JP3119803B2

JP3119803B2 - Ｘｙテーブル

Info

Publication number: JP3119803B2
Application number: JP07296940A
Authority: JP
Inventors: 英春渡邊; 克利上見
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 1995-11-15
Filing date: 1995-11-15
Publication date: 2000-12-25
Anticipated expiration: 2015-11-15
Also published as: JPH09141479A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ベース盤上に搭載した
下テーブルと上テーブルを互いに直交する２方向へ直線
移動させることによって、上テーブル上の吸着テーブル
に載せた被加工物に対してレーザ光等による精密な加工
を施すことができるＸＹテーブルに関する。

【０００２】

【従来の技術】レーザ加工機等に装備されるＸＹテーブ
ルは、通常、真空ポンプに連通される多数の吸着孔を有
し搭載した被加工物が吸着可能な吸着テーブルと、この
吸着テーブルの底面中央部に円柱状の支軸を挿入して該
吸着テーブルを回転可能に支持するＸテーブル（上テー
ブル）と、このＸテーブルを摺動自在に支持する一対の
Ｘ軸レール（上レール）と、これらのＸ軸レールに沿っ
てＸテーブルを往復直線移動させるリニアモータ等の第
１の駆動手段と、これらのＸ軸レールを載置したＹテー
ブル（下テーブル）と、Ｘ軸レールと直交する方向に延
びてＹテーブルを摺動自在に支持する一対のＹ軸レール
（下レール）と、これらのＹ軸レールに沿ってＹテーブ
ルを往復直線移動させるリニアモータ等の第２の駆動手
段とを備えて概略構成されており、Ｘテーブルに突設し
た前記支軸を回動中心として、吸着テーブルは必要時に
所定量回動させることができる。また、吸着テーブルは
上下方向への可動も容易になっている。すなわち、被加
工物を吸着テーブル上に搭載して加工を開始する際に
は、高精度な位置合わせが必要となるので、この吸着テ
ーブルをＸテーブル上で回動させて微調整を行う。ただ
し、吸着テーブルは被加工物の加工時にはＸテーブルに
対して固定されていなければならないので、この吸着テ
ーブルは前記支軸に対し、該支軸の周囲の軸回りギャッ
プにグリースを充填させることで回動可能としつつも、
ほとんどガタを生じない寸法関係で嵌合されている。

【０００３】なお、Ｘテーブルと各Ｘ軸レール間、およ
びＹテーブルと各Ｙ軸レール間にはそれぞれ、テーブル
側に設けたエアーノズルから圧縮空気が供給されるよう
になっていて、このように各テーブルとこれを支持する
レールとの間に圧縮空気を送り込んでエアーギャップを
形成することにより、各テーブルをレールに沿って移動
させる際の摩擦力が大幅に低減するので、被加工物がＸ
軸方向およびＹ軸方向へ円滑に移送できるようになって
いる。

【０００４】また、かかるＸＹテーブルを用いて被加工
物にミクロン単位の精密な加工を行うためには、温度変
化に伴う膨張や収縮の影響を極力排除しなければならな
いので、ＸテーブルやＹテーブル、Ｘ軸レール、Ｙ軸レ
ール等の材料としては、機械的強度に優れて熱膨張係数
の小さいグラナイトなどの石材が好適とされている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来のＸＹテーブルでは、吸着テーブルの回動中心となる
支軸の周囲に間隙が１５μｍ程度の軸回りギャップを確
保し、そこにグリースを充填させる構成を採用している
が、この構成は部品形状の寸法管理が厳しくなるため部
品コストを増大させる要因となっており、また、実際に
は寸法誤差によって吸着テーブルと支軸との間に僅かな
ガタが発生しやすいので、この吸着テーブルが位置ずれ
を起こして被加工物の位置合わせ等に支障をきたす虞が
あった。

【０００６】本発明はかかる従来技術の課題に鑑みてな
されたもので、その目的は、回動中心近傍のガタに起因
する吸着テーブルの位置ずれが簡単且つ確実に防止でき
るＸＹテーブルを提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の上述した目的
は、搭載した被加工物が吸着可能な吸着テーブルと、該
吸着テーブルを回動可能に支持する上テーブルと、該上
テーブルを移動自在に支持する上レール群と、該上レー
ル群に沿って前記上テーブルを往復直線移動させる第１
の駆動手段と、前記上レール群を載置した下テーブル
と、前記上レール群と直交する方向に延びて前記下テー
ブルを移動自在に支持する下レール群と、該下レール群
に沿って前記下テーブルを往復直線移動させる第２の駆
動手段とを備え、前記吸着テーブルの回動中心となる支
軸の周囲の軸回りギャップに、所定の大きさのスペーサ
をグリースに多数混合させてなる間隙維持材を充填する
ことによって達成される。その際、前記スペーサとし
て、充填前の直径が前記軸回りギャップの間隙よりも大
きい樹脂球を用いれば、より好ましい。

【０００８】

【作用】前記支軸の周囲の軸回りギャップに、所定の大
きさのスペーサをグリースに多数混合させてなる間隙維
持材を充填することにより、この軸回りギャップの最小
間隙を各スペーサにて規定することができる。したがっ
て、各スペーサとして充填前の直径が軸回りギャップの
間隙よりも大きい樹脂球を用いれば、充填後は各スペー
サが押し潰された状態で該軸回りギャップに分散される
ことになるので、厳しい寸法管理を行わなくとも、吸着
テーブルの回動中心近傍にはガタが発生しなくなり、該
軸回りギャップの間隙は常に均一に保たれる。

【０００９】

【実施例】以下、本発明の実施例を図１ないし図９に基
づいて説明する。ここで、図１は本実施例に係るＸＹテ
ーブルの正面図、図２は一部を図示省略した該ＸＹテー
ブルの側面図、図３は該ＸＹテーブルを含むレーザ加工
機の全体側面図、図４は該レーザ加工機を覆う安全カバ
ーの図３に対応する個所の側面図、図５は図１，２に示
すＸＹテーブルに組み込まれているＹ軸リニアモータの
側面図、図６は該ＸＹテーブルのうちのＸテーブルの脚
部を示す断面図、図７は図６に示すＸテーブルの脚部の
エアー吹き出し面を示す平面図、図８は該ＸＹテーブル
のうちの吸着テーブルを示す平面図、図９は図８に示す
吸着テーブルの支持構造を示す説明図である。

【００１０】本実施例に係るＸＹテーブルは、図３に示
すレーザ加工機に採用したものである。すなわち、この
レーザ加工機は、レーザ発振器５から供給されたレーザ
ビーム（ＹＡＧレーザ）をレンズ群やビームスプリッタ
等からなる光学系で導いて被加工物に照射させる加工機
本体１と、搭載した被加工物（ガラス基板）をリニアモ
ータにより互いに直交する２方向へ移送可能なＸＹテー
ブル２と、これら加工機本体１およびＸＹテーブル２を
載置した定盤（ベース盤）３と、この定盤３を載置した
除振台４とによって概略構成されており、図３に鎖線で
示すカバーフレーム６を支持枠とする安全カバー７（図
４参照）が、このレーザ加工機や真空ポンプ８等を覆っ
ている。なお、図１中の符号２１は加工機本体１を載置
する光学定盤を示しており、この光学定盤２１は支柱２
２を介して定盤３に支持されている。

【００１１】そして、ＸＹテーブル２は、底面中央部に
設けた軸穴９ａや真空ポンプ８に連通された多数の吸着
孔９ｂを有し、搭載した被加工物を吸着孔９ｂ群を介し
ての空気の吸引により吸着固定することができる吸着テ
ーブル９と、この吸着テーブル９の前記軸穴９ａに円柱
状の支軸１０ａを挿入して該吸着テーブル９を回動およ
び上下動可能に支持するＸテーブル１０と、このＸテー
ブル１０を摺動自在に支持する一対の平行なＸ軸レール
部１１ａを両側縁に設けてなる断面形状が凹状の支持台
１１と、この支持台１１の内側に設置され前記Ｘ軸レー
ル部１１ａに沿ってＸテーブル１０を往復直線移動させ
るＸ軸リニアモータ１２と、Ｘテーブル１０の位置デー
タを検出するＸ軸リニアエンコーダ１３と、支持台１１
を載置したＹテーブル１４と、前記Ｘ軸レール部１１ａ
と直交する方向に延びてＹテーブル１４を摺動自在に支
持する３本のＹ軸レール１５，１６と、これらＹ軸レー
ル群１５，１６に沿ってＹテーブル１４を往復直線移動
させるＹ軸リニアモータ１７と、Ｙテーブル１４の位置
データを検出するＹ軸リニアエンコーダ１８とによって
主に構成されている。ただし、Ｘテーブル１０と各Ｘ軸
レール部１１ａ間、およびＹテーブル１４と各Ｙ軸レー
ル１５，１６間にはそれぞれ、テーブル側に設けたエア
ーノズルから圧縮空気を吹き出すことによりエアーギャ
ップが形成され、これらのエアーギャップで摩擦力を低
減することにより、被加工物がＸ軸方向およびＹ軸方向
へ円滑に移送できるようになっている。

【００１２】なお、温度変化に伴う膨張や収縮の影響を
極力排除するため、本実施例では、吸着テーブル９、Ｘ
テーブル１０、支持台１１、Ｙテーブル１４、およびＹ
軸レール群１５，１６等の材料となる石材して、インデ
ィアンブラックと称されるグラナイトを用い、且つ、定
盤３の材料となる石材として、ラステンバーグと称され
るグラナイトを用いている。

【００１３】さて、このようなＸＹテーブル２を備えた
前記レーザ加工機は、ＸＹテーブル２を駆動制御するこ
とによって、吸着テーブル９上に搭載した被加工物を水
平面内において高い位置精度で移動させることができる
ので、加工機本体１の光学系の先端部（対物レンズ）か
ら照射されるスポット状のレーザビーム（ビームスポッ
ト）に対して、この被加工物を所定の軌跡で移動させる
ことにより、ビーム照射による所望の加工パターンが被
加工物に描画できるようになっている。具体的には、フ
ルカラー表示の液晶表示素子の製造工程で、ガラス基板
上に一方向に延びるストライプ状の透明電極と該電極上
に積層させたカラーフィルタとを形成したものを、被加
工物として吸着テーブル９上に搭載し、この被加工物を
ＸＹテーブル２で適宜移送しながら加工機本体１にてビ
ームスポットを照射することにより、カラーフィルタを
その長手方向と直交する方向に一定のピッチ間隔で除去
することができる。

【００１４】なお、ＸＹテーブル２に組み込まれている
リニアモータ１２，１７は、重量物を駆動するため強い
磁力を発生するので、本実施例では、周辺に配置されて
いるモニター用のＣＲＴや測定機に対してリニアモータ
１２，１７の磁力が悪影響を及ぼさないようにするた
め、主に強磁性体からなる安全カバー７でレーザ加工機
をすっぽり覆っている。すなわち、この安全カバー７は
図３，４に示すように、支持枠であるカバーフレーム６
に鉄板や消磁板等を取り付けてなるもので、具体的に
は、図４のア部はＳＵＳ３０４のステンレス板を取着し
た個所で、イ部とウ部はＳＵＳ３０４のステンレス板の
内側にＳＵＳ４３０の消磁板を付設して消磁効果を高め
た２層構造の個所で、このうちウ部は開閉可能な両開き
カバーとなっていて、さらにエ部は、着色アクリル板の
外側をウ部と同じ構成にした３層構造の個所となってい
る。このように、消磁効果を有する安全カバー７でレー
ザ加工機を覆い、しかもリニアモータ１２，１７の近傍
で強い磁力が予想される個所は２層構造にして消磁効果
を高めておけば、リニアモータ１２，１７の磁力が周辺
機器に悪影響を及ぼす虞がなくなり、ウ部の両開きカバ
ーを開けることにより加工機本体１の光学系の調整も容
易に行える。また、レーザビームが被加工物に正しく照
射されているかどうかを直接確認する際には、エ部の両
開きカバーを開ければ、着色アクリル板を介して安全に
目視確認が行える。

【００１５】次に、本実施例に係るＸＹテーブルの詳細
な構成について説明する。

【００１６】図８に示すように、吸着テーブル９の上面
には、真空ポンプ８に連通された多数の吸着孔９ｂが設
けてあり、これらの吸着孔９ｂ群を介して真空ポンプ８
で空気を吸引することにより、吸着テーブル９は搭載し
た被加工物を吸着固定することができる。

【００１７】また、図９に示すように、この吸着テーブ
ル９の底面中央部には、Ｘテーブル１０の支軸１０ａを
挿入するための軸穴９ａが設けてあり、支軸１０ａの周
囲の軸回りギャップ、つまり支軸１０ａの外壁面と軸穴
９ａの内壁面との間には、この軸回りギャップの間隙よ
りも若干大きい樹脂球（樹脂スペーサ）１９ａをグリー
スに多数混合させてなる間隙維持材１９が充填させてあ
る。ただし、支軸１０ａはステンレス製の凸状体であ
り、軸穴９ａの内壁部もステンレス製の軸受構造に形成
してある。この支軸１０ａは、間隙維持材１７を介して
吸着テーブル９を回動および上下動可能に支持してお
り、吸着テーブル９上に吸着固定した被加工物をＸテー
ブル１０に対して高精度に位置決めする際には、エアー
により吸着テーブル９を浮かせ、図２に示すモータ２０
を駆動させることにより、吸着テーブル９は支軸１０ａ
を回動中心として適宜回動させることができる。そし
て、この軸回りギャップの間隙が１５〜１６μｍである
のに対し、間隙維持材１９は充填前の直径が２０μｍの
樹脂球１９ａを分散させているので、充填後は各樹脂球
１９ａが押し潰された状態で軸回りギャップに分散され
ることになり、よって厳しい寸法管理を行わなくとも該
軸回りギャップの間隙は常に均一に保たれ、吸着テーブ
ル９の回動中心近傍にはガタが発生しないようになって
いる。その結果、本実施例では、吸着テーブル９上に吸
着固定した被加工物のＸテーブル１０に対する位置決め
作業が効率良く行えるようになっており、また、軸穴９
ａや支軸１０ａに要求される寸法精度が緩やかになるこ
とから、部品のコストダウンが図れるという利点があ
る。

【００１８】なお、本実施例では、東レシリコーン社製
の高真空用グリースに、樹脂球１９ａとして積水ファイ
ンケミカル社製のミクロパールを、１：１の容積比で混
合させたものを、間隙維持材１９として使用している。
また、吸着テーブル９をエアー浮上させ回動させる位置
決め作業が完了したなら、Ｘテーブル１０が上面側のエ
アーノズルから空気を吸引して該吸着テーブル９を吸着
固定できるようになっている。

【００１９】このＸテーブル１０は、図２に示すよう
に、一対の平行なＸ軸レール部１１ａを有する支持台１
１に摺動自在に支持されており、この支持台１１の内側
には、Ｘテーブル１０をＸ軸レール部１１ａに沿って往
復移動させるためのＸ軸リニアモータ１２が設置されて
いる。かかるリニアモータ１２は、Ｘテーブル１０に一
体化させたコイル１２ａや、Ｘ軸レール部１１ａと平行
に延びる磁石１２ｂおよびヨーク１２ｃ等によって構成
されるもので、Ｘ軸リニアエンコーダ１３から出力され
るＸテーブル１０の位置データに基づき、可動部である
コイル１２ａを介して該Ｘテーブル１０の位置制御を行
う。また、このＸ軸リニアエンコーダ１３は、発光素子
および受光素子をＸテーブル１０に一体化させて検出部
１３ａを構成し、一方のＸ軸レール１１ａに固定した目
盛部（リニアスケール）１３ｂに発光素子の光を照射し
て反射光を受光素子にて捕捉するというものであり、移
動中のＸテーブル１０の位置がリアルタイムに検出でき
るようになっている。

【００２０】そして本実施例では、支持台１１の両側縁
に設けた一対の平行なＸ軸レール部１１ａによってＸテ
ーブル１０を摺動自在に支持する構成にしてあるので、
これら一対のＸ軸レール部１１ａに対して高い平行度を
付与することが容易であるとともに、この支持台１１を
Ｙテーブル１４上に設置する際に該レール部１１ａ群の
位置精度を容易に高めることができる。しかも本実施例
では、Ｘ軸リニアモータ１２が生起する磁気駆動力の作
用点Ｐが、該リニアモータ１２により駆動されるＸテー
ブル１０の重心と略合致させてあるので、このＸテーブ
ル１０が起動時や停止時にガタを起こす虞がなくなっ
て、加工精度の向上が図れるようになっている。

【００２１】次に、支持台１１を載置しているＹテーブ
ル１４の支持構造や駆動方法等について述べると、この
Ｙテーブル１４は、その両側縁部が一対のＹ軸主レール
１５によって摺動自在に支持され、且つ中央部がセンタ
ーレール（Ｙ軸補助レール）１６によって摺動自在に支
持されており、一対のＹ軸リニアモータ１７がこれらＹ
軸レール群１５，１６に沿ってＹテーブル１４を往復移
動させるようになっている。かかる一対のリニアモータ
１７はいずれも、図５に示すように、Ｙテーブル１４に
一体化させたコイル１７ａや、Ｙ軸レール群１５，１６
と平行に延びる磁石１７ｂおよびヨーク１７ｃ等によっ
て構成されるもので、これら一対のリニアモータ１７が
共に、Ｙ軸リニアエンコーダ１８から出力されるＹテー
ブル１４の位置データに基づき、可動部であるコイル１
７ａを介して該Ｙテーブル１４の位置制御を行う。ま
た、このＹ軸リニアエンコーダ１８は、発光素子および
受光素子をＹテーブル１４の略中央部に一体化させて検
出部１８ａを構成し、センターレール１６に固定した目
盛部（リニアスケール）１８ｂに発光素子の光を照射し
て反射光を受光素子にて捕捉するというものであり、移
動中のＹテーブル１４の位置がリアルタイムに検出でき
るようになっている。

【００２２】すなわち、本実施例では、Ｙテーブル１４
の両側縁部を支持する一対のＹ軸主レール１５だけでな
く、両主レール１５間に位置するセンターレール１６に
よって該Ｙテーブル１４の中央部を支持する構成にして
あるので、Ｘテーブル１０がＹテーブル１４上の中央部
付近に位置しても、センターレール１６がＸテーブル１
０の荷重を受け止めるのでＹテーブル１４に撓みが生じ
る虞はなく、また、Ｘテーブル１０がＹテーブル１４上
の側縁部に位置しても、Ｘテーブル１０の荷重を一方の
Ｙ軸主レール１５とセンターレール１６とが分散して受
け止めるので、残りのＹ軸主レール１５の上面とＹテー
ブル１４との間のエアーギャップが不所望に広がること
はない。なお、図１中の矢印はＹテーブル１４が吹き出
す圧縮空気を示したもので、この矢印からもわかるよう
に、各Ｙ軸主レール１５の上面および両側面とＹテーブ
ル１０との間にエアーギャップが形成され、且つセンタ
ーレール１６の上面とＹテーブル１０との間にエアーギ
ャップが形成される。

【００２３】また、本実施例では、Ｙテーブル１４の位
置データを検出するＹ軸リニアエンコーダ１８の検出部
１８ａが、このＹテーブル１４と一体にセンターレール
１６の近傍を往復直線移動する個所に設置してあるの
で、この検出部１８ａにて検出されるＹテーブル１４の
位置データは、該Ｙテーブル１４の両側縁部を支持して
いる一対のＹ軸主レール１５との相対位置を平均したも
のになるので、搭載されている被加工物の実際の位置変
化を正確に把握することができる。そして、このよう
に、１台のＹ軸リニアエンコーダ１８の検出結果に基づ
く位置制御を、２台のＹ軸リニアモータ１７が同期して
行うようにしてあると、一方のリニアモータ１７に位置
制御されたＹテーブル１４が他方のリニアモータ１７の
位置制御で姿勢を変化させるという現象が発生しなくな
るので、移送した被加工物の位置ずれが回避できて加工
精度が向上する。

【００２４】ここで、Ｘテーブル１０やＹテーブル１４
がＸ軸レール部１１ａ群やＹ軸レール群１５，１６に向
けて圧縮空気を吹き出すエアー吹き出し面の形状につい
て、図６，７を参照しつつ説明する。なお、これらの図
ではＸテーブル１０の脚部のエアー吹き出し面（レール
対向面）１０ｂを示しているが、Ｘテーブル１０のうち
Ｘ軸レール部１１ａ群の上面と対向する面や、Ｙテーブ
ル１４のうちＹ軸主レール１５群の上面や両側面と対向
する面、あるいはセンターレール１６の上面と対向する
面も、ほぼ同形状のエアー吹き出し面となっている。さ
て、図示したＸテーブル１０のエアー吹き出し面１０ｂ
には、多数のエアーノズル１０ｃが露出させてあるだけ
でなく、隣り合うエアーノズル１０ｃどうしの間を横切
って延びる排気溝１０ｄが設けてあるので、エアーノズ
ル１０ｃを介してエアーギャップ内へ供給された圧縮空
気は、比較的ギャップの間隙が広いこれらの排気溝１０
ｄを通って流れようとし、その結果、圧縮空気の排出流
路が安定したものとなる。特に、Ｙテーブル１４のエア
ー吹き出し面に同様の排気溝を設けて圧縮空気の排出流
路の安定化を図っていることから、Ｙテーブル１４上で
のＸテーブル１０の移動によっていずれか一方のＹ軸主
レール１５の上面側のエアーギャップが若干広くなった
ときにも、そこへ他所から多量の圧縮空気が流入して不
規則な空気流が生成されてしまう虞はなく、それゆえエ
アーギャップ内での不規則な空気流に起因する振動の発
生を回避することが可能となっている。

【００２５】なお、本実施例ではエアー吹き出し面に、
隣り合うエアーノズルどうしの間を横切って延びる排気
溝を設けた場合について例示しているが、各エアーノズ
ルの周囲に設ける排気溝の平面形状を、該エアーノズル
を略中心とする方形、あるいは田字形に設定することに
より、圧縮空気の排出流路を一層安定させることもでき
る。

【００２６】次いで、本実施例におけるＹ軸レール群１
５，１６の取り付け構造について述べる。Ｙテーブル１
４を摺動自在に支持する一対のＹ軸主レール１５とセン
ターレール１６は、いずれも、定盤３の上面に設けた取
付溝３ａ内にレール底部を挿入することにより、この取
付溝３ａの内壁面にて幅方向に位置決めされるように設
計してあるので、Ｙテーブル１４上に支持されたＸテー
ブル１０の移動に伴って各レール１５，１６に対し幅方
向に外力が加わったとしても、定盤３に位置規制される
ため、これらのレール１５，１６が位置ずれを起こす心
配はない。

【００２７】また、本実施例では前述したように、ＸＹ
テーブル２の構成要素である吸着テーブル９、Ｘテーブ
ル１０、支持台１１、Ｙテーブル１４、Ｙ軸レール群１
５，１６等の材料に、熱膨張係数が小さくて機械的強度
が特に高い石材として知られるインディアンブラック
（グラナイトの一種）を選択しているので、使用時に大
きな引っ張り力や圧縮力、曲げ応力などが加わるＸＹテ
ーブル２の各構成要素の耐久性が向上し、長期間使用し
ても各テーブル１０，１４や支持台１１や各レール群１
５，１６に亀裂等の損傷が生じにくくなっている。しか
も、装置の土台で面積が大きい定盤３の材料には、熱膨
張係数が特に小さい石材として知られるラステンバーグ
（グラナイトの一種）を選択しているので、大面積の定
盤３であっても温度変化に伴う膨張量や収縮量は極めて
少ない。

【００２８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によるＸＹ
テーブルは、吸着テーブルの回動中心となる支軸の周囲
の軸回りギャップに、所定の大きさのスペーサをグリー
スに多数混合させてなる間隙維持材を充填させて、各ス
ペーサが押し潰された状態で該軸回りギャップに分散さ
れるようにしてあるので、厳しい寸法管理を行わなくと
も吸着テーブルの回動中心近傍にはガタが発生しなくな
って、ガタに起因する吸着テーブルの位置ずれが簡単且
つ確実に防止できるという優れた効果を奏し、部品のコ
ストダウンや作業効率の向上に寄与するところ極めて大
であるといえる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例に係るＸＹテーブルの正面図である。

【図２】一部を図示省略した該ＸＹテーブルの側面図で
ある。

【図３】該ＸＹテーブルを含むレーザ加工機の全体側面
図である。

【図４】該レーザ加工機を覆う安全カバーの図３に対応
する個所の側面図である。

【図５】図１，２に示すＸＹテーブルに組み込まれてい
るＹ軸リニアモータの側面図である。

【図６】該ＸＹテーブルのうちのＸテーブルの脚部を示
す断面図である。

【図７】図６に示すＸテーブルの脚部のエアー吹き出し
面を示す平面図である。

【図８】該ＸＹテーブルのうちの吸着テーブルを示す平
面図である。

【図９】図８に示す吸着テーブルの支持構造を示す説明
図である。

【符号の説明】

１加工機本体２ＸＹテーブル３定盤（ベース盤）９吸着テーブル９ａ軸穴９ｂ吸着孔１０Ｘテーブル（上テーブル）１０ａ支軸１１支持台１１ａＸ軸レール部１２Ｘ軸リニアモータ（第１の駆動手段）１３Ｘ軸リニアエンコーダ１４Ｙテーブル（下テーブル）１５Ｙ軸主レール１６センターレール（Ｙ軸補助レール）１７Ｙ軸リニアモータ（第２の駆動手段）１８Ｙ軸リニアエンコーダ１９間隙維持剤１９ａ樹脂球（樹脂スペーサ）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平３−121741（ＪＰ，Ａ) 特開平４−28491（ＪＰ，Ａ) 特開平７−142558（ＪＰ，Ａ) 特開平７−54844（ＪＰ，Ａ) 特開平６−271882（ＪＰ，Ａ) 実開平４−116826（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B23K 26/10 B23K 26/08 B23K 37/00 B23Q 1/38

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】搭載した被加工物が吸着可能な吸着テー
ブルと、該吸着テーブルを回動可能に支持する上テーブ
ルと、該上テーブルを移動自在に支持する上レール群
と、該上レール群に沿って前記上テーブルを往復直線移
動させる第１の駆動手段と、前記上レール群を載置した
下テーブルと、前記上レール群と直交する方向に延びて
前記下テーブルを移動自在に支持する下レール群と、該
下レール群に沿って前記下テーブルを往復直線移動させ
る第２の駆動手段とを備え、前記吸着テーブルの回動中
心となる支軸の周囲の軸回りギャップに、所定の大きさ
のスペーサをグリースに多数混合させてなる間隙維持材
を充填したことを特徴とするＸＹテーブル。
【請求項２】請求項１の記載において、前記スペーサ
として、充填前の直径が前記軸回りギャップの間隙より
も大きい樹脂球を用いたことを特徴とするＸＹテーブ
ル。
【請求項３】請求項１の記載において、前記スペーサ
と前記グリースとを容積比で１：１で混合してなる間隙
維持材を用いたことを特徴とするＸＹテーブル。
【請求項４】請求項１または２に記載のＸＹテーブル
を備えたＸＹテーブル付き加工機。
【請求項５】請求項４の記載において、加工機がレー
ザ加工機であることを特徴とするＸＹテーブル付き加工
機。