JPS5888699A - 放射線像変換パネル - Google Patents
放射線像変換パネルInfo
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/16—X-ray, infrared, or ultraviolet ray processes
- G03C5/17—X-ray, infrared, or ultraviolet ray processes using screens to intensify X-ray images
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/02—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K4/00—Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
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- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は獅尽性螢光体を用いた放射森像変換バ不ルに関
する。さらに詳しくは本発明は線状ポリエステル樹脂あ
るいは架橋剤によって架橋されたf−n 状ポリエステ
ル樹脂からなる結合剤中に輝尽性螢光体を分散してなる
螢光体層を有する物理的性質の優れ根放射線像変換パネ
ルに関する。
する。さらに詳しくは本発明は線状ポリエステル樹脂あ
るいは架橋剤によって架橋されたf−n 状ポリエステ
ル樹脂からなる結合剤中に輝尽性螢光体を分散してなる
螢光体層を有する物理的性質の優れ根放射線像変換パネ
ルに関する。
最近新だな放射線像変換方法として、米国特許第3.1
タブ,!27号、同第弘,コ37, , 07κ号、同
第≠,コjr,26グ号各明細−l&f等に記載されて
いる方法が注目されている。この放射線像変換方法は#
尽性螢光体(放射線を照射した後自」視光線および赤外
線から選ばれる電磁波で励起すると発光を示す螢光体。
タブ,!27号、同第弘,コ37, , 07κ号、同
第≠,コjr,26グ号各明細−l&f等に記載されて
いる方法が注目されている。この放射線像変換方法は#
尽性螢光体(放射線を照射した後自」視光線および赤外
線から選ばれる電磁波で励起すると発光を示す螢光体。
ここで放射一とはX#α線、β線、r麿、尚エネルギー
中性子線、電子線、真空紫外線、紫外線等の准磁波ある
いは粒子線をいう。)からなる放射線像変俟lイネルを
利用するもので、被写体ケ透過した放射巌を該パネルの
輝尽性螢光体に吸収せしめ、しかる後該パネルを可視光
線および赤外線から選ばれる電磁波(以下「励起光」と
称する)で走査し、輝尽性螢光体中に蓄積された放射線
像を輝尽発光として時系列化して取り出し、これを電気
的に処理して画像化するものである。
中性子線、電子線、真空紫外線、紫外線等の准磁波ある
いは粒子線をいう。)からなる放射線像変俟lイネルを
利用するもので、被写体ケ透過した放射巌を該パネルの
輝尽性螢光体に吸収せしめ、しかる後該パネルを可視光
線および赤外線から選ばれる電磁波(以下「励起光」と
称する)で走査し、輝尽性螢光体中に蓄積された放射線
像を輝尽発光として時系列化して取り出し、これを電気
的に処理して画像化するものである。
上述の放射解像変換方法に用いられる放射線像変換パネ
ルは基本的には支持体と、この支持体の片面上に設けら
れた螢光体層とからなるものである。螢光体層は輝尽性
螢光体を結合剤中に分散したもので、一般にこの螢光体
層の表面(支持体側とは反対の而)には螢光体層を物理
的にあるいは化学的に保謹するだめの保謹膜が設けられ
ている。
ルは基本的には支持体と、この支持体の片面上に設けら
れた螢光体層とからなるものである。螢光体層は輝尽性
螢光体を結合剤中に分散したもので、一般にこの螢光体
層の表面(支持体側とは反対の而)には螢光体層を物理
的にあるいは化学的に保謹するだめの保謹膜が設けられ
ている。
また螢光体層と支持体とを密接に接着させる目的で螢光
体層と支持体との間に下塗り層が設けられる場合もめる
。
体層と支持体との間に下塗り層が設けられる場合もめる
。
上述のような構造を有する放射線像変換パネルは一般に
以下に述べるような製造方法によって製造される。1ず
結合剤と輝尽性螢光体とを適当な溶剤を用いて適当量混
合し、結合剤溶液中に輝尽性螢光体が分散した塗布液を
調製する。次に得られた塗布液全ドクターブレード、ロ
ールコータ−、ナイフコーター等によって支持体−」二
に塗布し、乾燥して螢光体層を形成する。なお支持体と
螢光体層との間に下塗り層を有する構造のパネルの場合
には、あらかじめ支持体上に下塗り層を設け、その上に
塗布液を塗布し乾燥して螢光体層を形成する。螢光体層
形成後一般に螢光体層上に螢光体層を保護するだめの保
睡膜が設けられる。なお、本明細曹において「支持体」
と言う場合には、特に断りがない限り、上記下塗り層や
後に説明する光伐射層等のパネルにおいて支持体と螢光
体層との中間に位置する層(中間層)があらかじめ支持
体上に設けられたものも含めて意味するものとする。
以下に述べるような製造方法によって製造される。1ず
結合剤と輝尽性螢光体とを適当な溶剤を用いて適当量混
合し、結合剤溶液中に輝尽性螢光体が分散した塗布液を
調製する。次に得られた塗布液全ドクターブレード、ロ
ールコータ−、ナイフコーター等によって支持体−」二
に塗布し、乾燥して螢光体層を形成する。なお支持体と
螢光体層との間に下塗り層を有する構造のパネルの場合
には、あらかじめ支持体上に下塗り層を設け、その上に
塗布液を塗布し乾燥して螢光体層を形成する。螢光体層
形成後一般に螢光体層上に螢光体層を保護するだめの保
睡膜が設けられる。なお、本明細曹において「支持体」
と言う場合には、特に断りがない限り、上記下塗り層や
後に説明する光伐射層等のパネルにおいて支持体と螢光
体層との中間に位置する層(中間層)があらかじめ支持
体上に設けられたものも含めて意味するものとする。
放射l+ldI1像変換パネルは放射線像記録過程にお
いて撮影装置に組込まれて使用され、また放射軸像再生
過程において読取装置に組込まれて使用さnる。このた
めに実川上放射線像変換パネルには耐屈曲性が高いこと
が要求され、また螢光体層の支持体に対する接着力が高
いことが要求される。すなわち、放射線像変換パネルは
曲げによって螢光体層に亀裂が生じないものであること
が必要であり、まだ螢光体層が支持体から剥離しないも
のであることが必要である。
いて撮影装置に組込まれて使用され、また放射軸像再生
過程において読取装置に組込まれて使用さnる。このた
めに実川上放射線像変換パネルには耐屈曲性が高いこと
が要求され、また螢光体層の支持体に対する接着力が高
いことが要求される。すなわち、放射線像変換パネルは
曲げによって螢光体層に亀裂が生じないものであること
が必要であり、まだ螢光体層が支持体から剥離しないも
のであることが必要である。
また、放射線像変換パネルは放射線像再生過程において
励起光の照射を受ける。更にその後残存蓄積エネルギー
を除去するために光(消去光)を照射されることがある
(特開昭J’A−//3タλ号参照)。放射線像変換パ
ネルは繰返し使用されるので、該パネルは長期間に亘っ
て励起光又は消去光の照射を繰返し受けることになる。
励起光の照射を受ける。更にその後残存蓄積エネルギー
を除去するために光(消去光)を照射されることがある
(特開昭J’A−//3タλ号参照)。放射線像変換パ
ネルは繰返し使用されるので、該パネルは長期間に亘っ
て励起光又は消去光の照射を繰返し受けることになる。
このために央用上放射線像変換パネルには励起光又は消
去光に対する耐光性が高いことが要求される。すなわち
、放射線像変換パネルは励起光又は消去光の照射を長時
間受けた場合に感度が低下したり、あるいは耐屈曲性が
低下したりしないものであることが必要である。このよ
うな点から、放射線像変換パネルの螢光体層に用いられ
る結合剤は励起光又は消去光の照射によって黄ばみを生
じ、これによって励起光あるいは輝尽螢光体の発光ある
いはその両方を吸収してパネルの感度を低下させたり、
あるいは励起光又は消去光によってさらに硬化してパネ
ルの耐屈曲性を低ドさせたりしないものであることが必
要である。
去光に対する耐光性が高いことが要求される。すなわち
、放射線像変換パネルは励起光又は消去光の照射を長時
間受けた場合に感度が低下したり、あるいは耐屈曲性が
低下したりしないものであることが必要である。このよ
うな点から、放射線像変換パネルの螢光体層に用いられ
る結合剤は励起光又は消去光の照射によって黄ばみを生
じ、これによって励起光あるいは輝尽螢光体の発光ある
いはその両方を吸収してパネルの感度を低下させたり、
あるいは励起光又は消去光によってさらに硬化してパネ
ルの耐屈曲性を低ドさせたりしないものであることが必
要である。
先rtc説明した放射線像変換パネルの構造は、放射線
用螢光体の代わりに輝尽性螢光体が用いられることを除
いては放射線増感紙の構造とほぼ同じである。従来放射
巌増感紙においては螢光体層の結合剤としてニトロセル
ロース、酢酸セルロース等のセルロース誘纏体が広ぐ実
用されているが、放射Ivjl像変換パネルにおいても
これらセルロース誘導体を螢光体層の結合剤として使用
することが考えられている。
用螢光体の代わりに輝尽性螢光体が用いられることを除
いては放射線増感紙の構造とほぼ同じである。従来放射
巌増感紙においては螢光体層の結合剤としてニトロセル
ロース、酢酸セルロース等のセルロース誘纏体が広ぐ実
用されているが、放射Ivjl像変換パネルにおいても
これらセルロース誘導体を螢光体層の結合剤として使用
することが考えられている。
セルロース誘導体を用いて調製した螢光体層形成用塗布
液は輝尽性螢光体の分散性が良い。しかしながら、その
塗布gを用いて製造したセルロース誘導体を螢光体層の
結合剤とする放射線像変換パネルは耐屈曲性および螢光
体層の支持体に対する接着力が低く、従ってパ不ルは曲
げによって螢光体層に亀裂が生じ易く、また螢光1本層
が支持体から剥離し易い。またセルロース誘導体を螢光
体層の結合剤とする放射線像変換・〈ネルは励起光又は
消去光に対する耐光性が低い。すなわち、セルロース誘
導体は励起光又は消去光によって黄ばみを生じ易く、こ
のためにパネルは励起光又は消去光の照射を長時間受け
た場合に感度の低下が著しい。またセルロース訪導体は
励起光又は消去光によってさらに硬化し、このためにパ
ネルは励起光又は消去光の照射によって耐屈曲性が低下
する。
液は輝尽性螢光体の分散性が良い。しかしながら、その
塗布gを用いて製造したセルロース誘導体を螢光体層の
結合剤とする放射線像変換パネルは耐屈曲性および螢光
体層の支持体に対する接着力が低く、従ってパ不ルは曲
げによって螢光体層に亀裂が生じ易く、また螢光1本層
が支持体から剥離し易い。またセルロース誘導体を螢光
体層の結合剤とする放射線像変換・〈ネルは励起光又は
消去光に対する耐光性が低い。すなわち、セルロース誘
導体は励起光又は消去光によって黄ばみを生じ易く、こ
のためにパネルは励起光又は消去光の照射を長時間受け
た場合に感度の低下が著しい。またセルロース訪導体は
励起光又は消去光によってさらに硬化し、このためにパ
ネルは励起光又は消去光の照射によって耐屈曲性が低下
する。
上述のようにセルロース誘導体を螢光体層の結合剤とす
る放射線像変換パネルは耐屈曲性、螢光体層の支持体に
対する接着力および励起光又は消去光に対する劇光性が
低いものである。従って、このセルロース誘導体を螢光
体層の結合剤とする放射線像変換パネルよりも耐屈曲性
、螢光体層の支持体に対する接着力および励起光又は消
去光に対する耐光性の商い放射線像変換パネルが望1れ
ている。
る放射線像変換パネルは耐屈曲性、螢光体層の支持体に
対する接着力および励起光又は消去光に対する劇光性が
低いものである。従って、このセルロース誘導体を螢光
体層の結合剤とする放射線像変換パネルよりも耐屈曲性
、螢光体層の支持体に対する接着力および励起光又は消
去光に対する耐光性の商い放射線像変換パネルが望1れ
ている。
本発明は上述のように状況の下でなされたものであり、
上記セルロース誘導体を螢光体層の結合剤とする放射紛
像変換パ不ルよりも耐屈曲性、螢光体層の支持体に対す
る接着力並びに励起光及び消去光に対する耐光性の筒い
放射線像変候バネルを提供することを目的とするもので
ある。
上記セルロース誘導体を螢光体層の結合剤とする放射紛
像変換パ不ルよりも耐屈曲性、螢光体層の支持体に対す
る接着力並びに励起光及び消去光に対する耐光性の筒い
放射線像変候バネルを提供することを目的とするもので
ある。
本発明者等は上記目的を達成するために放射線像変侠バ
ネルの螢光体ノーに使用する結合卸jの探累研梵を行な
ってきた,その結果、紡状ポリエステル樹脂を螢光体層
の結合痢として使用した場合には、セルロース誘轡体を
螢光体層の結合剤とする放射綴像変侠バネルよりもより
尚い酬屈曲性、螢光体I一の支持体に対する接着力並び
リこ励起元及び消去尤に対する耐光性奮廟する放射劇像
変換パネルが得らlしることが見出された。また架橋剤
によって架橋された瞼状ポリエステル樹脂を螢光体I―
の結合剤として使用した場合には、一般に上記線状ポリ
エステル+A脂を螢光体層の結合剤とする放射線像変換
・〈ネルよりも上記各物理的性負がより一層向上した放
射線像変換/<ネルが得られることが見出された。さら
に線状ポリエステル樹脂あるいは架橋剤によって架倫さ
れた線状ポリエステノレ樹脂とニトロセルロースとの混
合物を螢光体層の結合剤として使用した場合には、放射
線像変換パネル製造過程において輝尽性螢光体の分散性
の良い螢光体層形成用塗布液が得られ、またかかる結合
剤を用いた放射線像変換パネルは耐屈曲性、螢光体層の
支持体に対する接着力並びに励起光及び消去光に対する
耐光性が高いのVC加えて螢光体層側面の機械的強度も
高いことが見出された。
ネルの螢光体ノーに使用する結合卸jの探累研梵を行な
ってきた,その結果、紡状ポリエステル樹脂を螢光体層
の結合痢として使用した場合には、セルロース誘轡体を
螢光体層の結合剤とする放射綴像変侠バネルよりもより
尚い酬屈曲性、螢光体I一の支持体に対する接着力並び
リこ励起元及び消去尤に対する耐光性奮廟する放射劇像
変換パネルが得らlしることが見出された。また架橋剤
によって架橋された瞼状ポリエステル樹脂を螢光体I―
の結合剤として使用した場合には、一般に上記線状ポリ
エステル+A脂を螢光体層の結合剤とする放射線像変換
・〈ネルよりも上記各物理的性負がより一層向上した放
射線像変換/<ネルが得られることが見出された。さら
に線状ポリエステル樹脂あるいは架橋剤によって架倫さ
れた線状ポリエステノレ樹脂とニトロセルロースとの混
合物を螢光体層の結合剤として使用した場合には、放射
線像変換パネル製造過程において輝尽性螢光体の分散性
の良い螢光体層形成用塗布液が得られ、またかかる結合
剤を用いた放射線像変換パネルは耐屈曲性、螢光体層の
支持体に対する接着力並びに励起光及び消去光に対する
耐光性が高いのVC加えて螢光体層側面の機械的強度も
高いことが見出された。
本発明の第/の放射線像変換パネルは支持体と、この支
持体上に設けられた輝尽性螢光体を結合剤中に分散して
なる螢光体l―とからなる放射線像変換パネルにおいて
、上記結合剤が線状ポリエステル樹脂からなることを特
徴とする。
持体上に設けられた輝尽性螢光体を結合剤中に分散して
なる螢光体l―とからなる放射線像変換パネルにおいて
、上記結合剤が線状ポリエステル樹脂からなることを特
徴とする。
本発明の第2の放射線像変換パネルは支持体と、この支
持体上に設けられた輝尽性螢光体を結合剤中に分散して
なる螢光体層とからなる放射線像変換パネルにおいて、
上記結合剤が架橋剤によって架橋された緋状ポリエステ
ル樹脂からなることを特徴とする。
持体上に設けられた輝尽性螢光体を結合剤中に分散して
なる螢光体層とからなる放射線像変換パネルにおいて、
上記結合剤が架橋剤によって架橋された緋状ポリエステ
ル樹脂からなることを特徴とする。
本発明の放射線像変換パネルの螢光体層を構成する結合
剤のうちで特に好1しいものは、線状ポリエステル樹脂
あるいは架橋剤によって架橋きれた線状ポリエステル樹
脂と共にニトロセルロースを言有する結合剤である。上
述のようにこの結合剤は放射線像変撲パネル製造過程に
おいて#八性螢光体の分散性の良い螢光体層形成用塗布
准を与え、またこの結合剤が用いられた放射線像変換パ
ネルは耐屈曲性、螢光体層の支持体に対する接着力並び
に励起光および消去光に対する耐光性が高いのに加えて
螢光体層側而の機械的強駿も高い。
剤のうちで特に好1しいものは、線状ポリエステル樹脂
あるいは架橋剤によって架橋きれた線状ポリエステル樹
脂と共にニトロセルロースを言有する結合剤である。上
述のようにこの結合剤は放射線像変撲パネル製造過程に
おいて#八性螢光体の分散性の良い螢光体層形成用塗布
准を与え、またこの結合剤が用いられた放射線像変換パ
ネルは耐屈曲性、螢光体層の支持体に対する接着力並び
に励起光および消去光に対する耐光性が高いのに加えて
螢光体層側而の機械的強駿も高い。
以下本発明を詳細に説明する。
本発明の放射線像変換パネルにおいて螢光体層の結合剤
として用いられる線状ポリエステル樹脂tよ、ジオキシ
化合物と二堪基酸との重縮合反応あるいはオキシ酸の直
縮合反応にエリイ4られる樹脂として周知の樹脂である
。上記ジオキ/化合物の具体例としてエチレングリコー
ル、/,3−プロパンジオール、/.グーブタンジオー
ル、/,II−7クロヘキサンジメタノール等が皐げら
れ、上記二塩基酸の具体例としてコハク酸、グルタル酸
、アジビン酸、テレフタル酸、イソフタル酸等が挙げら
れる。また上記オキシ酸の具体例としてグリコール師、
乳酸、リンゴ酸、論石酸、クエン酸、サリチル酸、安息
香酸、没食子酸、マンデル酸、トロバ酸等が挙げられる
。線状ポリエステル樹脂は種々のものが市販されている
が、本発明においてはそれら市販品を使用するのが便利
である。市販の線状ポリエステル樹脂の具体例としてバ
イロン300,バイロンsoo,バイロン30p,バイ
ロンλjO1バイロンタ0、バイロン.20θ、バイロ
ンlθ3(以上いずれも東洋紡栖製)等が挙げら扛る。
として用いられる線状ポリエステル樹脂tよ、ジオキシ
化合物と二堪基酸との重縮合反応あるいはオキシ酸の直
縮合反応にエリイ4られる樹脂として周知の樹脂である
。上記ジオキ/化合物の具体例としてエチレングリコー
ル、/,3−プロパンジオール、/.グーブタンジオー
ル、/,II−7クロヘキサンジメタノール等が皐げら
れ、上記二塩基酸の具体例としてコハク酸、グルタル酸
、アジビン酸、テレフタル酸、イソフタル酸等が挙げら
れる。また上記オキシ酸の具体例としてグリコール師、
乳酸、リンゴ酸、論石酸、クエン酸、サリチル酸、安息
香酸、没食子酸、マンデル酸、トロバ酸等が挙げられる
。線状ポリエステル樹脂は種々のものが市販されている
が、本発明においてはそれら市販品を使用するのが便利
である。市販の線状ポリエステル樹脂の具体例としてバ
イロン300,バイロンsoo,バイロン30p,バイ
ロンλjO1バイロンタ0、バイロン.20θ、バイロ
ンlθ3(以上いずれも東洋紡栖製)等が挙げら扛る。
本発明の放射線状変換バ不ルに用いられる結合剤は架橋
剤によって架檎された上記庫状ポリエステル樹脂からな
るものであってもよい。一般に架欄創によって架槁され
た線状ポリエステル樹脂會結合沖」として用いた放射線
像変換パイ・ルは線状ポリエステル樹脂k結合剤として
用いた放射i¥lI8t像変侯パネルよりも耐屈曲性、
螢光体層の支持体に対する接有力並びに励起元および消
去光に対する剛光性が高い。
剤によって架檎された上記庫状ポリエステル樹脂からな
るものであってもよい。一般に架欄創によって架槁され
た線状ポリエステル樹脂會結合沖」として用いた放射線
像変換パイ・ルは線状ポリエステル樹脂k結合剤として
用いた放射i¥lI8t像変侯パネルよりも耐屈曲性、
螢光体層の支持体に対する接有力並びに励起元および消
去光に対する剛光性が高い。
線状ポリエステル樹脂の架橋剤はジイソシアネート、ア
ジリジン化合物等線状ポリエステル樹脂の末端水酸基を
架橋しうる化合物であればいかなるものであってもよい
が、特にジイソシアネートを架橋剤として使用するのが
好1しい。線状ポリエステル樹脂の架橋剤として使用さ
れるジイソシアネートの具体例としてエチレンジイソシ
アネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジインシアネー
ト等のポリメチレンジイソシアネート、p−フエニレン
ジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、p.p
′−ジフエニルメタンジイソシアネート、/.j−ナフ
チレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、
m−キシリレンジイソシアネート等が槙げられる。架a
剤の1史用星には特別な限定はないが、一般に紛状ポリ
エステル樹脂ioθ重甘部に対してt,/−/0車輪部
、好ましくはl−μ重量部の範囲である。
ジリジン化合物等線状ポリエステル樹脂の末端水酸基を
架橋しうる化合物であればいかなるものであってもよい
が、特にジイソシアネートを架橋剤として使用するのが
好1しい。線状ポリエステル樹脂の架橋剤として使用さ
れるジイソシアネートの具体例としてエチレンジイソシ
アネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジインシアネー
ト等のポリメチレンジイソシアネート、p−フエニレン
ジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、p.p
′−ジフエニルメタンジイソシアネート、/.j−ナフ
チレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、
m−キシリレンジイソシアネート等が槙げられる。架a
剤の1史用星には特別な限定はないが、一般に紛状ポリ
エステル樹脂ioθ重甘部に対してt,/−/0車輪部
、好ましくはl−μ重量部の範囲である。
上記MIJ状ポリエステル樹脂あるいは上記架橋剤によ
って架橋された線状ポリエステル樹脂を結合剤として用
いた放射線像変換パネルは、セルロース誘導体を結合剤
として用いた放射線像変換パネルよりも耐屈曲性、螢光
体層の支持体に対する接着力並びに励起光および消去光
に対する酎光性が高いものである。しかしながら、線状
ポリエステル樹脂あるいは架橋剤によって架橋された線
状ポリエステル樹脂を結合剤として用いた放射線像変換
/〈ネルは、セルロース誘導体を結合剤として用いた放
射線像変換パネルよりも螢光体層側面の機械的強度が低
く、従ってパネル使用時にパネル側面に加えられる機械
的衝撃によって螢光体層側面が破損し易い。これはセル
ロース誘導体に比較して線状ポリエステル樹脂あるいは
架橋剤によって架橋された線状ポリエステル樹脂がより
軟質であるためである。また線状ポリエステル樹脂を用
いて、あるいは縁状ポリエステル樹脂と架橋剤とを用い
て調製した螢光体層形成用塗布液は輝尽性螢光体の分散
性が比較的低く、その分散性はセルロース誘導体を用い
て調製した塗布液よりも低い。
って架橋された線状ポリエステル樹脂を結合剤として用
いた放射線像変換パネルは、セルロース誘導体を結合剤
として用いた放射線像変換パネルよりも耐屈曲性、螢光
体層の支持体に対する接着力並びに励起光および消去光
に対する酎光性が高いものである。しかしながら、線状
ポリエステル樹脂あるいは架橋剤によって架橋された線
状ポリエステル樹脂を結合剤として用いた放射線像変換
/〈ネルは、セルロース誘導体を結合剤として用いた放
射線像変換パネルよりも螢光体層側面の機械的強度が低
く、従ってパネル使用時にパネル側面に加えられる機械
的衝撃によって螢光体層側面が破損し易い。これはセル
ロース誘導体に比較して線状ポリエステル樹脂あるいは
架橋剤によって架橋された線状ポリエステル樹脂がより
軟質であるためである。また線状ポリエステル樹脂を用
いて、あるいは縁状ポリエステル樹脂と架橋剤とを用い
て調製した螢光体層形成用塗布液は輝尽性螢光体の分散
性が比較的低く、その分散性はセルロース誘導体を用い
て調製した塗布液よりも低い。
線状ポリエステル樹脂あるいけ架橋剤によって架橋され
た線状ポリエステル樹脂を結合剤として用いることによ
ってもたらされる上自己のような好ましくない物理的性
質は、線状ポリエステル樹脂あるいは架橋剤によって架
橋された線状ポリエステル樹脂と共にニトロセルロース
結合剤として使用することによって改良することができ
る。すなわチ、線状ポリエステル樹脂あるいは架橋剤に
よって架橋された線状ポリエステル樹脂とニトロセルロ
ースとの混合物を結合剤として使用することによって、
耐屈曲性、螢光体層の支持体に対する接着力並びに励起
光および消去光に対する耐光性が高いのに加えて螢光体
層側面の機械的強度も高い放射線像変換パネルを得るこ
とができ、また螢光体層形成用塗布液における輝尽性螢
光体の分散性を高めることができる。
た線状ポリエステル樹脂を結合剤として用いることによ
ってもたらされる上自己のような好ましくない物理的性
質は、線状ポリエステル樹脂あるいは架橋剤によって架
橋された線状ポリエステル樹脂と共にニトロセルロース
結合剤として使用することによって改良することができ
る。すなわチ、線状ポリエステル樹脂あるいは架橋剤に
よって架橋された線状ポリエステル樹脂とニトロセルロ
ースとの混合物を結合剤として使用することによって、
耐屈曲性、螢光体層の支持体に対する接着力並びに励起
光および消去光に対する耐光性が高いのに加えて螢光体
層側面の機械的強度も高い放射線像変換パネルを得るこ
とができ、また螢光体層形成用塗布液における輝尽性螢
光体の分散性を高めることができる。
ニトロセルロースが線状ポリエステル樹脂あるいは架橋
剤によって架橋された線状ポリエステル樹脂と併用され
る場合、そのニトロセルロースは硝化度が/0,7〜/
λ..2%のものが好ましく、より好ましくは//,j
−1.2.2%のものである。捷た緋状ポリエステル樹
脂あるいは架橋剤によって架檎された線状ポリエステル
樹脂とニトロセルロースとの混合比は一般yc−6o’
,ao乃至タj:jの重量比範囲から選ばれ、好ましく
はgo=.20乃至タj;jの重幇比範囲から選ばれる
。
剤によって架橋された線状ポリエステル樹脂と併用され
る場合、そのニトロセルロースは硝化度が/0,7〜/
λ..2%のものが好ましく、より好ましくは//,j
−1.2.2%のものである。捷た緋状ポリエステル樹
脂あるいは架橋剤によって架檎された線状ポリエステル
樹脂とニトロセルロースとの混合比は一般yc−6o’
,ao乃至タj:jの重量比範囲から選ばれ、好ましく
はgo=.20乃至タj;jの重幇比範囲から選ばれる
。
本発明の放射線像変換パネルは以下のようにして製造さ
れる、まず結合剤と輝尽性螢光体とを適当な溶剤を用い
て混合し、結合剤溶液中に輝尽性螢光体が分散した塗布
液をiAll!!する。ここで結合剤と1〜で架橋剤で
架橋された巌状ポリエステル樹脂が用いられる場合には
、勝状ポリエステル樹脂および架橋剤と輝尽性螢光体と
が(昆合される。勿論ニトロセルロースが併用される場
合には、腺秋ポリエステル樹脂およびニトロセルロース
と輝尽性螢元体、あるいは線状ポリエスデル樹脂、架橋
剤およびニトロセルロースと輝尽性螢光体とが混合され
る。
れる、まず結合剤と輝尽性螢光体とを適当な溶剤を用い
て混合し、結合剤溶液中に輝尽性螢光体が分散した塗布
液をiAll!!する。ここで結合剤と1〜で架橋剤で
架橋された巌状ポリエステル樹脂が用いられる場合には
、勝状ポリエステル樹脂および架橋剤と輝尽性螢光体と
が(昆合される。勿論ニトロセルロースが併用される場
合には、腺秋ポリエステル樹脂およびニトロセルロース
と輝尽性螢元体、あるいは線状ポリエスデル樹脂、架橋
剤およびニトロセルロースと輝尽性螢光体とが混合され
る。
溶剤としては例えはメタノール、エタノール、n−フロ
パノール、n−ブタノール等のアルコ−?、メチレンク
ロライド、エチレンクロライド等の塩素糸炭化水素、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
等のケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の
エステル、ジオギサンおよびエチレングリコールのモノ
エチルエーテルおよびモノメチルエーテル等のエーテル
およびそれらの混合物が用いられる。捷た輝尽性螢光体
としては、レ1」えば上d己米l:i!l特許第3.1
!タ,527号に記載され−(イるSrS:Ce,81
1]、SrS:Eu ,Sm,La202S:Eu,S
ITI オよび(Zn,Cd)S:Mn,X(但しX
F.1−ハロゲンである)、米国特dト第≠,λ3t,
07lr号明卸14j7c:載されているZnSHCu
,Pb1BaO−XAl203・Eu(但しXはO.ざ
≦X≦/θである)およびMIIO・xSiQ■:A(
但しIXAI[はM g % C a −, b r
, Z n、Cd捷たぱJ−3 aであり、AはCeX
Tb1 Eu1Tm11)b,Td、B i−rたはM
nf.6!Q、xl1−,f,0.jpx5.z,jf
6る)、LnOX: XA (阻しLnぱLa,Y,G
dおよひL uのうちの少なくとも1つ、Xはαおよび
f3rのうちの少なくとも/つ、Xは0 ( x≦O.
lである)、米国特許第l,λ3タ,タtr号明細書に
記載されている(Baエー、,M“x)FX:yA(但
しMllはM−jL CaX Sr,7,nおよU C
d t7D ’5 チノ少fxくとも/つ、Xはcl
XBrおよび■のうちの少なくとも1つ、AはEu,’
I’bXCe,TITIX.Dy,Pr1Ho1 Nd
,YbおよびErのうちの少なくとも1つ、XはO≦X
≦θ,J,yはo<y≦0.7である)、特開昭63−
/2/μ3号公報に記載されている’ Ba1 − X
− Y , M gX ,2 + C a y ) J!” X : a E u (
但しXはα、Brおよび■のうちの少なくとも7つ、X
およびyはO<x+ypO.xかツx y 笑θであり
、aはIO ≦a≦s×io である)、米国特
許第グ,.2g/,J’..t4’号明細省に記載され
ているBaB”X: xCe ,yA (但しXはα、
Brおよび■のうらり少なくとも7つ、AはIn%T”
%Qd,Srnお工びZrのうちの少なくとも7つ、X
は0<XS.2X/0 、Yは0<y≦j×lO−
2である)、特開昭J−A−.23ざt号公報に記載さ
れたBaF2・aBaX2・bMe F・c M e
TIF − d Me ” F 3: e l, n
(但しXは2 α、13rおよび■のうちの少なくとも1つ、Me1は
L1およびNaのうちの少なくとも7つ、八4eIIi
r;tBe,CaおよびS r tyvうちの少なくと
も1つ、MemはA7,Ga,YおよびLaのうちの少
々くとも7つ、L nはEu, CeおよびTbのうち
の少なくとも7つ、aはo,7θ≦a≦i,or,bは
O≦b≦0.9、Cは0≦C</,.2、dは0≦d≦
0.03、eは/θ ≦e≦O.θ3であり、かつb
,c,dぱ同時に0ではない)、特開昭オA−.2Jざ
号公報に記載されている特開0(4 3 1 − 2
3 1 ’号公報Q螢光体H<MgF2を添加した螢光
体、特開昭jA−7グー73号公報に記載されテイるB
aFX−aLIX/・bBeX2,Cヘ,IIII X
: d A (但しX, X / , XI/およ
び3 X はα、Brおよび■のうちの少なくとも1つ、M■
はA/およひQaのうちの少)1〈とも/つ、AはEu
XTb,Ce,Tm,Dy,Pr,Ho、NdXYbX
Er,GdXLu,Smおよ0:Y(Dうちの少なくと
も1つ、aはO≦a≦O,/,bはO≦b≦0,/、C
はO≦C≦O.lXdはto−6s;d≦0.2であり
、かつO≦a 十b 十C≦0,/である)等の輝尽性
螢光体等が用いられる。しかしながら、本発明の放射線
像変換パイ・ルに用いられる輝尽性螢光体は上述の螢光
体に限られるものではなく、放射線を照射した後励起光
を照射した場合に輝尽発光を示す螢光体であればいかな
る螢光体であってもよい。実用的な面から、輝尽性螢光
体は4tso乃至//00nm,特に弘jO乃至7!O
nmの波長領域の励起尤によって300乃至IQOnm
の波長領域に輝尽発光を示す螢光体であるのが好捷しい
。
パノール、n−ブタノール等のアルコ−?、メチレンク
ロライド、エチレンクロライド等の塩素糸炭化水素、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
等のケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の
エステル、ジオギサンおよびエチレングリコールのモノ
エチルエーテルおよびモノメチルエーテル等のエーテル
およびそれらの混合物が用いられる。捷た輝尽性螢光体
としては、レ1」えば上d己米l:i!l特許第3.1
!タ,527号に記載され−(イるSrS:Ce,81
1]、SrS:Eu ,Sm,La202S:Eu,S
ITI オよび(Zn,Cd)S:Mn,X(但しX
F.1−ハロゲンである)、米国特dト第≠,λ3t,
07lr号明卸14j7c:載されているZnSHCu
,Pb1BaO−XAl203・Eu(但しXはO.ざ
≦X≦/θである)およびMIIO・xSiQ■:A(
但しIXAI[はM g % C a −, b r
, Z n、Cd捷たぱJ−3 aであり、AはCeX
Tb1 Eu1Tm11)b,Td、B i−rたはM
nf.6!Q、xl1−,f,0.jpx5.z,jf
6る)、LnOX: XA (阻しLnぱLa,Y,G
dおよひL uのうちの少なくとも1つ、Xはαおよび
f3rのうちの少なくとも/つ、Xは0 ( x≦O.
lである)、米国特許第l,λ3タ,タtr号明細書に
記載されている(Baエー、,M“x)FX:yA(但
しMllはM−jL CaX Sr,7,nおよU C
d t7D ’5 チノ少fxくとも/つ、Xはcl
XBrおよび■のうちの少なくとも1つ、AはEu,’
I’bXCe,TITIX.Dy,Pr1Ho1 Nd
,YbおよびErのうちの少なくとも1つ、XはO≦X
≦θ,J,yはo<y≦0.7である)、特開昭63−
/2/μ3号公報に記載されている’ Ba1 − X
− Y , M gX ,2 + C a y ) J!” X : a E u (
但しXはα、Brおよび■のうちの少なくとも7つ、X
およびyはO<x+ypO.xかツx y 笑θであり
、aはIO ≦a≦s×io である)、米国特
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ているBaB”X: xCe ,yA (但しXはα、
Brおよび■のうらり少なくとも7つ、AはIn%T”
%Qd,Srnお工びZrのうちの少なくとも7つ、X
は0<XS.2X/0 、Yは0<y≦j×lO−
2である)、特開昭J−A−.23ざt号公報に記載さ
れたBaF2・aBaX2・bMe F・c M e
TIF − d Me ” F 3: e l, n
(但しXは2 α、13rおよび■のうちの少なくとも1つ、Me1は
L1およびNaのうちの少なくとも7つ、八4eIIi
r;tBe,CaおよびS r tyvうちの少なくと
も1つ、MemはA7,Ga,YおよびLaのうちの少
々くとも7つ、L nはEu, CeおよびTbのうち
の少なくとも7つ、aはo,7θ≦a≦i,or,bは
O≦b≦0.9、Cは0≦C</,.2、dは0≦d≦
0.03、eは/θ ≦e≦O.θ3であり、かつb
,c,dぱ同時に0ではない)、特開昭オA−.2Jざ
号公報に記載されている特開0(4 3 1 − 2
3 1 ’号公報Q螢光体H<MgF2を添加した螢光
体、特開昭jA−7グー73号公報に記載されテイるB
aFX−aLIX/・bBeX2,Cヘ,IIII X
: d A (但しX, X / , XI/およ
び3 X はα、Brおよび■のうちの少なくとも1つ、M■
はA/およひQaのうちの少)1〈とも/つ、AはEu
XTb,Ce,Tm,Dy,Pr,Ho、NdXYbX
Er,GdXLu,Smおよ0:Y(Dうちの少なくと
も1つ、aはO≦a≦O,/,bはO≦b≦0,/、C
はO≦C≦O.lXdはto−6s;d≦0.2であり
、かつO≦a 十b 十C≦0,/である)等の輝尽性
螢光体等が用いられる。しかしながら、本発明の放射線
像変換パイ・ルに用いられる輝尽性螢光体は上述の螢光
体に限られるものではなく、放射線を照射した後励起光
を照射した場合に輝尽発光を示す螢光体であればいかな
る螢光体であってもよい。実用的な面から、輝尽性螢光
体は4tso乃至//00nm,特に弘jO乃至7!O
nmの波長領域の励起尤によって300乃至IQOnm
の波長領域に輝尽発光を示す螢光体であるのが好捷しい
。
堕布液における結合剤と輝尽性螢光体との混合比は輝尽
性螢光体の種類等によって異なるが、一般に結合剤と輝
尽性螢光体との混合比はi:.:zoO乃至i:ioの
重量比範囲から選ばれ、好寸しくは/:/00乃至l:
20の−11(1一比範囲から選ばれる。
性螢光体の種類等によって異なるが、一般に結合剤と輝
尽性螢光体との混合比はi:.:zoO乃至i:ioの
重量比範囲から選ばれ、好寸しくは/:/00乃至l:
20の−11(1一比範囲から選ばれる。
塗布准には該塗布液中での輝尽性螢光体粒子の分散性を
向上させるための分散剤、得られる放射#像変換パネル
の螢光体層における結合剤と輝八性螢光体粒子相互の結
合力を向上させるための可塑剤等の添加剤が添加されて
いてもよい。上記分散剤としてはフタル酸、ステアリン
酸、カプロン酸、新油性界■活性剤等が用いられる。ま
た上記可塑剤としては燐酸トリフエニル、燐酸トリクレ
ジル、燐酸ジフエニル等の燐酸エステル、フタル酸ジエ
チル、フタル酸ジメトキシエチル等のフタル酸エステル
、グリコール酸エチルフタリルエチル、グリコール酸プ
チルフタリルブチル等のグリコール酸エステル等が用い
られる。なお特開昭jj−/4’4≠≠7号に開示され
ているように、放射線像変換パネルの螢光体層中に白色
紛末を分散させることによってそのパ不ルの鮮鋭度を向
上させることができる。また峙開昭!j−/t.3J;
00号に開示されているように、放射一像変侠バ不ルの
螢光体層中に着色剤を分散させて螢光体層ケ宥色するこ
とによってもパネルの鮮鋭度ケ向上δせることができる
。本発明においても、上記塗布液にさらに白色粉末ある
いは着色剤を添加して分散させ、これを用いて以下に説
明するようにして白色粉末あるいは着色剤が輝尽性螢光
体と共に分散した螢光体層を形成することによって得ら
れる放射線像変換パネルの鮮鋭度を向上させることがで
きる。なお着色螢光体層用の塗布液を訓製するに際して
は、輝尽性螢光体粒子表面にあらかじめ着色剤を付着(
接漸あるいは吸着)せしめ、これを用いて上述のように
して塗布液を調製してもよい。
向上させるための分散剤、得られる放射#像変換パネル
の螢光体層における結合剤と輝八性螢光体粒子相互の結
合力を向上させるための可塑剤等の添加剤が添加されて
いてもよい。上記分散剤としてはフタル酸、ステアリン
酸、カプロン酸、新油性界■活性剤等が用いられる。ま
た上記可塑剤としては燐酸トリフエニル、燐酸トリクレ
ジル、燐酸ジフエニル等の燐酸エステル、フタル酸ジエ
チル、フタル酸ジメトキシエチル等のフタル酸エステル
、グリコール酸エチルフタリルエチル、グリコール酸プ
チルフタリルブチル等のグリコール酸エステル等が用い
られる。なお特開昭jj−/4’4≠≠7号に開示され
ているように、放射線像変換パネルの螢光体層中に白色
紛末を分散させることによってそのパ不ルの鮮鋭度を向
上させることができる。また峙開昭!j−/t.3J;
00号に開示されているように、放射一像変侠バ不ルの
螢光体層中に着色剤を分散させて螢光体層ケ宥色するこ
とによってもパネルの鮮鋭度ケ向上δせることができる
。本発明においても、上記塗布液にさらに白色粉末ある
いは着色剤を添加して分散させ、これを用いて以下に説
明するようにして白色粉末あるいは着色剤が輝尽性螢光
体と共に分散した螢光体層を形成することによって得ら
れる放射線像変換パネルの鮮鋭度を向上させることがで
きる。なお着色螢光体層用の塗布液を訓製するに際して
は、輝尽性螢光体粒子表面にあらかじめ着色剤を付着(
接漸あるいは吸着)せしめ、これを用いて上述のように
して塗布液を調製してもよい。
次に上記伍布液を支持体上にドクターブレード、ロール
コーター、ナイフコーター等を用いテ均一に塗布し塗膜
を形成する、,支持体としてはバライタ紙、レジンコー
ト紙、二酸化チタン等の顔料を含有するビグメント紙、
ポリビニルアルコール等をサイジングした紙等の加工紙
、一般の紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチ
レンテレフタレート等のポリエステルあるいはその他の
篩分子材料からなるシート、アルミニウム箔、アルミニ
ウム合金箔等の金属シート等が用いられる。
コーター、ナイフコーター等を用いテ均一に塗布し塗膜
を形成する、,支持体としてはバライタ紙、レジンコー
ト紙、二酸化チタン等の顔料を含有するビグメント紙、
ポリビニルアルコール等をサイジングした紙等の加工紙
、一般の紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチ
レンテレフタレート等のポリエステルあるいはその他の
篩分子材料からなるシート、アルミニウム箔、アルミニ
ウム合金箔等の金属シート等が用いられる。
支持体の傾布液が塗布される而は予めゼラチン等が塗布
されて処理されていてもよい。なお使用される支持体が
励起光を透過するものである場合には、得られる放射勝
像変換パネルは支持体の螢光体層側の而とは反対側の面
から励起光を照射することが可能である。また上ml特
開昭!r−/J3500号に開示されているように、着
色剤によって着色された支持体を使用することによって
得られる放射線像変換パネルの鮮鋭度を向上爆せること
ができる。
されて処理されていてもよい。なお使用される支持体が
励起光を透過するものである場合には、得られる放射勝
像変換パネルは支持体の螢光体層側の而とは反対側の面
から励起光を照射することが可能である。また上ml特
開昭!r−/J3500号に開示されているように、着
色剤によって着色された支持体を使用することによって
得られる放射線像変換パネルの鮮鋭度を向上爆せること
ができる。
本発明の放射線像変換パネルは螢光体層と支持体との間
に両者をより密接に接着させるだめの丁塗り層、特開昭
st−i−26oo号あるいは特開昭j4−//3タ3
号に開示されている鮮鋭度を向上させるだめの光反射層
等の中間層が設けられていてもよい。このような中間層
を有する放射線像変換パネルをII!造する場合には、
上記のような支持体上に予め下塗り層、光反射ノー等の
中間層を設けたものを支持体として使用する。この場合
塗布液は中間層上に塗布されることは言うまでもない。
に両者をより密接に接着させるだめの丁塗り層、特開昭
st−i−26oo号あるいは特開昭j4−//3タ3
号に開示されている鮮鋭度を向上させるだめの光反射層
等の中間層が設けられていてもよい。このような中間層
を有する放射線像変換パネルをII!造する場合には、
上記のような支持体上に予め下塗り層、光反射ノー等の
中間層を設けたものを支持体として使用する。この場合
塗布液は中間層上に塗布されることは言うまでもない。
下塗り層は通常の接着剤を支持体上に塗布することによ
って設けられる。上記特開昭33−71,3!00号に
開示されているように、着色剤によって看色されたF塗
り層を設けることによって得られる放射線像変換パネル
の鮮鋭度を向上させることができる。光反射層はアルミ
ニウム等の金属の蒸着、アルミニウム箔等の金属箔のラ
ミネート、あるいは二酸化チタン、酸化アルミニウム、
硫酸バリウム等の白色粉末を適当な結合剤(螢光体層に
用いられる結合剤と同じ結合剤であってもよい)中に分
散してなる塗布液の塗布等によって支持体上に設けられ
る。
って設けられる。上記特開昭33−71,3!00号に
開示されているように、着色剤によって看色されたF塗
り層を設けることによって得られる放射線像変換パネル
の鮮鋭度を向上させることができる。光反射層はアルミ
ニウム等の金属の蒸着、アルミニウム箔等の金属箔のラ
ミネート、あるいは二酸化チタン、酸化アルミニウム、
硫酸バリウム等の白色粉末を適当な結合剤(螢光体層に
用いられる結合剤と同じ結合剤であってもよい)中に分
散してなる塗布液の塗布等によって支持体上に設けられ
る。
塗膜形成後、傾膜を加熱し乾燥して支持体上に螢光体層
を形或する。なお結合剤が架橋剤によって架橋された線
状ポリエステル樹脂からなる場合、塗膜中に含まれる線
状ポリエステル樹脂および架橋剤はこの加熱乾燥によっ
て反応し、架橋剤によって架橋された線状ポリエステル
樹脂が生成される。螢光体層の厚さは輝尽性螢光体の種
類、結合剤と輝尽性螢光体との混合比等によって異なる
が、一般には20μ777乃至/mmであり、好寸し〈
は100乃至SOOμmである。
を形或する。なお結合剤が架橋剤によって架橋された線
状ポリエステル樹脂からなる場合、塗膜中に含まれる線
状ポリエステル樹脂および架橋剤はこの加熱乾燥によっ
て反応し、架橋剤によって架橋された線状ポリエステル
樹脂が生成される。螢光体層の厚さは輝尽性螢光体の種
類、結合剤と輝尽性螢光体との混合比等によって異なる
が、一般には20μ777乃至/mmであり、好寸し〈
は100乃至SOOμmである。
本発明の放射線像変換パネルにおいては、一般に螢光体
層表面(支持体側とは反対の面)に螢光体層ケ物理的に
あるいは化学的に保護するだめの保誇膜が設けらnる。
層表面(支持体側とは反対の面)に螢光体層ケ物理的に
あるいは化学的に保護するだめの保誇膜が設けらnる。
保^膜は酢酸セルロース、ニトロセルロース等のセルロ
ース誘専体、;telJメチルメタクリレート、ポリビ
ニルブテラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネ
ート、酢酸ビニル、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体等
を適当な浴剤に溶解して螢光体層表面に堕布し乾燥する
か、あるいはポリエチレンデレフタレート、ポリエチレ
ン、塩化ビニリテン、ナイロン等の薄膜を螢光体層表面
に適当な接層剤で接宥することQ(よって設けら扛る。
ース誘専体、;telJメチルメタクリレート、ポリビ
ニルブテラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネ
ート、酢酸ビニル、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体等
を適当な浴剤に溶解して螢光体層表面に堕布し乾燥する
か、あるいはポリエチレンデレフタレート、ポリエチレ
ン、塩化ビニリテン、ナイロン等の薄膜を螢光体層表面
に適当な接層剤で接宥することQ(よって設けら扛る。
保膿膜の厚さは3乃至.20μ?n程朋が望ましい。こ
の保一膜は螢光体ノー中に宮′まれる輝尽性螢光体の発
光を透過するものでなければならず、まプこ保詠膜側か
ら励起光が照射ざれる場合には(一般に励起光の照射は
保謹膜側から行なわれる)、保獲膜は励起光を透過する
ものでなけ扛ばならない。なお上記特開昭6!−/A3
700号に開示さ汎ているように、着色剤によって着色
烙れた保謹膜?設けることによって得られる放射線像変
換・くネルの鮮鋭度を向上させることができる., 以〜ドに述べる実施例で例示されるように、本発明の放
射線像変換パネルはセルロース誘導体を螢光体1−の結
合剤とする放射線像変換パネルよりも酎屈曲性、螢光体
層の支持体に対する接着力並びに励起光および消去光に
対する耐光性が高い。本発明の放射線像変換パネルのう
ちでも特に線状ポリエステル樹脂あるいは架橋剤によっ
て架橋キ扛だ線状ポリエステル樹脂とニトロセルロース
トの混合物を結合剤として用いた放射線像変換パネルは
、耐屈曲性、螢光体層の支持体に対する接着力並びに励
起光および消去光に対する耐光性が普いのに加え−C螢
光体層側面の機械的強度も高い。また線状ポリエステル
樹脂あるいは架橋剤によって架橋された線状ポリエステ
ル樹脂とニトロセルロ一スとの混合物を結合剤として用
いる場合には、放射線像変換パネル製造過程で調製され
る螢光体!一杉成用塗布液における輝尽性螢光体の分散
性が高い。
の保一膜は螢光体ノー中に宮′まれる輝尽性螢光体の発
光を透過するものでなければならず、まプこ保詠膜側か
ら励起光が照射ざれる場合には(一般に励起光の照射は
保謹膜側から行なわれる)、保獲膜は励起光を透過する
ものでなけ扛ばならない。なお上記特開昭6!−/A3
700号に開示さ汎ているように、着色剤によって着色
烙れた保謹膜?設けることによって得られる放射線像変
換・くネルの鮮鋭度を向上させることができる., 以〜ドに述べる実施例で例示されるように、本発明の放
射線像変換パネルはセルロース誘導体を螢光体1−の結
合剤とする放射線像変換パネルよりも酎屈曲性、螢光体
層の支持体に対する接着力並びに励起光および消去光に
対する耐光性が高い。本発明の放射線像変換パネルのう
ちでも特に線状ポリエステル樹脂あるいは架橋剤によっ
て架橋キ扛だ線状ポリエステル樹脂とニトロセルロース
トの混合物を結合剤として用いた放射線像変換パネルは
、耐屈曲性、螢光体層の支持体に対する接着力並びに励
起光および消去光に対する耐光性が普いのに加え−C螢
光体層側面の機械的強度も高い。また線状ポリエステル
樹脂あるいは架橋剤によって架橋された線状ポリエステ
ル樹脂とニトロセルロ一スとの混合物を結合剤として用
いる場合には、放射線像変換パネル製造過程で調製され
る螢光体!一杉成用塗布液における輝尽性螢光体の分散
性が高い。
以上説明したように、本発明は耐屈曲性、螢光体層の支
持体に対する接着力、励起光および消去光{(対する耐
光性等の物理的性質の優れた放射線像変換パネルを提供
するものであり、その工業的利用価置は非常に大きなも
のである。
持体に対する接着力、励起光および消去光{(対する耐
光性等の物理的性質の優れた放射線像変換パネルを提供
するものであり、その工業的利用価置は非常に大きなも
のである。
次に実施例によって本発明を説明する。
実施例1
isμm以上の粒子を分級によって除去したλ価のユー
ロピウム付活弗化臭化バリウム螢光体(BaFBr :
Eu2+)soo市量部ニ勝状ポリエステル樹脂(東洋
紡績製のバイロンj′Oθとバイロンλθ0とをl7:
3の重量比で混合したもの)rタ.タ重1部( fN脂
分コr,i重一゛部)を添加し、得られた螢光体懸濁物
にメチルエチルケ1・ンjj重量部を冷加して螢光体懸
濁物を湿潤させた。この湿潤螢光体懸濁物にトリイレン
ジイソシアネート7.3重奮部および硝化度// .r
チのニトロセルロースグ7.3重量部(m脂分3,1M
量部)を象加し、手で粗攪拌した後さらに燐酸トリクレ
ジルO.j重量部、n−ブタノールj.7重綾部および
メチルエチルケトンλθ重量部を添加してプロペラミキ
ザーを用いて充分混合し、粘度が一j〜3rPS(2t
0C)の螢光体が均一に分散した塗布液(塗布液屋l
)を調製した。
ロピウム付活弗化臭化バリウム螢光体(BaFBr :
Eu2+)soo市量部ニ勝状ポリエステル樹脂(東洋
紡績製のバイロンj′Oθとバイロンλθ0とをl7:
3の重量比で混合したもの)rタ.タ重1部( fN脂
分コr,i重一゛部)を添加し、得られた螢光体懸濁物
にメチルエチルケ1・ンjj重量部を冷加して螢光体懸
濁物を湿潤させた。この湿潤螢光体懸濁物にトリイレン
ジイソシアネート7.3重奮部および硝化度// .r
チのニトロセルロースグ7.3重量部(m脂分3,1M
量部)を象加し、手で粗攪拌した後さらに燐酸トリクレ
ジルO.j重量部、n−ブタノールj.7重綾部および
メチルエチルケトンλθ重量部を添加してプロペラミキ
ザーを用いて充分混合し、粘度が一j〜3rPS(2t
0C)の螢光体が均一に分散した塗布液(塗布液屋l
)を調製した。
上記から明らかなように、得られた塗布液の組成は以下
の辿りであった。
の辿りであった。
BaFBrHgu2+螢光体 j00’fm量部庫状ポ
リエステル樹脂 .21,/ttトリイレンイソシ
アネート l.3 〃ニトロセルロース
3.l 〃g4酸トリクレジル ・ 0,jt
tn−ブタノール よ.7 〃メチルエチ
ルケトン 7j 〃次に上記塗布液を水平に
保たれたガラス板上に1度かれた210μm厚のカーボ
ン練込みポリエチレンテレフタレートシート(支持体)
上にドクタ−ブレードを用いてffi.燥膜厚が200
μmになるように均一に塗布した。塗布後、塗膜を無風
状態下で室温で30分間乾燥し、さらに風速o . .
2 pn/抄の状態下でタo ’Cの温度で70分間加
熱乾燥した。このようにして支持体上に.200μ77
2Jνの螢光体層を形成し、放射線像変換パネル(パネ
ルA/)を得た。
リエステル樹脂 .21,/ttトリイレンイソシ
アネート l.3 〃ニトロセルロース
3.l 〃g4酸トリクレジル ・ 0,jt
tn−ブタノール よ.7 〃メチルエチ
ルケトン 7j 〃次に上記塗布液を水平に
保たれたガラス板上に1度かれた210μm厚のカーボ
ン練込みポリエチレンテレフタレートシート(支持体)
上にドクタ−ブレードを用いてffi.燥膜厚が200
μmになるように均一に塗布した。塗布後、塗膜を無風
状態下で室温で30分間乾燥し、さらに風速o . .
2 pn/抄の状態下でタo ’Cの温度で70分間加
熱乾燥した。このようにして支持体上に.200μ77
2Jνの螢光体層を形成し、放射線像変換パネル(パネ
ルA/)を得た。
丑だ上述と同様にして下記第l表に示されるような組成
を有する塗布/Vi&λ〜!を調製し、これら塗布液を
用いて上述と同様冫こして上配放射#像変換′パネル届
/とほぼ同じ厚さの螢光体層を有する放!N線像変換パ
ネル扁λ〜jをそBそれ製造した。なお放射fPM像変
換パネルAjは比較のために製造されたものである。第
l表において、表中の数値は各成分の重量部数を表わす
。
を有する塗布/Vi&λ〜!を調製し、これら塗布液を
用いて上述と同様冫こして上配放射#像変換′パネル届
/とほぼ同じ厚さの螢光体層を有する放!N線像変換パ
ネル扁λ〜jをそBそれ製造した。なお放射fPM像変
換パネルAjは比較のために製造されたものである。第
l表において、表中の数値は各成分の重量部数を表わす
。
次に放射線像変換パネルA/−jについて耐屈曲性、螢
光体層の支持体に対する接着力、励起光および消去光に
対する耐光性および螢光体層側而の機械的強朋の評価を
行なった。また塗布液A/〜jについて輝尽性螢光体(
B a Fl3 r : Eu”螢光体)の分散性の評
価を行なった。その結果をF記第λ表に示す。なお、各
物理的性質の評価は以一ドに述べるような試験によって
行なった。
光体層の支持体に対する接着力、励起光および消去光に
対する耐光性および螢光体層側而の機械的強朋の評価を
行なった。また塗布液A/〜jについて輝尽性螢光体(
B a Fl3 r : Eu”螢光体)の分散性の評
価を行なった。その結果をF記第λ表に示す。なお、各
物理的性質の評価は以一ドに述べるような試験によって
行なった。
(1)耐屈曲性試験・・・幅3omm、長さ3 0 7
# mのパネル試験片を螢光体層が上になるように置き
、該試験片を上からステンレス固定板で長手刀向の半分
だけ固定し、固定されていない部分を徐々に屈曲させ、
螢光体層に亀裂が生じた時の固定板と屈曲したパ不ルと
の角度θを分度器で測定した。
# mのパネル試験片を螢光体層が上になるように置き
、該試験片を上からステンレス固定板で長手刀向の半分
だけ固定し、固定されていない部分を徐々に屈曲させ、
螢光体層に亀裂が生じた時の固定板と屈曲したパ不ルと
の角度θを分度器で測定した。
θが大きい程パネルは耐屈曲性が冒いことを意味する。
下記第2表において耐屈曲性は×、△および○の3段階
で評価きれているが、×、△および○はそれぞれθが下
記の範囲日にあることを意味する。
で評価きれているが、×、△および○はそれぞれθが下
記の範囲日にあることを意味する。
×・・・θ °〈θ≦jO 0
△・・・!0 °くθ≦デθ 0
0・・・タ0 °〈θ≦/tθ 0
(2)螢光体層の支持体に対する接着力試験・・・幅/
omm,長さ107)lnlのパネル試験片の螢光体層
トにポリエステル粘着テープを貼付けてバックアップと
し、次いで螢光体層と支持体の界面にlommの長さの
剥離部分をパネルの長手方向につくった。このように細
工をしたパネルの支持体とポリエステル粘着テープでバ
ックアップした螢光体層とをテンシロン(東洋ボールド
ウイン製UTM−//−20)を用いて引張り速度コO
mm/分で互に逆の方向に引張り、螢光体層が/θmm
剥離した時の力F(f)を測定した。Fが犬1きい程螢
光体層の支持体に対する接着力が高いことを意味する。
omm,長さ107)lnlのパネル試験片の螢光体層
トにポリエステル粘着テープを貼付けてバックアップと
し、次いで螢光体層と支持体の界面にlommの長さの
剥離部分をパネルの長手方向につくった。このように細
工をしたパネルの支持体とポリエステル粘着テープでバ
ックアップした螢光体層とをテンシロン(東洋ボールド
ウイン製UTM−//−20)を用いて引張り速度コO
mm/分で互に逆の方向に引張り、螢光体層が/θmm
剥離した時の力F(f)を測定した。Fが犬1きい程螢
光体層の支持体に対する接着力が高いことを意味する。
下記第1表において接着力はX、△および○の3段階で
評価されているが、×、△および(JはそれぞれFが下
記の範囲内にあることを意味する。
評価されているが、×、△および(JはそれぞれFが下
記の範囲内にあることを意味する。
×・・・Oダ〈F≦jOf
△・・・30//<F≦lθOg
○・・・l00gくF
(3)励起光および消去光に対する耐光性試験・・・パ
ネルからlOcm離れたところにλθWの白色螢光灯(
励起元波長成分および消去光波長成分を営む)を設置し
、照度約/j,θθ0ルックスでパネルに光を照射した
。パネルに光を照射する前とパネルに光を/00時間照
射した後にパネルの輝尽発光光量を測定し、照射前の発
光光量に対する照射後の発光光量の比τ(%)を求めた
。この比が小さい程励起元によって結合剤に黄ばみが生
じ易く、結合剤は励起元および消去元に対する耐光性が
低いことを意味する。なお、輝尽発元光情の測定はパネ
ルにf0KVp(DX巌全照射した後パネルをH e
− N e レーザー光( t 3 3 n m )
テIljl起し、生じだ輝尽発九の輝度を測定すること
ycよって行なった。下6己弟.2表において発光九一
は×、△およびdの3段階で評価されているが、×、
△およびOはそれぞnτが下記の範囲内にあること全意
味する。
ネルからlOcm離れたところにλθWの白色螢光灯(
励起元波長成分および消去光波長成分を営む)を設置し
、照度約/j,θθ0ルックスでパネルに光を照射した
。パネルに光を照射する前とパネルに光を/00時間照
射した後にパネルの輝尽発光光量を測定し、照射前の発
光光量に対する照射後の発光光量の比τ(%)を求めた
。この比が小さい程励起元によって結合剤に黄ばみが生
じ易く、結合剤は励起元および消去元に対する耐光性が
低いことを意味する。なお、輝尽発元光情の測定はパネ
ルにf0KVp(DX巌全照射した後パネルをH e
− N e レーザー光( t 3 3 n m )
テIljl起し、生じだ輝尽発九の輝度を測定すること
ycよって行なった。下6己弟.2表において発光九一
は×、△およびdの3段階で評価されているが、×、
△およびOはそれぞnτが下記の範囲内にあること全意
味する。
×・・・θチくτ≦7z%
△・・・76%くτ≦fj%
○・・・κ乙チくτ≦/00%
また、光を1oo時間照射した後のパネルについて上記
(1)の耐屈曲性試験を行なったっこの試験の結果と上
記(1)の試験の結果を比較した烏合、θの減少の割合
が大きい程励起光による結合剤の硬化の程度が大きいこ
とを意味し、結合剤は励起光および消去光に対する耐光
性が低いことを意味する。なお下記第1表において光照
躬後の耐屈曲性試験の結来は上記(1)の耐屈曲性試験
の結果と同様に×、△および○の3段階で評価とれてい
る。
(1)の耐屈曲性試験を行なったっこの試験の結果と上
記(1)の試験の結果を比較した烏合、θの減少の割合
が大きい程励起光による結合剤の硬化の程度が大きいこ
とを意味し、結合剤は励起光および消去光に対する耐光
性が低いことを意味する。なお下記第1表において光照
躬後の耐屈曲性試験の結来は上記(1)の耐屈曲性試験
の結果と同様に×、△および○の3段階で評価とれてい
る。
(4)螢九体j一測而の機械的強度試験・・・螢光体層
が除去され支持体が蕗出している部分を有するl夕Om
m×/jOmtHのパネル試験片を準備した。
が除去され支持体が蕗出している部分を有するl夕Om
m×/jOmtHのパネル試験片を準備した。
このパイルの螢光体層の露出断面に支待体露出部分の方
向からステンレス板(先端の厚みθ.5mm,幅/ 3
7nm ) Z,(l j mm幅に対して7sog
の力が加わるように慟突速1i&θmm/分で伽突させ
、螢光体層に生じた針の進行方向と同じ方向の個の長さ
t(〃zm)をノギスで測定した。1が大きい程螢光体
層側面の機械的強度が低いことを意味する。下記第2表
に寂いて螢光体層側面の機械的強度け×、△および○の
3段階で評価されているが、×、△および○はそれぞれ
tが下i己の1艶囲内にあることを慧味する。
向からステンレス板(先端の厚みθ.5mm,幅/ 3
7nm ) Z,(l j mm幅に対して7sog
の力が加わるように慟突速1i&θmm/分で伽突させ
、螢光体層に生じた針の進行方向と同じ方向の個の長さ
t(〃zm)をノギスで測定した。1が大きい程螢光体
層側面の機械的強度が低いことを意味する。下記第2表
に寂いて螢光体層側面の機械的強度け×、△および○の
3段階で評価されているが、×、△および○はそれぞれ
tが下i己の1艶囲内にあることを慧味する。
×・・・/θm〃ノ〈t
△−xmm<t≦/Omm
O−omm<t≦.2 1n 7/J
(5)塗布液における輝尽性螢光体の分散性試験・・・
塗布液をダラインドゲージに.2〜3gt塗布し、ステ
ンレスブレードを用いてグラインドゲージ値l(μ)を
測定した。lが大きい程輝尽性螢光体の分散性が低いこ
とを意味する。下記第2表においーC分散性は×、△お
よび○の3段階で叶価されているが、×、△および○は
それぞtLlが下g己の範囲内にあることを意体する。
塗布液をダラインドゲージに.2〜3gt塗布し、ステ
ンレスブレードを用いてグラインドゲージ値l(μ)を
測定した。lが大きい程輝尽性螢光体の分散性が低いこ
とを意味する。下記第2表においーC分散性は×、△お
よび○の3段階で叶価されているが、×、△および○は
それぞtLlが下g己の範囲内にあることを意体する。
×・・・3θμ〈l
△・・・/Jμ〈l≦30μ
○・・・θμ〈l≦/jμ
なお丁目C第2表において括弧内の数値Q1測定値を示
す。
す。
上記第l表および第λ表から明らかなように、本発明の
放射線像変換パネル(A/〜グ)はニトロセルロースを
螢光体層の結合剤とする放射線像変換パネル(扁j)よ
りも耐屈曲性、螢光体層の支持体に対する接着力並びに
励起光および消去光に対する耐光性が高い。本発明の放
射緋像変換・冫ネルのうちでも架11によって架橋され
た線状ポリエステル樹脂からなる結合剤を用いた放射線
像変換パネル( & /および2)は線状ポリエステル
樹脂からなる結合剤を用いた放射線像変換パネル( A
. 3および4tlよりも耐屈曲性、螢光体層の支持体
に対する接着力並びに励起元および消去光に対する耐光
性が高く、特に前者は後者よりも耐屈曲性および螢光体
層の支持体に対する接着力が著しく高い。また本発明の
放射勝像パネルのうち線状ポリエステル樹脂のみからな
る結合炸1を用いた放射線像変換パネル(A≠)および
架橋剤によって架橋さ′nだ線状ポリエステル樹脂のみ
からなる結合剤を用いた放射線像変換/髪イ・ル(届2
)は螢光体層側面の機械的強肝が低く、それらパネルの
螢光体層III面の機械的強度はニトロセルロースを結
合剤とする放射線像変換パネル(At )の螢光体層側
面の機械的強度よりも著しく低い。しかしながら、線状
ポリエステル樹脂と共にニトロセルロースを結合剤とし
て用いた放射線像変換・欠ネル(AJ)および架橋剤に
よって架橋された線状ポリエステル樹脂と共にニトロセ
ルロースを結合剤として用いた放射線像変換パネル(扁
/)においては、螢光体層側而の機砿的強度は者しく向
上している。すなわち、ニトロセルロースの線状ポリエ
ステル樹脂あるいは架倫剤によって架橋さrした線状ポ
リエステル樹脂との併用は、耐屈曲性、螢光体層の支持
体に対する接着力並びに励起光および消去光に対する許
1光性をたいして低下させることな<(屋/の・〈ネル
は115.−2のパネルよりも螢光体層の支狩体に対す
る接着力が置くなっている)螢光体層側面の機械的強度
を著しく高める効果がある。また線状ポリエステル樹脂
を用いて調製した塗布i(A≠)および線状ポリエステ
ル樹脂と架橋剤とを用いて調製した塗布液(A2)は輝
尽性螢光体の分散性が低く、それら塗布液における輝尽
性螢光体の分散性はニトロセルロースを用いて調製した
塗布液(Aj)における輝尽性螢光体の分散性よりも低
い。しかしながら、線状ポリエステル樹脂と共に、ニト
ロセルロースを用いて調製した塗布液(扁3)および線
状ポリエステル樹脂および架橋剤と共にニトロセルロー
スを用いて調製した塗布液(扁/)においては、輝尽性
螢光体の分散性は著しく向上している。すなわち、ニト
ロセルロースの線状ポリエステル樹脂あるいは線状ポリ
エステル樹脂および架橋剤との併用は、輝尽性螢光体の
分散性を者しく高める効果がある。
放射線像変換パネル(A/〜グ)はニトロセルロースを
螢光体層の結合剤とする放射線像変換パネル(扁j)よ
りも耐屈曲性、螢光体層の支持体に対する接着力並びに
励起光および消去光に対する耐光性が高い。本発明の放
射緋像変換・冫ネルのうちでも架11によって架橋され
た線状ポリエステル樹脂からなる結合剤を用いた放射線
像変換パネル( & /および2)は線状ポリエステル
樹脂からなる結合剤を用いた放射線像変換パネル( A
. 3および4tlよりも耐屈曲性、螢光体層の支持体
に対する接着力並びに励起元および消去光に対する耐光
性が高く、特に前者は後者よりも耐屈曲性および螢光体
層の支持体に対する接着力が著しく高い。また本発明の
放射勝像パネルのうち線状ポリエステル樹脂のみからな
る結合炸1を用いた放射線像変換パネル(A≠)および
架橋剤によって架橋さ′nだ線状ポリエステル樹脂のみ
からなる結合剤を用いた放射線像変換/髪イ・ル(届2
)は螢光体層側面の機械的強肝が低く、それらパネルの
螢光体層III面の機械的強度はニトロセルロースを結
合剤とする放射線像変換パネル(At )の螢光体層側
面の機械的強度よりも著しく低い。しかしながら、線状
ポリエステル樹脂と共にニトロセルロースを結合剤とし
て用いた放射線像変換・欠ネル(AJ)および架橋剤に
よって架橋された線状ポリエステル樹脂と共にニトロセ
ルロースを結合剤として用いた放射線像変換パネル(扁
/)においては、螢光体層側而の機砿的強度は者しく向
上している。すなわち、ニトロセルロースの線状ポリエ
ステル樹脂あるいは架倫剤によって架橋さrした線状ポ
リエステル樹脂との併用は、耐屈曲性、螢光体層の支持
体に対する接着力並びに励起光および消去光に対する許
1光性をたいして低下させることな<(屋/の・〈ネル
は115.−2のパネルよりも螢光体層の支狩体に対す
る接着力が置くなっている)螢光体層側面の機械的強度
を著しく高める効果がある。また線状ポリエステル樹脂
を用いて調製した塗布i(A≠)および線状ポリエステ
ル樹脂と架橋剤とを用いて調製した塗布液(A2)は輝
尽性螢光体の分散性が低く、それら塗布液における輝尽
性螢光体の分散性はニトロセルロースを用いて調製した
塗布液(Aj)における輝尽性螢光体の分散性よりも低
い。しかしながら、線状ポリエステル樹脂と共に、ニト
ロセルロースを用いて調製した塗布液(扁3)および線
状ポリエステル樹脂および架橋剤と共にニトロセルロー
スを用いて調製した塗布液(扁/)においては、輝尽性
螢光体の分散性は著しく向上している。すなわち、ニト
ロセルロースの線状ポリエステル樹脂あるいは線状ポリ
エステル樹脂および架橋剤との併用は、輝尽性螢光体の
分散性を者しく高める効果がある。
Claims (4)
- (1)支持体と、この支持体上に設けられた輝尽性螢光
体を結合剤中に分散してなる螢光体層とからなる放射線
像変換パネルにおいて、上記結合剤が練状ポリエステル
樹脂からなることを特徴とする放射線像変換パネル。 - (2)上記結合剤が更にニトロセルロース全含有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第/項記載の放射線像変
換パネル。 - (3)支持体と、この支持体上に設けられた輝尽性螢光
体を結合剤甲に分散してなる螢光体層とからなる放射線
像変換・髪ネルにおいて、上記結合剤が架橋剤によって
架橋された線状ポリエステル樹脂からなることを特徴と
する放射線像変換パネル。 - (4)上6己結合剤が更にニトロセルロースを含有する
ことを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の放射森像
変侯パ不ル。 +5) 上d己架橋卸]がジイソシアネートであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第3項または第≠項記載
の放射線像変換パネル。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56187501A JPS5888699A (ja) | 1981-11-20 | 1981-11-20 | 放射線像変換パネル |
US06/441,744 US4508636A (en) | 1981-11-20 | 1982-11-15 | Radiation image storage panel |
DE8282306211T DE3276977D1 (en) | 1981-11-20 | 1982-11-22 | Radiation image storage panel |
DE198282306211T DE80360T1 (de) | 1981-11-20 | 1982-11-22 | Strahlungsbildspeicherplatte. |
EP82306211A EP0080360B1 (en) | 1981-11-20 | 1982-11-22 | Radiation image storage panel |
US06/659,434 US4654534A (en) | 1981-11-20 | 1984-10-10 | Radiation image storage panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56187501A JPS5888699A (ja) | 1981-11-20 | 1981-11-20 | 放射線像変換パネル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5888699A true JPS5888699A (ja) | 1983-05-26 |
JPS6325318B2 JPS6325318B2 (ja) | 1988-05-25 |
Family
ID=16207160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56187501A Granted JPS5888699A (ja) | 1981-11-20 | 1981-11-20 | 放射線像変換パネル |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4508636A (ja) |
EP (1) | EP0080360B1 (ja) |
JP (1) | JPS5888699A (ja) |
DE (2) | DE3276977D1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59218975A (ja) * | 1983-05-27 | 1984-12-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線の強度測定法およびその方法に用いられる放射線測定容器 |
JPS59218976A (ja) * | 1983-05-27 | 1984-12-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線の強度測定法 |
JPS59231500A (ja) * | 1983-06-14 | 1984-12-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線像変換パネル |
JPS62209398A (ja) * | 1986-03-11 | 1987-09-14 | コニカ株式会社 | シランカツプリング剤を含有する放射線画像変換パネル |
Families Citing this family (19)
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