適切な組み合わせにより両透湿度
間の差を拡大すれば、耐湿性に優れ、かつ蛍光体層が水
分を吸収した場合には低湿度の外気に暴すことにより速
やかに該水分を放出するスクリーンを作製することがで
きる。

【００２０】図１（２）に、本発明のスクリーンの構造
の別の一例を示す。図１（２）に示すスクリーンは、蛍
光体層に接する相対的に吸湿性の小さい保護層１３ｂ
と、その外側の相対的に吸湿性の大きい保護層１３ａと
を有する。前記スクリーンの外界に存在する水分は吸湿
性の大きい保護層１３ａの表面及び内部で保持され、更
に保護層１３ａが保持しきれずに透過した水分は吸湿性
の小さい保護層１３ｂにより蛍光体層への浸透を阻止さ
れる。保護層１３ｂは特に透湿性の小さい材料より成る
ことが好ましい。また保護層１３ａの外側に更に透湿性
の小さいもうひとつの保護層を設けてもよい。

【００２１】本発明のスクリーンの構造は図１に示した
例に限るものではない。

【００２２】本発明のスクリーンにおいて、蛍光体層の
表面を被覆する二層以上の保護層のうち少なくとも最も
外側の保護層は表面硬度の高い層であることが好まし
い。表面硬度の高い保護層を設けることにより、前記ス
クリーンが繰り返し使用中にスクリーン搬送系その他の
機械部分等から受ける物理的衝撃による傷の発生と、そ
れに伴う得られるＸ線画像の画質の劣化を防止すること
ができる。

【００２３】また、保護層の設置される面は蛍光体層の
支持体側と反対側の面（スクリーン表面と称する）に限
らずスクリーン周辺の厚み断面（スクリーン側面と称す
る）或いは蛍光体層側とは反対側の支持体面（スクリー
ン裏面と称する）に設けてもよい。その際、例えばスク
リーン表面を被覆する保護層とスクリーン裏面を被覆す
る保護層とは同一の構造を有する必要はない。

【００２４】以上に述べたように好ましい特性を持った
本発明のスクリーンは、例えば以下に述べるような方法
に従い、支持体上に蛍光体層を形成した後に該蛍光体層
上その他の面に少なくも二層の所望の保護層を形成或い
は付設することにより製造することができる。

【００２５】本発明のスクリーンにおいて用いられる支
持体としては各種高分子材料、ガラス、Ｘ線透過に実用
上支障のない金属等が用いられる。特に情報記録材料と
しての取り扱い上、可撓性のあるシート或いはウェブに
加工できるものが好適であり、この点から例えばセルロ
ースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリ
エチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィル
ム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポ
リカーボネートフィルム等のプラスチックフィルム、ア
ルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シートが好まし
い。

【００２６】また、これら支持体の層厚は用いる支持体
の材質等によって異なるが、一般的には８０〜１０００
μｍであり、取り扱い上の点から、更に好ましくは８０
〜５００μｍである。

【００２７】これら支持体の表面は滑面であってもよい
し、蛍光体層との接着性を向上させる目的でマット面と
してもよい。また、支持体の表面は凹凸面としても良い
し、隔絶された微小タイル状板を敷きつめた構造或いは
ハニカム構造としてもよい。

【００２８】更に、これら支持体は、蛍光体層との接着
性を向上させる目的で蛍光体層が設けられる面に下引層
を設けてもよい。

【００２９】本発明のスクリーンにおいて蛍光体とは、
最初の光若しくは高エネルギー放射線が照射された後
に、蛍光を発し或いは光的、熱的、機械的、化学的又は
電気的等の刺激（輝尽励起）により、最初の光若しくは
高エネルギーの放射線の照射量に対応した輝尽発光を示
す蛍光体を含んで言う。

【００３０】本発明に用いられる蛍光体としては、従来
知られているＣａＷＯ₄、Ｇｄ₂Ｏ₂ＳｉＴｂ或いはＺｎ
ＳｉＡｇ等をはじめとして、特開昭５０−１１６１６８
号、同５１−８０１９０号、同５２−１１５６８５号、
特公昭５５−３３５６０号、同５５−３４４００号、同
５６−３３９５号、同５６−４６５１４号、同５８−２
６４０号等に開示された蛍光体、或いは特開昭４８−８
０４８７号、同５８−８０４８８号、同４８−８０４８
９号、同５１−２９８８９号、同５２−３０４８７号、
同５３−３９２７７号、同５４−４７８８３号、同５５
−１２１４２号、同５５−１６００７８号及び同５７−
１４８２８５号等に開示された蛍光体が用いられる。

【００３１】本発明のスクリーンに用いられる蛍光体を
具体的に例示すれば、Ｙ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔ
ｂ、Ｌａ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、（Ｙ，Ｇｄ）₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、
（Ｙ，Ｇｄ）₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ，Ｔｍ、Ｙ₂Ｏ₂Ｓ：Ｅｕ、Ｇ
ｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）₂Ｏ₂Ｓ：Ｅｕ、Ｙ₂Ｏ₃：
Ｅｕ、Ｇｄ₂Ｏ₃：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）₂Ｏ₂：Ｅｕ、ＹＶ
Ｏ₄：Ｅｕ、ＹＰＯ₄：Ｔｂ、ＧｄＰＯ₄：Ｔｂ、ＬａＰ
Ｏ₄：Ｔｂ、ＹＰＯ₄：Ｅｕ、ＬａＯＢｒ：Ｔｂ、ＬａＯ
Ｂｒ：Ｔｂ，Ｔｍ、ＬａＯＢｒ：Ｃｅ、ＬａＯＣｌ：Ｔ
ｂ、ＬａＯＣｌ：Ｔｂ、ＬａＯＣｌ：Ｃｅ、ＧｄＯＢ
ｒ：Ｔｂ、ＧｄＯＣｌ：Ｔｂ、ＣａＷＯ₄、ＣａＷＯ₄：
Ｐｂ、ＭｇＷＯ₄、ＢａＳＯ₄：Ｐｂ、ＢａＳＯ₄：Ｅｕ
²⁺、（Ｂａ，Ｓｒ）ＳＯ₄：Ｅｕ²⁺、Ｂａ₃（ＰＯ₄）₂：
Ｅｕ²⁺、（Ｂａ，Ｓｒ）₃（ＰＯ₄）₂：Ｅｕ²⁺、ＢａＦ
Ｃｌ：Ｅｕ²⁺、ＢａＦＢｒ：Ｅｕ²⁺、ＢａＦＣｌ：Ｅｕ
²⁺，Ｔｂ、ＢａＦＢｒ：Ｅｕ²⁺，Ｔｂ、ＢａＦ₂，Ｂａ
Ｃｌ₂，ＫＣｌ：Ｅｕ²⁺、ＢａＦ₂，ＢａＣｌ₂，ＢａＳ
Ｏ₄，ＫＣｌ：Ｅｕ²⁺、（Ｂａ，Ｍｇ）Ｆ₂，ＢａＣ
ｌ₂，ＫＣｌ：Ｅｕ²⁺、ＣｓＩ：Ｎａ、ＣｓＩ：Ｔｌ、
ＮａＩ、ＺｎＳ：Ａｇ、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ａｇ、Ｚｎ
Ｓ：Ｃｕ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ｃ
ｕ、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ｃｕ，Ａｌ、（Ｚｎ，Ｃｄ）
Ｓ：Ａｕ，Ａｌ、ＨｆＰ₂Ｏ₇：Ｃｕ等のＸ線用蛍光体が
挙げられる。

【００３２】使用する蛍光体の平均粒子径は、蛍光体の
感度や粒状性を考慮して、平均粒子径０．１〜１００μ
ｍ、好ましくは１〜３０μｍのものが用いられる。これ
ら蛍光体は混用されてもよい。

【００３３】本発明のスクリーンにおいて、一般的には
上述の蛍光体は蒸着等の気相堆積法によるか或いは適当
な結着剤中に分散され塗設される。該結着剤としては、
例えばゼラチンの如き蛋白質、デキストランの如きポリ
サッカライド又はアラビアゴム、ポリビニルブチラー
ル、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロ
ース、塩化ビニリデン−塩化ビニルコポリマー、ポリメ
チルメタクリレート、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマ
ー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチレート、
ポリビニルアルコール等のような通常層形成に用いられ
る結着剤が使用される。一般に結着剤は蛍光体１重量部
に対して０．０１乃至１重量部の範囲で使用される。し
かしながら得られるスクリーン感度と鮮鋭度の点では結
着剤は少ない方が好ましく、塗布の容易さとの兼ね合い
から０．０３乃至０．２重量部の範囲がより好ましい。

【００３４】また特願昭５９−１９６３６５号において
提案されているように、気相堆積法によって蛍光体層が
結着剤を含有しない構造としてもよい。結着剤を含有し
ない蛍光体層の形成方法としては、以下のような方法が
挙げられる。

【００３５】第１の方法として蒸着法がある。該方法に
於いては、まず支持体を蒸着装置内に設置した後装置内
を排気して１０^-6Ｔｏｒｒ程度の真空度とする。次い
で、前記蛍光体の少なくとも一つを抵抗加熱法、エレク
トロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて前記支持体表
面に蛍光体を所望の厚さに堆積させる。

【００３６】この結果、結着剤を含有しない蛍光体層が
形成されるが、前記蒸着工程では複数回に分けて蛍光体
層を形成することも可能である。また、前記蒸着工程で
は複数の抵抗加熱器或いはエレクトロンビームを用いて
共蒸着を行うことも可能である。

【００３７】また、前記蒸着法においては、蛍光体原料
を複数の抵抗加熱器或いはエレクトロンビームを用いて
共蒸着し、支持体上で目的とする蛍光体を合成すると同
時に蛍光体層を形成することも可能である。

【００３８】更に前記蒸着法においては、蒸着時、必要
に応じて被蒸着物を冷却或いは加熱してもよい。また、
蒸着終了後蛍光体層を加熱処理してもよい。

【００３９】第２の方法としてスパッタ法がある。該方
法においては、蒸着法と同様に支持体をスパッタ装置内
に設置した後装置内を一旦排気して１０^-6Ｔｏｒｒ程度
の真空度とし、次いでスパッタ用のガスとしてＡｒ，Ｎ
ｅ等の不活性ガスをスパッタ装置内に導入して１０^-3Ｔ
ｏｒｒ程度のガス圧とする。

【００４０】次に、前記蛍光体をターゲットとして、ス
パッタリングすることにより、前記支持体表面に蛍光体
を所望の厚さに堆積させる。

【００４１】前記スパッタ工程では蒸着法と同様に複数
回に分けて蛍光体層を形成することも可能であるし、ま
た、それぞれ異なった蛍光体からなる複数のターゲット
を用いて、同時或いは順次、前記ターゲットをスパッタ
リングして蛍光体層を形成することも可能である。

【００４２】前記スパッタ法においては、複数の蛍光体
原料をターゲットとして用い、これを同時或いは順次ス
パッタリングして、支持体上で目的とする蛍光体を合成
すると同時に蛍光体層を形成することも可能である。ま
た、前記スパッタ法においては、必要に応じてＯ₂，Ｈ₂
等のガスを導入して反応性スパッタを行ってもよい。

【００４３】更に、前記スパッタ法においては、スパッ
タ時必要に応じて被蒸着物を冷却或いは加熱してもよ
い。また、スパッタ終了後蛍光体層を加熱処理してもよ
い。

【００４４】第３の方法としてＣＶＤ法がある。該方法
は目的とする蛍光体或いは蛍光体原料を含有する有機金
属化合物を熱、高周波電力等のエネルギーで分解するこ
とにより、支持体上に結着剤を含有しない蛍光体層を得
る。

【００４５】第４の方法として吹き着け法がある。該方
法は蛍光体粉末を粘着層上に吹き着けることにより支持
体上に結着剤を含有しない蛍光体層を得る。

【００４６】本発明のスクリーンの蛍光体層の層厚は、
目的とするスクリーンの放射線に対する感度、蛍光体の
種類等によって異なるが、結着剤を含有しない場合で１
０〜１０００μｍの範囲、更に好ましくは２０〜８００
μｍの範囲から選ばれるのが好ましく、結着剤を含有す
る場合で１０〜１０００μｍの範囲、更に好ましくは５
０〜５００μｍの範囲、更に好ましくは９０〜３００μ
ｍの範囲から選ばれるのが好ましい。

【００４７】次に、蛍光体層の支持体側とは反対側の面
及び必要に応じてその他の面に保護層を設ける。保護層
の形成方法としては以下に述べるような方法が用いられ
る。

【００４８】第１の方法として、特開昭５９−４２５０
０号に開示されているように透明性の高い高分子物質を
適当な媒体に溶解して調整した溶解を保護層を設置すべ
き面に塗布し、乾燥させて保護層を形成する方法があ
る。

【００４９】第２の方法として、同じく特開昭５９−４
２５００号に開示されているように透明な高分子物質よ
り成る薄膜の片面に適当な接着剤を付与し、保護層を設
置すべき面に接着する方法がある。

【００５０】第１の方法及び第２の方法において用いら
れる保護層用材料としては、たとえば酢酸セルロース、
ニトロセルロース、エチルセルロースなどのセルローズ
誘導体、或いはポリメチルメタクリレート、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネー
ト、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメチ
ルアリルアルコール、ポリメチルビニルケトン、セルロ
ースジアセテート、セルローストリアセテート、ポリビ
ニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、
ポリグリシン、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリ
ドン、ポリビニルアミン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリアミド（ナイロン）、ポリ四フッ化エチレン、
ポリ三フッ化一酸化エチレン、ポリプロピレン、四フッ
化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体、ポリビニル
イソブチルエーテル、ポリスチレンなどがあげられる。

【００５１】第３の方法としては、特願昭６０−１８９
３４号に述べられているように、放射線硬化型樹脂又は
熱硬化型樹脂の少なくとも何れか一方を含有する塗布液
を保護層を設置すべき面に塗布し特願昭６０−１８９３
４号に示したような装置を用いて紫外線或いは電子線な
どの放射線の照射及び／又は加熱を施して前記塗布を硬
化させる方法がある。

【００５２】前記放射線硬化型樹脂としては、不飽和二
重結合を有する化合物又はこれを含む組成物であればよ
く、このような化合物は、好ましくは、不飽和二重結合
を２個以上有するプレポリマー及び／又はオリゴマーで
あり、更に、これらに不飽和二重結合を有する単量体
（ビニルモノマー）を反応性稀釈剤として含有させるこ
とができる。

【００５３】不飽和二重結合を２個以上有するプレポリ
マー又はオリゴマーの具体例としては下記のようなもの
がある。

【００５４】１）不飽和ポリエステル ２）変性不飽和ポリエステル ウレタン変性不飽和ポリエステル、アクリルウレタン変
性不飽和ポリエステル及び末端にアクリル基を有する液
状の不飽和ポリエステル。

【００５５】３）アクリル系ポリマー ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、シ
リコンアクリレート及びウレタンアクリレート ４）ブタジエン系ポリマー ５）エポキシ系ポリマー 脂肪族ポリオールのポリグリシジルエーテル、ビスフェ
ノールＡ（或いはＦ、Ｓ）ジグリシジルエーテル、ジカ
ルボン酸エポキシシクロヘキシルアルキル及びシクロペ
ンテンオキシド基１個又は２個以上を含有するエポキシ
ド。

【００５６】６）ポリチオール・ポリエン樹脂 また、本発明に関わる前記熱硬化型樹脂の具体例として
は、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、アミノ樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂
等があげられる。以上に述べた放射線硬化型樹脂及び熱
硬化型樹脂は単独又は２種以上混合して用いてもかまわ
ない。

【００５７】前記放射線硬化型樹脂及び／又は熱硬化樹
脂であるプレポリマーに、必要に応じて反応性稀釈剤で
あるビニルモノマー、非反応性バインダー、架橋剤、光
重合開始剤、光増感剤、貯蔵安定剤及び接着性改良剤そ
の他の添加剤を混合して分散し、保護層用塗布液を作成
する。

【００５８】ここで、組成物の粘度を低下させ、かつ放
射線硬化速度を向上させる効果をもつ前記反応性稀釈剤
の具体例としては以下のようなものがある。

【００５９】ａ）単官能モノマー メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアク
リレート、２−エチルヘキシルメタアクリレート、２−
ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチル
メタアクリレート、グリシジルメタアクリレート、ｎ−
ヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレートなど ｂ）２官能モノマー １，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコ
ール、１，４−ブタンジオールジアクリレート、エチレ
ングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール
ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ジビニルベンゼンなど ｃ）３官能以上のモノマー トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート、エチレンジアミンのアクリル酸エステルな
ど 前記保護層用塗布液には、放射線照射及び加熱により硬
化しないバインターを必要に応じて含有させてもよい。
たとえばセルロースエステル、ポリビニルブチラール、
ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ス
チロール−アクリル酸共重合体などである。

【００６０】前記保護層用塗布液を硬化させる手段とし
て紫外線照射を用いる場合には、紫外線エネルギーを吸
収して樹脂の重合反応を開始させる触媒である光重合開
始剤を必要に応じて添加してもよく、更に該光重合開始
剤の効果を促進する目的で光増感剤を添加してもよい。

【００６１】前記光重合開始剤としては、カルボニル化
合物が多く用いられ、その具体例としてはベンゾインイ
ソプロピル、イソブチルエーテルなどのベンゾインエー
テル系化合物、ベンゾフェノン、Ｏ−ベンゾイルメチル
ベンゾエートなどのベンゾフェノン系化合物、アセトフ
ェノン、トリクロロアセトフェノン、１，１−ジクロロ
アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンなど
のアセトフェノン系化合物、２−クロロチオキサント
ン、２−アルキルチオキサントンなどのチオキサンサン
系化合物及び２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェ
ノン、２−ヒドロキシ−４′−イソプロピル−２−メチ
ルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトンなどの化合物があげられる。

【００６２】また、とくにエポキシ系ポリマーに対する
光重合開始剤としては芳香族オニウム塩、即ち、ルイス
酸ジアゾニウム塩などのジアゾニウム塩、ヘキサフルオ
ロリン酸トリフェニルフェナシルホスホニウムなどのホ
スホニウム塩、テトラフルオロホウ酸トリフェニルスル
ホニウム、ヘキサフルオロリン酸トリフェニルスルホニ
ウムなどのスルホニウム塩及び塩化ジフェニルヨードニ
ウムなどのヨードニウム塩などが有用である。その他に
もイオウ化合物、アゾ化合物、ハロゲン化合物及び有機
過酸化物等が光重合開始剤として用いられる。

【００６３】前記光重合開始剤は単独で用いてもよいし
２種以上混合してもよい。

【００６４】また、光増感剤の例としてはアミン、尿
素、ニトリル及びイオウ、リン、窒素、塩素などの化合
物があげられる。

【００６５】前記第１の方法、第２の方法又は第３の方
法により形成される保護層の一層の膜厚は１〜１００μ
ｍ程度、更に好ましくは２〜１０μｍ程度の範囲にある
ことが好ましい。

【００６６】第４の方法としては、ＳｉＯ₂，ＳｉＣ，
ＳｉＮ，Ａｌ₂Ｏ₃等の無機物質層を真空蒸着法、スパッ
タ法等により形成する方法がある。前記無機物質層の層
厚は０．１〜１００μｍ程度が好ましい。

【００６７】本発明のスクリーンにおける少なくとも二
層の保護層群は、そのすべてが同一の形成方法により形
成されている必要はない。本発明のスクリーンは支持体
上に蛍光体層を設けた後に該蛍光体層上に複数の保護層
を順次形成して製造してもよいし、あらかじめ形成した
多層構造の保護層を前記蛍光体層上に付設して製造して
もよい。或いは保護層上に蛍光体層を形成した後、支持
体を設ける手順をとってもよい。

【００６８】本発明のスクリーンにおいて、保護層は互
いに吸湿性の異なる二つ以上の層の組み合わせより成
る。前記保護層のうち、相対的に吸湿性の小さい保護層
用に用いられる材料としては、たとえばポリエチレン、
ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化一塩化エチレン、
ポリプロピレン、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレ
ン共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルイソブチ
ルエーテル、ポリエチレンテレフタレート、塩化ビニリ
デン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロ
ニトリル共重合体、塩化ビニリデン−イソブチレン共重
合体、ポリスチレン、エポキシ系ポリマーの一部及びア
クリル系ポリマーの一部などが好ましい。また、相対的
に吸湿性の大きい保護層用に用いられる材料としては、
たとえばポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、
ポリグリシン、ポリメタクリル酸、ポリアクリル酸、ポ
リビニルピロリドン、ポリビニルアミン、セルロースジ
アセテート、セルローストリアセテート、ナイロン４、
ナイロン６、ナイロン１２、ナイロン６６、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリメチルアリルアルコールなどが好ましい。

【００６９】本発明の実施態様中とくに好ましいのは、
前記吸湿性の小さい保護層用の材料として挙げた一群の
材料の中から少なくとも一種類を選び、また前記吸湿性
の大きい保護層用の材料として挙げた一群の材料の中か
ら少なくとも一種類を選んで、前者を外側、後者を内側
即ち、蛍光体層に接する側に配置した複合保護層を有す
るスクリーンである。

【００７０】

【実施例】次に、実施例によって本発明を説明する。

【００７１】実施例１ 十分乾燥させた厚さ５μｍのナイロン６フィルムと厚さ
５μｍの塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体フィルム
とエポキシ変性ポリオレフィン系接着剤により貼り合わ
せ、２層より成る保護層を作成した。次に、平均粒径５
μｍのＬａＯＢｒ：Ｃｅ蛍光体８重量部及びポリビニル
ブチラール（結着剤）１重量部をシクロヘサキノン（溶
剤）を用いて混合分散して蛍光体塗布液とした。該蛍光
体塗布液を前記保護層のナイロン６面に蛍光体塗布重量
がおよそ４０ｍｇ／ｃｍ²となるように均一に塗布し、
一昼夜放置して蛍光体層を形成し、更にこの蛍光体層上
に厚さ約２００μｍのポリエチレンテレフタレート支持
体を接着し、本発明のスクリーンＡを製造した。

【００７２】実施例２ 十分乾燥させた厚さ１０μｍのポリビニルアルコールフ
ィルムを第１の保護層とし、その片面に実施例１に示し
た材料及び方法を用いて蛍光体層を形成した。更に実施
例１に示した支持体と同様のものを前記蛍光体層上に接
着した。

【００７３】次に、下記の組成物をボールミルにて分散
して第２の保護層用塗布液を作成した。

【００７４】 ビスフェノールＡグリシジルエーテル ７５重量％ ３，４−エポキシシクロヘキシルメチルカルボキシレート １８重量％ トリアリルスルホニウムヘキサフルオロアンチモン塩 ７重量％ このようにして作成した保護層用塗布液を、前記第１の
保護層上にドクターコータで被覆厚が５μｍとなるよう
に塗布した。この塗布層に、出力８０Ｗ／ｃｍの高圧水
銀灯により１０秒間紫外線を照射し、完全に硬化させて
第２の保護層を作成し、本発明のスクリーンＢを製造し
た。

【００７５】実施例３ 厚さ３μｍのポリプロピレンフィルムと厚さ３μｍのポ
リ酢酸ビニルフィルムとをポリエステル系接着剤により
貼り合わせ、２層より成る保護層を作成した。次に、前
記保護層のポリプロピレンフィルム面に、実施例１に示
した材料及び方法を用いて蛍光体層を形成した。更に実
施例１に示した支持体と同様のものを前記蛍光体層上に
接着し、本発明のスクリーンＣを製造した。

【００７６】比較例１ 厚さ５μｍの塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体フィ
ルムを保護層とし、その片面に実施例１に示した材料及
び方法を用いて蛍光体層を形成した。更に実施例１に示
した支持体と同様のものを前記蛍光体層上に接着し、比
較のスクリーンＤを製造した。

【００７７】比較例２ 実施例１で用いた支持体と同様のものに実施例１に示し
た材料及び方法を用いて蛍光体層を形成した。次に、該
蛍光体層上に実施例２で作成した第２の保護層用塗布液
と同様の保護層用塗布液をドクターコータで被覆厚が５
μｍとなるように塗布した。この塗布層に、出力８０Ｗ
／ｃｍの高圧水銀灯により１０秒間紫外線を照射し、完
全に硬化させて保護層を作成し、比較のスクリーンＥを
製造した。

【００７８】比較例３ 厚さ３μｍのポリプロピレンフィルムを保護層とし、そ
の片面に、実施例１に示した材料及び方法を用いて蛍光
体層を形成した。更に実施例１に示した支持体と同様の
ものを前記蛍光体層上に接着し、比較のスクリーンＦを
製造した。

【００７９】以上のようにして製造した本発明のスクリ
ーンＡ，Ｂ，Ｃ及び比較のスクリーンＤ，Ｅ，Ｆを乾燥
ボックス内に２日間放置したのち、放射線に対する感度
を測定した。次に、これらのスクリーンを気温５０℃、
相対湿度８０％の恒温恒湿槽内に３５０時間放置して強
制劣化させ、更に再び乾燥ボックス内に５時間置き、そ
の間の放射線感度の変化を、最初に測定したそれぞれの
放射線感度を１とした場合の相対感度で表した。その結
果を図２に示す。

【００８０】図２より明らかなように、本発明のスクリ
ーンＡ，Ｂ及びＣは、比較のスクリーンＤ，Ｅ及びＦに
比べて蛍光体層の吸湿による放射線感度の低下が小さ
い。特に本発明のスクリーンＡ及びＢは耐湿性に非常に
優れている。更に、本発明のスクリーンＡ及びＢは、低
湿度の外気に暴したときの感度の回復が速い。

【００８１】

【発明の効果】以上述べてきたように、本発明のスクリ
ーンは支持体上に蛍光体層と、該蛍光体層上に順次設け
られた第１の保護層及び第２の保護層を有し、該第２の
保護層の吸湿性が前記第１の保護層の吸湿性よりも大き
く、かつ、前記第２の保護層の透湿性が前記第１の保護
層の透湿性よりも大きい多層構造を有しているため、耐
湿性に優れ、長期間にわたり良好な状態で使用すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のスクリーンの基本的構造を示す断面図
である。

【図２】本発明のスクリーン及び従来のスクリーンを恒
温恒湿槽内に放置した場合の放射線感度の変化の様子を
示した図である。

【符号の説明】

１１ 支持体 １２ 輝尽性蛍光体層 １３ａ，１３ｂ 保護層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 島田 文生 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に蛍光体層と、該蛍光体層上に
   順次設けられた第１の保護層及び第２の保護層を有し、 該第２の保護層の吸湿性が前記第１の保護層の吸湿性よ
   りも大きく、かつ、前記第２の保護層の透湿性が前記第
   １の保護層の透湿性よりも大きいことを特徴とする放射
   線画像変換媒体。