JPS5977400A - 放射線像変換パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、放射線像変換パネルに関するものである。ざ
ら・に詳しくは、本発明は、防傷性が改良された放射線
像変換パネルに関するものである。

従来において、放射線像を画像として得る方法としては
、銀塩感光材料からなる乳剤層を有する成用線写真フィ
ルムと増感紙（増感スクリーン）とを組合わゼた、いわ
ゆる放射線写真法が利用されている。上記従来の放射線
写真法にかわる方法の一つとして、たとえば、米国特許
第３，８５９、５２７　’ｉす明細書および特開昭５５
−１２１４５号公報等に記載されているように、輝尽性
蛍光体を用いた放射線像変換方法が知られている。この
放射線像変換方法は、輝尽性蛍光体を有する放射線像変
換パネル（蓄積性蛍光体シート）を利用するもので、被
写体を透過した放射線エネルギーあるいは被検体から発
せられた放射線二２ルギーを−１−記パネルの輝尽性蛍
光体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍光体を１１１視光
線および赤外線から選ばれる電磁波（以下「励起光」と
称する）で時系列的に励起することにより、輝尽性蛍光
体中に蓄稍されている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発
光）として放出させ、この蛍光を光電的に読取って電気
信号を得、イ１）られた電気信号を画像化するものであ
る。

この方法で使用される放射線像変換パネル自体は、放射
線による照射、および励起光の照射によっても殆ど変質
することがないため、長期間にわたって繰り返し使用す
ることができる。ただし。

実際の使用においては励起光の走査だけではパネルに蓄
積していた放射線エネルギーが充分に放出し尽されない
ので、残存する放射線エネルギーを消去するために走査
後に（次に使用する前に）、用いる蛍光体の輝尽発光の
励起波反領域の光または熱をパネルに加えることが行な
われる。

上述の放射線像変換方法によれば、従来の放射線写真法
な利用した場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で
情報量の豊富なＸ！！画像を得ることができるとの利点
がある。従って、この放射線像変換方法は、特に医療診
断を目的とするＸ線撮影等の直接医療用放射線撮影にお
いて利用価値の非常に高いものである。

上記の放射線像変換方法に用いる放射線像変換パネルは
、基本構造として、支持体と、その片面に設けられた蛍
光体層とからなるものである。なお、この蛍光体層の支
持体とは反対側の表面（支１１体に而していない側の表
面）には一般に、透明な保護１１りが設けられていて、
蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護
している。さらに、特願昭５６−１６８１４１号明細書
に記載されているように、機械的強度を向」ニさせるた
めにパネルの端面がポリマー被膜により被覆され、縁貼
りがなされる場合がある。

」二連のように放射線像変換パネルは、残存エネルギー
の消去・放射線の照射φ励起光の走査（読み出し）とい
う順からなるサイクルで繰り返し使用されるが、各ステ
ンプへの放射線像変換パネルの移動ノよ搬送系により行
なわれる。放射線像変換パネルは−サイクル終了した後
は通常は積層して保存される。

従って、放０４線像変換方法において使用するパネルは
、従来の放射線写真法においてカセツテ内に固＞ｊ！シ
て使用する増感紙とは使用状況が全く異なるため、その
パネルに対しては、増感紙を用いた場合には起こりえな
かった種々の問題が発生する。

たとえば、放射線像変換パネルにあってはこのような搬
送と積層状態との繰返しの使用において、バオルが積層
される際もしくは積層状態から搬送系に移る際に、一枚
のパネルの表面（支持体側表面）と他のパネルの表面（
蛍光体層側表面）との擦れ、およびパネルの端縁と他の
パネルの表面との擦れなどの物理的接触により、パネル
の両表面が損傷を受けるという問題が生じる。特に、蛍
光体層側表面に生じた物理的損傷は、励起光の散乱、パ
ネル中の蛍光体から放出される蛍光の散乱などを生じさ
せる原因となって、放射線撮影により得られる情報部、
の低下および情報の不明瞭化が発生することになる。す
なわち、この情報を画像化した場合には、得られる画像
に画質の著しい低下が認められる。

従って、従来の支持体とその上に設けられた蛍光体層か
からなる基本構造を有する放射線像変換パネルについて
は、搬送あるいは積層の際にパネル表面、特に蛍光体層
側表面に生じる損傷を極ヵ防ぐことが望まれている。

本発明は、上記のような理由から、パネル表面の防傷性
が向−ヒした放射線像変換パネルを提供することをその
目的とするものである。

上記の目的は、支持体と、この支持体上に設けられた輝
尽性蛍光体を分散状態で含有支持する結合剤からなる蛍
光体層とから実質的に構成されている放射線像変換パネ
ルにおいて、該パネルの支持体側表面および蛍光体層側
表面のうちの少なくとも一方の表面に、摩擦係数が０．
６以下の摩擦低減層が設けられていることを特徴とする
本発明の放射線像変換パネルにより達成することができ
る。

なお、本発明において、支持体側表面とは、支持体の蛍
光体層と接している側とは反対側のパネル表面を意味し
、蛍光体層側表面とは、蛍光体層の支持体と接している
側とは反対側のパネル表面（蛍光体層のその側の表面に
保護膜などが設けられている場合には、その表面）を意
味する。

また１本発明において摩擦係数とは、ある速度で連動し
ている物体にかかる運動摩擦の大きさを表わす数値、す
なわち動摩擦係数を意味し、以下に述べるような測定方
法によって決定されるものである。

ポリエチレンテレフタレートシートの上に、放射線像変
換パネルを２ｃｍＸ２ｃｍの正方形に切断した試料を、
ｎ係数の測定対象表面を下側にして置き、この試料の上
に１００ｇの荷重（試料の重量も含める）をかける。次
に、この荷重ががけられている試料を、引張り速度４　
ｃ　ｍ　７分にて引張り、テンシロン（ＵＴＭ−１１−
２０；東洋ボールドウィン社製）を用いて、温度２５°
Ｃ，湿度６０％の条件下で、速度４　ｃ　ｍ　７分の運
動状態にある試料の引張力Ｆ　（ｇ）を測定する。この
引張力Ｆと上記の荷重（１００ｇ）とから、測定対象表
面の摩擦係数が、引張力／荷重の値として決定される。

次に本発明の詳細な説明する。

本発明は、放射線像変換パネルの支持体側表面および蛍
光体層側表面のうちの少なくとも一方の表面に、摩擦係
数が０．６以下の摩擦低減層を設けることにより、それ
らのパネル表面の防傷性を改良したものである。この改
良により、従来、パネルの搬送および積層の際にパネル
表面とパネル表面との擦れなどによって、パネル表面に
生じやすかった損傷を効果的に防止することかできる。

特に、パネルが積層される際にパネルの蛍光体層側表面
に生じやすかった損傷を効果的に防止することができ、
従って本発明の放射線像変換パネルをＩｎ　＋、）だ場
合には、摩擦低減層が付設されていないパネルを用いた
場合に比較して特に画質か向上した画像なイ！Ｉること
かできる。

以−１−述べたような好ましい特性を持った本発明の放
射線像変換パネルは、たとえば、次に述べるような方法
により製造することができる。

本発明において使用する支持体は、従来の放射線写真法
における増感紙の支持体として用いられている各種の材
料から任意に選ぶことができる。

そのような材料の例としては、セルロースアセテ−！・
、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリア
ミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカーボネート
などのプラスチック物質のフィルム、アルミニウム箔、
アルミニウム合金箔などの金属シート、通常の紙、バラ
イタ紙、レジンコート紙、二酸化チタンなどの顔料を含
有するピグメント紙、ポリビニルアルコールなどをサイ
ジングした紙などを挙げることができる。ただし、のち
に述べる支持体上への摩擦低減層の形成、放射線像変換
パネルの情報記録材料としての特性および取扱いなどを
考慮した場合、本発明において特に好ましい支持体の材
料はプラスチックフィルムである。このプラスチックフ
ィルムにはカーボンブラックなどの光吸収性物質が練り
込まれていてもよく、あるいは二酸化チタンなどの光反
射性物質が練り込まれていてもよい。前者は高鮮鋭度タ
イプの放射線像変換パネルに適した支持体であり、後者
は高感度タイプの放射線像変換パネルに適した支持体−
である。

公知の放射線像変換パネルにおいて、支持体と蛍光体層
の結合を強化するため、あるいは放射線像変、換パネル
としての感度もしくは画質（鮮鋭度、粒状性）を向」ニ
させるために、蛍光体層が設けられる側の支持体表面に
ゼラチンなどの高分子物質を＄４Ｎ、て接着性付与層と
したり、あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質から
なる光反射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収
性物質からなる光吸収層を設けることも行なわれている
。本発明において用いられる支持体についても、これら
の各種の層を設けることができ、それらの描成は所望の
放射線像変換パネルの目的、用途などに応じて任意に選
択することができる。

Ｓらに、水出願人による特願昭５７−８２４３１号明細
書に記載されているように、得られる画像の？Ｔ鋭度を
向上させる目的で、支持体の蛍光体層が設けられる側の
表面（支持体のその側の表面に接着性（＝Ｊ与層、光反
射層、あるいは光吸収層などが設けられている場合には
、その表面）に微小の凹凸が形成されていてもよい。

次に支持体の表面に蛍光体層を形成する。蛍光体層は、
基本的には輝尽性蛍光体の粒子を分散状態で含有支持す
る結合剤からなる層である。

輝尽性蛍光体は、先に述べたように放射線を照射した後
、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であるが、
実用的な面からは波長が４５０〜８００ｎｍの範囲にあ
る励起光によって輝尽発光を示す蛍光体であることが望
ましい。本発明の放射線像変換パネルに用いられる輝尽
性蛍光体の例としては、 米国特許第３．８５９．５２７号明細書に記載されてい
るＳｒＳ：Ｃｅ、Ｓｍ、ＳｒＳ：Ｅｕ。

Ｓｍ、Ｔｈ０２　：　Ｅ　ｒ、およびＬａ２Ｏ２Ｓ　：
Ｅｕ、Ｓｍ、 特開昭５５−１２１４２号公報に記載されているＺｎＳ
：Ｃｕ、Ｐｂ、ＢａＯ＠ｘＡｌ２Ｏ３：Ｅｕ（ただし、
０．８≦Ｘ≦１０）、および、Ｍ”Ｏ・ｘＳ　ｉ０２　
：Ａ　（ただし１Ｍ韮はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｚｎ、Ｃｄ
、　またはＢａ−ｒあり、ＡはＣｅ、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｔｍ
、Ｐｂ、ＴｓＬ、Ｂｔ。

またはＭｎであり、Ｘは、０．５≦Ｘ≦２．５である）
、 特開昭５５−１２１４３号公報に記載されている　　（
Ｂ　　ａ　　１−　　Ｘ　　−ｙ　、　　Ｍ　　ｇ　　
Ｘ　　、　　Ｃａ　　ｙ　　）　　　Ｆ　　Ｘ　　：ａ
Ｅｕ”（ただし、Ｘは（、ＱおよびＢｒのうちの少なく
とも一つであり、Ｘおよびｙは、０くＸ＋ｙ≦０．６．
かつｘｙ洪０てあり、ａは、１０−６≦ａ≦５　Ｘ　１
０−２である）、 特開昭５５−１２１４４号公報に記載されているＬｎＯ
Ｘ：ｘＡ（ただし、ＬｎはＬａ、Ｙ、Ｇｄ、およびＬｕ
のうちの少なくとも一つ、Ｘは０文およびＢｒのうちの
少なくとも一つ、ＡはＣｅおよびＴｂのうちの少なくと
も一つ、そして、Ｘは、Ｏ＜ｘ＜Ｏ、ｌである）、 特開昭５５−ｉ２１４５号公報に記載されている　　（
Ｂ　　ａ　　ｌ二　Ｘ　、　　Ｍ”Ｘ）　　　ＦＸ　　
：　　’Ｉ　　Ａ　　（た　だ　し　、Ｍ２＋はＭｇ、
Ｃａ、Ｓｒ、Ｚｎ、およびＣｄ　）うちの少なくとも一
つ、Ｘは０文、Ｂｒ、および■のうちの少なくとも一つ
、ＡはＥｕ、Ｔｂ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎ
ｄ、Ｙｂ、およびＥｒのうちの少なくとも一つ、そして
Ｘは、０≦Ｘ≦０．６、ｙは、０≦ｙ≦０．２である）
、などを挙げることができる。

ただし、本発明に用いられる輝尽性蛍光体は上述のイ１
？光体に限られるものではなく、放射線を照射したのち
に励起光を照射した場合に、輝尽発光を示す蛍光体であ
ればいかなるものであってもよい。

また蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン等の蛋白
質、デキストラン等のポリサッカライド、またはアラビ
アゴムのような天然高分子物質；および、ポリビニルブ
チラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチル
セルロース、塩化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、
ポリメチルメタクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコ
ポリマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチレ
ート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステルなどよ
うな合成高分子物質などにより代表される結合剤を挙げ
ることができる。このような結合剤のなかで特に好まし
いものは、ニトロセルロース、線状ポリエステル、およ
びニトロセルロースと線状ポリエステルとの混合物であ
る。

蛍光体層は、たとえば１次のような方法により支持体」
〕に形成することかできる。

まず上記の輝尽性蛍光体粒子と結合剤とを適当な溶剤に
加え、これを充分に混合して、結合剤溶Ｉｆｋ中に輝尽
性蛍光体粒子が均一に分散した塗布液を調製する。

塗！Ｄｔｔｋ調製用の溶剤の例としては、メタノール、
エタノール、ｎ−プロパツール、ｎ−ブタノールなどの
低級アルコール；メチレンクロライド、エチレンクロラ
イトなどの塩素原子含有炭化水素；アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルインブチルケＩ・ンなとのケトン；
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸
と低級アルコールとのエステル；ジオキサン、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノメチルエーテルなどのエーテル；そして、それらの混
合物を挙げることができる。

塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合比は、［
ｊ的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種類な
どによって異なるが、一般には結合剤と蛍光体との混合
比は、１：１ないし１：１００（重量比）の範囲から選
ばれ、そして特に１：８ないし１：４ｏ（ｍＪｔ比）の
範囲から選ぶことが好ましい。

なお、塗布液には、上記塗布液中における蛍光体の分散
性を向上させるための分散剤、また、形成後の蛍光体層
中における結合剤と蛍光体との間の結合力を向上させる
ための可塑剤などの種々の添加剤が混合されていてもよ
い。そのような目的に用いられる分散剤の例としては、
フタル酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性
剤などを挙げることができる。そして可塑剤の例として
は、燐＃トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェ
ニルなどの燐酸エステル；フタル酸ジエチル、フタル酸
ジメトキシエチルなどのフタル酸エステル；グリコール
酸エチルフタリルエチル、グリコール酸ブチルフタリル
ブチルなどのグリコール酸エステル；そして、トリエチ
レングリコールとアジピン酸とのポリエステル、−ジエ
チレングリコールとコハク酸とのポリエステルなどのポ
リエチレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエステ
ルなどを挙げることができる。

−に記のようにして調製された蛍光体と結合剤を含有す
る塗布液を、次に、支持体の表面に均一に塗布すること
により塗Ａノ液の塗膜を形成する。この塗布操作は、通
常の塗布手段、たとえばドクターブレード、ロールコー
タ−、ナイフコーターなどを用いることにより行なうこ
とができる。

ついて、形成された塗膜を徐々に加熱することにより乾
燥して、支持体上への蛍光体層の形成を完ｒする。蛍光
体層の層厚は、目的とする放射線像変換パネルの特性、
蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合比などによって
異なるが、通常は２０ＪＬｍないし１ｍｍとする。ただ
し、この層厚は、５０ないし５００．７ｚｍとするのが
好ましい。

なお、３゛１を光体層は、必ずしも上記のように支持体
ｌ二に＠血液を直接塗布して形成する必要はなく、たと
えば、別に、ガラス板、金属板、プラスチックシートな
どのシート上に塗布液を塗布し乾燥することにより”ｔ
ｊ？光体層を形成した後、これを、支持体上に押圧する
か、あるいは接着剤を用いるなどして支持体と蛍光体層
とを接合してもよい。

通常の放射線像変換パネルにおいては、支持体に接する
側とは反対側の蛍光体層の表面に、蛍光体層を物理的お
よび化学的に保護するための透明な保護膜が設けられて
いる。このような透明保護膜は、本発明の放射線像変換
パネルについても設置することが好ましい。

透明保護膜は、たとえば、酢酸セルロース、ニトロセル
ロースなどのセルロース誘導体；あルイはポリメチルメ
タクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニ
ル会酢酸ビニルコポリマーなどの合成高分子物質のよう
な透明な高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶
液を蛍光体層の表面に塗布する方法により形成すること
ができる。あるいはポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミドなどから別
に形成した透明な薄膜を蛍光体層の表面に適当な接着剤
を用いて接着するなどの方法によっても形成することが
できる。上記のうちで特に好ましい保護膜材料はポリエ
チレンテレフタレートである。このようにして形成する
透明保護膜の膜厚は、約３ないし２０ＩＬｍとするのが
望丈しい。

次に、支持体とこの上に設けられた蛍光体層（あ葛いは
さらに保護ｎり）とから実質的に構成されたパネル上に
、摩擦低減層を形成する。

本発明の特徴的な要件である摩擦低減層の形成は、たと
えば、摩擦係数が小さい材料からなるシート、あるいは
物理的もしくは化学的方法により表面の摩擦係数を小さ
くしたシートなどを適当な接着剤を用いて上記パネル上
に接着することにより行なわれる。ｒｔ擦係数の小さい
材料の代表的な例としては、テフロンフィルムを挙げる
ことができる。また、物理的もしくは化学的方法により
表面の摩擦係数を小さくした材料の例としては、粗面化
処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム、ポ
リオレフィンフィルム（ホリエチレンフィルム、ポリプ
ロピレンフィルム等）などのような粗面化処理を施した
プラスチックフィルムを挙げることができる。ただし、
本発明において摩擦低減層として用いられる材料は上記
の材料に限定されるものではなく、表面の摩擦係数が小
さく、かつ接着などにより上記パネル上に設けることの
できるものであればいかなるものであってもよい。

また、たとえば、摩擦低減層は、支持体および蛍光体層
とからなる上記パネルの表面に潤滑剤を塗布することに
より形成されてもよい。本発明において使用することの
できる潤滑剤は、たとえば、公知の各種の潤滑剤から選
ぶことができるが、そのような潤滑剤の例としては、シ
リコンオイル、オレイン酸、ミルスチン酸、ステアリン
酸などの高級脂肪酸、高級脂肪酸のエステル、高級脂肪
酸の塩、およびフッ素系界面活性剤などを挙げることが
できる。

このほかに、摩擦低減層は上記パネルーヒにマット剤を
塗布するなどにより形成することも可能である。

本発明において、摩擦低減層はパネルの支持体側表面、
あるいは蛍光体層側表面、あるいはその両面上に旧設さ
れる。このうち、特に蛍光体層側表面には、損傷箇所で
の光の散乱、屈折などの光学上の問題から、本発明の摩
擦低減層が形成されているのが好ましく、得られるパネ
ルの感度および画質（鮮鋭度、粒状性など）の点から、
その形成は、１１７１滑剤を塗布することにより行なわ
れるのか特にＩｒましい。また、支持体側表面は光学的
な制約を受けないので、安定した防傷効果が得られる粗
面化したプラスチックフィルムからなる摩擦低減層が形
成されているのが好ましい。

なお、支持体側表面および／または蛍光体層側表面への
Ｊ〒擦低減層の形成は、必ずしも上記のように支持体と
この上に設けられた蛍光体層（あるいはさらに保護膜）
とから実質的に構成されたパネル上で直接行なう必要は
なく、支持体、予め別に形成された蛍光体層、あるいは
保護膜のそれぞれの表面に上記ｌ！ｆ擦低減層を形成し
た後、これらを接着剤を用いるなどして接合してもよい
。

本発明においては、上記のようにして摩擦低減層を設け
、その摩擦低減層の設けられたパネル表面の摩擦係数（
前述の測定方法により決定される動摩擦係数）が、０．
６以下となるようにする。

より好ましくは、０．５以下である。

本発明の放射線像変換パネルにおいては、パネルの搬送
性を高め、かつ、本発明の目的であるパネルの防傷性を
一層高めるために、上記のようにして形成されたパネル
の端縁のエツジを面取りしたのち、この面取りされたエ
ツジを含む該パネルの端面がポリマー被膜によって被覆
（縁貼り）されているのが好ましい。

放射線像変換パネルの面取りおよび縁貼りは、本出願人
による特願昭５７−８７７９９号明細書に記載されてい
るような方法を用いて行なうことができる。

すなわち、パネルの面取りは、搬送性を向上させるため
はは、パネルの進行方向の支持体側の端縁のエツジに施
されればよいがＪパネル表面の損傷を防止するためには
、パネルの支持体側のすべての端縁のエツジが面取りさ
れるのが好ましい。

また、蛍光体層側の端縁のエツジも面取りされることが
、パネルの搬送性および防傷性をより一層向トさせるの
には好ましい。

本発明において、支持体側の端縁のエツジとは、前述の
ように支持体の表面に摩擦低減層が形成されている場合
には、摩擦低減層を含めた支持体の端縁のエツジを意味
する。また、蛍光体層側の端縁のエツジにおいても、イ
ノ４′光体層表面（あるいは保護膜表面）に摩擦低減層
が形成されている場合には同様の意味を有する。また、
面取りとは、面取りされた部分が平面である場合および
湾曲した面である場合の両方を含むものとする。

なお、支持体側の面取りは、パネルの垂直方向に測定し
た場合支持体の厚さに対し１１５０〜ｌの範囲の比率で
あるのが好ましい。蛍光体層側が面取りされる場合も同
様に蛍光体層の厚さに対し１１５０〜ｌの範囲の比率で
あるのが好ましい。

また、支持体側の端縁りエツジとこのエツジに対向する
ｆＪｆ°光体層側の端縁のエツジの両方か血取りされる
場合においては、新たな角が形成されないように、支持
体側および蛍光体層側のうちの少なくとも一方の面取り
の範囲が比率で１未満であるのが望ましい。

次に、」二記のように面取りされた放射線像変換パネル
の端面にポリマー被膜からなる縁貼りを形成する。

縁貼り材料としては、ポリマー被膜材料として一般に知
られているものを使用することができるが、たとえば、
特願昭５６−１６８１４１号明細書に記載されているよ
うに１次のようなポリウレタン、アクリル系樹脂が挙げ
られる。

ポリウレタンとしては１分子鎖中にウレタン基−ｔｌ−
ＮＨ−Ｃｏｏ＋を有するポリマーが好ましく、４．４°
−ジフェニルメタンジイソシアネートと２．２゛−ジエ
チル−１，３−プロパンジオ−ルとの重付加反応生成物
、ヘキサメチレンジイソシアネート−と２−ｎ−ブチル
−２−エチル−１，３−プロパンジオールとの主付加反
応生成物、４゜４゛−ジフェニルメタンジイソシアネー
トとビスフェノールＡとの重付加反応生成物、およびヘ
キサメチレンジイソシアネートとレゾルシノールとの重
イ・１加反応生成物などが挙げられる。

アクリル系樹脂としては、アクリル酸、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メチルアク
リル酸、メチルメタアクリル酸などのホモポリマーまた
はコポリマー（たとえば、”７クリル酸・スチレンコポ
リマー、アクリル酸・メチルメタクリレートコポリマー
）が挙げられる。縁貼り材料として特に好ましいものは
メチルメタアクリル酸のホモポリマーであるポリメチル
メタクリレ−１・である。なお、アクリル系樹脂として
重合瓜が１０’〜５Ｘ１０５のものを使用するのが好ま
しい。

また、−１−記ポリウレタンあるいはアクリル系樹脂（
特にアクリル系ｖＡ脂）と種々のほかのポリマー材料（
ブレンド用ポリマー）とを組み合わせたものも縁貼り材
料として使用することができる。

ブレンド用ポリマーとして最も好ましいものは、塩化ビ
ニル・酢酸ビニルコポリマーである。そのような例とし
ては、塩化ビニルの含有率が７０〜９０％、重合度が４
００〜８００の塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマーを用
いたアクリル系樹脂と塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマ
ーとの混合物（混合比が１：１〜４：１（重量比）であ
る）が挙げられる。

次に本発明の実施例および比較例を記載する。

ただし、これらの各側は本発明を制限するものではない
。

［実施例１］ 輝尽性のユーロピウム賦活弗化臭化バリウム蛍光体（Ｂ
　ａ　ＦＢ　ｒ　：　Ｅ、ｕ）の粒子と線状ポリエステ
ル樹脂との混合物にメチルエチルケトンを添加し、さら
に硝化度１１．５％のニトロセルロースを呼加して蛍光
体粒子を分散状態で含有する分散液を調製した。次に、
この分子ｌｌｋ液に情酸トリクレジル、ｎ−ブタノール
、そしてメチルエチルケトンを添力臣したのち、プロペ
ラミキサーを用いて充分に攪拌混合して、蛍光体粒子が
均一に分散し、かつ粘度が２５〜３５ＰＳ　（２５℃）
の塗布液を−潤製した。

次に、ガラス板上に水平に置いたポリエチレンテレフタ
レートフィルム（支持体、厚み：２５０ｇｍ）の」−に
塗布液をドクターブレードを用いて均一に塗布した。そ
して塗布後に、塗膜が形成された支持体を乾燥器内に入
れ、この乾燥器の内部の温度を２５°Ｃから１００℃に
徐々に一ヒ昇させて、塗膜の乾燥を行なった。このよう
にして、支持体上に層Ｊ￥が３００ルＩｎの蛍光体層を
形成した。

次いで、この蛍光体層の上にポリエチレンテレフタレー
トの透明フィルム（厚み：１２ルｍ、ポリエステル系接
着剤が付与されているもの）を接着剤層側を下に向けて
置いて接着することにより、透明保護膜を形成した。

さらに、この保護膜の表面に、シリコンオイルを布を用
いて塗布したのち、乾拭きすることにより、保護膜」二
に摩擦低減層を形成した。

このようにして順に、支持体、蛍光体層、透明保護１１
シ、および摩擦低減層から構成された放射線像変換パネ
ルを製造した。

［実施例２］ 実施例１で用いた材料と同じものを用い、実施例１の方
法と同様な処理を行なうことにより、支持体上に蛍光体
層および１明保護膜を形成した。

この保Ｈ（％　ｆＪの表面に、ネオペンチルポリオール
脂肪酸エステル（ユニスターＨ−３８１、日本油脂（■
製）のメタノール溶液を布を用いて塗布したのち、乾拭
きすることにより、保護膜上に摩擦低減層を形成した。

このようにして順に、支持体、蛍光体層、透明保護膜、
および摩擦低減層から構成された放射線像変換パネルを
製造した。

［実施例３］ 実施例１で用いた材料と同じものを用い、実施例１の方
法と同様な処理を行なうことにより、支持体上に蛍光体
層および透明保護膜を形成した。

別に、ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：２
５ルｍ）の片面に、サンドブラスト処理を行なうことに
よって、凹みめ平均の深さが２ｐｍ、最大深ざが７ｐｍ
、そして開口部の口径の平均が２０　）ｔ、　ｍの多数
の凹みを形成することにより、表面を粗面化した。上記
の支持体の表面に接着剤層を介して、この粗面化された
ポリエチレンテレフタレートフィルムを粗面化された側
をにに向けて置いて貼り付けることにより、支持体上に
１￥擦低鍼層を形成した。

このようにしてｔ＋ａｉに、摩擦低減層、支持体、蛍光
体層、および透明保護膜から構成された放射線イ（ぐ変
換パネルを製造した。

［実施例４］ 実施例１で用いた材料と同じものを用い、実施例１の方
法と同様な処理を行なうことにより、支持体」二に蛍光
体層および透明保護膜を形成した。

別に、ポリエチレンテレフタレートフィルム（）’ｌ：
２５　ｇ　ｍ）の片面に、サンドブラスト処理を行なう
ことによって、凹みの平均の深さが０゜２μｍ、最大深
さが０　、８　ｇｍ、そして開口部の口径の平均が０．
５μｍの多数の凹みを形成することにより、表面を粗面
化した。上記の支持体の表面に接着剤層を介して、この
粗面化されたポリエチレンテレフタレートフィルムを粗
面化された側を上に向けて置いて貼り付けることにより
、支持体上に摩擦低減層を形成した。

このようにして順に、摩擦低減層、支持体、蛍光体層、
および透明保護膜から構成された放射線像変換パネルを
製造した。

［比較例１］ 実施例１で用いた材料と同じものを用い、実施例１の方
法と同様な処理を行なうことにより、支持体上に蛍光体
層および透明保護膜を形成した。

このようにして順に、支持体、蛍光体層、および透明保
護膜から構成された放射線像変換パネル（摩擦低減層は
付設されていない）を製造した。

上記のようにして製造した各々の放射線像変換パネルの
摩擦低減層表面（比較例１においては支持体表面および
保護膜表面）の摩擦係数を、前述の方法により測定した
。すなわち、ポリエチレンテレフタレートシートの上に
、放射線像変換パネルを２ｃｍＸ２ｃｍの正方形に切断
した拭材を摩擦低減層（あるいは、測定対象のパネル表
面）を下側にして置き、この試料の上に、試料の重量も
含めて１００ｇとなるように荷重をかけた９次に、この
荷重がかけられている試料を、引張り速度４ｃｍ／分に
て引張り、テンシロン（ＵＴＭ−１１−２０；東洋ホー
ルドウィン社製）を用いて温度２５°Ｃ，湿）Ｂｅｏ％
の条件下で、速度４ｃｍ／分の圧動状ｍ；にある試料の
引張力Ｆ　（ｇ）を測定した。この引張力Ｆと」二記の
荷重（１００ｇ）とから、パネルに設けられている摩擦
低減層（あるいは、１ｌＩ１１定対象のパネル表面）の
摩擦係数を、引張力／荷重のイ１へにより算出した。

次に、上記のようにして製造した各々の放射線像変換パ
ネルを、以下に記載する擦り傷試験により評価した。

まず、放射線像変換パネルを２５．２ｃｍＸ３０．３ｃ
ｍの長方形に切断して擦り傷試験用試料とした。次に、 （１）蛍光体層側表面にＷ擦低減層が設けられている場
合には、放射線像変換パネルの支持体側表面に使用され
ている材料と同一の材料（本実施例においては、ポリエ
チレンテレフタレートフィルム）からなる基材シートの
上に、試料の摩擦低減層を下側にして置いた。次に、こ
の試料を１００ｍの幅で１０００回擦ったのち、試料の
摩擦低減層の設けられた蛍光体層側表面を目視により判
定した。

（２）支持体側表面に摩擦低減層が設けられている場合
にも、同様に試料の摩擦低減層を下側にして置いて、こ
の試料を１０ｃｍの幅で１０００回擦った。ただし、こ
の擦り傷試験の結果は基材シートのポリエチレンテレフ
タレートフィルムの表面を目視により判定して行なった
。すなわち、この試Ｍでは、基材シートのポリエチレン
テレフタレートフィルムは、放射線像変換パネルの蛍光
体層側表面（保護膜）のモデルとも想定されることから
、このような計画方法を採用した。

ただし、比較例１の試料の場合には、試料の保護膜およ
び支持体を下側にして試験を行ない、北記と同様にして
それらの結果を評価した。

その結果を次のような三段階で表示した。

Ａ：擦り傷は殆ど生じていない Ｂ：擦り傷が多少は生じているが実用上問題のない程度
である Ｃ−Ｊぢてり傷が非常に多い 各々の放射線像変換パネルについて得られた結果を第１
表に示す。

第１表 摩擦係数　　　　防傷性 実施例１　　　　０．４４　　　　　　Ａ実施例２　　
　　０．４５　　　　　　Ａ実施例３　　　　０．４２
　　　　　　Ａ実施例４　　　　０．５０　　　　　　
Ｂ比較例１ａ　　　　０．６７　　　　　　Ｃ比較例１
ｂ　　　　Ｏ，６７Ｃ 計：比較例１ａは、保護膜を下側にした時のパネルの蛍
光体層側表面（保護膜）の擦り傷を評価した。比較例１
ｂは、支持体を下側にした時の基材シートの擦り傷を評
価した。

特許出願人　富士写真フィルム株式会社代理人　　　弁
理士　　　柳川泰男 手続補正書 昭和ｇｓ年年月１１７ 日　事件の表示 昭和５７年　特　許　卯第１８６６７４号２　発明の名
称　　　　　　放射線像変換パネル３　補正をする者 ４１件にの関係　　　　特許出願人 ４、代理人 ６、　補正により増加する発明の数　　　　　　なし明
細書の「発明の詳細な説明」の欄を下記の如く補正致し
ます。

記 一補皿剪−−補且隻一 （１）６頁１１行目　、パネル中の蛍光　→　削除体か
ら放出される 蛍光の散乱 以上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １゜支持体と、この支持体上に設けられた輝尽性蛍光体
   を分散状１ハ；で含有支持する結合剤からなる一１Ｉｆ
   光体層とから実質的に構成されている放射線像変換パネ
   ルにおいて、該パネルの支持体側表面および、）ｌ、光
   体層側表面のうちの少なくとも一方の表面に、摩擦係数
   が０．６以下の摩擦低減層が設けられていることを特徴
   とする放射線像変換パネル。 ２゜上記ＪＩ７！′擦低減層が、支持体側表面にのみ設
   けられていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
   載の放射線像変換パネル。 ３゜上記摩擦低減層が、蛍光体層側表面にのみ設けられ
   ていることを特徴とする特許請求の範囲第１　Ｊｆｊ記
   載の放射線像変換パネル。 ４゜上記摩擦低減層が、支持体側表面および蛍光体層側
   表面の双方に設けられていることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項記載の放射線像変換パネル。 ５゜上記摩擦低減層が、潤滑剤からなる層であることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第４項のいずれか
   の項記載の放射線像変換パネル。 ６゜上記摩擦低減層が、プラスチックフィルムからなる
   層であることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至＄
   ４項のいずれかの項記載の放射線像変換パネル。 ７゜上記放射線像変換パネルか、上記支持体側の端縁の
   エツジの少なくとも一部が面取りされ。 かつ、この面取りされたエツジを含む該パネルの端面が
   ポリマー被膜によって被覆されていることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項乃至第６項のいずれかの項記載の
   放射線像変換パネル。