JPH0567065B2 - - Google Patents

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JPH0567065B2
JPH0567065B2 JP27432585A JP27432585A JPH0567065B2 JP H0567065 B2 JPH0567065 B2 JP H0567065B2 JP 27432585 A JP27432585 A JP 27432585A JP 27432585 A JP27432585 A JP 27432585A JP H0567065 B2 JPH0567065 B2 JP H0567065B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
piece
workpiece
fixed
adapter
corner
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP27432585A
Other languages
English (en)
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JPS62134931A (ja
Inventor
Tsunemi Fukushima
Nobuyuki Iizuka
Tsutomu Ppongo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority to JP60274325A priority Critical patent/JPS62134931A/ja
Publication of JPS62134931A publication Critical patent/JPS62134931A/ja
Publication of JPH0567065B2 publication Critical patent/JPH0567065B2/ja
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は角形の表面検査装置において、ワー
クの固定に使用する基板固定機構に関するもので
ある。
[従来の技術] 最近におけるICデバイスのパターンの高密度
化に伴つて、塵埃、欠陥の防止ないし排除は益々
重要性を増している。ICデバイスの母体である
投影用のマスク基板においては、その表面上に塵
埃などが存在するときは、これが製造されるすべ
てのICの不良原因となるので、影響するところ
が非常に大きく、ICデバイス以上に極めて高度
に清浄な環境内で、細心の注意を払つて製造並び
に検査を行うことが必要である。
従来から、マスク基板の検査装置では、検査す
べきマスク基板(以下ワークという)の装着およ
び固定化が自動化されているが、このためにエア
による吸着技術が使われており、この場合クリー
ンルーム内に残留している極めて微量の塵埃が、
基板に付着する危険があり、甚だ好ましくないと
されている。
次に、マスク基板の形状は現在では角形(正方
形)のもので、そのサイズ(辺の長さ、および厚
さ)には、各種多様のものが製作されており、従
つて検査装置へのワークの固定機構としては、出
来るだけ多種類のサイズに対応できるものが望ま
れている。また、検査用の光学系においては、ワ
ークの表面に投光するスポツトの焦点深度の関係
上、ワークの厚さに拘わらず欠陥検出部に対し
て、ワークの表面を正確な焦点の位置に、自動的
にセツトできるものが必要である。さらに、ワー
クの搬送、装着においてはワークの下面が一定の
位置におかれることが望ましい。
第6図a,bは、角形のマスク基板に対して、
従来からの検査装置に使用されているワーク固定
機構を示すもので、欠陥検出部1の下部にL形部
材による方形の試料台2を水平に置き、試料台2
の内側にワークの大きさ及び厚さに対応するアダ
プター3を組込み、ねじ7で固着する。固着され
た試料台2とアダプター3の4隅には、ワークを
吸着するための空気孔5が貫通して、これが吸着
管6でエアポンプ(図示しない)に接続されてい
る。これらにより、ワーク4は、真空引きされて
アダプター3に密着し、欠陥検出部1に対して所
定の距離間隔を保つものである。なお、試料台2
はXおよびY軸方向に移動して、ワークの表面の
全域について光スポツトの走査を行うものであ
る。
さて、マスク基板の素材は水晶またはガラスに
よるもので、板自体に反りまたは撓みが存在する
ことがある。この場合、材質の硬度の関係から、
ワークの4隅のうちの3隅のみが吸着される。す
なわち3点接触の状態となる。このようなとき
は、残る1隅が不完全な吸着のため、周辺のエア
が集中的に吸入され、クリーンルーム内に残留し
ている極微量の塵埃を集塵する現象が発生する。
また、エアの吸着力が不十分であるときは、ワー
ク4の位置ずれがおこり、検査が不確実ないし不
能となる恐れがある。これらは甚だ不都合であ
り、対策を必要とする問題である。
次に、各種のサイズのワークに対してワーク固
定機構における対応の方法について述べる。
上記したワーク固定機構においては、サイズの
異なるワーク4の種別毎にアダプター3を用意し
ておき、検査時にワークのサイズに応じてアダプ
ターを交換すなわち段取替えを行うものである。
現行では、ワークの一辺の長さ(以下大きさとい
う)は数種類あり、同一の大きさでも厚さが2通
りあるものが多い。大きさが異なる場合はもちろ
んであるが、ワーク4の表面を欠陥検出部1に対
して、正確に所定の距離に位置決めすることが必
要なため、同一の大きさのワークでも、厚さが異
なるときは段取替えを必要とするものである。こ
のような段取替えは単に作業時間の損失ばかりで
なく、塵埃発生を伴うので、避けなければならな
い。
[発明の目的] この発明は、表面検査装置において、上述した
コアによる集塵作用を解消し、さらに、同一の大
きさのワークに対しては、厚さが異なる場合でも
同一のアダプターを使用出来る、基板固定機構を
提供することを目的とするものである。
[問題点を解決するための手段] この発明においては、従来と同様に試料台にア
ダプターを併用する方式をとるものであるが、ワ
ークをアザプターに固定する方式としては、集塵
の問題を解消するためエアを使用せず、機械接触
式によるものである。ただし、マスク基板の表面
には接触することが許されないので、基板の4隅
で側面を押圧するものである。
したがつて、この発明の表面検査装置の基板固
定機構の構成は、角形のワークを位置決めするた
めに第1の隅に設けられた位置決め片と第1の隅
に隣接する第2の隅及び第3の隅にそれぞれ設け
られワークのずれを阻止するための固定片と、第
1の隅に対向する第4の隅に設けられ、外側から
押圧されることで位置決め片に向かつて前進して
位置決め片と固定片との関係においてワークを保
持し第1のばねにより元の位置に復帰する第1の
移動片とを有する角形のワークより大きな角形の
アダプターと、 第4の隅に対応する位置で第1の移動片の外側
に配置され外側にカムを有し第1の移動片を外側
から押圧し位置決め片に向かつて前進して第1の
移動片を前進させ第2のばねにより元の位置に復
帰する第2の移動片を具備しアダプターの角形よ
り大きな角形でアダプターを載置する試料台と、 試料台を支承し、ベースあるいは他の移動機構
のベースに固定され試料台を高さ方向に移動する
移動機構と、 ベース側あるいは他の移動機構のベース側ある
いはこれらに結合されかつ高さ方向の移動に対し
て固定側となる部材に固定されカムに係合して高
さ方向の移動に応じて第2の移動片を前進させる
ローラとを備えている。
このような構成を採ることにより、試料台の高
さ方向の設定位置に応じて第2の移動片の前進量
が決定され、これにより第1の移動片の前進量が
決まるので、試料台の位置決め高さに応じて第1
の移動片がワークを保持できる分移動するアダプ
ターをセツトするだけでワークを適正な高さで確
実に保持できる。
次に、アダプターの段取替えを不要とする件に
ついては、この発明では、欠陥検出部と試料台の
距離を調整する機構を設けることにより、ワーク
の厚さの変化に対応できるものとした。この機構
はボールねじにより精密な移動制御を行うもので
ある。このような距離の調整機構により、同一の
大きさのワークについては、どんな厚なのもので
も欠陥検出部に対してワークの表面の位置を一定
にすることが出来るので、アダプターの段取替え
が不要となるものである。
[実施例] 第1図は、この発明によるマスク基板固定機構
を適用したマスク基板検査装置の外観図で、欠陥
検出部1はベース板11の上部に支持柱11aを
用いて固定されている。ベース板11には、X軸
移動機構12が取り付けられ、該X軸移動機構1
2の上にはY軸移動機構13が装着されて、X、
Y軸方向の光スポツトの走査を可能としている。
次に、該Y軸移動機構13の移動部にZ軸移動機
構14が取り付けられ、さらに該Z軸移動機構1
4の移動部に試料台2が取り付けられている。こ
れらの移動機構により、試料台2は図示矢印の
X、Y、Zの3軸方向に移動が可能である。な
お、Z軸移動機構14はパルスモータ15により
ボールねじ16を回転する方式のもので精度の高
い移動を行うものである。これはX、Y軸におい
ても同様である。
第2図は、この発明によるマスク基板固定機構
の平面図で、第6図に示した従来と同様の試料台
2を用い、その内側にアダプター3をワークの大
きさに応じて取り替え自在にねじ止めすることも
従来と同じである。ここでワーク押さえ機構19
は、試料台2およびアダプター3に連係して取り
付けられている。
第3図は、ワーク押さえ機構19の詳細な平面
図であり、矢線Aに沿つた下側半分は断面を示し
ている。なお、図が繁雑になるので断面部分のハ
ツチングは省略している。ローラ17がローラ支
持台18に軸支されている。一方、カム20と試
料台移動子21は一体として、試料台2に取り付
けられている第1ガイド22に沿つて可動であ
る。また、アダプター部移動子26とワーク押圧
片29は一体として、アダプター3に取り付けら
けれている第2ガイド27に沿つて可動である。
また試料台移動子21の先端には押しロツド24
が設けてある。
第4図は、ワーク押さえ機構19の矢線Aに沿
つた垂直断面図を示している。図3と同様に、断
面部分のハツチングは省略している。この図と第
3図によりワーク押さえ機構19の動作を説明す
る。
いま、Z軸移動機構14により試料台2が上昇
すると、カム20が試料台移動子21とともに、
ローラ17に押されて矢印A方向に移動するの
で、試料台移動子21の先端にある押しロツド2
4がアダプター移動子26に接触してこれを押
し、ついでワーク押圧片29がワーク4を押し進
める。アダプター3の対向する1隅には、位置決
め片30が固定されているので、ワーク4はこれ
に当たつて停止、すなわち位置決めされる。この
場合、ワーク4に加わる力を適当に和らげるため
に押しロツド24に設けられた第3ばね25が有
効に作用する。
第5図は、ワーク押圧片29と位置決め片30
の形状をワーク4に対して拡大した状態で示すも
のである。なお、第2図に示すようにアダプター
3の他の2隅にも、これらとほぼ同様の固定片3
0′が取り付けられており、ワーク4を位置決め
するとともに水平に維持する。
ワークの検査が終了すると、制御機構により試
料台2が下降し、第1ばね23と第2ばね28に
より、試料台21とアダプター移動子26がそれ
ぞれ元に復帰する。なお、Z軸方向の上昇、下降
は、別途マイコンまたはシーケンサによるソフト
制御により行われるもので、ワークのサイズに合
わせて予め設定しておくものである。
すなわち、小さい角のワーク4を保持する場合
には、それに対応するアダプター3が用意され、
大きい角のワーク4を保持する場合には、それに
対応するアダプター3が用意される。そして、制
御部からの制御で使用されたサイズに応じてZ方
向に試料台2が上昇して採用したアダプター3に
対応してあらかじめ設定された所定の高さに試料
台2が位置決めされる。このことでワーク押圧片
29の移動量が所定量確保され、それに応じてワ
ーク4とアダプター3の他の位置決め片30、固
定片30′との関係においてワーク4が保持され
ることになる。なお、第3のばね25があるので
Z方向には多少上下に移動することができる。そ
こで、表面の厚さが多少相違するワークについて
は、ワークの表面の厚さに応じて試料台の高さを
選択しておけばよい。
[発明の効果] 以上の説明で明らかなように、この発明による
マスク基板固定機構は機械的な固定方式をとるこ
とで、前述した問題点、すなわちエア方式におけ
る塵埃の吸着の恐れは完全に解消される。また、
ワークの4隅の側面を押圧して固定するため、ワ
ークの表面に接触する恐れなどが全くなく安全な
ものである。さらに、欠陥検出部に対するワーク
の表面がソフト的に所定の位置にセツトされるの
で、同一の大きさのワークについては、厚さが異
なるときも、アダプターの取り替えを必要としな
い。これにより、作業の効率が向上するばかりで
なく、クリーンルーム内の塵埃管理上極めて大き
い効果を有するものである。
以上に述べたこの発明によるマスク基板固定機
構は、マスク基板検査装置に限らず角形の平板を
対象とする検査装置などに適用出来るものであ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明によるマスク基板固定機構を
適用したマスク基板検査装置の外観斜視図、第2
図はこの発明によるマスク基板固定機構の平面
図、第3図は第2図におけるワーク押さえ機構の
詳細な平面図、第4図は第2図におけるワーク押
さえ機構の垂直断面図、第5図はこの発明による
ワーク押さえ片および位置決め片の形状を示す
図、第6図a,bは、それぞれ従来のマスク基板
固定機構の側面図及び平面図である。 1……欠陥検出部、2……試料台、3……アダ
プター、4……マスク基板、5……吸着空気孔、
6……吸着管、7……ねじ、11……ベース板、
12……X軸移動機構、13……Y軸移動機構、
14……Z軸移動機構、15……パルスモータ、
16……ボールねじ、17……ローラ、18……
ローラ支持台、19……ワーク押さえ機構、20
……カム、21……試料台移動子、22……第1
ガイド、23……第1ばね、24……押しロツ
ド、25……第3ばね、26……アダプター部移
動子、27……第2ガイド、28……第2ばね、
29……ワーク押圧片、30……位置決め片。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 角形のワークを位置決めするために第1の隅
    に固定された位置決め片と第1の隅に隣接する第
    2の隅及び第3の隅にそれぞれ設けられ前記ワー
    クのずれを阻止するための固定片と、第1の隅に
    対向する第4の隅に設けられ、外側から押圧され
    ることで前記位置決め片に向かつて前進して前記
    位置決め片と前記固定片との関係においてその上
    に載置された前記ワークを保持し第1のばねによ
    り元の位置に復帰する第1の移動片とを有する前
    記角形のワークより大きな角形のアダプターと、 第4の隅に対応する位置で第1の移動片の外側
    に配置され外側にカムを有し第1の移動片を外側
    から押圧し前記位置決め片に向かつて前進して第
    1の移動片を前進させ第2のばねにより元の位置
    に復帰する第2の移動片を具備し前記アダプター
    の前記角形より大きな角形で前記アダプターが着
    脱可能に固定された試料台と、 前記試料台を支承し、ベースあるいは他の移動
    機構の台側に固定され前記試料台を高さ方向に移
    動する移動機構と、 前記ベース、このベースに固定された部材、前
    記台側、この台側に固定された部材、前記移動機
    構の固定側及びこの固定側に固定された部材のう
    ちのいずれか1つに固定され前記カムに係合して
    前記高さ方向の移動に応じて第2の移動片を前進
    させるローラとを備える表面検査装置の基板固定
    機構。 2 角形ワークはマスク基板であり、第1の移動
    片と第2の移動片とはばね付きのロツドによりガ
    イドされて前進し復帰する請求項1記載の表面検
    査装置の基板固定装置。
JP60274325A 1985-12-07 1985-12-07 表面検査装置の基板固定機構 Granted JPS62134931A (ja)

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JPS62134931A JPS62134931A (ja) 1987-06-18
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JPS62134931A (ja) 1987-06-18

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