JPH01134299A - 物性を規制した中間層を有する放射線画像変換パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネルに
関するものであり、さらに詳しくは長期間の使用に耐え
うる放射線画像変換パネルに関するものである。

〔発明の背景〕

Ｘ線画像のような放射線画像は病気診断用などに多く用
いられている。

このＸ線画像を得るために、ハロゲン化銀感光材料に代
って蛍光体層から直接画像を取出すＸ線画像変換方法が
工夫されている。

この方法は、被写体を透過した放射線（一般にＸ線）を
蛍光体に吸収せしめ、しかる後、この蛍光体を例えば光
または熱エネルギーで励起することによりこの蛍光体が
上記吸収により蓄積している放射線エネルギーを蛍光と
して放射せしめ、この蛍光を検出して画像化する方法で
ある。

具体的には、例えば、米国特許３，８５９．５２７号及
び特開昭５５−１２１４４号には輝尽性蛍光体を用い可
視光線又は赤外線を輝尽励起光とした放射線画像変換方
法が示されている。

この方法は、支持体上に輝尽性蛍光体層（以後輝尽層と
略称）を形成した放射線画像変換パネル（以後変換パネ
ルと略称）を使用するもので、この変換パネルの輝尽層
に被写体を透過した放射線を当てて被写体各部の放射線
透過度に対応する放射線エネルギーを蓄積させて潜像を
形成し、しかる後にこの輝尽層を輝尽励起光で走査する
ことによって各部の蓄積された放射線エネルギーを放射
させてこれを光に変換し、この光の強弱による光信号に
より画像を得るものである。

この最終的な画像はバートコビイとして再生してもよい
し、ＣＲＴ上に再生してもよい。

この放射線画像変換方法において使用される変換パネル
は、放射線画像情報を蓄積した後輝尽励起光の走査によ
って蓄積エネルギーを放出するので、走査径再度放射線
画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能である
。

そこで、前記変換パネルは、得られる放射線画像の画質
を劣化させることなく長期間あるいは多数回繰返しの使
用に耐える性能を有することが望ましい。そのためには
前記変換パネル中の輝尽層が外部からの物理的あるいは
化学的刺激から十分に保護される必要がある。

従来の変換パネルにおいては、上記の問題の解決を図る
ため、変換パネルの支持体上の輝尽層面を被覆する保護
層を設ける方法がとられてきた。

この保護層は、たとえば特開昭５９−４２５００号に記
述されているように、保護層用塗布液を輝尽層上に直接
塗布して形成されるか、あるいはあらかじめ別途形成し
た保護層を輝尽層上に接着する方法により形成されてい
る。

一般的には有機高分子から成る薄い保護層が用いられて
いる。薄い保護層は変換パネルの鮮鋭性をほとんど低下
させないという利点がある。

輝尽層を有する変換パネルの鮮鋭性と保護層厚みの関係
を空間周波数ｌ　Ｑｐ／ｍｅ及び２　Ｑｐ／ｍｍのＭＴ
Ｆ（変調伝達関数）を用いて第１表に示す。

表に示すように保護層が厚いほど鮮鋭性が低下する。こ
の原因としては、入射した輝尽励起光の輝尽層表面での
反射散乱光が保護層−空気界面で反射され、輝尽層へ再
入射することが挙げられる。

保護層が厚いほど反射散乱光はより遠くまで到達し、対
象画素外の画素の情報を混入させる。

Ｘ線撮影に用いる一般をの増感紙−フィルム系において
、１１２ｐ／ｍｍの場合のＭＴＦは約６５％、２Ｑｐ／
ｍｍの場合は約３５％を示すので、変換パネルに於ても
前記増感紙−フィルム系の数値より劣ることは好ましく
なく、従って保護層の厚さは１０μｍ以下が望ましい。

しかしながら、常用される有機高分子から成る薄い保護
層はある程度の水分及び／または湿気に対し透過性であ
り、輝尽層が水分を吸収し、その結果、変換パネルの放
射線感度の低下あるいは輝尽励起光照射を受けるまでの
蓄積エネルギーの減衰が大きく、得られる放射線画像の
画質のばらつき及び／または劣化をもたらしていた。

例えば、厚さ１０μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（以下単にｒＰＥＴＪと略記する）の透湿度は約
６０（ｇ／ｍ”・２４ｈｒ）であり、１日に単位面積当
り６０ｇもの水分を透過する。膜厚ｌＯμｍの０ＰＰ（
延伸ポリプロピレン）では約１５（ｇ／ｍ’・２４ｈｒ
）である。保護層の透湿度としては１　（ｇ／ｍ”・２
４ｈｒ）以下であることが好ましく、これを実現するた
めには、ＰＥＴで約６００μｍ以上、ＯＰＰで約１５０
μｍ以上の厚さが必要となる。

また、前述のような薄い保護層を有する従来の変換パネ
ルにおいては、保護層の表面硬度が小さいため搬送時に
おける搬送ローラ等の機械部分との接触により保護層表
面に傷を生じたり、また薄い保護層では耐衝撃性が不充
分なため輝尽層中に亀裂、折れを生じ易く、得られる放
射線画像の画質が繰返し使用回数の増大とともに劣化す
る欠点がある。−刃保護層を厚くすれば、薄いだめの欠
陥は消去できるが、前述のように鮮鋭性が低下する。こ
の相反する事象を越えて、鮮鋭性を損うことなく防湿性
、強度、耐衝撃性の面からの改良が望まれていた。

〔発明の目的〕

輝尽性蛍光体を用いた変換パネルにおける前記要求に沿
い、本発明の目的は画像の鮮鋭性を損うことなく輝尽層
を外部からの化学的刺激、特に水分に対して十分保護す
ることができ、輝尽層の高感度、高鮮鋭性及び高粒状性
を長期間にわたり維持し、良好な状態で使用することが
可能である耐久性及び耐用性の高い変換パネルを提供す
ることにある。

また本発明の他の目的は、画像の鮮鋭性を損うことなく
前記輝尽層を外部からの物理的刺激に対して十分保護す
ることにより長期及び繰返し使用に対する耐久性及び耐
用性を向上させた変換パネルを提供することにある。

〔発明の構成〕

前記本発明の目的は、支持体上に輝尽性蛍光体層と保護
層を有する放射線画像変換パネルに於て、前記輝尽性蛍
光体層と保護層の間に少くとも２層の中間層を設け保護
層よりも低屈折率の第１中間層、第１中間層と輝尽性蛍
光体層との間に、第１中間層よりも高屈折率の第２中間
層を設け、更に該第２中間層は吸湿性が高いことを特徴
とする放射線画像変換パネルによって達成される。

以下、本発明の詳細な説明する。

第１図は本発明の変換パネルの断面を模式的に表したも
のであり、ｌは保護層、２は第１中間層、３は第２中間
層、４は輝尽層、５は支持体である。

以後、第１中間層を低屈折率層、第２中間層を高屈折率
層と呼ぶことがある。本発明では、前記の如く保護層と
輝尽層間に介在する媒体に屈折率の大小と光路に関する
前後関係を与えることにより、保護層を厚くても鮮鋭性
の低下を小さくする効果を与えることができる。

特開昭６２−６３９２９号では像蓄積層の前にフィルタ
手段を備えることにより、像蓄積層に吸収される励起光
を多くして読取感度の増加を企てた像記録読取装置が開
示されている。本発明では前記発明とは技術的思想を異
にし、画像の鮮鋭性を損うことなく、耐久性及び耐用性
にすぐれた変換パネルを提供することを目的としている
。

以下に各構成要件についてさらに詳しく説明する。

本発明の保護層としては、透光性が良くシート状に形成
できるものを用いることができる。例えば石英、硼珪酸
ガラス、化学的強化ガラスなどの板ガラスや、ＰＥＴ１
０ＰＰ、ポリ塩化ビニルなどの有機高分子が挙げられる
。

本発明の保護層は単一層であってもよいし多層でもよく
、材質の異なる２種類以上の層からなっていてもよい。

例えば、２層以上の有機高分子膜を複合したフィルムを
用いることができる。このような複合高分子フィルムの
製法としては、ドライラミネート、押出ラミネートまた
は共押出コーティングラミネートなどの方法があげられ
る。２層以上の保護層の組合せとしては有機高分子同志
に限られるものではなく、板ガラス同志や板ガラスと有
機高分子層などが挙げられる。例えば、板ガラスと高分
子層とを組合せる方法としては、保護層用塗布液を板ガ
ラス上に直塗布して形成するか、あるいは予め別途形成
した高分子保護層を板ガラス上に接着する方法があげら
れる。なお、２層以上の保護層は互いに密着状態にあっ
てもよいし離れていてもよい。

本発明の保護層の厚さは、実用上は１０μｍから３ｍｍ
までである。良好な耐湿性と耐衝撃性を得るためには保
護層の厚さは１００μｍ以上が好ましく、特に５００μ
ｍ以上の保護層を設けた場合、耐久性。

耐用性にすぐれた変換パネルが得られて、いっそう好ま
しい。

また、保護層として板ガラスを用いた場合には、極めて
耐湿性にすぐれており特に好ましい。

保護層は輝尽励起光及び輝尽発光を効率よく透過するた
めに、広い波長範囲で高い透過率を示すことが望ましく
、透過率は８０％以上が好ましい。

例えば石英ガラス、硼珪酸ガラスなどが挙げられる。硼
珪酸ガラスは３３０ｎｍ〜２．６μｍの波長範囲で８０
％以上の透過率を示し、石英ガラスではさらに短波長に
おいても高い透過率を示す。

また、保護層の表面にＭｇＦ２などの反射防止層を設け
ると、輝尽励起光及び輝尽性発光を効率よく透過すると
ともに鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好ましい。

保護層の屈折率は特に規定しないが、実用的に用い得る
材質では１．４から２．０の間にあるものが多い。

本発明の低屈折率層は、保護層よりも屈折率の低い材質
からなる。例えば第２表に示す物質を用いることができ
、気相堆積法で形成された薄膜の状態で用いるのが好ま
しい。あるいは、第３表に示す液体層を用いることもで
きる。また゛、本発明の低屈折率層として、空気、窒素
、アルゴンなどの気体層や真空層など屈折率が実質的に
１である層を用いると、鮮鋭性の低下を防止する効果が
高く特に好ましい。

本発明の低屈折率層の厚さは０．０５μｍから３ｍｍま
でが実用的である。

第３表 本発明における高屈折率層は低屈折率層よりも屈折率の
高い物質からなる。例えばＰＥＴなどの有機高分子フィ
ルムを用いてもよいし、反射防止膜などに使用される蒸
着物質を用いてもよい。蒸着物質としては例えば第４表
のようなものが可能である。

第４表 物　質　　　　　屈折率 ＡＱｚＯｓ　　　　　　　１．６２ Ｓｂ２０３　　　　　　２．０４ ＣｅＯ２２，４２ ＣｅＦ、　　　　　　　　１．６３ Ｌａ２０３　　　　　　１．９５ ＬａＦ、　　　　　　　　１．５９ ｐｂｐ、　　　　　　　　１．７５ ＮｄＦ、　　　　　　　　１．６０ ＰｒａＯ＋　１　　　　　　１．９２ Ｓｉ０　　　　　　　２．０ ＳＩＯ□　　　　　　　１．４６ ＴｉＯ□　　　　　　　２．２〜２．７Ｔｈｅ！　　　
　　　　　１．８ ＴｈＦ、　　　　　　　　１．５２ ＺｎＳ　　　　　　　　　　　　　　２．３５ＺｒＯｔ
　　　　　　　　　　　　　２．１更に加えて高屈折率
層として吸湿性の高い物質を用いるとよりいっそうの高
耐湿性を付与することができる。ここで、吸湿性とは平
衡吸湿率のことである。

第１図における高屈折率層３に吸湿性の高い物質を用い
ると保護層ｌと低屈折層２を透過した水分及び／または
変換パネル側縁部より透過した水分を高屈折率層が吸着
保持し、輝尽層への水分の到達を防ぐ機能を果たす。あ
るいは、変換パネル製造時に輝尽層に吸着していた水分
を高吸湿性の第２中間層が奪取り輝尽層をより乾燥させ
る機能も果たす。したがって前述のように比較的厚く透
湿度の低い保護層を用いなおかつ高屈折率層（第２中間
層）に高吸湿性の物質を用いることにより、すぐれた耐
湿性を有する変換パネルを製造することができる。第２
中間層の平衡吸湿率は高いほど好ましい。第２中間層の
気温２５℃相対湿度６５％における平衡吸湿率は実用的
には１％以上であり、２％以上が好ま・しく、５％以上
のものは特に好ましい。吸湿性の高い第２中間層用の材
料としては、例えば、有機高分子材料の中から選ぶこと
ができる。比較的吸湿性の高い有機高分子としては、例
えば、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポ
リグリシン、ポリメタクリル酸、ポリアクリル酸、ポリ
ビニルピロリドン、ポリビニルアミン、セルロースジア
セテート、セルローストリアセテート、ナイロン４、ナ
イロン６、ナイロン１２゛、ナイロン６６、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリメチルアリルアルコールなどが好ましい。尚
、吸湿性の高い第２中間層の材料は有機高分子に限るの
もではなく、平衡吸湿率の高いものであればなんでもよ
い。

本発明に係る高屈折率層の厚さは、３０ｎｍから５００
μｍまでが実用的であるが、鮮鋭性の低下を小さくする
効果を高めるためには５０μｍ以下が好ましく、１０μ
ｍ以下ならばいっそう好ましい。

高屈折率層は、輝尽層と密着状態にあってもよいし離れ
ていてもよい。高屈折率層と輝尽層を密着させるために
は接着剤を用いるのが１つの方法であるが、その場合、
接着剤の屈折率は輝尽層の屈折率または高屈折率層の屈
折率に近いことが好ましい。

本発明において低屈折率層として、気体層や真空層を設
ける場合には、例えば第２図のように変換パネルの側縁
部にスペーサ６を設けて、一定の厚みを保つ方法がある
。また第３図のように、保護層と高屈折率層の間にスペ
ーサ材７を散布することにより、気体層または真空層を
設けてもよい。

スペーサ材としては、例えば液晶パネルのスペーサ材と
して用いられている直径数μｍの微細ガラスファイバ片
を用いることができる。

本発明において用いる輝尽性蛍光体は、最初の光もしく
は高エネルギー放射線が照射された後に、先約、熱的、
機械的、化学的または電気的等の刺激（輝尽励起）によ
り、最初の光もしくは高エネルギー放射線の照射量に対
応した輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的な面から
好ましくは５００ｎｍ以上の輝尽励起光によって輝尽発
光を示す蛍光体である。該輝尽性蛍光体としては、例え
ば特開昭４８−８０４８７号に記載されているＢａ５Ｏ
、：　ＡＸ、特開昭４８−８０４８９号に記載されてい
る　ＳｒＳＯ４，：ＡＸ、特開昭５３−３９２７７号の
ＬｉＪａＯｙ　：　Ｃｕ、Ａｇ等、特開昭５４−４７８
８３号のＬｉｚＯ・（Ｂ２０．）ｘ：Ｃｕ及びＬｉ２Ｏ
・（Ｂ２０２）ｘ：Ｃｕ。

Ａｇ等、米国特許３，８５９，５２７号のＳｒＳ：Ｃｅ
、Ｓａ＋、　ＳｒＳ：Ｅｕ、５ＩＩＳＬａ、Ｏ，Ｓ：Ｅ
ｕ、Ｓｓ及び（Ｚｎ、　Ｃｄ）Ｓ：Ｍｎ、Ｘで表される
蛍光体が挙げられる。

また、特開昭５５−１２１４２号に記載されているＺｎ
Ｓ：Ｃｕ、　Ｐｂ蛍光体、一般式ＢａＯ＊　ｘＡｆｆ２
０ｓ　：Ｅｕで表されるアルミン酸バリウム蛍光体、及
び一般弐Ｍ”Ｏ・ｘｓｉＯ□：Ａで表されるアルカリ土
類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。また、特開昭５５
−１２１４３号に記載されている一般式 ％式％： で表されるアルカリ土類弗化ハロゲン化物蛍光体、特開
昭５５−１２１４４号に記載されている一般式％式％： で表され蛍光体、特開昭５５−１２１４５号に記載され
ている一般式 ％式％： で表される蛍光体、特開昭５５−８４３８９号に記載さ
れている一般式 ％式％ で表される蛍光体、特開昭５５−１６００７８号に記載
されている一般式 ％式％： で表される希土類元素付活２価金属フルオロハライド蛍
光体、一般式ＺｎＳ：Ａ、　ＣｄＳ：Ａ、　（Ｚｎ、　
Ｃｄ）Ｓ：Ａ。

ＺｎＳ：Ａ、Ｘ及びＣｄＳ：Ａ、Ｘで表される蛍光体、
特開昭５９−３８２７８号に記載されている下記いづれ
かの一般式 ％式％：） ： で表される蛍光体、下記いづれかの一般式ｎＲｅＸ５°
ｍＡＸ’２　：　ｘＥｕ ｎＲｅＸｓ°ｍＡＸ’２：　ｘＥｕ、　ｙｓｍで表され
る蛍光体、及び下記一般式 ％式％： で表されるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着、スパッタリング等
の方法で輝尽層を形成させやすく好ましい。

しかし、本発明に係る変換パネルに用いられる輝尽性蛍
光体は、前述の蛍光体に限られるものではな（、放射線
を照射した後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示
す蛍光体であればいかなる蛍光体であってもよい。

本発明の変換パネルは前記の輝尽性蛍光体の少なくとも
一種類を含む一つ若しくは二つ以上の輝尽層から成る輝
尽層群であってもよい。また、それぞれの輝尽層に含ま
れる輝尽性蛍光体は同一であってもよいが異なっていて
もよい。

本発明の輝尽層は塗布方法、気相成長方法のいづれによ
ってもよい。

本発明のパネルの輝尽層の層厚は、目的とする変換パネ
ルの放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によっ
て異なるが、結着剤を含有しない場合ｌＯμｍ−ｔｏｏ
ｏμＩの範囲、さらに好ましくは２０μｍ〜８００μｍ
の範囲から選ばれるのが好ましく、結着剤を含有する場
合で２０μｍ−１０００μｍの範囲、さらに好ましくは
５０μｍ〜５００μｍの範囲から選ばれるのが好ましい
。

本発明の変換パネルの支持体としては各種高分子材料、
ガラス、セラミックス、金属等が用いられる。

高分子材料としては例えばセルロースアセテートフィル
ム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカ
ーボネート等のフィルムがあげられる。金属としては、
アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シートまたは金
属板或は該金属酸化物の被覆層を有する金属シートまた
は金属板があげられる。ガラスとしては化学的強化ガラ
スや結晶化ガラスなどがあげられる。またセラミックス
としてはアルミナやジルコニアの焼結板などがあげられ
る。

また、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等によ
って異なるが、一般的には８０μｍ〜２０００μｍであ
り、取り扱い上の点が、さらに好ましくは８０ｔｔ　ｍ
−１０００μｒｔｔである。

これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性蛍
光体層との接着性を向上させる目的でマット面としても
よい。また、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、個
々に独立した微小タイル状板を密に配置した表面構造と
してもよい。

さらに、これら支持体上には、輝尽層との接着性を向上
させる目的で輝尽層が設けられる面に下引層を設けても
よいし、必要に応じて光反射層、光吸収層等を設けても
よい。

本発明の変換パネルは、よりいっそうの耐湿性を得るた
めには、保護層と支持体の側縁部を封止することが望ま
しい。封止の方法としては例えばガラス融着や接着剤を
用いる方法があげられる。

接着剤としては、例えばエポキシ樹脂系接着剤などがあ
げられる。尚接着剤は透湿度の低いものが好ましい。

また本発明に係る保護層は特願昭６１−２２０４９２号
に述られているように支持体と輝尽層からなる変換パネ
ル母体を高分子フィルムよりなる保護袋に収納し側縁部
をシールした形態でもよい。この場合低屈折率層は予め
輝尽層表面に形成するか保護袋の輝尽層に対峙する面に
形成しておくことができる。低屈折率層に気体層、真空
層を用いる場合には保護袋の輝尽層に対峙する部分に剛
性をもたせスペーサを輝尽層間に介在させればよい。

前記シール方法としては、ヒートシール法、高周波シー
ル法、超音波シール法などが好ましいが、接着剤を用い
た圧着もしくは熱圧する方法を用いてもよい。

本発明の変換パネルにおいて、保護層は支持体の役割を
兼ねることもできる。その場合には、本発明でいう支持
体は実質的に輝尽層を支持する能力を有しなくてもよい
。

本発明の変換パネルは第４図に概略的に示される放射線
画像変換方法に用いられる。

すなわち、第４図において、４１は放射線発生装置、４
２は被写体、４３は本発明に係る変換パネル、４４は輝
尽励起光源、４５は該変換パネルより放射された輝尽蛍
光を検出する光電変換装置、４６は４５で検出された信
号を画像として再生する装置、４７は再生された画像を
表示する装置、４８は輝尽励起光と輝尽蛍光とを分離し
、輝尽蛍光のみを透過させるフィルタである。尚４５以
降は４３からの光情報を何らかの形で画像として再生で
きるものであればよく、上記に限定されるものではない
。

第４図に示されるように、放射線発生装置４１からの放
射線は被写体４２を通して変換パネル４３に入射する。

この入射した放射線はパネル４３の輝尽層に吸収され、
そのエネルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形
成される。

次にこの蓄積像を輝尽励起光源４４からの輝尽励起光で
励起して輝尽発光として放出せしめる。

放射される輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギ
ー量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管
等の光電変換装置４５で光電変換し、画像再生装置４６
によって画像として再生し画像表示装置４７によって表
示することにより、被写体の放射線透過像を観察するこ
とができる。

〔実施例〕

次に実施例によって本発明を説明する。

実施例　１〜４及び比較例Ａ、Ｂ ５００μｍ厚の結晶化ガラス支持体に、蒸着装置で。

アルカリハライド蛍光体（ＲｂＢｒ　；　０．０００６
ｉ）を３００μｍ蒸着した。

次いで前記輝尽層上に５５０μ票厚の保護層及び低屈折
率層、高屈折率層を第５表の組合せで設けた。

ただし表中の（）内の数値は屈折率を示す。

第５表中のエバールＥＦＦはエチレン−ビニルアルコー
ル共重合体の商品名（（株）クラレ製）であり、エチレ
ン共重合比率は３２ｍｏｆｆ％である。エバールＥＦＦ
の気温２５°Ｃ１相対湿度６５％における平衡吸湿率は
３．９％であり、ＰＥＴのそれは０．２％である。

また比較例として実施例と同様の支持体、輝尽層を用い
低屈折率層及び高屈折率層を設けることなく輝尽層に保
護層を接着剤で密着させた比較例Ａ及びＢを第６表の如
く設けた。

比較例 いずれの試料においても支持体上に蒸着した輝尽層を８
０℃、１０−’ｔｏｒｒの条件で真空乾燥を１時間行っ
た後に保護層を設け側縁部をエポキシ系接着剤で封止し
た。

この際、実施例１．２，３．４は第２図のごとく４００
μｍ厚のガラススペーサを設置することにより高屈折率
層と保護層との間に７５μｍの空気層を設けた。

前記の試料につき、防湿性及びＭＴＦによる鮮鋭性のチ
エツクを行った。

試料１．２．３及び比較例Ｂは良好な防湿性を示し、気
温４０°Ｃ１湿度９０％の条件下に４８時間放置しても
放射線感度の低下は全くおこらず、輝尽励起光照射を受
けるまでの蓄積エネルギーの減衰もわずかであった。ま
た、試料１では他の試料に比較して放射線感度が約１．
３倍高かった。

試料４では多少の劣化が認められたが実用上は問題のな
い程度であった。試料Ａでは輝尽励起光照射を受けるま
での蓄積エネルギーの減衰が非常に大きく、実用上問題
となる。

第７表に各試料の空間周波数１　ｆｆｐ／ｍｍと２　ｆ
ｆｐ／ａｍにおけるＭＴＦを示した。比較例Ｂは５５０
μｍのガラス保護層を設けたことによって著しく鮮鋭性
が低下しているのに対し、試料１．２．３．４は同じ５
５０μ諺の厚い保護層を有しているにもかかわらず、鮮
鋭性の低下は少ない。

試料１．２．３．４では、薄膜の保護層を有し鮮鋭性の
高い試料Ａと同程度であり、臨床に耐える性能を示した
。また試料ｌでは他に比べて放射線感度が高く、特に優
れた性能を示した。

第７表 〔発明の効果〕 本発明は支持体上に輝尽性蛍光体層と少なくとも一層の
保護層を有する放射線画像変換パネルに於て、前記輝尽
性蛍光体層と保護層の間に保護層よりも低屈折率の第１
層を設け、かつ第１層と輝尽性蛍光体層との間に、第１
層よりも高屈折率で吸湿性の高い第２層を設けたことに
より鮮鋭性を損うことなく輝尽層を外部からの化学的及
び物理的刺激から十分保護し、耐久性、耐用性にすぐれ
た変換パネルを提供することができた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の基本構成を表す図、第２図、第３図は
本発明の構成例を表す図である。 第４図は変換パネルを用いる放射線画像変換方法の説明
図である。 ｌ・・・保護膜 ２・・・低屈折率層（第１中間層） ３・・・高屈折率層（第２中間層） ４・・・輝尽性蛍光体層 ５・・・支持体

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 支持体上に輝尽性蛍光体層と保護層を有する放射線画像
   変換パネルに於て、前記輝尽性蛍光体層と保護層の間に
   少くとも２層の中間層を設け保護層よりも低屈折率の第
   １中間層、第１中間層と輝尽性蛍光体層との間に、第１
   中間層よりも高屈折率の第２中間層を設け、更に該第２
   中間層は吸湿性が高いことを特徴とする放射線画像変換
   パネル。