JPH0444959B2

JPH0444959B2 -

Info

Publication number: JPH0444959B2
Application number: JP58106927A
Authority: JP
Inventors: Akio Ishizuka; Hisashi Yamazaki; Kikuo Yamazaki
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1983-06-14
Filing date: 1983-06-14
Publication date: 1992-07-23
Also published as: JPS59231500A; EP0128592B1; US4563580A; DE3467457D1; EP0128592A3; EP0128592A2

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、放射線像変換パネルに関するもので
ある。さらに詳しくは、本発明は、支持体、下塗
り層および蛍光体層がこの順序で積層されてなる
放射線像変換パネルに関するものである。放射線像を画像として得る方法として、従来よ
り、銀塩感光材料からなる乳剤層を有する放射線
写真フイルムと増感紙（増感スクリーン）とを組
合わせた、いわゆる放射線写真法が利用されてい
る。最近、上記放射線写真法に代る方法の一つと
して、たとえば、特開昭55−12145号公報などに
記載されているような輝尽性蛍光体を用いる放射
線像変換方法が注目されるようになつた。この放
射線像変換方法は、輝尽性蛍光体を有する放射線
像変換パネル（蓄積性蛍光体シート）を利用する
もので、被写体を透過した放射線、あるいは被検
体から発せられた放射線を該パネルの輝尽性蛍光
体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍光体を可視光
線および赤外線から選ばれる電磁波（励起光）で
時系列的に励起することにより、該輝尽性蛍光体
中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光（輝
尽発光）として放出させ、この蛍光を光電的に読
取つて電気信号を得、得られた電気信号を画像化
するものである。上述の放射線像変換方法によれば、従来の放射
線写真法による場合に比較して、はるかに少ない
被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得ること
ができるという利点がある。従つて、この放射線
像変換方法は、特に医療診断を目的とするＸ線撮
影等の直接医療用放射線撮影において利用価値の
非常に高いものである。上記の放射線変換方法に用いる放射線像変換パ
ネルは、基本構造として、支持体と、その片面に
設けられた蛍光体層とからなるものである。な
お、この蛍光体層の支持体とは反対側の表面（支
持体に面していない側の表面）には一般に、透明
なプラスチツクフイルムからなる保護膜が設けら
れていて、蛍光体層を化学的な変質あるいは物理
的な衝撃から保護している。蛍光体層は、輝尽性蛍光体と、これを分散状態
で含有支持する結合剤とからなるものであり、こ
の輝尽性蛍光体は、Ｘ線などの放射線を吸収した
のち、可視光線および赤外線から選ばれる電磁波
の照射を受けると発光（輝尽発光）を示す性質を
有するものである。従つて、被写体を透過した、
あるいは被写体から発せられた放射線は、その放
射線量に比例して放射線像変換パネルの蛍光体層
に吸収され、放射線像変換パネル上には被写体あ
るいは被検体の放射線像が放射線エネルギーの蓄
積像として形成される。この蓄積像は、可視光線
および赤外線から選ばれる電磁波（励起光）で励
起することにより輝尽発光（蛍光）として放射さ
れることができ、この輝尽発光を光電的に読み取
つて電気信号に変換することにより放射線エネル
ギーの蓄積像を画像化することが可能となる。放射線像変換方法は上述のように非常に有利な
画像形成方法であるが、この方法に用いられる放
射線像変換パネルは従来の放射線写真法に用いら
れる増感紙と異なり、放射線の照射によつてパネ
ルに蓄積された放射線エネルギーを励起光の照射
によつて読み出しを行なうために、従来の増感紙
よりも使用状況が厳しく、機械的強度および耐久
性において優れていることが望まれる。すなわち、放射線像変換パネルはその使用時に
おいて、衝撃、落下、曲げ等の機械的刺激が与え
られた場合でも、支持体と蛍光体層が簡単に分離
することがないように充分な機械的強度を持つ必
要がある。特に、放射線像変換パネル自体は放射
線による照射、および可視光線から赤外線にわた
る電磁波の照射によつても殆ど変質することない
ため、長期間にわたつて繰り変し使用されうる
が、そのような繰り返しの使用に耐えるために
は、放射線照射、その後の電磁波照射などによる
放射線像の画像化、および、残存している放射線
像情報の消去などの操作における放射線像変換パ
ネルの取扱いの際に機械的衝撃が与えられても支
持体と蛍光体層とが分離するような障害が発生し
ないことが必要である。たとえば、放射線像変換パネルの感度を高める
ために、蛍光体層における結合剤と輝尽性蛍光体
との混合比（結合剤／輝尽性蛍光体）を小さくし
輝尽性蛍光体を高密度で充填した場合には、得ら
れる放射線像変換パネルの機械的強度、特に支持
体と蛍光体層との密着強度が低下する傾向にあ
る。また、用いられる蛍光体粒子および結合剤の
種類、結合剤溶液（塗布液）の塗布条件などによ
り蛍光体粒子が下方（支持体側）に沈降した状態
で蛍光体層が形成された場合にも、支持体と蛍光
体層との密着強度は低下しがちである。上記のような支持体と蛍光体層との間の密着強
度の低下を解消する技術としては、この支持体と
蛍光体層との間に下塗り層を設けることが既に知
られている。この下塗り層の材料としては、従来
より合成樹脂などからなる通常の接着剤が用いら
れている。しかしながら、従来の下塗り層を有する放射線
像変換パネルにおいて、下塗り層の設けられた支
持体上（すなわち、下塗り層表面）に通常の塗布
方法により蛍光体層を形成した場合には、塗布液
中の溶剤に下塗り層材料が可溶であるために、支
持体と蛍光体層との密着強度を充分に向上させる
ことが難しいという問題があつた。また、従来において蛍光体層の塗膜形成の際に
おいて、下塗り層は塗布液に含まれる溶剤によつ
て一度膨潤したのち収縮を起こすために、得られ
た蛍光体層には亀裂（クラツク）が生じやすい。
特に、下塗り層が柔らかく、それに対し蛍光体層
の結合剤が硬度の比較的高いものである場合には
クラツクが発生する傾向にある。この蛍光体層に
おけるクラツクの発生は画質の低下した画像を与
える原因となるため、放射線像変換パネルにおい
ては蛍光体層におけるクラツクの発生を抑制する
ことが要求される。さらに、蛍光体層の上に保護膜が設けられた放
射線像変換パネルにおいて、通常、保護膜の形成
は、保護膜を蛍光体層表面に接着剤を用いて加温
加圧して積層（ラミネート）することにより行な
われる。下塗り層が充分な硬度を有していない場
合には、このラミネートの際に下塗り層の一部が
つぶれたり、横すべりをするなどの層厚にムラが
生じるために、支持体と蛍光体層との間にはずれ
が生じることになる。このようなパネルの塑性変
形の結果として、得られた放射線像変換パネルの
保護膜表面にはシワ状の歪み（いわゆるラミジ
ワ）が発生したり、あるいはまたパネル全体が変
形して曲面（カール）状となるなど現象が発生し
やすいとの問題がある。従つて本発明は、機械的強度、特に支持体と蛍
光層との密着強度が向上した放射線像変換パネル
を提供することをその目的とするものである。また、本発明は、蛍光体層におけるクラツクの
発生を抑制した放射線像変換パネルを提供するこ
ともその目的とするものである。さらに、本発明は、保護膜のラミネート時にお
けるラミジワの発生およびパネルのカールが減少
した放射線像変換パネルを提供することもその目
的とするものである。本発明者の検討によれば、上記の目的は、下塗
り層を付設した放射線像変換パネルにおいて、下
塗り層の材料として架橋剤によつて架橋された合
成樹脂を用いて下塗り層を硬膜化することにより
達成されることが判明した。すなわち本発明は、支持体、下塗り層および輝
尽性蛍光体を分散状態で含有支持する結合剤から
なる蛍光体層がこの順序で積層されてなる放射線
像変換パネルにおいて、該下塗り層が架橋剤によ
つて架橋された合成樹脂からなることを特徴とす
る放射線像変換パネルからなるものである。次に本発明を詳しく説明する。本発明は、放射線像変換パネルの下塗り層とし
て架橋剤が添加された合成樹脂を用いて、硬膜化
した下塗り層とすることにより、放射線像変換パ
ネルにおいて、パネルの機械的強度の向上および
蛍光体層におけるクラツクの発生の顕著な抑制を
実現するものである。すなわち、蛍光体層の下塗り層の形成材料とし
て、架橋剤によつて架橋された合成樹脂を用いる
ことにより、蛍光体層形成のための塗布液に含ま
れる溶剤に対して下塗り層が不溶性もしくは難溶
性となるために、下塗りの効果を著しく高めるこ
とができ、支持体（下塗り層を有する支持体）と
蛍光体層との密着強度を顕著に増大させることが
できる。従つて、従来の放射線像変換パネルと比
較して、衝撃、曲げ等に対するパネルの機械的強
度を向上させることができるものである。また、下塗り層に用いられる樹脂は、架橋剤に
よつて架橋されて硬膜化されるために、蛍光体層
の塗膜形成時における塗布液中の溶剤による膨潤
および収縮の度合を低減させることができる。こ
のことにより、通常の塗布方法によつて下塗り層
上に蛍光体層が形成された従来の放射線像変換パ
ネルにおいて、発生しがちであつたクラツクを顕
著に抑制することができるものである。従つて、
目的の放射線像変換パネルにおいて画質の優れた
画像を得ることを可能にするものである。さらに、架橋剤の添加により下塗り層が硬膜化
するために、プラスチツクフイルムからなる保護
膜をラミネート加工により蛍光体層上に設けた場
合に、下塗り層の塑性変形によつて保護膜表面に
発生しがちであつたラミジワおよびパネルのカー
ルを防止または顕著に減少させることができるも
のである。従つて、保護膜のラミネート操作が容
易になるものであり、また、このことによつても
得られる画像の画質を向上させることが可能とな
るものである。以上述べたような好ましい特性を持つた本発明
の放射線像変換パネルは、たとえば、次に述べる
ような方法により製造することができる。本発明の特徴的な要件である下塗り層は、架橋
剤の添加により架橋させることができる合成樹脂
に架橋剤が添加されたものである。そのような合成樹脂の例としては、ポリアクリ
ル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系
樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、エチレン−酢酸ビ
ニル系共重合体を挙げることができる。また、上
記のような合成樹脂を架橋するための架橋剤の例
としては、脂肪族イソシアネート、芳香族イソシ
アネート、メラミン、アミノ樹脂、およびそれら
の誘導体を挙げることができる。下塗り層は、たとえば、次のような方法により
支持体上に形成することができる。まず上記の合成樹脂と架橋剤とを適当な溶剤に
添加し、これを充分に混合して下塗り層塗布液を
調製する。架橋剤の使用量は、目的の放射線像変換パネル
の特性、蛍光体層および支持体に用いられる材料
の種類、下塗り層の合成樹脂の種類などによつて
も異なるが、蛍光体層の支持体に対する密着強度
の増大の点を考慮すれば、合成樹脂に対して20％
（重量比）以下で用いるのが好ましい。塗布液調製用の溶剤としては、後述の蛍光体層
の形成の際に用いられる溶剤を使用することがで
きる。この塗布液を、通常の塗布手段、たとえば、ド
クターブレード、ロールコーター、ナイフコータ
ーなどを用いることにより、支持体表面に均一に
塗布して塗膜を形成する。次いで、形成された塗
膜を徐々に加熱することにより乾燥して、支持体
上への下塗り層の形成を完了する。このようにして、架橋剤の添加により樹脂が架
橋されて硬膜化した下塗り層が得られる。下塗り
層の層厚は、目的とする放射線像変換パネルの特
性、蛍光体層および支持体に用いられる材料の種
類、樹脂および架橋剤の種類などによつて異なる
が、通常は３乃至50μｍとするのが好ましい。支持体は、従来の放射線写真法における増感紙
の支持体として用いられている各種の材料から任
意に選ぶことができる。そのような材料の例とし
ては、セルロースアセテート、ポリエステル、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイ
ミド、トリアセテート、ポリカーボネートなどの
プラスチツク物質のフイルム、アルミニウム箔、
アルミニウム合金箔などの金属シート、通常の
紙、バライタ紙、レジンコート紙、二酸化チタン
などの顔料を含有するピグメント紙、ポリビニル
アルコールなどをサイジングした紙などを挙げる
ことができる。ただし、放射線像変換パネルの情
報記録材料としての特性および取扱いなどを考慮
した場合、本発明において特に好ましい支持体の
材料はプラスチツクフイルムである。このプラス
チツクフイルムにはカーボブラツクなどの光吸収
性物質が練り込まれていてもよく、あるいは二酸
化チタンなどの光反射性物質が練り込まれていて
もよい。前者は高鮮鋭度タイプの放射線像変換パ
ネルに適した支持体であり、後者は高感度タイプ
の放射線像変換パネルに適した支持体である。公知の放射線像変換パネルにおいて、放射線像
変換パネルとしての感度もしくは画質を向上させ
るために、二酸化チタンなどの光反射性物質から
なる光反射層もしくはカーボンブラツクなどの光
吸収性物質からなる光吸収層を設けることも行な
われている。本発明において用いられる支持体に
ついても、これらの各種の層を設けることがで
き、それらの構成は所望の放射線像変換パネルの
目的、用途などに応じて任意に選択することがで
きる。上記のような下塗り層の形成された支持体表面
（すなわち、下塗り層表面）には、本出願人によ
る特願昭57−82431号明細書に記載されているよ
うに、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目的
で、微細な凹凸が均質に形成されていてもよい。次に、下塗り層の表面に蛍光体層を形成する。
蛍光体層は、基本的には輝尽性蛍光体粒子を分散
状態で含有支持する結合剤からなる層である。輝尽性蛍光体は、先に述べたように放射線を照
射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍
光体であるが、実用的な画からは400〜850nｍの
波長範囲の励起光によつて300〜500nｍの波長範
囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが望まし
い。本発明の放射線像変換パネルに用いられる輝
尽性蛍光体の例としては、米国特許第3859527号明細書に記載されている
SrS：Ce、Sm、SrS：Eu、Sm、ThO₂：Er、お
よびLa₂O₂S：Eu、Sm、特開昭55−12142号公報に記載されている
ZnS：Cu、Pb、BaO・xAl₂O₃：Eu（ただし、0.8
≦ｘ≦10）、および、M〓Ｏ・xSiO₂：Ａ（ただし、
M〓はMg、Ca、Sr、Zn、Cd、またはBaであり、
ＡはCe、Tb、Eu、Tm、Pb、Tl、Bi、または
Mnであり、ｘは、0.5≦ｘ≦2.5である）、特開昭55−12143号公報に記載されている
（Ba_l-x-y、Mg_x、Ca_y）FX：aEu²⁺（ただし、Ｘは
ClおよびBrのうちの少なくとも一つであり、ｘ
およびｙは、０＜ｘ＋ｙ≦0.6、かつxy≠０であ
り、ａは、10^-6≦ａ≦５×10^-2である）、特開昭55−12144号公報に記載されている
LnOX：xA（ただし、LnはLa、Ｙ、Gd、および
Luのうちの少なくとも一つ、ＸはClおよびBrの
うちの少なくとも一つ、ＡはCeおよびTbのうち
の少なくも一つ、そして、ｘは、０＜ｘ＜0.1で
ある）、特開昭55−12145号公報に記載されている
（Ba_1-x、M²⁺ _x）FX：yA（ただし、M²⁺はMg、
Ca、Sr、Zn、およびCdのうちの少なくとも一
つ、ＸはCl、Br、およびＩのうちの少なくとも
一つ、ＡはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、
Nd、Yb、およびErのうちの少なくとも一つ、そ
してｘは、０≦ｘ≦0.6、ｙは、０≦ｙ≦0.2であ
る）、特開昭55−160078号公報に記載されているM〓
FX・xA：yLn［ただし、M〓はBa、Ca、Sr、
Mg、Zn、およびCdのうちの少なくとも一種、Ａ
はBeO、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnO、
Al₂O₃、Y₂O₃、La₂O₃、In₂O₃、SiO₂、TlO₂、
ZrO₂、GeO₂、SnO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、および
ThO₂のうち少なくとも一種、LnはEu、Tb、
Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Sm、
およびGdのうちの少なくとも一種、ＸはCl、
Br、およびＩのうちの少なくとも一種であり、
ｘおよびｙはそれぞれ５×10^-5≦ｘ≦0.5、およ
び０＜ｙ≦0.2である］の組成式で表わされる蛍
光体、特開昭56−116777号公報に記載されている
（Ba_1-x、M〓_x）F₂・aBaX₂：yEu、zA［ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Ｘは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種、Ａはジルコニウムおよ
びスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、
ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、
０≦ｘ≦１、10^-6≦ｙ≦２×10^-1、および０＜ｚ
≦10^-2である］の組成式で表わされる蛍光体、特開昭57−23673号公報に記載されている
（Ba_1-x、M〓_x）F₂・aBaX₂：yEu、zB［ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Ｘは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、お
よびｚそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦１、10^-6
≦ｙ≦２×10^-1、および０＜ｚ≦２×10^-1であ
る］の組成式で表わされる蛍光体、特開昭57−23675号公報に記載されている
（Ba_1-x、M〓_x）F₂・aBaX₂：yEu、zA［ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Ｘは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種、Ａは砒素および硅素の
うちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およ
びｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦１、10^-6
≦ｙ≦２×10^-1、および０＜ｚ≦５×10^-1であ
る］の組成式で表わされる蛍光体、本出願人による特願昭56−167498号明細書に記
載されているM〓OX：xCe［ただし、M〓はPr、
Nd、Pm、Sm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、
Yb、およびBiからなる群より選ばれる少なくと
も一種の三価金属であり、ＸはClおよびBrのう
ちのいずれか一方あるいはその両方であり、ｘは
０＜ｘ＜0.1である］の組成式で表わされる蛍光
体、本出願人による特願昭57−89875号明細書に記
載されているBa_1-x、M_x/2L_x/2FX：yEu²⁺［ただ
し、Ｍは、Li、Na、Ｋ、Rb、およびCsからなる
群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を
表わし；Ｌは、Sc、Ｙ、La、Ce、Pr、Nd、
Pm、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、
Lu、Al、Ga、In、およびTlからなる群より選ば
れる少なくとも一種の三価金属を表わし；Ｘは、
Cl、Br、およびＩからなる群より選ばれる少な
くとも一種のハロゲンを表わし；そして、ｘは
10^-2≦ｘ≦0.5、ｙは０＜ｙ≦01である］の組成
式で表わされる蛍光体、本出願人による特願昭57−137374号明細書に記
載されているBaFX・xA：yEu²⁺［ただし、Ｘは、
Cl、Br、およびＩからなる群より選ばれる少な
くとも一種のハロゲンであり；Ａは、テトラフル
オロホウ酸化合物の焼成物であり；そして、ｘは
10^-6≦ｘ≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1である］の組成
式で表わされる蛍光体、本出願人による特願昭57−158048号明細書に記
載されているBaFx・xA：yEu²⁺［ただし、Ｘは、
Cl、Br、およびＩからなる群より選ばれる少な
くとも一種のハロゲンであり；Ａは、ヘキサフル
オロケイ酸、ヘキサフルオロチタン酸およびヘキ
サフルオロジルコニウム酸の一価もしくは二価金
属の塩からなるヘキサフルオロ化合物群より選ば
れる少なくとも一種の化合物の焼成物であり；そ
して、ｘは10^-6≦ｘ≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1であ
る］の組成式で表わされる蛍光体、本出願人による特願昭57−166320号明細書に記
載されているBaFX・xNaX′：aEu²⁺［ただし、
ＸおよびX′は、それぞれCl、Br、およびＩのう
ちの少なくとも一種であり、ｘおよびａはそれぞ
れ０＜ｘ≦２、および０＜ａ≦0.2である］の組
成式で表をされる蛍光体、本出願人による特願昭57−166696号明細書に記
載されているM〓FX・xNaX′：yEu²⁺：zA［ただ
し、M〓は、Ba、Sr、およびCaからなる群より
選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であ
り；ＸおよびX′は、それぞれCl、Br、およびＩ
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンであり；Ａは、Ｖ、Cr、Mn、Fe、Co、およ
びNiより選ばれる少なくとも一種の遷移金属で
あり；そして、ｘは０＜ｘ≦２、ｙは０＜ｙ≦
0.2、およびｚは０＜ｚ≦10^-2である］の組成式
で表わされる蛍光体、本出願人による特願昭57−184455号明細書に記
載されているM〓FX・aM〓X′・bM′〓X″₂・cM〓
Ｘ₃・xA：yEu²⁺［ただし、M〓はBa、Sr、およ
びCaからなる群より選ばれる少なくとも一種の
アルカリ土類金属であり；M〓はLi、Na、Ｋ、
Rb、およびCsからなる群より選ばれる少なくと
も一種のアルカリ金属であり；M′〓はBeおよび
Mgからなる群より選ばれる少なくとも一種の二
価金属であり；M〓はAl、Ga、In、およびTlか
らなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属
であり；Ａは金属酸化物であり；ＸはCl、Br、
およびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種
のハロゲンであり；X′、X″、およびＸは、Ｆ、
Cl、Br、およびＩからなる群より選ばれる少な
くとも一種のハロゲンであり；そして、ａは０≦
ａ≦２、ｂは０≦ｂ≦10^-2、ｃは０≦ｃ≦10^-2、
かつａ＋ｂ＋ｃ≧10^-6であり；ｘは０＜ｘ≦0.5、
ｙは０＜ｙ≦0.2である］の組成式で表わされる
蛍光体、などを挙げることができる。ただし、本発明に用いられる輝尽性蛍光体は上
述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を照
射したのちに励起を照射した場合に、輝尽発光を
示す蛍光体であればいかなるものであつてもよ
い。また蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン
等の蛋白質、デキストラン等のポリサツカライ
ド、またはアラビアゴムのような天然高分子物
質；および、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビ
ニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩
化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリアル
キル（メタ）アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビ
ニルコポリマー、ポリウレタン、セルロースアセ
テートブチレート、ポリビニルアルコール、線状
ポリエステルなどような合成高分子物質などによ
り代表される結合剤を挙げることができる。この
ような結合剤のなかで特に好ましいものは、ニト
ロセルロース、線状ポリエステル、ポリアルキル
（メタ）アクリレート、ニトロセルロースと線状
ポリエステルの混合物、およびニトロセルロース
とポリアルキル（メタ）アクリレートとの混合物
である。なお、蛍光体層を構成する結合剤は架橋
剤によつて架橋されたものであつてもよい。蛍光体層は、たとえば、次のような方法により
支持体上に形成することができる。まず上記の輝尽性蛍光体と結合剤とを適当な溶
剤に添加し、これを充分に混合して、結合剤溶液
中に蛍光体粒子が均一に分散した塗布液を調製す
る。塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノ
ールなどの低級アルコール；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化
水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アル
コールとのエステル；ジオキサン、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテルなどのエーテル；そして、そ
れらの混合物を挙げることができる。塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合
比は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍
光体の種類などによつて異なるが、一般には結合
剤と蛍光体との混合比は、１：１乃至１：100（重
量比）の範囲から選ばれ、好ましくは１：８乃至
１：50（重量比）の範囲から選ばれる。なお、塗布液には、該塗布液中における蛍光体
の分散性を向上させるための分散剤、また、形成
後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体との間の
結合力を向上させるための可塑剤などの種々の添
加剤が混合されていてもよい。そのような目的に
用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ステ
アリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤などを
挙げることができる。そして可塑剤の例として
は、燐酸トリフエニル、燐酸トリクレジル、燐酸
ジフエニルなどの燐酸エステル；フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エ
ステル；グリコール酸エチルフタリルエチル、グ
リコール酸ブチルフタリルブチルなどのグリコー
ル酸エステル；そして、トリエチレングリコール
とアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリ
コールとコハク酸とのポリエステルなどのポリエ
チレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエス
テルなどを挙げることできる。上記のようにして調製された蛍光体と結合剤と
を含有する塗布液を、次に下塗り層の表面に均一
に塗布することにより塗布液の塗膜を形成する。
この塗布操作は、通常の塗布手段、たとえば、ド
クターブレード、ロールコーター、ナイフコータ
ーなどを用いることにより行なうことができる。ついで、形成された塗膜を徐々に加熱すること
により乾燥して、下塗り層上への蛍光体層の形成
を完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射
線像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と
蛍光体との混合比などによつて異なるが、通常
は、20μｍ乃至１mmとする。ただし、この層厚は
50乃至500μｍとするのが好ましい。なお、蛍光体層を構成する結合剤が下塗り層に
含まれる架橋剤と反応するものである場合には、
蛍光体層形成時に蛍光体層と下塗り層との界面に
おいて結合剤と架橋剤の未反応基とが反応し、そ
れによつて下塗り層と蛍光体層との密着強度が向
上する。特に、蛍光体層を構成する結合剤が下塗
り層に含まれる架橋剤と反応するものであるのに
加えて、その結合剤が架橋剤を含んでおり、かつ
その架橋剤が下塗り層を構成する合成樹脂と反応
するものである場合には、下塗り層と蛍光体層と
の密着強度はより一層向上する。通常の放射線像変換パネルにおいては、支持体
（または下塗り層）に接する側とは反対側の蛍光
体層の表面に、蛍光体層を物理的および化学的に
保護するための透明なプラスチツクフイルムから
なる保護膜が設けられている。このような透明保
護膜は、本発明の放射線像変換パネルについても
設置することが好ましい。透明保護膜は、たとえば、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン、塩化ビニリデン、ポリ
アミドなどから別に形成した透明な薄膜を、蛍光
体層の表面に適当な接着剤を用いてラミネート処
理により接着する方法によつて形成することがで
きる。本発明においては、支持体と蛍光体層との
間に架橋剤の添加によつて硬膜化された下塗り層
が設けられているために、蛍光体層上にラミネー
ト処理により保護膜を形成しても保護膜表面にラ
ミジワが殆ど発生せず、またパネルのカールが生
じることもない。あるいは保護膜は、酢酸セルロース、ニトロセ
ルロースなどのセルロース誘導体；あるいはポリ
メチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ
酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー
などの合成高分子物質のような透明な高分子物質
を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層
の表面に塗布する方法によつても形成することが
できる。このようにして形成する透明保護膜の膜
厚は、約３乃至20μｍとするのが望ましい。なお、特開昭57−96300号公報に開示されてい
るように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目
的で、放射線像変換パネルの少なくとも一部が、
輝尽性蛍光体の励起波長領域における平均反応率
が該輝尽性蛍光体の輝尽発光波長領域における平
均反射率よりも小さくなるような着色剤によつて
着色されていてもよい。次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。なお、以下の各例で「部」は特に記載の
ない限り「重量部」を表わす。実施例１ポリアクリル樹脂（クリスコートＰ−1018GS、
大日本インキ化学(株)製）を脂肪族系イソシアネー
ト（架橋剤；スミジユールＮ、住友バイエルウレ
タン(株)製）とをメチルエチルケトンに添加して、
下塗り層形成用の塗布液を調整した。下塗り層用塗布液の組成ポリアクリル樹脂 100部脂肪族系イソシアネート３部メチルエチルケトン 1127部この塗布液を、ガラス板上に水平に置いたカー
ボン練り込みポリエチレンテレフタレートフイル
ム（支持体、厚み：250μｍ）の上にドクターブ
レードを用いて均一に塗布した。その塗布後、塗
膜が形成された支持体を乾燥器内に入れて塗膜の
乾燥を行ない、支持体上に層厚が約30μｍの下塗
り層を形成した。次に、輝尽性の二価のユーロピウム賦活弗化臭
化バリウム蛍光体（BaFBr：Eu²⁺）の粒子とニ
トロセルロースおよび上記ポリアクリル樹脂との
混合物にメチルエチルケトンを添加して蛍光体粒
子を分散状態で含有する分散液を調製した。さら
に、この分散液に上記の脂肪族系イソシアネー
ト、燐酸トリクレジル、そしてメチルエチルケト
ンを添加したのち、プロペラミキサーを用いて充
分に撹拌混合して、蛍光体粒子が均一に分散し結
合剤と蛍光体との混合比が１：25（重量比）かつ
粘度が25〜35PS（25℃）の蛍光体層形成用の塗布
液を調製した。蛍光体層用塗布液の組成 BaFBr：Eu²⁺蛍光体 500部ポリアクリル樹脂 16部ニトロセルロース 2.5部脂肪族系イシアネート 1.0部燐酸トリクレジル 0.5部メチルエチルケトン 95部次いで、下塗り層が形成された支持体の下塗り
層表面に、この塗布液をドクターブレードを用い
て均一に塗布した。そして塗布後に、塗膜が形成
された支持体を温度90℃、風速1.0ｍ／秒の状態
下で10分間加熱乾燥した。このようにして、支持
体上に層厚が約250μｍの蛍光体層を形成した。そして、この蛍光体層の上にポリエチレンテレ
フタレートの透明フイルム（厚み：12μｍ、ポリ
エステル系接着剤が付与されているもの）を接着
剤層側を下に向けて置いてラミネートすることに
より、透明保護膜を形成し、支持体、下塗り層、
蛍光体層および透明保護膜から構成された放射線
像変換パネルを製造した。比較例１実施例１において、下塗り層用塗布液に脂肪族
系イソシアネートを添加しないで、以下の組成と
すること以外は、実施例１の方法と同様な処理を
行なうことにより、支持体、下塗り層、蛍光体層
および透明保護膜から構成された放射線像変換パ
ネルを製造した。下塗り層用塗布液の組成ポリアクリル樹脂 100部メチルエチルケトン 1130部実施例１および比較例１において製造した各放
射線像変換パネルを、次に記載する蛍光体層の支
持体の対する密着強度試験およびクラツクの発生
度試験により評価した。 (1) 密着強度試験放射線像変換パネルを幅10mmに裁断した試験
片の蛍光体層と支持体（もしくは下塗り層が形
成された支持体）との境界面に切り込みを入れ
た。そして、このように調製した試験片の支持
体部分と、蛍光体層および保護膜部分とを引離
すように引張ることにより蛍光体層の支持体に
対する密着強度を測定した。測定はテンシロン
（東洋ボールドウイン社製のUTM−−20）
を用いて、引張り速度10mm／分にて両部分を互
いに直角方向に引張ること（90°剥離）により
行ない、蛍光体層が10mm剥離した時に働いてい
る力Ｆ（ｇ／cm）により密着強度を表示した。 (2) クラツクの発生度試験放射線像変換パネルを垂直に裁断して得られ
た蛍光体層の縦断面を目視により観察すること
により、クラツクの発生状態を測定し、その結
果をＡ〜Ｃの三段階で表示した。Ａは蛍光体層
中にクラツクが殆ど発生していない状態であ
り、Ｂはクラツクがやや発生している状態であ
り、Ｃはクラツクがかなり発生している状態で
あることを表わしている。各放射線像変換パネルについて得られた結果を
第１表に示す。

【表】第１表にまとめられた結果から、本発明に従う
放射線像変換パネル（実施例１）は、蛍光体層と
支持体との密着強度が優れており、かつ蛍光体層
におけるクラツク発生の抑制効果においても顕著
に優れていることが明らかである。一方、従来の
下塗り層を有する放射線像変換パネル（比較例
１）は、充分な密着強度を有するが、蛍光体層に
クラツクが相当発生していた。また、本発明に従う放射線像変換パネル（実施
例１）は、目測によりその保護膜表面にはラミジ
ワが殆ど発生していなく、またカールの発生も見
られない水平平面状のパネルであることが判明し
た。実施例２実施例１において、下塗り層用塗布液として、
ポリウレタン樹脂（クリスボンNT−150、大日
本インキ化学(株)製）と脂肪族系イソシアネート
（架橋剤；スミジユールＮ、住友バイエルウレタ
ン(株)製）とをメチルエチルケトンに添加して、以
下の組成としたものを用いること以外は、実施例
１の方法と同様な処理を行なうことにより、支持
体、下塗り層、蛍光体層および透明保護膜から構
成された放射線像変換パネルを製造した。下塗り層用塗布液の組成ポリウレタン樹脂 100部樹脂族系イソシアネート３部メチルエチルケトン 1150部比較例２実施例２において、下塗り層用塗布液に脂肪族
系イソシアネートを添加しないで、以下の組成と
すること以外は、実施例２の方法と同様な処理を
行なうことにより、支持体、下塗り層、蛍光体層
および透明保護膜から構成された放射線像変換パ
ネルを製造した。下塗り層用塗布液の組成ポリウレタン樹脂 100部メチルエチルケトン 1153部実施例２および比較例２において製造した各放
射線変換パネルを、前記の密着強度試験およびク
ラツクの発生度試験により評価した。得られた結
果を第２表に示す。

【表】第２表にまとめられた結果から、本発明に従う
放射線像変換パネル（実施例２）は、従来の下塗
り層を有する放射線像変換パネル（比較例２）と
比較して、蛍光体層と支持体との密着強度が優れ
ており、かつ蛍光体層におけるクラツク発生の抑
制効果においても顕著に優れていることが明らか
である。また、本発明に従う放射線像変換パネル（実施
例２）は、目測によりその保護膜表面にはラミジ
ワが殆ど発生していなく、またカールの発生も見
られない水平平面状のパネルであることが判明し
た。実施例３実施例１において、下塗り層用塗布液として、
ポリエステル樹脂（バイロン30P、東洋紡績(株)
製）とメチル化メラミン（架橋剤；スミマールＭ
−40S、住友化学工業(株)製）とをエチレンジクロ
ライドに添加して、以下の組成としたものを用い
ること以外は、実施例１の方法と同様な処理を行
なうことにより、支持体、下塗り層、蛍光体層お
よび透明保護膜から構成された放射線像変換パネ
ルを製造した。下塗り層用塗布液の組成ポリエステル樹脂 100部メチル化メラミン 25部エチレンジクロライド 1375部比較例３実施例３において、下塗り層用塗布液に脂肪族
系イソシアネートを添加しないで、以下の組成と
すること以外は、実施例３の方法と同様な処理を
行なうことにより、支持体、下塗り層、蛍光体層
および透明保護膜から構成された放射線像変換パ
ネルを製造した。下塗り層用塗布液の組成ポリエステル樹脂 100部エチレンジクロライド 1400部実施例３および比較例３において製造した各放
射線像変換パネルを、前記の密着強度試験および
クラツクの発生度試験により評価した。得られた
結果を第３表に示す。

【表】第３表にまとめられた結果から、本発明に従う
放射線像変換パネル（実施例３）は、従来の下塗
り層を有する放射線像変換パネル（比較例３）と
比較して、蛍光体層と支持体との密着強度が優れ
ていることが明らかである。また、クラツク発生
の抑制効果は、本発明に従う放射線像変換パネル
および従来の放射線像変換パネルともに優れてい
る。なお、従来の放射線像変換パネルにおいてク
ラツクの発生が抑制されるのは、下塗り層樹脂が
蛍光体層の溶剤に不溶であるため膨潤しないこと
によるものと推測される。さらに、本発明に従う放射線像変換パネル（実
施例３）は、目測によりその保護膜表面にはラミ
ジワが殆ど発生していなく、またカールの発生も
見られない水平平面状のパネルであることが判明
した。

Claims

【特許請求の範囲】１支持体、下塗り層および輝尽性蛍光体を分散
状態で含有支持する結合剤からなる蛍光体層がこ
の順序で積層されてなる放射線像変換パネルにお
いて、該下塗り層が架橋剤によつて架橋された合
成樹脂からなることを特徴とする放射線像変換パ
ネル。２上記蛍光体層の上に更にプラスチツクフイル
からなる保護膜が積層されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の放射線像変換パネ
ル。３上記架橋剤が、水酸基に対して反応性を有す
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
放射線像変換パネル。４上記架橋剤が、イソシアネートおよびその誘
導体、メラミンおよびその誘導体、そしてアミノ
樹脂およびその誘導体からなる群から選ばれたも
のであることを特徴とする特許請求の範囲第３項
記載の放射線像変換パネル。５上記合成樹脂が、ポリアクリル系樹脂、ポリ
エステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリ酢酸
ビニル系樹脂、およびエチレン−酢酸ビニル系共
重合体からなる群より選ばれたものであることを
特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第４項のい
ずれかの項記載の放射線像変換パネル。６上記の架橋された合成樹脂が、合成樹脂に対
して20重量％以下の割合で添加された架橋剤によ
り架橋された合成樹脂であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の放射線像変換パネル。７上記下塗り層が、脂肪族系イソシアネートに
よつて架橋されたポリアクリル樹脂からなること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の放射線
像変換パネル。８上記下塗り層が、脂肪族系イソシアネートに
よつて架橋されたポリウレタン樹脂からなること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の放射線
像変換パネル。９上記下塗り層が、メチル化メラミンによつて
架橋されたポリエステル樹脂からなることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の放射線像変換
パネル。１０上記蛍光体層の結合剤が、脂肪族系イソシ
アネートによつて架橋されたポリアクリル樹脂を
含むものであることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の放射線像変換パネル。