JPS62134931A - 表面検査装置の基板固定機構 - Google Patents

表面検査装置の基板固定機構

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JPS62134931A
JPS62134931A JP60274325A JP27432585A JPS62134931A JP S62134931 A JPS62134931 A JP S62134931A JP 60274325 A JP60274325 A JP 60274325A JP 27432585 A JP27432585 A JP 27432585A JP S62134931 A JPS62134931 A JP S62134931A
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JP
Japan
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adapter
mask substrate
workpiece
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work
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JP60274325A
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JPH0567065B2 (ja
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Tsunemi Fukushima
福島 常美
Nobuyuki Iizuka
飯塚 信行
Tsutomu Hongo
本郷 勉
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Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は角形のマスクツ、(仮の表面検査装置におい
て、ワークの固定に使用するマスク基板固定機構に関す
るものである。
[従来の技術] 最近におけるICデバイスのパターンの高密1y化に伴
って、塵埃、欠陥の防由ないしυF除は益々市認性を増
している。ICデバイスのIC)体である投影用のマス
ク基板においては、その表面1−に塵埃などが存在する
ときは、これが製造されるすヘ−てのICの不良b:E
囚となるので、影響するところが非常に人きく、ICデ
バイス以1ユに極めて高度にlt’i nな環境内で、
細心のル意を払って製造、+に、びに検査を行うことか
必要である。
従来から、マスク基板の検査装置では、検査すべきマス
ク基板(以ドワークともいう)の装着および固定が自動
化されているが、このためにエアによる成行技術か使わ
れており、この場合りIJ +ンルーム内に残留してい
る極めて微1.)の塵埃か、ノ、(板に付?tする危険
かあり、共だ好ましくないとされている。
次に、マスク基板の形状は現在では角形(東方形)のも
ので、そのサイズ(辺の長さ、および厚さ)には、各種
多様のものか製作されており、従って検査装置へのワー
クの固定機構としては、出来るたけ多種類のサイズに対
応できるものか望まれている。また、検査用の光学系に
おいては、ワークの表面に投光するスポットの焦点深度
の関係1−1、ワークの厚さに拘わらす欠陥検出部に対
して、ワークの表面を市確な焦点の位置に、自動的にセ
ットできるものが必I冴である。さらに、ワークの搬送
、装7tにおいてはワークのド面が一定の位置におかれ
ることが望ましい。
第6図(a)、(b)は、角形のマスク基板に対して、
従来からの検査装置に使用されているワーク固定機構を
t4<すもので、欠陥検出部1のド部にL形部材による
山形の試料台2を水下に置き、試料台2の内側にワーク
の大きさ及びj“ノさに対応するアダプター3を組込み
、ねじ7で固着する。
固イ′1された試料台2とアダプター3の4隅には、ワ
ークを吸着するための空気孔5が1゛↓通して、これが
成行管6てエアポンプ(図小しない)に接続されている
。これらにより、ワーク4は、真空引きされてアダプタ
ー3に密着し、欠陥検出部1に対して所定の1Ill+
離間隔を保つものである。なお、試料台2はXおよびY
軸力向に移動して、ワークの表面の全域について尤スポ
ントの走査を行うものである。
さて、マスク基板の素材は水晶またはガラスによるもの
で、板自体に反りまたは撓みが存在することがある。こ
の場合、材質の硬度の関係から、ワークの4隅のうちの
3隅のみが吸着する、すなわち3点接触の状態となる。
このようなときは、残る1隅か不完全な吸7tのため、
周辺のエアが集中的に吸入され、クリーンルーム内に残
留している極微+、lの塵埃を集塵する現象が発生する
。また、エアの吸着力が不1゛分であるときは、ワーク
4の位置ずれかおこり、検査か不確実ないし不能となる
恐れかある。これらは話たイく都合てあり、χ・I策を
7凹とする問題である。
次に、各種のサイズのワークに対してワーク固定機構に
おける対応の方法について述べる。
1記したワーク1−+1定機構においては、サイズの5
yなるワーク4の種別毎にアダプター3を用意しておき
、検査時にワークのサイズに応じてアダプターを交換す
なわち段取替えを行うものである。
現行では、ワークの一辺の長さく以ド大きさという)は
数種類あり、同一の人きさでも厚さが2通りあるものが
多い。大きさが異なる場合はもちろんであるが、ワーク
4の表面を欠陥検出部1に対して、市確に所定の距離に
位置決めすることが必゛皮なため、同一・の大きさのワ
ークでも、厚さが児なるときは段取替えを7安とするも
のである。このような段取替えはllj Jこ作置時間
の損失ばかりでなく、塵埃発生を伴うので、避けなけれ
ばならない。
[発明の目的] この2+1J]は、マスクJ1(板検査装置において、
I6述したエアによる集塵作用を解消し、さらに、同一
の大きさのワークに対しては、厚さがンdなる場合でも
同一のアダプターを使用出来る、マスク基板固定機構を
提供することを目的とするものである。
ロア1題点を解決するためのr一段] この発明においては、従来と同様に試料台にアダプター
を併用する力弐をとるものであるか、ワークをアダプタ
ーに固定する方式としては、集塵の問題を解消するため
エアを使用せす、機械接触式によるものである。たたし
、マスク基板の表面には接触することが許されないので
、ノ、(板の4隅で側面を押圧するものである。
次に、アダプターの段取替えを不′災とする件について
は、この発明では、欠h1検出部と試料台のか離を1コ
調整する機構を設けることにより、ワークの厚さの変化
に対応できるものとした。この機構はボールねしにより
箱密な移動制御を行うものである。このような距離の調
整機構により、同一の大きさのワークについては、とん
なI’)さのものでも欠陥検出部にχ、I してワーク
の表1[11の位置を一定にすることが出来るので、ア
ダプターの段取替えが不要となるものである。
[実施例] 第1図は、この発明によるマスクツ人板固定機構を適用
したマスク基板検査装置の外観図で、欠陥検出部1はベ
ース板11の1一部に支持柱11aを用いて固定されて
いる。ベース板11には、X軸移動機構12か取り付け
られ、該X軸移動機構12の1.にはX軸移動機構13
が装7トされてNXIY軸力向の光スポットの走査を1
1能としている。
次に、該Y軸移動機構13の移動部にX軸移動機構14
が取り付けられ、さらに該Z軸移動機構14の移動部に
試料台2が取り付けられている。これらの移動機構によ
り、試料台2は図示矢印のX。
Y、Zの3軸力向に移動かII能である。なお、X軸移
動機構14はパルスモータ15によりボールねじ16を
回転する力式のもので精度の高い移動を?Iうちのであ
る。これはX、Y軸においても同様である。
第2図は、この発明によるマスク基板固定機構の中面図
で、第5図で、+1シた従来と同様の試f1台2を用い
、その内側にアダプター3を取り替え自r1にねじ市め
することも従来と同しである。ここでワーク押さえ機+
1が19は、試料台2およびアダプタ−3に連係して取
り付けられている。
第3図は、ワーク押さえ機構19の訂細な・l’曲図で
、ローラ17かローラ支持台18に軸支されている。 
一方、カム20と試料台移動子21は一体として、試料
台2に取り付けられている第1ガイド22に沿って1■
動である。また、アダプタ一部移動子28とワーク押圧
片29は・体きして、アダプター3に取り付けられてい
る第2ガイド27に沿って可動である。また試料台移動
f’21の先端には押しロッド24が設けである。
第4図は、ワーク押さえ機構19の+li直断面断面図
、これと第3図によりワーク押さえ機構19の動作を説
明する。
いま、X軸移動機構14により試11台2がl゛h’す
ると、カム20が試料台移動J”21とともに、ローラ
17に押されて矢印Aの)J向に移動するのて、試料台
移動子21の先端にある押しロッド24かアダプター移
動J”2Bに接触してこれを押し、ついでワーク押月片
29がワーク4を押し進める。
アダプター3の対向するl隅にはN (r’li1′:
;決め片30か固定されているので、ワーク4はこれに
当たって停止1、すなわち(+’/ilj決めされる。
この場合、ワーク4に加わる力を適当に和らげるために
押し口、ド24に設けられた第3ばね25が有効に作用
する。
第5図は、ワーク抑圧片29とも“l開成め片30の形
状を71<すものである。なお、第2図に小すようにア
ダプター3の他の2隅にも、これらとほぼ同様の固定片
30゛か取り付けられており、ワーク4を位置決めする
とともに水型に維持する。
ワークの検査が終rすると、制御機構により試料台2が
1・降し、第1ばね23と第2ばね28により、試料台
21とアダプター移動子26がそれぞれ九に(54帰す
る。なお、Z軸方向のIJ’、ド降は、別途マイコンま
たはシープ/すによるソフト制御によりイjわれるもの
で、ワークのサイズに合わせてr・め設定しておくもの
である。
[発明の効果コ 以Iの説明で明らかなように、この発明によるマスク基
板固定機+1■は機械的な固疋力式をとることで、11
;1述した問題点、すなわちエアカ式における塵埃の吸
着の恐れは完全に解消される。また、ワークの4隅の側
面を押11シて固定するため、ワークの表面に接触する
恐れな乏か全くなく安全なものである。さらに、欠陥検
出部に対するワークの表面がソフト的に所定の位置にセ
・、トされるので、同一の大きさのワークについては 
11)さかl/+1なるときも、アダプターの取り替え
を必′畏としない。これにより、作文の効率か向1.す
るばかりでなく、クリーンルーム内の塵埃管理1°、極
めて人きい効果をイlするものである。
以1・に述べたこの発明によるマスク基板固定機構は、
マスクツ1(板検査装置に限らす角形の・1・板をχ、
を象とする4′il舎装置な乏に1人用出未るものであ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明によるマスク基板固定機構を適用した
マスク基板検査装置の外観斜視図、第2図はこの発明に
よるマスク基板固定機構の宇面図、第3図は第2図にお
けるワーク押さえ機構の詳細な十曲図、第4図は第2図
におけるワーク押さえ機構のITLII′l断面図、第
5図はこの発明によるワーク押さえjlおよび位置決め
片の形状を小す図、第6図(a)、(b)は、それぞれ
従来のマスク基板円圧機構の側面図及び・Ii、面図で
ある。 1・・・欠陥検出部、   2・・・試料台、3・・・
アダプター、    4・・・マスク基板、5・・・吸
7ト空気孔、   6・・・吸着管、7・・・ねし、1
1・・・ベース板、 12・・・X軸移動機構、13・・・Y軸移動機構、I
4・・・Z軸移動機構、15・・・パルスモータ、I6
・・・ボールねし、17・・・ローラ、18・・・ロー
ラ支持台、19・・・ワーク押さえ機構、20・・・力
l1.21・・・試料台移動子122・・・第1ガイド
、23・・・第1ばね、24・・・押しロッド、25・
・・第3ばね、26・・・アダプタ一部移動子127・
・・第2ガイド、28・・・第2ばね、29・・・ワー
ク押圧片、30・・・イ\′l置メ火めj”1゜ ↑、′r、i’l出奪]人 11.7. ’+h f’エンジニアリング株式会桐代
理人 弁理1 梶 山 イ1′l  足弁理1・ 山 
木 富り男 第1図 第2図 第5図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)角形のマスク基板を位置決め固定する位置決め片
    を3隅に有する枠形のアダプターと、上下方向の移動機
    構と、該移動機構の移動側に搭載され該アダプターを保
    持できる試料台と、上記上下方向の移動機構の固定側に
    軸支されたローラと、該ローラに当接し上記試料台の上
    昇に伴って移動するカムを有し、該試料台に固定された
    第1のガイドに沿って移動する試料台移動子と、該試料
    台移動子の移動により押圧されて上記アダプターに固定
    された第2のガイドに沿って移動して上記マスク基板を
    対角の位置にある上記位置決め片の方向に押圧し、かつ
    固定するワーク押圧片を有するアダプター部移動子とに
    より構成されたことを特徴とするマスク基板固定機構。
  2. (2)ばね付き押しロッドを設けた上記試料台移動子を
    有することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のマ
    スク基板固定機構。
JP60274325A 1985-12-07 1985-12-07 表面検査装置の基板固定機構 Granted JPS62134931A (ja)

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JPH0567065B2 JPH0567065B2 (ja) 1993-09-24

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ID=17540080

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1097985A (ja) * 1996-09-24 1998-04-14 Canon Inc 走査型露光装置およびデバイス製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH1097985A (ja) * 1996-09-24 1998-04-14 Canon Inc 走査型露光装置およびデバイス製造方法

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