JPS6196474A - パルス幅検査方法 - Google Patents
パルス幅検査方法Info
- Publication number
- JPS6196474A JPS6196474A JP21764384A JP21764384A JPS6196474A JP S6196474 A JPS6196474 A JP S6196474A JP 21764384 A JP21764384 A JP 21764384A JP 21764384 A JP21764384 A JP 21764384A JP S6196474 A JPS6196474 A JP S6196474A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pulse
- pulse width
- forming means
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- Prior art date
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- Granted
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- Manipulation Of Pulses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、パルス形成回路等から出力されたパルスのパ
ルス幅が所定の範囲、いわゆる検査規格に入っているか
否かを判定するためのパルス幅検査方法に関するもので
ある） 従来例の構成とその問題点 パルス幅の検査の１つに、被測定パルスのパルス幅の絶
対値は考慮せず、パルス幅が所定の範囲に入っているか
否かを判定するだめの検査がある。
ルス幅が所定の範囲、いわゆる検査規格に入っているか
否かを判定するためのパルス幅検査方法に関するもので
ある） 従来例の構成とその問題点 パルス幅の検査の１つに、被測定パルスのパルス幅の絶
対値は考慮せず、パルス幅が所定の範囲に入っているか
否かを判定するだめの検査がある。
この検査を自動化するにあたり、従来は水晶発振器等で
発生させた高い周波数の基準パルスを測定時間あるいは
、測定精度を考慮した低い周波数にまで分周してパルス
幅測定用のカウントパルスを得、このカウントパルスが
、被測定パルスｌｌｌ’ｌｆ Ｏ中に含まれる数を計数
する方法が広く採用されている。
発生させた高い周波数の基準パルスを測定時間あるいは
、測定精度を考慮した低い周波数にまで分周してパルス
幅測定用のカウントパルスを得、このカウントパルスが
、被測定パルスｌｌｌ’ｌｆ Ｏ中に含まれる数を計数
する方法が広く採用されている。
ところで、この検査方法では、基準パルス発生開諏此恕
ム田明 孔齢ふ＾すｈ皓表ｍ二１之Ｉ）ればならず、
検査装置の回路が複雑でかつ、構成が大がかりなものと
なってしまう。
ム田明 孔齢ふ＾すｈ皓表ｍ二１之Ｉ）ればならず、
検査装置の回路が複雑でかつ、構成が大がかりなものと
なってしまう。
発明の目的
本発明の目的は、検査装置の構成を大規模、かつ、複雑
化させることなく被検査パルスのパルス幅が所定の範囲
に入っているか否かを検査するパルス幅検査方法を提供
することにある。
化させることなく被検査パルスのパルス幅が所定の範囲
に入っているか否かを検査するパルス幅検査方法を提供
することにある。
発明の構成
上記の目的を達成する本発明のパルス幅検査方法は、前
縁が入力された被検査パルスの前縁と一致し、パルス幅
が検査規格におけるパルス幅の下限値に等しく設定され
た第１のパルスを第１のパルス形成手段によって作り、
さらに、前縁が前記第１のパルスの後縁と一致し、パル
ス幅が前記検査規格におけるパルス幅の上限値と下限値
の差と等しく設定された第２のパルスを第２のパルス形
成手段で作り、さらに、前縁が前記被検査パルスの後縁
と一致する第３のパルスを第３のパルス形成手段で作る
とともに、前記第３のパルスのパルス幅は、前記被検査
パルスの後縁が前記検査規格の下限値以下であるとき、
前記第２のパルスのｒｊＱ縁に達することのない長さに
設定され、前記第３のパルスと前記第２のパルスとを論
理積により、前記被検査パルスのパルス幅が前記検査規
格内に入っているか否かを判定する方法である。この方
法によれば、簡易な回路装置を用意するだけでパルス幅
を検査することができる。
縁が入力された被検査パルスの前縁と一致し、パルス幅
が検査規格におけるパルス幅の下限値に等しく設定され
た第１のパルスを第１のパルス形成手段によって作り、
さらに、前縁が前記第１のパルスの後縁と一致し、パル
ス幅が前記検査規格におけるパルス幅の上限値と下限値
の差と等しく設定された第２のパルスを第２のパルス形
成手段で作り、さらに、前縁が前記被検査パルスの後縁
と一致する第３のパルスを第３のパルス形成手段で作る
とともに、前記第３のパルスのパルス幅は、前記被検査
パルスの後縁が前記検査規格の下限値以下であるとき、
前記第２のパルスのｒｊＱ縁に達することのない長さに
設定され、前記第３のパルスと前記第２のパルスとを論
理積により、前記被検査パルスのパルス幅が前記検査規
格内に入っているか否かを判定する方法である。この方
法によれば、簡易な回路装置を用意するだけでパルス幅
を検査することができる。
実施例の説明
第１図は、本発明のパルス幅検査方法で使用する検査装
置の回路構成を示す図であり、第２図は第１図で示す検
査装置要部の動作波形図を示す。
置の回路構成を示す図であり、第２図は第１図で示す検
査装置要部の動作波形図を示す。
以下、これらの図面を参照して本発明の一実施例を詳細
に説明する。
に説明する。
まず、説明の便宜上、被検査パルス幅および検査規格を
次のように設ける。すなわち、被検査パルスの標準パル
ス幅をＷ。、検査規格におけるパルス幅の下限値をＷ
１上限値をＷ２とする。しま たがって、披倹斉パルス幅Ｗ０、下限値Ｗ１ および上
限値Ｗ の間に、Ｗ１≦Ｗ０≦Ｗ２の関係が成立すれば
１．彼倹イｔパルスのパルス幅が、検査規格内に入って
いると判定される。
次のように設ける。すなわち、被検査パルスの標準パル
ス幅をＷ。、検査規格におけるパルス幅の下限値をＷ
１上限値をＷ２とする。しま たがって、披倹斉パルス幅Ｗ０、下限値Ｗ１ および上
限値Ｗ の間に、Ｗ１≦Ｗ０≦Ｗ２の関係が成立すれば
１．彼倹イｔパルスのパルス幅が、検査規格内に入って
いると判定される。
次に、回路動作を説明する。
第２図（ａ）に示す被検査パルスは、入力端子１を介し
て第１のパルス形成手段２の正エッヂトリガ端子側に入
力される。このパルス形成手段２は、たとえば、ｒｌｔ
安定マルチバイブレータ（以下モノマルチと称する）３
、抵抗Ｒ１、コンデンサＣ１で構成されている。このよ
うに構成されたパルス形成手段２においては、抵抗Ｒ１
とコンデンサＣ１の値を任意に選択することによ゛す、
被検査パルスを所定のパルス幅のパルスに変換すること
ができ、モノマルチ３の出力側（Ｑｌ）に出力される第
１のパルスを、第２図（ｂ）に示すように、前縁が第２
図（ａ）に示す被検査パルスの前縁（イ）と一致し、パ
ルス幅Ｗ３が検査規格パルス幅の下限値Ｗ１に等しくな
るように設定する。
て第１のパルス形成手段２の正エッヂトリガ端子側に入
力される。このパルス形成手段２は、たとえば、ｒｌｔ
安定マルチバイブレータ（以下モノマルチと称する）３
、抵抗Ｒ１、コンデンサＣ１で構成されている。このよ
うに構成されたパルス形成手段２においては、抵抗Ｒ１
とコンデンサＣ１の値を任意に選択することによ゛す、
被検査パルスを所定のパルス幅のパルスに変換すること
ができ、モノマルチ３の出力側（Ｑｌ）に出力される第
１のパルスを、第２図（ｂ）に示すように、前縁が第２
図（ａ）に示す被検査パルスの前縁（イ）と一致し、パ
ルス幅Ｗ３が検査規格パルス幅の下限値Ｗ１に等しくな
るように設定する。
このようにして発生させた第１°のパルスは、導線４を
通じて、第２のパルス形成手段５を形成する主要素であ
るモノマルチ６の負エッヂトリガ端子５を構成する抵抗
Ｒ２、コンデンサＣ２のｎＹｉを選択し、パルス形成手
段５の出力側（Ｑ２）に出力されるパルスを第２図（Ｃ
）に示すように、前縁が前記第１のパルスの後縁（ハ）
と一致し、パルス幅Ｗ４が上限値Ｗ２と下限値Ｗ１
との差と等しくな。
通じて、第２のパルス形成手段５を形成する主要素であ
るモノマルチ６の負エッヂトリガ端子５を構成する抵抗
Ｒ２、コンデンサＣ２のｎＹｉを選択し、パルス形成手
段５の出力側（Ｑ２）に出力されるパルスを第２図（Ｃ
）に示すように、前縁が前記第１のパルスの後縁（ハ）
と一致し、パルス幅Ｗ４が上限値Ｗ２と下限値Ｗ１
との差と等しくな。
るように設定する。第２のパルスは、導線８を介して２
人力形の論理積回路９へ、一方の入力として加えられる
。 ・ また、第２図（ａ）に示した被検査パルスは、第３のパ
ルス形成手段１０を構成するモノマルチ１１の負エッヂ
トリガ端子１２にも加えられる。このパルス形成手段に
おいても、第１．第２のパルス形成手段でパルス幅が設
定されたように、抵抗Ｒ３、コンデンサＣ３の値を選択
することにより、モノマルチ１１の出力側（Ｑ３）に出
力される第３のパルスを、＋）Ｑ縁が前記被検査パルス
の後縁（ロ）と一致し、かつ、パルス幅が被検査パルス
のパルス幅が検査規格の下限姶以下であるとき、第２の
パルスの前縁（ハ）に達することのない長さに設定すこ
のようにして作られた第３のパルスを第２図（ｄ）〜（
ｆ）に示す。ところで、第２図（ｄ）で示すパルスは、
被検査パルス幅が、検査規格のパルス幅の下限値、すな
わち、パルス幅がＷｌ と等しいとき、第２図（，１
は、被検査パルス幅がＷｏで表示される標準パルスと等
しいとき、第２図（ｆ）は、被検査パルス幅がＷ２で表
示される検査規格の上限１直のパルス幅と等しいときに
発生される第３のパルス波形である。
人力形の論理積回路９へ、一方の入力として加えられる
。 ・ また、第２図（ａ）に示した被検査パルスは、第３のパ
ルス形成手段１０を構成するモノマルチ１１の負エッヂ
トリガ端子１２にも加えられる。このパルス形成手段に
おいても、第１．第２のパルス形成手段でパルス幅が設
定されたように、抵抗Ｒ３、コンデンサＣ３の値を選択
することにより、モノマルチ１１の出力側（Ｑ３）に出
力される第３のパルスを、＋）Ｑ縁が前記被検査パルス
の後縁（ロ）と一致し、かつ、パルス幅が被検査パルス
のパルス幅が検査規格の下限姶以下であるとき、第２の
パルスの前縁（ハ）に達することのない長さに設定すこ
のようにして作られた第３のパルスを第２図（ｄ）〜（
ｆ）に示す。ところで、第２図（ｄ）で示すパルスは、
被検査パルス幅が、検査規格のパルス幅の下限値、すな
わち、パルス幅がＷｌ と等しいとき、第２図（，１
は、被検査パルス幅がＷｏで表示される標準パルスと等
しいとき、第２図（ｆ）は、被検査パルス幅がＷ２で表
示される検査規格の上限１直のパルス幅と等しいときに
発生される第３のパルス波形である。
なお、第３のパルスのパルス幅は、前記第１および第２
のパルス形成手段により形成されるような厳密なパルス
幅を意味するのではなく、被検査パルスの後縁（ロ）が
第２のパルスの領域内に入っていることが識別できる検
査精度によシ、任意に狭くするだけでよい。そして、こ
の第３のパルスは、導線１３を介して、論理積回路９へ
、他方の入力として加えられる。
のパルス形成手段により形成されるような厳密なパルス
幅を意味するのではなく、被検査パルスの後縁（ロ）が
第２のパルスの領域内に入っていることが識別できる検
査精度によシ、任意に狭くするだけでよい。そして、こ
の第３のパルスは、導線１３を介して、論理積回路９へ
、他方の入力として加えられる。
論理積回路９では、入力される第２および第３の２つの
パルスの位相関係が比較され、この出力値１４には被検
査パルス幅が、検査規格内にあるか否かの判定結果を示
す出力信号が導出される。
パルスの位相関係が比較され、この出力値１４には被検
査パルス幅が、検査規格内にあるか否かの判定結果を示
す出力信号が導出される。
すなわち、被倹在パルス幅が検査規格内にあると判定さ
れる場合は、第２図（Ｃ）に示す第２のパルス期間内に
、第２図（ｄ）〜（１）に示すような第３のパルスが存
在している。したがって、論理積回路９をたとえば、Ｎ
ＡＮＤゲ゛−トで構１戊するとその出力端子１４の出力
論理レベルは低レベル”Ｌ”となり、負パルス（図示せ
ず）が現われる。一方、被検査パルス幅が倹査児格外と
判定される場合は、第２のパルス期間内に第３のパルス
が存在しない。
れる場合は、第２図（Ｃ）に示す第２のパルス期間内に
、第２図（ｄ）〜（１）に示すような第３のパルスが存
在している。したがって、論理積回路９をたとえば、Ｎ
ＡＮＤゲ゛−トで構１戊するとその出力端子１４の出力
論理レベルは低レベル”Ｌ”となり、負パルス（図示せ
ず）が現われる。一方、被検査パルス幅が倹査児格外と
判定される場合は、第２のパルス期間内に第３のパルス
が存在しない。
このため、出力端子１４の論理レベルは、高レベル”Ｈ
”に保持され、出力論理レベルは変化しない。
”に保持され、出力論理レベルは変化しない。
このような判定を自動的に行うためには、論理積回路９
の出力端子１４に生じる信号を、たとえば、フリップフ
ロップ（Ｆ／Ｆ ）回路１５に加えてパルス信号があれ
ばパルス幅デユーティが６゜チになるように波形整形し
た後、積分器１６で直流電圧に変換し、この直流電圧を
たとえば、電圧″−’ｆｆ”で読みとればよい。
の出力端子１４に生じる信号を、たとえば、フリップフ
ロップ（Ｆ／Ｆ ）回路１５に加えてパルス信号があれ
ばパルス幅デユーティが６゜チになるように波形整形し
た後、積分器１６で直流電圧に変換し、この直流電圧を
たとえば、電圧″−’ｆｆ”で読みとればよい。
発明の効果
本発明によれば、３個のパルス幅設定用のパルス形成手
段と１個の論理積回路を組み合せるだけの比較的簡易な
検査装置の使用によって、被検査パルス幅が、検査規格
内にあるか否かの判定ができる効果が奏される。
段と１個の論理積回路を組み合せるだけの比較的簡易な
検査装置の使用によって、被検査パルス幅が、検査規格
内にあるか否かの判定ができる効果が奏される。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明を説明するための検査装置の回路構成を
示す図であり、第２図は検査装置の要部の動作波形図を
示す。 １・・・・・・入力端子、２・・・・・・第１のパルス
形成手段、３．６．１１・・・・・・単安定マルチバイ
ブレータ、４゜８．１３・・・・・・導線、６・・・・
・・第２のパルス形成手段、７．１２・・・・・・負エ
ッヂ） ＩＪガ端子、９・・・・・・論理積回路、１ｏ
・・・・・・第３のパルス形成手段、１４・・・・・・
出力端子、１６・・・・・・フリップフロップ回路、１
６・・・・・・積分器、１７・・・・・・電圧計。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 （Ｊ）□工
示す図であり、第２図は検査装置の要部の動作波形図を
示す。 １・・・・・・入力端子、２・・・・・・第１のパルス
形成手段、３．６．１１・・・・・・単安定マルチバイ
ブレータ、４゜８．１３・・・・・・導線、６・・・・
・・第２のパルス形成手段、７．１２・・・・・・負エ
ッヂ） ＩＪガ端子、９・・・・・・論理積回路、１ｏ
・・・・・・第３のパルス形成手段、１４・・・・・・
出力端子、１６・・・・・・フリップフロップ回路、１
６・・・・・・積分器、１７・・・・・・電圧計。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 （Ｊ）□工
Claims (1)
- 前縁が入力された被検査パルスの前縁と一致し、パルス
幅が検査規格におけるパルス幅の下限値に等しく設定さ
れた第１のパルスを第１のパルス形成手段によって作り
、さらに、前縁が前記第１のパルスの後縁と一致し、パ
ルス幅が前記検査規格におけるパルス幅の上限値と下限
値の差と等しく設定された第２のパルスを第２のパルス
形成手段で作り、さらに、前縁が前記被検査パルスの後
縁と一致する第３のパルスを第３のパルス形成手段で作
るとともに、前記第３のパルスのパルス幅は、前記被検
査パルスの後縁が前記検査規格の下限値以下であるとき
、前記第２のパルスの前縁に達することのない長さに設
定され、前記第３のパルスと前記第２のパルスとを論理
積により、前記被検査パルスのパルス幅が前記検査規格
内に入っているか否かを判定することを特徴とするパル
ス幅検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21764384A JPS6196474A (ja) | 1984-10-17 | 1984-10-17 | パルス幅検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21764384A JPS6196474A (ja) | 1984-10-17 | 1984-10-17 | パルス幅検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6196474A true JPS6196474A (ja) | 1986-05-15 |
| JPH0568662B2 JPH0568662B2 (ja) | 1993-09-29 |
Family
ID=16707471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21764384A Granted JPS6196474A (ja) | 1984-10-17 | 1984-10-17 | パルス幅検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6196474A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010137076A1 (ja) * | 2009-05-28 | 2010-12-02 | 株式会社アドバンテスト | パルス測定装置およびパルス測定方法ならびにそれらを用いた試験装置 |
-
1984
- 1984-10-17 JP JP21764384A patent/JPS6196474A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010137076A1 (ja) * | 2009-05-28 | 2010-12-02 | 株式会社アドバンテスト | パルス測定装置およびパルス測定方法ならびにそれらを用いた試験装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0568662B2 (ja) | 1993-09-29 |
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