JPS6199922A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JPS6199922A
JPS6199922A JP21952084A JP21952084A JPS6199922A JP S6199922 A JPS6199922 A JP S6199922A JP 21952084 A JP21952084 A JP 21952084A JP 21952084 A JP21952084 A JP 21952084A JP S6199922 A JPS6199922 A JP S6199922A
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JP
Japan
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magnetic recording
substrate
recording layer
helium
recording medium
Prior art date
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Granted
Application number
JP21952084A
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English (en)
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JPH0566648B2 (ja
Inventor
Koichi Shinohara
紘一 篠原
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は強磁性薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体に
関する。
従来例の構成とその問題点 従来から磁気記録は高密度化を中心的課題として、磁気
記録媒体、磁気ヘッド、記録方式の開発により進歩して
きている。
しかし、ここにきて、従来技術の改良では面記録密度的
に限界がみえ、更に1桁記録密度を向上させるには、磁
気記録層に有機結合剤を全く用いない、いわゆる強磁性
金属薄膜を用いた、薄膜型磁気記録媒体の実用化が望ま
れ、各方面で開発が進められている。
第1図は面内記録媒体、第2図は垂直記録媒体の拡大断
面図である。
第1図で1は高分子基板、2は磁気記録層となる強磁性
金属薄膜、3Ii保護層である。
第2図で4は高分子基板、5は軟磁性層、6は磁気記録
層となる垂直磁化磁性膜、7は保護膜である。
2又は6に用いられる磁性材料はGo、Go−Ni。
Go−Or 、 Go −Cu 、 Go−G&、 G
o −Mn 、 Go −Mg 。
Go −Nd 、 Go −P 、 Go −Ru 、
Go −3m 、 Go −8n 。
Co −Ti 、 Go −Ta 、 Co−U 、 
Co −V 、 Co −W 。
Coo −Y 、 Go −Zn 、 Go −Zr 
、 Go −Ni −P 。
Go −Ni −Cr 、 Go −Zn −P 、 
Co −Ni −0等で、薄膜化技術としては、スパッ
タリング法゛、イオンブレーティング法、電子ビーム蒸
着法等が挙げられる。
現状では、フェライトヘッドとGo −Ni−0系薄膜
の組み合わせが最も進んでおり、高密度化を進めるには
、合金ヘッドとの組み合わせが必要となリ、合金ヘッド
による録再に対する耐久性の改良が望まれる。
特にスチル状態で高速摺接時の耐久性は、保護膜のみで
は解決されないため、改良が必要である・発明の目的 本発明は上記事情に鑑みなされたもので、耐久性の改良
された強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体
を提供することを目的とする。
発明の構成 本発明の磁気記録媒体は、強磁性薄膜を構成する微結晶
粒子が空孔を有し、空孔率が体積比率で3%から16%
であることを特徴とし、合金ヘッドとの高速摺接に於け
る耐久性が改良されたものである。
実施例の説明 以下、図面を参照しながら本発明の詳細な説明する。
第3図は本発明の磁気記録媒体の部分拡大断面図である
8は高分子基板或いは軟磁性層で、9は微結晶粒子で、
10は空孔である。
本発明は微結晶粒子内の空孔率を体積%で3%から15
%までに制御することで、合金ヘッドに対する高速摺接
時に発生するスリキズにより磁気記録層がやがて破壊す
るに至る時間を大幅に延長することができるものである
空孔の作用は、局部的な応力に対する歪音かん和するも
のと思われるもので3%以上50%まででの雑音が増え
ることから、最適の範囲が決る。
本発明の磁気記録媒体の製造は、例えば、高分子基板を
真空乾燥してから、置換ガスとしてヘリウムを用い、基
板に飽和量吸着させ、その基板を用いて、電子ビーム蒸
着法、スパッタリング法等゛・で磁気記録層を形成すれ
ば、微結晶内にヘリウムがトラップされ、磁気記録層形
成後、長時間(最低24h)真空中で加熱することで、
ドラッグさh たヘリウムガスを追い出せばよい。
なお、本発明の磁気記録層の保護のために、脂肪酸アミ
ド、脂肪酸、フッ素オイル等の塗布を行うことや、プラ
ズマ重合膜を形成する等は周知の範囲で実施し、かつ良
好な結果を得られるものであることは勿論である。
以下さらに具体的に本発明の実施例について説明する。
(実施例) 厚み10μmのポリアミド基板を用い(1)真空脱ガス
(ii) 、ガス吸着Qii) 、電子ビーム蒸着6V
) 、真空加熱のプロセスで、磁気記録媒体を製造し、
センダストヘッドとGo  系非晶質合金ヘッドでS/
N(信号対雑音比)とスチル寿命を調べた。スチル寿命
は初期の出力から3 dB  出力が低下するまでの時
間で、スチル寿命に至ったサンプルは光学顕漱鏡にて表
面かん察を行った。
(1)真空脱ガス条件範囲、基板温度:190’C,処
理時間=10時間〜48時間、真空度: 105Tor
r以下 (11)ガス吸着条件二基板温度ニー20’C,ガス:
 1(e真空度: 50TOrr 〜300TOrr 
、処!時間:24h〜120h。
011)電子ビーム蒸着条件:基板温度:0°C1基板
移動速度: s m/win 〜24 m/win 、
蒸着材料:C01oo%、真空度: I X 10 ’
 Torr  、最大分圧:酸素9X10  TOrr
:  、入射角:14度以内のほぼ垂直入射 Ov)真空加熱:基板温度:140’C,処理時間=4
8h〜120h、真空度:4×1Φ−5Torr以下、 使用したヘッドは、センダストヘッド、非晶質合金ヘッ
ド共、コア幅100μ/7i1 、ギャップ長0.26
μmのリング型ヘッドで記録波長は0.5μ〃?。
トラック幅は9.6μ?11である。
テープ幅は8間で、スチル時の張力は25.9一定とし
た。
なお、表面保護層は、ステアリン酸亜鉛をほぼ36への
厚みとなるよう塗布したものである。
(以下余白) 上表より明らかに本発明品は、合金ヘッドに対してS/
Nと、スチル寿命の双方共が良好であることがわかる。
なお、本発明は磁気テープに限らず、磁気ディスクに於
ても効果を発揮するのは勿論、前述の他の材料の組み合
わせでも十分効果のあることを確認した。
発明の効果 以上のように、本−発明は磁気記録層を空孔を体積比率
で3〜16%有する微結晶粒子から成る強磁性薄膜で構
成することで合金ヘッド系に対するスチル寿命が改良さ
れ、かつ優れたS/Hの磁気記録媒体を得ることができ
るもので、その効果はきわめて大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は面内磁気記録媒体の拡大断面図、第2図は垂直
記録用の磁気記録媒体の拡大断面図、第3図は本発明の
磁気記録媒体の一例の部分拡大断面図である。 8・・・・・・高分子基板、9・・・・・・微結晶粒子
1,10・・・・・・空孔。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はが1名第 
1 図 第2図 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 強磁性薄膜を構成する微結晶粒子が空孔を有し、空孔率
    が体積比率で3%から15%であることを特徴とする磁
    気記録媒体。
JP21952084A 1984-10-19 1984-10-19 磁気記録媒体 Granted JPS6199922A (ja)

Priority Applications (1)

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JP21952084A JPS6199922A (ja) 1984-10-19 1984-10-19 磁気記録媒体

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JP21952084A JPS6199922A (ja) 1984-10-19 1984-10-19 磁気記録媒体

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JPS6199922A true JPS6199922A (ja) 1986-05-19
JPH0566648B2 JPH0566648B2 (ja) 1993-09-22

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