JPH01134298A - 低屈折率層を介した保護層を有する放射線画像変換パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネルに
関するものであり、さらに詳しくは長期間の使用に耐え
うる放射線画像変換パネルに関するものである。

〔発明の背景〕

Ｘ線画像のような放射線画像は病気診断用などに多く用
いられている。

このＸ線画像を得るために、ハロゲン化銀感光材料に代
って蛍光体層から直接画像を取出すＸ線画像変換方法が
工夫されている。

この方法は、被写体を透過した放射線（一般にＸ線）を
蛍光体に吸収せしめ、しかる後、この蛍光体を例えば光
または熱エネルギーで励起することによりこの蛍光体が
上記吸収により蓄積している放射線エネルギーを蛍光と
して放射せしめ、この蛍光を検出して画像化する方法で
ある。

具体的には、例えば、米国特許３，８５９．５２７号及
び特開昭５５−１２１４４号には輝尽性蛍光体を用い可
視光線又は赤外線を輝尽励起光とした放射線画像変換方
法が示されている。

この方法は、支持体上に輝尽性蛍光体層（以後輝尽層と
略称）を形成した放射線画像変換パネル（以後変換パネ
ルと略称）を使用するもので、この変換パネルの輝尽層
に被写体を透過した放射線を当てて被写体各部の放射線
透過度に対応する放射線エネルギーを蓄積させて潜像を
形成し、しかる後にこの輝尽層を輝尽励起光で走査する
ことによって各部の蓄積された放射線エネルギーを放射
させてこれを光に変換し、この光の強弱による光信号に
より画像を得るものである。

この最終的な画像はバートコビイとして再生してもよい
し、ＣＲＴ上に再生してもよい。

この放射線画像変換方法において使用される変換パネル
は、放射線画像情報を蓄積した後輝尽励起光の走査によ
って蓄積エネルギーを放出するので、走査径再度放射線
画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能である
。

そこで、前記変換パネルは、得られる放射線画像の画質
を劣化させることなく長期間あるいは多数回繰返しの使
用に耐える性能を有することが望ましい。そのためには
前記変換パネル中の輝尽層が外部からの物理的あるいは
化学的刺激から十分に保護される必要がある。

従来の変換パネルにおいては、上記の問題の解決を図る
ため、変換パネルの支持体上の輝尽層面を被覆する保護
層を設ける方法がとられてきた。

この保護層は、たとえば特開昭５９−４２５００号に記
述されているように、保護層用塗布液を輝尽層上に直接
塗布して形成されるか、あるいはあらかじめ別途形成し
た保護層を輝尽層上に接着する方法により形成されてい
る。

一般的には有機高分子から成る薄い保護層が用いられて
いる。薄い保護層は変換パネルの鮮鋭性をほとんど低下
させないという利点がある。

輝尽層を有する変換パネルの鮮鋭性と保護層厚みの関係
を空間周波数１　（２ｐ／ｍＩＩ＋及び２１２ｐ／ｍｍ
のＭＴＦ（変調伝達関数）を用いて第１表に示す。

第１表 表に示すように保護層が厚いほど鮮鋭性が低下する。こ
の原因としては、入射した輝尽励起光の輝尽層表面での
反射散乱光が保護層−空気界面で反射され、輝尽層へ再
入射することが挙げられる。

保護層が厚いほど反射散乱光はより遠くまで到達し、対
象画素外の画素の情報を混みさせる。

Ｘ線撮影に用いる一般型の増感紙−フィルム系において
、ｌＱｐ／ｍｍの場合のＭＴＦは約６５％、２ｆｆｐ／
ｍｍの場合は約３５％を示すので、変換パネルに於ても
前記増感紙−フィルム系の数値より劣ることは好ましく
なく、従って保護層の厚さは１０μｍ以下が望ましい。

しかしながら、常用される有機高分子から成る薄い保護
層はある程度の水分及び／まＩ；は湿気に対し透過性で
あり、輝尽層が水分を吸収し、その結果、変換パネルの
放射線感度の低下あるいは輝尽励起光照射を受けるまで
の蓄積エネルギーの減衰が大きく、得られる放射線画像
の画質のばらつき及び／または劣化をもたらしていた。

例えば、厚さ１０μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（以下単にｒＰＥＴＪと略記する）の透湿度は約
６０（ｇ／ｍ”・２４ｈｒ）であり、１日に単位面積当
り６０ｇもの水分を透過する。膜厚ｌＯμｍの０ＰＰ（
延伸ポリプロピレン）では約１５（ｇ／ｍ２・２４ｈｒ
）である。保護層の透湿度としては１　（ｇ／ｍ”・２
４ｈｒ）以下であることが好ましく、これを実現するた
めには、ＰＥＴで約６００μｍ以上、ＯＰＰで約１５０
μｍ以上の厚さが必要となる。

また、前述のような薄い保護層を有する従来の変換パネ
ルにおいては、保護層の表面硬度が小さいため搬送時に
おける搬送ローラ等の機械部分との接触により保護層表
面に傷を生じたり、また薄い保護層では耐衝撃性が不充
分なため輝尽層中に亀裂、折れを生じ易く、得られる放
射線画像の画質が繰返し使用回数の増大とともに劣化す
る欠点がある。一方保護層を厚くすれば、薄いための欠
陥は消去できるが、前述のように鮮鋭性が低下する。こ
の相反する事象を越えて、鮮鋭性を損うことなく防湿性
、強度、耐衝撃性の面からの改良が望まれていた。

〔発明の目的〕 輝尽性蛍光体を用いた変換パネルにおける前記要求に沿
い、本発明の目的は画像の鮮鋭性を損うことなく輝尽層
を外部からの化学的刺激、特に水分に対して十分保護す
ることができ、輝尽層の高感度、高鮮鋭性及び高粒状性
を長期間にわたり維持し、良好な状態で使用することが
可能である耐久性及び耐用性の高い変換パネルを提供す
ることにある。

また本発明の他の目的は、画像の鮮鋭性を損うことなく
前記輝尽層を外部からの物理的刺激に対して十分保護す
ることにより長期及び繰返し使用に対する耐久性及び耐
用性を向上させた変換パネルを提供することにある。

〔発明の構成〕

前記本発明の目的は支持体上に輝尽性蛍光体層と保護層
を有する放射線画像変換パネルに於て、前記輝尽性蛍光
体層と保護層の間に保護層よりも低屈折率の層を設け、
且つ前記保護層が互いに吸湿性の異る少なくとも二層を
有することを特徴とする放射線画像変換パネルによって
達成される。

以下、本発明の詳細な説明する。

第１図は本発明の変換パネルの断面を模式的に表したも
のであり、ｌは保護層、２は低屈折率層、３は輝尽層、
４は支持体である。

以下に各構成要件についてさらに詳しく説明する。

本発明の保護層としては、透光性が良くシート状に形成
できるものを用いることができる。例えば石英、硼珪酸
ガラス、化学的強化ガラスなどの板ガラスや、ＰＥＴＳ
ＯＰＰ、ポリ塩化ビニルなどの有機高分子が挙げられる
。

本発明の保護層の厚さは、実用上はｌＯμＩから３ｍｍ
までである。良好な耐湿性と耐衝撃性を得るためには保
護層の厚さは１００μｍ以上が好ましく、特に５００μ
ｍ以上の保護層を設けた場合、耐久性。

耐用性にすぐれた変換パネルが得られて、いっそう好ま
しい。

また、保護層として板ガラスを用いた場合には、極めて
耐湿性にすぐれており特に好ましい。

本発明の保護層は互いに吸湿性の異なる少なくとも２つ
の層を有することにより、いっそうの耐湿性の向上を実
現することができる。

ここで「吸湿性が異なる」という表現は、保護層がＡ、
Ｂの２層よりなるとすれば、前記変換パネルが通常の使
用方法において曝されうるある気温のもとてのＡ層の平
衡吸湿等温曲線が該気温のもとでのＢ層の平衡吸湿等温
曲線と一致しないということを表している。

第２図（１）に２層の保護層を有する変換パネルの構造
例を断面図として示す。ｌａおよびｌｂは保護層であり
、輝尽層に接するｌａは相対的に吸湿性の大きい保護層
を、そして最も外側のｌｂは相対的に吸湿性の小さい保
護層を表している。

また第１図と同様に２は低屈折率層、３は輝尽層、４は
支持体である。保護層を第２図（１）のごとき層構成に
することにより、変換パネルの耐湿性を大幅に向上する
ことができ、とくに好ましい。

すなわち、変換パネルの外部に存在する水あるいは水蒸
気は、まず保護層１ｂにより変換パネル内部への浸透を
阻止される。しかし保護層１ｂとして有機高分子を用い
た場合には水分を完全に遮断することは不可能であり、
常にある程度の水分透過量が存在する。その水分透過量
は一般に外界と保護層１ｂの内側との湿度差に比例して
増大する。

保護層ｔｂを透過した水分は保護層１ａの表面に到達す
るが、保護層１ａはその吸湿性が大きいため、前記水分
を層のｌｂと接する側の表面および層の内部において保
持し、輝尽層への水分の到達を防ぐ機能を果たす。結果
として前記輝尽層の吸水による劣化は従来の変換パネル
に比べて減少する。

さらに、第２図（１）に示す層構造を有する複合保護層
は、保護層用材料の適切な選択により、ｌｂ→ｌａの方
向の透湿度が非常に小さく、かつｌａ→ｌｂの方向の透
湿度が比較的大きい性質を有する複合保護層とすること
ができ、好ましい。

一般に吸湿性の小さい膜は透湿係数の湿度依存性が小さ
く、吸湿性の大きい膜は透湿係数の温度依存性が大きい
という性質を有する。したがって保護層１ｂは透湿係数
の湿度依存性が小さく保護層Ｉａは透湿係数の温度依存
性が大であるため、両者の複合系は、よく知られている
複合膜の透湿の二面性を示す。すなわちｌｂが高湿側に
接するように配した場合の透湿度はｌａを高湿側におい
た場合の透湿度より小となる。保護層用材料の適切な組
合せにより両道湿度間の差を拡大すれば、耐湿性にすぐ
れ、かつ輝尽性層が水分を吸収した場合には低湿度の外
気に曝することにより速やかに該水分を放出する変換パ
ネルを作製することができる。

また、保護層１ｂとして板ガラスを用いた場合パネル表
面からの水分の侵入は実質的には完全に遮断することが
可能である。しかしながら、保護層と支持体の側縁部か
ら水分が侵入することもある。その際吸湿性の高い保護
層１ａは水分を吸着し輝尽層への水分の到達を阻碍する
。

第２図（２）に、本発明の変換パネルの構造の別の一例
を示す。第２図（２）に示す変換パネルは、輝尽層に接
する相対的に吸湿性の小さい保護層ｌｂとその外側の相
対的に吸湿性の大きい保護層１ａとを有する。前記放射
線画像変換パネルの外界に存在する水分は吸湿性の大き
い保護層１ａの表面および内部で保持され、さらに保護
層１ａが保持しきれずに透過した水分は吸湿性の小さい
保護層ｉｂにより輝尽層への浸透を阻止される。

保護層１ｂは、とくに透湿性の小さい材料より成ること
が好ましい。また、保護層１ａの外側にさらに透湿性の
小さいもうひとつの保護層を設けてもよい。

本発明の変換パネルにおける保護層の構成は第２図に示
した例に限るものではない。

本発明のパネルにおいて、輝尽層の表面を被覆する二層
以上の保護層のうち少なくとも最も外側の保護層は表面
硬度の高い層であることが好ましい。表面硬度の高い保
護層を設けることにより、前記変換パネルが繰返し使用
中にパネル搬送系その他の機械部分等から受ける物理的
衝撃による傷の発生と、それに伴う放射線画像の画質の
劣化を防止することができる。

本発明における保護層として有機高分子を用いる場合、
その形成方法としては以下のような方法があげられる。

第１の方法として、特開昭５９−４２５００号に開示さ
れているように透明性の高い高分子物質を適当な溶媒に
溶解して調整した溶液を保護層を設置すべき面に塗布し
、乾燥させて保護層を形成する方法がある。

第２の方法として、同じく特開昭５９−４２５００号に
開示されているように透明な高分子物質より成る薄膜の
片面に適当な接着剤を付与し、保護層を設置すべき面に
設置する方法がある。

第３の方法としては、特開昭６１−１７６９００号に述
べられているように放射線硬化型樹脂または熱硬化型樹
脂の少なくともいずれか一方を含有する塗布液を保護層
を設置すべき面に塗布し、特開昭６１−１７６９００号
に示されたような装置を用いて紫外線あるいは電子線な
どの放射線の照射および／または加熱を施して前記塗布
液を硬化させる方法がある。

尚、本発明の変換パネルにおける少なくとも二層の保護
層群は、そのすべてが同一の形成方法により形成されて
いる必要はない。

本発明の変換パネルにおいて、保護層は前記のように互
いに吸湿性の異なる二つ以上の層の組合せより成る。前
記保護層のうち、相対的に吸湿性の小さい保護層用に用
いられる材料としては、たとえば板ガラス、ポリエチレ
ン、ポリ四弗化エチレン、ポリ三弗化−塩化エチレン、
ポリプロピレン、四弗化エチレン−六弗化グロビレン共
重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルイソブチルエ
ーテル、ポリエチレンテレフタレート、塩化ビニリデン
−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニト
リル共重合体、塩化ビニリデン−イソブチレン共重合体
、ポリスチレン或はエポキシ系、アクリル系ポリマ等が
好ましく、特に板ガラス、ポリエチレン、ポリ四弗化エ
チレンが好ましい。

また相対的に吸湿性の大きい保護層用に用いられる材料
としては、たとえばポリビニルアルコール、エチレン−
ビニルアルコール共重合体、ポリアクリルアミド、ポリ
グリシン、ポリメタクリル酸、ポリアクリル酸、ポリビ
ニルピロリドン、ポリビニルアミン、セルロースジアセ
テート、セルローストリアセテート、ナイロン４、ナイ
ロン６、ナイロン１２、ナイロン６６、ポリ酢酸ビニル
、ポリメチルアリルアルコールなどが好ましく、特にポ
リビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重
合体が好ましい。

本発明の実施態様中とくに好ましいのは、前記吸湿性の
小さい保護層用の材料として挙げた一群の材料の中から
少なくとも一種類を選び、また前記吸湿性の大きい保護
層用の材料として挙げたー群の材料の中から少なくとも
一種類を選んで前者を外側、後者を内側すなわち輝尽層
に接する側に配置した複合保護層を有する変換パネルで
ある。

保護層は輝尽励起光及び輝尽発光を効率よく透過するた
めに、広い波長範囲で高い透過率を示すことが望ましく
、透過率は８０％以上が好ましい。

例えば石英ガラス、硼珪酸ガラスなどが挙げられる。硼
珪酸ガラスは３３０ｎｍ〜２．６μＩの波長範囲で８０
％以上の透過率を示し、石英ガラスではさらに短波長に
おいても高い透過率を示す。

また、保護層の表面にＭｇＦ　、などの反射防止層を設
けると、輝尽励起光及び輝尽性発光を効率よく透過する
とともに鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好ましい
。保護層の屈折率は特に規定しないが、実用的に用い得
る材質では１．４から２．０の間にあるものが多い。

本発明の低屈折率層は、保護層よりも屈折率の低い材質
からなり、この層が存在することにより、保護層を厚く
しても鮮鋭性の低下を小さくすることができる。例えば
第２表に示す物質を用いることができ、気相堆積法で形
成された薄膜の状態で用いるのが好ましい。あるいは、
第３表に示す液体層を用いることもできる。また、本発
明の低屈折率層として、空気、窒素、アルゴンなどの気
体層や真空層など屈折率が実質的に１である層を用いる
と、鮮鋭性の低下を防止する効果が高く特に好ましい。

本発明の低屈折率層の厚さは０．０５μｍから３ｆｆｉ
ｍまでが実用的である。

第２表 第３表 本発明の低屈折率層は、輝尽層に接していても離れてい
てもよい。低屈折率層と輝尽層を密着させるためには、
接着剤を用いるのが１つの方法であるが、その場合、接
着剤の屈折率は輝尽層の屈折率または低屈折率層の屈折
率に近いことが好ましい。

本発明において低屈折率層として、気体層や真空層を設
ける場合には、例えば第３図（１）のように変換パネル
の側縁部にスペーサ５を設けて、一定の厚みを保つ方法
がある。また第３図（２）のように、保護層と輝尽層の
間にスペーサ材６を散布することにより、気体層または
真空層を設けてもよい。スペーサ材としては、例えば液
晶パネルのスペーサ材として用いられている直径数μｍ
の微細ガラスファイバ片を用いることができる。

本発明において用いる輝尽性蛍光体は、最初の光もしく
は高エネルギー放射線が照射された後に、先約、熱的、
機械的、化学的または電気的等の刺激（輝尽励起）によ
り、最初の光もしくは高エネルギー放射線の照射量に対
応した輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的な面か・
ら好ましくは５００ｎｍ以上の輝尽励起光によって輝尽
発光を示す蛍光体である。該輝尽性蛍光体としては、例
えば特開昭４８−８０４８７号に記載されている　Ｂａ
５Ｏａ：ＡＸｓ特開昭４８−８０４８９号に記載されて
いる　５ｒＳＯ，：ＡＸ、特開昭５３−３９２７７号の
Ｌｔ２Ｂ４０７　：　Ｃｕ、Ａｇ等、特開昭５４−４７
８８３号のＬｉ！０　・（ＪＯ２）ｘ：Ｃｕ及びＬｉ、
Ｏ・（Ｂ、０２）ｘ：Ｃｕ。

Ａｇ等、米国特許３，８５９，５２７号のＳｒＳ：Ｃｅ
、　Ｓｓ、　ＳｒＳ：　Ｅｕ、Ｓｍ、　Ｌａ２Ｏ２Ｓ：
Ｅｕ、Ｓｓ及び（Ｚｎ、　Ｃｄ）Ｓ：Ｍｎ、で表される
蛍光体が挙げられる。

また、特開昭５５−１２１４２号に記載されているＺｎ
Ｓ：Ｃｕ、　Ｐｂ蛍光体、一般式ＢａＯ・ｘＡＱ、ｏ、
：Ｅｕで表されるアルミン酸バリウム蛍光体、及び一般
式Ｍ］ｌ０−ｘＳｉＯ２：Ａで表されるアルカリ土類金
属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。また、特開昭５５−１
２１４３号に記載されている一般式 ％式％： で表されるアルカリ土類弗化ハロゲン化物蛍光体、特開
昭５５−１２１４４号に記載されている一般式％式％： で表され蛍光体、特開昭５５−１２１４５号に記載され
ている一般式 ％式％： で表される蛍光体、特開昭５５−８４３８９号に記載さ
れている一般式 ％式％ で表される蛍光体、特開昭５５−１６００７８号に記載
されている一般式 ％式％： で表される希土類元素付活２価金属フルオロハライド蛍
光体、一般式ＺｎＳ：Ａ、　ＣｄＳ：Ａ、　（Ｚｎ、　
Ｃｄ）ＳＥＡ。

ＳＥＡ、　ＺｎＳ：Ａ、Ｘ及ＣｄＳ：Ａ、Ｘ−ｃ’表サ
する蛍光体、特開昭５９−３８２７８号に記載されてい
る下記いづれかの一般式 ％式％： ：） で表される蛍光体、下記いづれかの一般式ｎＲｅＸ、　
ＩＩｍＡＸ’、　：　ｘＥｕｎＲｅｘ３　・　ＩＩＩＡ
Ｘノ、　　：　　ｘＥｕ、　　ｙｓｍで表される蛍光体
、及び下記一般式 ％式％： で表されるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着、スパッタリング等
の方法で輝尽層を形成させやすく好ましい。

しかし、本発明に係る変換パネルに用いられる輝尽性蛍
光体は、前述の蛍光体に限られるものではなく、放射線
を照射した後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示
す蛍光体であればいかなる蛍光体であってもよい。

本発明の変換パネルは前記の輝尽性蛍光体の少なくとも
一種類を含む一つ若しくは二つ以上の輝尽層から成る輝
尽層群であってもよい。また、それぞれの輝尽層に含ま
れる輝尽性蛍光体は同一であってもよいが異なっていて
もよい。

本発明の輝尽層は塗布方法、気相成長方法のいづれによ
ってもよい。

本発明のパネルの輝尽層の層厚は、目的とする変換パネ
ルの放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によっ
て異なるが、結着剤を含有しない場合ｌＯμｌ１ｌ−１
０００μｍの範囲、さらに好ましくは２０μｍ〜８００
μｍの範囲から選ばれるのが好ましく、結着剤を含有す
る場合で２０μ１ｍ−１０００μｌの範囲、さらに好ま
しくは５０μｍ〜５００μｍの範囲から選ばれるのが好
ましい。

本発明の変換パネルの支持体としては各種高分子材料、
ガラス、セラミックス、金属等が用いられる。

高分子材料としては例えばセルロースアセテートフィル
ム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカ
ーボネート等のフィルムがあげられる。金属としては、
アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シートまたは金
属板或は該金属酸化物の被覆層を有する金属シートまた
は金属板があげられる。ガラスとしては化学的強化ガラ
スや結晶化ガラスなどがあげられる。またセラミックス
としてはアルミナやジルコニアの焼結板などがあげられ
る。

また、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等によ
って異なるが、一般的には８０μｍ〜２０００μ冨であ
り、取り扱い上の点が、さらに好ましくは８０μｍ−１
０００μ肩である。

これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性蛍
光体層との接着性を向上させる目的でマット面としても
よい。また、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、個
々に独立した微小タイル状板を密に配置した表面構造と
してもよい。

さらに、これら支持体上には、輝尽層との接着性を向上
させる目的で輝尽層が設けられる面に下引層を設けても
よいし、必要に応じて光反射層、光吸収層等を設けても
よい。

本発明の変換パネルは、よりいっそうの耐湿性を得るた
めには、保護層と支持体の側縁部を封止することが望ま
しい。封止の方法としては例えばガラス融着や接着剤を
用いる方法があげられる。

接着剤としては、例えばエポキシ樹脂系接着剤などがあ
げられる。尚接着剤は透湿度の低いものが好ましい。

また本発明に係る保護層は特願昭６１−２２０４９２号
に述べられているように支持体と輝尽層からなる変換パ
ネル母体を高分子フィルムよりなる保護袋に収納し側縁
部をシールした形態でもよい。この場合低屈折率層は予
め輝尽層表面に形成するか保護袋の輝尽層に対峙する面
に形成しておくことができる。低屈折率層に気体層、真
空層を用いる場合には保護袋の輝尽層に対峙する部分に
剛性をもたせスペーサを輝尽層間に介在させればよい。

前記シール方法としては、ヒートシール法、高周波シー
ル法、超音波シール法などが好ましいが、接着剤を用い
た圧着もしくは熱圧する方法を用いてもよい。

本発明の変換パネルにおいて、保護層は支持体の役割を
兼ねることもできる。その場合には、本発明でいう支持
体は実質的に輝尽層を支持する能力を有しなくてもよい
。

本発明の変換パネルは第４図に概略的に示される放射線
画像変換方法に用いられる。

すなわち、第４図において、４１は放射線発生装置、４
２は被写体、４３は本発明に係る変換パネル、４４は輝
尽励起光源、４５は該変換パネルより放射された輝尽蛍
光を検出する光電変換装置、４６は４５で検出された信
号を画像として再生する装置、４７は再生された画像を
表示する装置、４８は輝尽励起光と輝尽蛍光とを分離し
、輝尽蛍光のみを透過させるフィルタである。尚４５以
降は４３からの光情報を何らかの形で画像として再生で
きるものであればよく、上記に限定されるものではない
。

第４図に示されるように、放射線発生装置４１からの放
射線は被写体４２を通して変換パネル４３に入射する。

この入射した放射線はパネル４３の輝尽層に吸収され、
そのエネルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形
成される。

次にこの蓄積像を輝尽励起光源４４からの輝尽励起光で
励起して輝尽発光として放出せしめる。

放射される輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギ
ー量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管
等の光電変換装置４５で光電変換し、画像再生装置４６
によって画像として再生し画像表示装置４７によって表
示することにより、被写体の放射線透過像を観察するこ
とができる。

〔実施例〕

次に実施例によって本発明を説明する。

実施例　１〜４及び比較例（１）〜（４）５００μｍ厚
の結晶化ガラス支持体に、蒸着装置でアルカリハライド
蛍光体（ＲｂＢｒ；０−０００６Ｔα）を３００μＩ蒸
着した。

次いで前記輝尽層上に保護層及び低屈折率層を第４表の
組合せで設けた。ただし表中の（）内の数値は屈折率を
示す。

第４表中の保護層はいずれも吸湿性の異なる２層の保護
層を接着剤を用いて接着して形成したものである。

第４表中のエバールＥＦＦはエチレン−ビニルアルコー
ル共重合体の商品名（（株）クラレ製）であり、エチレ
ン共重合比率は３２ＩＯα％である。

また比較例として実施例と同様の支持体、輝尽層を用い
低屈折率層を設けることなく輝尽層に保護層を接着剤で
密着させた比較例（１）、（２）及び（３）を第５表の
如く設けた。

また−層からなる保護層と低屈折率層を設けた比較例 いずれの試料においても支持体上に蒸着した輝尽層を８
０℃、ｌｏ−３ｔｏｒｒの条件で真空乾燥を１時間行っ
た後に保護層を設け、側縁部を封止した。実施例１及び
２はエバールＥＦＦを輝尽層側とし、第３図（１）のご
とく４００μｍ厚のガラススペーサを設置することによ
り輝尽層と保護層との間に１００μｍの空気層を設け、
保護層と支持体の側縁部をエポキシ樹脂系接着剤で封止
した。

実施例３．４はポリエチレンを外側とした保護袋中に輝
尽層を蒸着した支持体を収納し、真空密封した。比較例
（４）はポリエチレンの保護袋ヲ用いて実施例３．４と
同様の方法で真空密封した。

比較例（１）、（２）、（３）は保護層を輝尽層に接着
し、保護層と支持体の側縁部をエポキシ樹脂系接着剤で
封止した。

前記の試料につき、耐湿性及びＭＴＦによる鮮鋭性のチ
エツクを行った。

実施例１．２．３．４及び比較例（２）は良好な耐湿性
を示し、気温４０°Ｃ１湿度９０％の条件下に４８時間
放置しても放射線感度の低下は全くおこらず、輝尽励起
光照射を受けるまでの蓄積エネルギーの減衰もわずかで
あった。

比較例試料（１）、（３）及び（４）では輝尽励起光照
射を受けるまでの蓄積エネルギーの減衰が非常に大きく
、実用上問題となる。

第６表に各試料の空間周波数ｌＱｐ／ｌｌｌｌ１１と２
　Ｑｐ／ｍｍにおけるＭＴＦを示した。比較例（２）、
（３）は比較的厚い保護層を設けたことによって著しく
鮮鋭性が低下しているのに対し、試料１．２．３．４及
び（４）は厚い保護層を有しているにもかかわらず、鮮
鋭性の低下は少なかった。

試料１．２．３．４は薄膜の保護層を有し鮮鋭性の高い
試料（１）と同程度以上の鮮鋭性を示すとともにすぐれ
た耐湿性を示した。

第６表 〔発明の効果〕 本発明は支持体上に輝尽性蛍光体層保護層を有する放射
線画像変換パネルに於て、前記輝尽性蛍光体層と保護層
の間に保護層よりも低屈折率の層を設け、かつ保護層が
互いに吸湿性の異なる少なくとも二つの層を有すること
により鮮鋭性を損うことなく輝尽層を外部からの化学的
及び物理的刺激から十分保護し、耐久性、耐用性にすぐ
れた変換パネルを提供することができた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の基本構成を表す図、第２図、第３図は
本発明の構成例を表す図である。 第４図は変換パネルを用いる放射線画像変換方法の説明
図である。 ｌ及びｌａ、ｌｂ・・・保護層 ２・・・低屈折率層 ３・・・輝尽性蛍光体層 ４・・・支持体

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 支持体上に輝尽性蛍光体層と保護層を有する放射線画像
   変換パネルに於て、前記輝尽性蛍光体層と保護層の間に
   保護層よりも低屈折率の層を設け、かつ前記保護層が互
   いに吸湿性の異なる少なくとも二つの層を有することを
   特徴とする放射線画像変換パネル。