JPS62109999A - プラスチツクの表面処理方法 - Google Patents
プラスチツクの表面処理方法Info
- Publication number
- JPS62109999A JPS62109999A JP24949485A JP24949485A JPS62109999A JP S62109999 A JPS62109999 A JP S62109999A JP 24949485 A JP24949485 A JP 24949485A JP 24949485 A JP24949485 A JP 24949485A JP S62109999 A JPS62109999 A JP S62109999A
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- JP
- Japan
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- film
- masking
- electrodeposition coating
- plastic
- plating
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- Pending
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はプラスチックに装飾性に浸れた表面処理膜を形
成することができるプラスチックの表面処理方法に関し
、更に詳述すればプラスチックの表面の一部に電着塗装
膜を形成すると共に、残りの部分をこれと異色に形成す
ることができ、これにより高い装飾効果を持つプラスチ
ック成型品を得ることができるプラスチックの表面処理
方法に関する。
成することができるプラスチックの表面処理方法に関し
、更に詳述すればプラスチックの表面の一部に電着塗装
膜を形成すると共に、残りの部分をこれと異色に形成す
ることができ、これにより高い装飾効果を持つプラスチ
ック成型品を得ることができるプラスチックの表面処理
方法に関する。
従来の技術及び 明が 決しようとする 。
従来より、ＡＢＳ・樹脂等のプラスチック表面に金属め
っき膜を形成すること、また金属めっき、１１１上に電
着塗装膜を形成することは知られているが、このように
して形成された表面処理膜は単色であり、装飾効果に乏
しい。
っき膜を形成すること、また金属めっき、１１１上に電
着塗装膜を形成することは知られているが、このように
して形成された表面処理膜は単色であり、装飾効果に乏
しい。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、プラスチック
表面に装飾性に潰れた表面処理膜を簡単かつ確実に形成
することができるプラスチックの表面処理方法を提供す
ることを目的とする。
表面に装飾性に潰れた表面処理膜を簡単かつ確実に形成
することができるプラスチックの表面処理方法を提供す
ることを目的とする。
口 を ）するための−及び作用
本発明は上記目的を達成するため、プラスチック表面を
触媒活性化した後、無電解めっきを施し、次いでこの無
電解めっき膜上に直接又は電気めつき躾を形成した後、
電着塗装膜を形成するプラスチックの表面！ｌａ Ｉｌ
ｌ！方法において、前記Ｔｉ省塗装工程前のいずれかの
工程中においてプラスチック又はその上に形成されため
つぎ膜の所用部分に非導電性マスキング膜を形成し、こ
のマスキング膜が形成された状態で電着塗装を施し、前
記マスキング膜形成部以外の導電部分にＮ首塗装躾を形
成して、前記マスキング膜形成部と電着塗装膜とを箕色
に形成するようにしたものである。
触媒活性化した後、無電解めっきを施し、次いでこの無
電解めっき膜上に直接又は電気めつき躾を形成した後、
電着塗装膜を形成するプラスチックの表面！ｌａ Ｉｌ
ｌ！方法において、前記Ｔｉ省塗装工程前のいずれかの
工程中においてプラスチック又はその上に形成されため
つぎ膜の所用部分に非導電性マスキング膜を形成し、こ
のマスキング膜が形成された状態で電着塗装を施し、前
記マスキング膜形成部以外の導電部分にＮ首塗装躾を形
成して、前記マスキング膜形成部と電着塗装膜とを箕色
に形成するようにしたものである。
以下、本発明につき更に詳しく説明づる。
本発明のプラスチックの表面処理方法において、表面処
理が施こされるプラスチックの種類は必ずしも制限され
ないが、ＡＥ３Ｓ樹脂、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等が好ましく使用される。
理が施こされるプラスチックの種類は必ずしも制限され
ないが、ＡＥ３Ｓ樹脂、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等が好ましく使用される。
この場合、これらプラスチックは透明、半透明、不透明
のいずれの状態に形成されていてもよく、また適宜な色
彩に着色されていてもよく、プラスチック成型品の使用
目的、マスキング膜やその下にめっき膜が形成されてい
る場合にこれらを剥離除去するか否か等に応じ、装飾効
果を考屯して選択使用する。
のいずれの状態に形成されていてもよく、また適宜な色
彩に着色されていてもよく、プラスチック成型品の使用
目的、マスキング膜やその下にめっき膜が形成されてい
る場合にこれらを剥離除去するか否か等に応じ、装飾効
果を考屯して選択使用する。
本発明においては、このプラスチックに対し、その表面
を触媒活性化した後、無電解めっきを施し、次いでこの
無電解めっぎ膜上に直接又は電気めっき膜を形成した後
、電着塗゛装を行なうものであるが、まずプラスチック
に対する無電解めつき膜の形成は、そのプラスチックの
種類に応じた常法に従って行なうことができる。具体的
には、プラスチックの種類により必要な場合には溶剤エ
ツチングを行なった後、Ｃｒ ０１！ −Ｈ２ＳＯ４エ
ツチングを行ない、次いで５ｎＣＲ２液浸漬−２°Ｃｊ
ｚ ）ｆ！？ｊ）ＦＷｊ’Ｐｄ Ｃ１ｚ °Ｓ°Ｃ１２
ａ ｔ ’ａＦ ｆｊｔ−酸又はアルカリ液浸漬、Ｐｄ
Ｃｊ２潰漬−還元剤ｉ２漬などの方法でプラスチック表
面にパラジウム等の触媒金属を付着させ、このように触
媒活性化された表面に無電解銅めっき、無電解ニッケル
めっき等の無電解めっきを施す方法が好適に採用し得る
。なお、本発明において、無電解めっき膜の厚さは特に
制限されないが、０．３〜０．８μｍの範囲とすること
が好ましい。
を触媒活性化した後、無電解めっきを施し、次いでこの
無電解めっぎ膜上に直接又は電気めっき膜を形成した後
、電着塗゛装を行なうものであるが、まずプラスチック
に対する無電解めつき膜の形成は、そのプラスチックの
種類に応じた常法に従って行なうことができる。具体的
には、プラスチックの種類により必要な場合には溶剤エ
ツチングを行なった後、Ｃｒ ０１！ −Ｈ２ＳＯ４エ
ツチングを行ない、次いで５ｎＣＲ２液浸漬−２°Ｃｊ
ｚ ）ｆ！？ｊ）ＦＷｊ’Ｐｄ Ｃ１ｚ °Ｓ°Ｃ１２
ａ ｔ ’ａＦ ｆｊｔ−酸又はアルカリ液浸漬、Ｐｄ
Ｃｊ２潰漬−還元剤ｉ２漬などの方法でプラスチック表
面にパラジウム等の触媒金属を付着させ、このように触
媒活性化された表面に無電解銅めっき、無電解ニッケル
めっき等の無電解めっきを施す方法が好適に採用し得る
。なお、本発明において、無電解めっき膜の厚さは特に
制限されないが、０．３〜０．８μｍの範囲とすること
が好ましい。
また、この無電解めつき膜上に電気めっき膜を形成する
場合、電気めつき膜の種類には限定がないが、銅めっき
、ニッケルめっき、銅合金めっき、ニッケル合金めっき
、クロムめっきなどが挙げられ、これらの単層又はこれ
らを組合せた多層めつき膜として形成することができる
。
場合、電気めつき膜の種類には限定がないが、銅めっき
、ニッケルめっき、銅合金めっき、ニッケル合金めっき
、クロムめっきなどが挙げられ、これらの単層又はこれ
らを組合せた多層めつき膜として形成することができる
。
本発明は、次いで電４？ｌＩ。装を行なうものであるが
、この電着塗装を行なう前の上記いずれかの工程におい
てプラスチック又はその上に形成されためつき膜の所用
部分に非導電性のマスキング膜を形成する。例えば、プ
ラスチックに対するエツチング工程前、無電解めっき膜
を形成した侵電気めっきを行なう前、多層めっき膜を形
成する場合において適宜なめつき膜を形成した後、最終
電気めっき膜を形成した後などにマスキング膜を形成す
るもので、どの工程でマスキングするかはプラスチック
成型品の使用目的、マスキング膜やその下にめっき膜が
形成されている場合にこれらを剥離除去するか否か等に
応じ、装飾効果を考慮して選定する。
、この電着塗装を行なう前の上記いずれかの工程におい
てプラスチック又はその上に形成されためつき膜の所用
部分に非導電性のマスキング膜を形成する。例えば、プ
ラスチックに対するエツチング工程前、無電解めっき膜
を形成した侵電気めっきを行なう前、多層めっき膜を形
成する場合において適宜なめつき膜を形成した後、最終
電気めっき膜を形成した後などにマスキング膜を形成す
るもので、どの工程でマスキングするかはプラスチック
成型品の使用目的、マスキング膜やその下にめっき膜が
形成されている場合にこれらを剥離除去するか否か等に
応じ、装飾効果を考慮して選定する。
また、形成するマスキング膜は、その後これを除去する
か否かに応じ、その種類を選定する。例えば、マスキン
グ膜を除去する場合は、電着塗装膜を浸すことがない溶
剤に可溶なもの或いはピールオフ可能なものを使用する
。また、マスキング膜を除去しないｉ合は、密着性がよ
い皮膜が形成されるものを使用する。この場合、マスキ
ング膜は透明、半透明、不透明のもの、適宜な色彩を有
するものを装飾効果に応じて選択する。
か否かに応じ、その種類を選定する。例えば、マスキン
グ膜を除去する場合は、電着塗装膜を浸すことがない溶
剤に可溶なもの或いはピールオフ可能なものを使用する
。また、マスキング膜を除去しないｉ合は、密着性がよ
い皮膜が形成されるものを使用する。この場合、マスキ
ング膜は透明、半透明、不透明のもの、適宜な色彩を有
するものを装飾効果に応じて選択する。
本発明のプラスチックの表面処理方法は、このように非
導電性マスキング膜を形成した状態で電着塗装を行なう
。これにより、マスキング膜形成部以外の導電部（めっ
き模形成部）に電着塗装膜が形成され、マスキング膜形
成部は電着塗装膜が形成されずに残る。
導電性マスキング膜を形成した状態で電着塗装を行なう
。これにより、マスキング膜形成部以外の導電部（めっ
き模形成部）に電着塗装膜が形成され、マスキング膜形
成部は電着塗装膜が形成されずに残る。
この場合、電着塗装は陽極電着塗装でも陰極電着塗装で
もよい。また、電着塗装液及び塗装条件は公知もの、公
知の条件が用いられる。例えば、電着塗装液としてはア
クリル樹脂系、ポリエステル系、エポキシ樹脂系等のも
のを使用し得、目的に応じて透明、半透明、不透明のも
の、適宜な色彩に着色されたものを選択して用いること
ができる。また、電着塗装膜の厚さは３〜１５μｍ、特
に５〜１０μｍとすることが好適である。なお、電着塗
装後は、常法に従ってＷｉ電着塗装膜焼付け、硬化する
。
もよい。また、電着塗装液及び塗装条件は公知もの、公
知の条件が用いられる。例えば、電着塗装液としてはア
クリル樹脂系、ポリエステル系、エポキシ樹脂系等のも
のを使用し得、目的に応じて透明、半透明、不透明のも
の、適宜な色彩に着色されたものを選択して用いること
ができる。また、電着塗装膜の厚さは３〜１５μｍ、特
に５〜１０μｍとすることが好適である。なお、電着塗
装後は、常法に従ってＷｉ電着塗装膜焼付け、硬化する
。
電＠塗装工程終了後は、そのままマスキング膜を残した
状態とするか、又は必要により前記マスキング膜を除去
し、更にその下側にめっき摸が形成されている場合にこ
れを除去する必要がある場合は１．？１Ｊ ｍ溶解液を
用いるなどの適宜な方法でこれらを除去する。
状態とするか、又は必要により前記マスキング膜を除去
し、更にその下側にめっき摸が形成されている場合にこ
れを除去する必要がある場合は１．？１Ｊ ｍ溶解液を
用いるなどの適宜な方法でこれらを除去する。
このようにして表面処理されたプラスチック成形品は、
部分的に電着塗装膜が形成され、かつ前記マスキング膜
形成部分にはこの電着塗装膜と異色かつ異質な皮膜が形
成され、非常に装飾効果が高いものである。また、特に
マスキング形成部分に非導電性マスキング膜を剥離せず
にそのまま残している場合には、表面がいずれも有機膜
にて形成されているため、装飾性が浸れ、しかも耐食性
が良好なものである。
部分的に電着塗装膜が形成され、かつ前記マスキング膜
形成部分にはこの電着塗装膜と異色かつ異質な皮膜が形
成され、非常に装飾効果が高いものである。また、特に
マスキング形成部分に非導電性マスキング膜を剥離せず
にそのまま残している場合には、表面がいずれも有機膜
にて形成されているため、装飾性が浸れ、しかも耐食性
が良好なものである。
発明の効果
本発明のプラスチックの表面処理方法によれば、以上説
明したように、装飾効果の優れた表面処理膜を簡単かつ
確実に形成することができるものである。
明したように、装飾効果の優れた表面処理膜を簡単かつ
確実に形成することができるものである。
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本
発明は下記の実施例に制限されない。
発明は下記の実施例に制限されない。
〔実施例１〕
ＡＢＳ樹脂表面の所定部分にシルク印刷法を採用し、大
日本インキ社製のダイキュア５ＳＰＵｖインキを用いて
白色の約１０μｍのマスキング族を形成した。
日本インキ社製のダイキュア５ＳＰＵｖインキを用いて
白色の約１０μｍのマスキング族を形成した。
次に、常法に従い、ＡＢＳ樹脂をＣｒ ０３−Ｈ２Ｓ○
４混液でエツチングし、キャタライザー。
４混液でエツチングし、キャタライザー。
アクセレーターを用いて表面を触媒活性化した後、無電
解ニッケルめっきを施し、約０．５μｍのめつき膜を得
た。
解ニッケルめっきを施し、約０．５μｍのめつき膜を得
た。
次いで、その上に下記条件により陽極電着塗装を行ない
、黒色の電着塗装膜を約１０μｍ形成した。
、黒色の電着塗装膜を約１０μｍ形成した。
電着塗装液 清水商事社製ニレコートＡＰ−２（ア
クリル樹脂系） 塗装条件 温 度 ２５℃電 圧
３０Ｖ 時 間 ２分 乾燥焼付は処理 清水商事社製ハードナーで２５℃、６０秒浸漬処理した
後、乾燥（８０℃、１０分）、焼付け（８５℃、６０分
）。
クリル樹脂系） 塗装条件 温 度 ２５℃電 圧
３０Ｖ 時 間 ２分 乾燥焼付は処理 清水商事社製ハードナーで２５℃、６０秒浸漬処理した
後、乾燥（８０℃、１０分）、焼付け（８５℃、６０分
）。
以上の方法で表面処理されたＡＢＳ樹脂は、前記マスキ
ング膜形成部分が、前記インキにより白色に形成されて
いると共に、他の部分に黒色の電着塗装膜が形成され、
良好な外観を有していた。
ング膜形成部分が、前記インキにより白色に形成されて
いると共に、他の部分に黒色の電着塗装膜が形成され、
良好な外観を有していた。
〔実施例２〕
実施例１と同様の工程で白色の約１０μｍのマスキング
膜を形成し、次いで無電解ニッケルめっき膜を形成した
後、硫酸銅ストライクめっきを施しく０．３μｍ）、更
に光沢硫酸銅めっき（３μｌ１ｌ）、光沢ニッケルめつ
き（８μｍ）を施した。
膜を形成し、次いで無電解ニッケルめっき膜を形成した
後、硫酸銅ストライクめっきを施しく０．３μｍ）、更
に光沢硫酸銅めっき（３μｌ１ｌ）、光沢ニッケルめつ
き（８μｍ）を施した。
次いで、その上に実施例１と同様の条件により陽極電着
塗装を行ない、ハードナー浸漬、乾燥、焼付は処理を行
なって黒色の電着塗装膜を約１０μｍ形成した。
塗装を行ない、ハードナー浸漬、乾燥、焼付は処理を行
なって黒色の電着塗装膜を約１０μｍ形成した。
以上の方法で表面処理されたＡＢＳ樹脂は、前記マスキ
ング膜形成部分が、前記インキにより白色に形成されて
いると共に、他の部分に黒色の電着塗装膜が形成され、
良好な外観を有していた。
ング膜形成部分が、前記インキにより白色に形成されて
いると共に、他の部分に黒色の電着塗装膜が形成され、
良好な外観を有していた。
〔実施例３〕
ＡＢＳ樹脂に対し、マスキング膜を形成しない以外は実
施例１と同様にして無電解ニッケルめっき膜を形成した
。
施例１と同様にして無電解ニッケルめっき膜を形成した
。
次に、乾燥後、無電解ニッケルめっき膜の所定部分にシ
ルク印刷法を採用し、十条化工社製のエビライト１００
（エポキシ系２液性インギ）を用いて白色の約１０μｍ
のマスキング膜を形成した。
ルク印刷法を採用し、十条化工社製のエビライト１００
（エポキシ系２液性インギ）を用いて白色の約１０μｍ
のマスキング膜を形成した。
次いで無電解ニッケルめっき膜を活性化した後、硫酸銅
ストライクめっきを施しく０．３μｍ）、更に光沢１ｉ
ｉ！ｌ酸銅めっき（３μｍ）、光沢ニッケルめっき（８
μｍ）を施した。
ストライクめっきを施しく０．３μｍ）、更に光沢１ｉ
ｉ！ｌ酸銅めっき（３μｍ）、光沢ニッケルめっき（８
μｍ）を施した。
更に、その上に実施例１と同様の条件により陽極′Ｆ１
着塗装を行ない、更にハードナー浸漬、乾燥、焼付は処
理を行なって黒色の電着塗装膜を約１０μｍ形成した。
着塗装を行ない、更にハードナー浸漬、乾燥、焼付は処
理を行なって黒色の電着塗装膜を約１０μｍ形成した。
以上の′方法で表面処理されたＡＢＳ樹脂は、前記マス
キング膜形成部分が、エポキシ系インキにより白色に形
成されていると共に、他の部分に黒色の電着塗装膜が形
成され、良好な外観を有してい Ｉこ 。
キング膜形成部分が、エポキシ系インキにより白色に形
成されていると共に、他の部分に黒色の電着塗装膜が形
成され、良好な外観を有してい Ｉこ 。
Claims (1)
- １、プラスチック表面を触媒活性化した後、無電解めっ
きを施し、次いでこの無電解めっき膜上に直接又は電気
めっき膜を形成した後、電着塗装膜を形成するプラスチ
ックの表面処理方法において、前記電着塗装工程前のい
ずれかの工程中においてプラスチック又はその上に形成
されためっき膜の所用部分に非導電性マスキング膜を形
成し、このマスキング膜が形成された状態で電着塗装を
施し、前記マスキング膜形成部以外の導電部分に電着塗
装膜を形成して、前記マスキング膜形成部と電着塗装膜
とを互に異色に形成したことを特徴とするプラスチック
の表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24949485A JPS62109999A (ja) | 1985-11-06 | 1985-11-06 | プラスチツクの表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24949485A JPS62109999A (ja) | 1985-11-06 | 1985-11-06 | プラスチツクの表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62109999A true JPS62109999A (ja) | 1987-05-21 |
Family
ID=17193803
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24949485A Pending JPS62109999A (ja) | 1985-11-06 | 1985-11-06 | プラスチツクの表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62109999A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100108344A1 (en) * | 2008-10-30 | 2010-05-06 | Shenzhen Futaihong Precision Industry Co., Ltd. | Housing for electronic device and method of making the housing |
-
1985
- 1985-11-06 JP JP24949485A patent/JPS62109999A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100108344A1 (en) * | 2008-10-30 | 2010-05-06 | Shenzhen Futaihong Precision Industry Co., Ltd. | Housing for electronic device and method of making the housing |
| US8241480B2 (en) * | 2008-10-30 | 2012-08-14 | Shenzhen Futaihong Precision Industry Co., Ltd. | Housing for electronic device and method of making the housing |
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