JPS619420A - ペルフルオロアルキル基を含有するポリマー、その製法およびこれを含有する放射線感性複写層 - Google Patents
ペルフルオロアルキル基を含有するポリマー、その製法およびこれを含有する放射線感性複写層Info
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- JPS619420A JPS619420A JP60122881A JP12288185A JPS619420A JP S619420 A JPS619420 A JP S619420A JP 60122881 A JP60122881 A JP 60122881A JP 12288185 A JP12288185 A JP 12288185A JP S619420 A JPS619420 A JP S619420A
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- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
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- C08G8/04—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ペルフルオロアルキル基を有するコポリマー
およびこれらのコポリマーの製法に関する。また、本発
明はバインダーとしてこれらのコポリマーを含有する放
射yM感性俵複写および水なしオフセット印刷にこれら
俵与ノーを使用することにも関する。
およびこれらのコポリマーの製法に関する。また、本発
明はバインダーとしてこれらのコポリマーを含有する放
射yM感性俵複写および水なしオフセット印刷にこれら
俵与ノーを使用することにも関する。
従来の技術
通常便用されるオフセット印刷法では、印刷中の画像部
分と非画像部分との間の差別化が1方では水又は含水液
体、他方では印刷インキの同時の作用により実施される
普通に開用されるオフセット印刷法とは異なり、水なし
平版印刷、竹にオフセット印刷における差別化は通常、
印刷板表囲上でのインキ受理性、すなわbfi油性のl
[flJ 揮’il−分およびインキ反発性、ずなわち
疎油性の邦画i#部分(これは水で湿潤しない)が印刷
インキとAj4tlる相互作用を示すという事実かしも
たりされる。先行技術から、この問題について次の刊行
物が知られている。
分と非画像部分との間の差別化が1方では水又は含水液
体、他方では印刷インキの同時の作用により実施される
普通に開用されるオフセット印刷法とは異なり、水なし
平版印刷、竹にオフセット印刷における差別化は通常、
印刷板表囲上でのインキ受理性、すなわbfi油性のl
[flJ 揮’il−分およびインキ反発性、ずなわち
疎油性の邦画i#部分(これは水で湿潤しない)が印刷
インキとAj4tlる相互作用を示すという事実かしも
たりされる。先行技術から、この問題について次の刊行
物が知られている。
西ドイツ国特許第15718’9tJ号(米国特許第3
677178号に相当)明細書には、金鵡、プラスチッ
ク、または紙よりなる支持物質が、疎水性および疎油性
のシリコーンゴムの層および放射性感性複写j―で、指
示された順序または運の唄序で板復される印刷板が記載
されている。放射#ll感性化切切して、複写J−は厘
クロム酸アンモニウム、ジフェニルアミン−4−ジアゾ
ニウム塩のホルムアルデヒド縮脅物、まあるか又は照射
により硬化した複写!−の部分である。
677178号に相当)明細書には、金鵡、プラスチッ
ク、または紙よりなる支持物質が、疎水性および疎油性
のシリコーンゴムの層および放射性感性複写j―で、指
示された順序または運の唄序で板復される印刷板が記載
されている。放射#ll感性化切切して、複写J−は厘
クロム酸アンモニウム、ジフェニルアミン−4−ジアゾ
ニウム塩のホルムアルデヒド縮脅物、まあるか又は照射
により硬化した複写!−の部分である。
西ドイツ国特許出顔公告第1671637号(米国%$
第551117EL号および米国特許第5682655
号に相当)明細書による印刷板においては、支持材料は
まず放射−感性複写ノーで[tftされ、次いで印刷イ
ンキに関して支持材料よりも低い放出源(減少した付着
相互作用)を有するコーティングで被憶される。最後に
挙けたコーティングは、ポリシロキサン(シリコーンニ
ジストマー)か、またはフッ素含有有機化合物、たとえ
はベルフルオロメクタノールのメタクリル酸エステルの
ホモポリマーより成る。
第551117EL号および米国特許第5682655
号に相当)明細書による印刷板においては、支持材料は
まず放射−感性複写ノーで[tftされ、次いで印刷イ
ンキに関して支持材料よりも低い放出源(減少した付着
相互作用)を有するコーティングで被憶される。最後に
挙けたコーティングは、ポリシロキサン(シリコーンニ
ジストマー)か、またはフッ素含有有機化合物、たとえ
はベルフルオロメクタノールのメタクリル酸エステルの
ホモポリマーより成る。
水なしオフセット印桐用印刷板およびこのイ迩の印刷板
で使用するのに通商な化合物の実施態様は、たとえば次
の刊行物に門らかである二四ドイツ国軸許出願公−第2
554858号(米国特許第3953212号に相当)
明1lt11−111は、通常の支持材料の1つに適用
される1つのノー中で放射線感性化合物とシリコーンゴ
ムとの組合せを記載する。
で使用するのに通商な化合物の実施態様は、たとえば次
の刊行物に門らかである二四ドイツ国軸許出願公−第2
554858号(米国特許第3953212号に相当)
明1lt11−111は、通常の支持材料の1つに適用
される1つのノー中で放射線感性化合物とシリコーンゴ
ムとの組合せを記載する。
四ドイツ国軸杵出顔公告第2422428号(英国特許
第1464125号に相当)明細優による印刷板は、光
重合”I MFIなポリシロキサンと増感剤とを単一ノ
ー中に含有する。
第1464125号に相当)明細優による印刷板は、光
重合”I MFIなポリシロキサンと増感剤とを単一ノ
ー中に含有する。
西ドイツ国付許出願公開第2524562号(央−特許
第1501128号に相当)明細書には芳香族ジアゾニ
ウム陽イオン、ペルフルオロアルキル基を含有するカル
ボン酸またはスルホン酸の隙イオン、および場合により
ポリマーの有機バインダーを含有する放射線感性コーテ
ィングが6己載されている。これらのノ曽は照射後直接
に印刷に使用することができる、すなわちJA像工程は
必要ないことが述べられている。
第1501128号に相当)明細書には芳香族ジアゾニ
ウム陽イオン、ペルフルオロアルキル基を含有するカル
ボン酸またはスルホン酸の隙イオン、および場合により
ポリマーの有機バインダーを含有する放射線感性コーテ
ィングが6己載されている。これらのノ曽は照射後直接
に印刷に使用することができる、すなわちJA像工程は
必要ないことが述べられている。
西ドイツ国V奸出総公開第2648278号(米国特許
第4L]8751:14号に相当)1力細書による印刷
板は、疎油性コーティング中にペルフルオロアルキル基
、4−ベルフルオロアルコキシ−ベンゾイルオキシ−ア
ルキル基、又はペルフルオロアルカン−スルホンアミド
−アルキル基を含有するアクリル酸又はメタクリル酸エ
ステルから肪導されるモノマ一単位を有するフッ素含有
のホモ京合体または共京合坏を含有する。共里合体中の
フッ素含有セノマ一単位の割合は75%以上である。こ
の疎油性コーティングは直接支持体材料上に存在し、か
つ画像部分は該コーティングに設けられるか、又は′電
子写真による複写層の上方に存在し、その場合には、ト
ナー1慮は疎油性コーティング上につくられる。
第4L]8751:14号に相当)1力細書による印刷
板は、疎油性コーティング中にペルフルオロアルキル基
、4−ベルフルオロアルコキシ−ベンゾイルオキシ−ア
ルキル基、又はペルフルオロアルカン−スルホンアミド
−アルキル基を含有するアクリル酸又はメタクリル酸エ
ステルから肪導されるモノマ一単位を有するフッ素含有
のホモ京合体または共京合坏を含有する。共里合体中の
フッ素含有セノマ一単位の割合は75%以上である。こ
の疎油性コーティングは直接支持体材料上に存在し、か
つ画像部分は該コーティングに設けられるか、又は′電
子写真による複写層の上方に存在し、その場合には、ト
ナー1慮は疎油性コーティング上につくられる。
米国%肝第691 Lll 87号明細書は、通常の感
光性車台体印綱板(すなわち、′印刷板は支持材料およ
び光重合可能化合物を含有する複写層より成るンに中間
l−または最終J−を通用することにより水1よしオフ
セット印刷に使用するための印刷板をJA造する種々の
方法を記載する。これう(7)中間層または最終J−は
、ペルフルオロアルキル基を有するカルボン酸、スルホ
ン酸、ホスホン酸およびアミン、またはペルフルオロア
ルキル基を金山するアクリ/L/酸またはメタクリル酸
のエステル、マレイン酸ジエステル、ビニルエーテル、
カルボン酸ビニルエステル、スルホンアミド−アリルエ
ステル等のポリマーを含有する。ポリマーは、印刷板へ
の適用前に前記のモノマーから製造されるか、または直
接印刷板上で光恵合により製造される。
光性車台体印綱板(すなわち、′印刷板は支持材料およ
び光重合可能化合物を含有する複写層より成るンに中間
l−または最終J−を通用することにより水1よしオフ
セット印刷に使用するための印刷板をJA造する種々の
方法を記載する。これう(7)中間層または最終J−は
、ペルフルオロアルキル基を有するカルボン酸、スルホ
ン酸、ホスホン酸およびアミン、またはペルフルオロア
ルキル基を金山するアクリ/L/酸またはメタクリル酸
のエステル、マレイン酸ジエステル、ビニルエーテル、
カルボン酸ビニルエステル、スルホンアミド−アリルエ
ステル等のポリマーを含有する。ポリマーは、印刷板へ
の適用前に前記のモノマーから製造されるか、または直
接印刷板上で光恵合により製造される。
欧州特許機構出願公表第0037094号明細書によれ
ば、a)アクリル又はメタクリル酸ペルフルオロアルキ
ルエステルおよびb)アクリル又はメタクリル酸アジド
ベンゾイルオキシアルキルエステルのコポリマーを含有
する放射線感性ポリマー(とりわけ、印刷板用のコーテ
ィングとして使用するために)を製造することができる
。これらのコポリマーに加えて、放射−感性複写層はア
ルカリ現像可能な有機バインダーおよび通常のイ脳〃ロ
物を含有することもできる0照射および現像俊、〆支持
材料上にレリーフ揮かつくられる。欧州を肝i幽傅出願
公表第0040841号明細簀はa)ペルフルオロアル
キル末端基及びエチレン性不飽和末端基を有する早電体
およびb)放射純感性の基およびエチレン糸不飽昶基を
何するモノマーのコポリマーよりなる放射線感性重合体
を記載している。
ば、a)アクリル又はメタクリル酸ペルフルオロアルキ
ルエステルおよびb)アクリル又はメタクリル酸アジド
ベンゾイルオキシアルキルエステルのコポリマーを含有
する放射線感性ポリマー(とりわけ、印刷板用のコーテ
ィングとして使用するために)を製造することができる
。これらのコポリマーに加えて、放射−感性複写層はア
ルカリ現像可能な有機バインダーおよび通常のイ脳〃ロ
物を含有することもできる0照射および現像俊、〆支持
材料上にレリーフ揮かつくられる。欧州を肝i幽傅出願
公表第0040841号明細簀はa)ペルフルオロアル
キル末端基及びエチレン性不飽和末端基を有する早電体
およびb)放射純感性の基およびエチレン糸不飽昶基を
何するモノマーのコポリマーよりなる放射線感性重合体
を記載している。
a)に挙げた七ツマ−は、たとえはアクリル又はメタク
リルはペルフルオロアルキルエステルを、含有し、b)
に卒けた七ツマ−は、たとえはメタクリル酸アジドベン
ゾイルオキシアルキルエステル、アクリル酸シンナモイ
ルオキシアルキルエステル、メタクリル酸ベンゾイルフ
ェニルエステル、又はメタクリ/I/fpシンナモイル
フェニルエステルを含有する。欧州%imm出顧公出願
0096845号明細僑からは、a)アクリル又はメタ
クリル咽−2−ペルフルオロ−アルコキシ−2−フルオ
ロ−エチル−1−エステル又は関連化合物N b)放
射森感性基およびエチレン性不飽和基を宮弔゛するモノ
マーおよびC)場合によりその他のフッ素不含の共重合
回目ヒナヒニルモノマーのコポリマーより成る放射線感
性ポリマーが公知である。
リルはペルフルオロアルキルエステルを、含有し、b)
に卒けた七ツマ−は、たとえはメタクリル酸アジドベン
ゾイルオキシアルキルエステル、アクリル酸シンナモイ
ルオキシアルキルエステル、メタクリル酸ベンゾイルフ
ェニルエステル、又はメタクリ/I/fpシンナモイル
フェニルエステルを含有する。欧州%imm出顧公出願
0096845号明細僑からは、a)アクリル又はメタ
クリル咽−2−ペルフルオロ−アルコキシ−2−フルオ
ロ−エチル−1−エステル又は関連化合物N b)放
射森感性基およびエチレン性不飽和基を宮弔゛するモノ
マーおよびC)場合によりその他のフッ素不含の共重合
回目ヒナヒニルモノマーのコポリマーより成る放射線感
性ポリマーが公知である。
これまで公知の、水なしオフセット印刷の分野で便用さ
れる放射線感性複写ノーのためのフッgG有化せ′+/
Jは、若干の場合には、不十分な放射線感性を南する、
すなわち後続の印刷操作のためにN隊部分と非画像部分
との間の差別をつけるために心安である照射(露光)時
間か長すきろ、また一般に、;1機溶剤たとえば2−ブ
ドー?ジェタノール−(1)、エチレンクリコールモノ
エテルエーテル、塩化メチレン、ジオキサン、またはへ
キサフルオロ−m−キシレンヲ現像工程で使用しなけれ
ばならないことも著しい欠点である。史に、出発成分Q
)合成は屡々困錘であり(たとえば数工程を必装とする
)、従ってこれは大規模の丁未的通用には全くまたは殆
んど適当でない。バインダーを含有しないおよび/また
は七の照射域に伺加的な永別化現像工程を受けない複写
層は、一般に、比戟的大きな印刷ジンを生じない。バイ
ンダーおよび既にフル埃ロアルキル基を官有する化合物
を放射線感性成分として官有する複写ノVjIは、しば
しば通常のバインダーをこれらの化合物と結合し、拘置
に作用するコーティングを形成することが、不0J能で
あるかまたは少なくとも困楡であるので、容易に製造で
きない。複写ノーの二つの基本成分、即ち放射線感性成
分とバインダー成分との可能フヨ不相容性効果は、しば
しばコーティング組成物の製造中にはあられれずに、j
頓の乾燥の間または乾燥後にのみ、即ち溶剤または分散
剤が除去されるときにに見出される。
れる放射線感性複写ノーのためのフッgG有化せ′+/
Jは、若干の場合には、不十分な放射線感性を南する、
すなわち後続の印刷操作のためにN隊部分と非画像部分
との間の差別をつけるために心安である照射(露光)時
間か長すきろ、また一般に、;1機溶剤たとえば2−ブ
ドー?ジェタノール−(1)、エチレンクリコールモノ
エテルエーテル、塩化メチレン、ジオキサン、またはへ
キサフルオロ−m−キシレンヲ現像工程で使用しなけれ
ばならないことも著しい欠点である。史に、出発成分Q
)合成は屡々困錘であり(たとえば数工程を必装とする
)、従ってこれは大規模の丁未的通用には全くまたは殆
んど適当でない。バインダーを含有しないおよび/また
は七の照射域に伺加的な永別化現像工程を受けない複写
層は、一般に、比戟的大きな印刷ジンを生じない。バイ
ンダーおよび既にフル埃ロアルキル基を官有する化合物
を放射線感性成分として官有する複写ノVjIは、しば
しば通常のバインダーをこれらの化合物と結合し、拘置
に作用するコーティングを形成することが、不0J能で
あるかまたは少なくとも困楡であるので、容易に製造で
きない。複写ノーの二つの基本成分、即ち放射線感性成
分とバインダー成分との可能フヨ不相容性効果は、しば
しばコーティング組成物の製造中にはあられれずに、j
頓の乾燥の間または乾燥後にのみ、即ち溶剤または分散
剤が除去されるときにに見出される。
従って本発明の課題は、他の取分と艮好な相容性を示し
、できるかき゛り市販の出発物質(エダクト)から製造
することができかつ複写層中に使用する場合、照射後水
溶液(神にアルカリ性水溶液)を用いて現像できる、殊
に水なしオフセット印刷の分野で使用するだめの、フル
オロアルキル基を含有する新規コポリマーを合成するこ
とである。
、できるかき゛り市販の出発物質(エダクト)から製造
することができかつ複写層中に使用する場合、照射後水
溶液(神にアルカリ性水溶液)を用いて現像できる、殊
に水なしオフセット印刷の分野で使用するだめの、フル
オロアルキル基を含有する新規コポリマーを合成するこ
とである。
本発明は、各々のJM会ベンゼン穣の異なるC原子にお
ける置換基として、場合により中間基により結合されて
いる、フェノール性OH基およびペルフルオロアルキル
基を有することを特倣とする、ペルフルオロアルキル基
を含有するポリマーを提供する。ポリマーは殊に、次の
一般式により記載することかできる: これらの一般式(1)〜(Vl)中: R1、R” = H、c、〜C6のアルキル、RF、旦
−焦RF=F(。−F2W) (−ca2)2またはF
(Cw−] ”]tav7−2−CF二〇Hであり、ジ
フルオロメチレン基は場合によりエーテル架槁により架
橋されており:W=b〜15 ; z=D〜5 ; x
=oまたは1であり、R1、R4二〇】〜C6のアルキ
ル、H1フェニル、RFであり;n=5〜10000で
あり;D=C]〜C8のアルキレン、フェニレン、ナフ
チレン、ビフェニレン(エーテル、チオエーテルまたは
カルボニル基により架橋されている)であり; R5,
)(’=H,c、〜C6のアルキル、フェニル、ナフチ
ルであり; であり;(B−)XRFx中双方の指数がOを表わす場
合、置換基はHによりtit換されている。
ける置換基として、場合により中間基により結合されて
いる、フェノール性OH基およびペルフルオロアルキル
基を有することを特倣とする、ペルフルオロアルキル基
を含有するポリマーを提供する。ポリマーは殊に、次の
一般式により記載することかできる: これらの一般式(1)〜(Vl)中: R1、R” = H、c、〜C6のアルキル、RF、旦
−焦RF=F(。−F2W) (−ca2)2またはF
(Cw−] ”]tav7−2−CF二〇Hであり、ジ
フルオロメチレン基は場合によりエーテル架槁により架
橋されており:W=b〜15 ; z=D〜5 ; x
=oまたは1であり、R1、R4二〇】〜C6のアルキ
ル、H1フェニル、RFであり;n=5〜10000で
あり;D=C]〜C8のアルキレン、フェニレン、ナフ
チレン、ビフェニレン(エーテル、チオエーテルまたは
カルボニル基により架橋されている)であり; R5,
)(’=H,c、〜C6のアルキル、フェニル、ナフチ
ルであり; であり;(B−)XRFx中双方の指数がOを表わす場
合、置換基はHによりtit換されている。
さらに、式(Ml )および(IV)中、ベンゼン環は
通常フェノール樹脂中に存在する置換基を有し、これら
はたとえばC1〜C6のアルキ、/L/基、C1または
Brのようなノ10デンまたはCコ〜C4のアルコキシ
基を包含する。一般式(1)および(II)に相当する
ポリマーは、示すマー購分(ポリマ一単位)の最低10
%〜最^1LIO%、殊に60〜100%がペルフルオ
ロアルキル基を有するというように構成されている。一
般式(1)〜(vl)に相当するポリマー中、ポリマー
成分の最低10%〜最尚νυチ、妹に15〜6U%はペ
ルフルオロアルキル基な有する。ペルフルオロアルキル
基の割合は一方で(工、殊に一般式(1)および(II
)に相当するポリマーにおいて、置換基の選択により、
他方ではまたポリマーの製法により調節することができ
る。後者の実施態様では、殊に既に存在するポリマー〔
一般式(1)および(Vl) ) 中ヘベルフルオロア
ルキル基を引続き尋人するのに過当である。またこの場
合、一般式(1)および(Vl)に相当する単位を含有
するポリマーは、置換基−4−(B−)xRuの代わり
に非置換の一回−H基を含有していてもよく、あるいは
一般式(IV)および(V)に相当する単位を含有する
ポリマーは、置換基−(B−)XRFXの代わりにHを
癩していてよいので、このような異なる単位は不発明に
よるポリマー中に出現しうる。
通常フェノール樹脂中に存在する置換基を有し、これら
はたとえばC1〜C6のアルキ、/L/基、C1または
Brのようなノ10デンまたはCコ〜C4のアルコキシ
基を包含する。一般式(1)および(II)に相当する
ポリマーは、示すマー購分(ポリマ一単位)の最低10
%〜最^1LIO%、殊に60〜100%がペルフルオ
ロアルキル基を有するというように構成されている。一
般式(1)〜(vl)に相当するポリマー中、ポリマー
成分の最低10%〜最尚νυチ、妹に15〜6U%はペ
ルフルオロアルキル基な有する。ペルフルオロアルキル
基の割合は一方で(工、殊に一般式(1)および(II
)に相当するポリマーにおいて、置換基の選択により、
他方ではまたポリマーの製法により調節することができ
る。後者の実施態様では、殊に既に存在するポリマー〔
一般式(1)および(Vl) ) 中ヘベルフルオロア
ルキル基を引続き尋人するのに過当である。またこの場
合、一般式(1)および(Vl)に相当する単位を含有
するポリマーは、置換基−4−(B−)xRuの代わり
に非置換の一回−H基を含有していてもよく、あるいは
一般式(IV)および(V)に相当する単位を含有する
ポリマーは、置換基−(B−)XRFXの代わりにHを
癩していてよいので、このような異なる単位は不発明に
よるポリマー中に出現しうる。
上述の化合物のう)、一般式(1) 、(n) 、(V
)および(vl)に、よる化合物は共縮合物であり、一
般式(1)および(IV)によるものはコポリマーであ
る。ペルフルオロアルキル基は、直依かまたは1〜5の
炭素原子を有する非分枝または分校、飽4’Ot:たは
不飽和アルキレン中間基を介してそれぞれの分子基に結
合している。ペルフルオロアルキル漬目体は、不飽和ま
f:、は飽和、分枝または非分校であり、通常4〜20
1殊に5〜5Dの炭素原子を有し;これらはM利に非分
枝分子基であり、各々の分子基中に最尚2つの二車結合
を有する。
)および(vl)に、よる化合物は共縮合物であり、一
般式(1)および(IV)によるものはコポリマーであ
る。ペルフルオロアルキル基は、直依かまたは1〜5の
炭素原子を有する非分枝または分校、飽4’Ot:たは
不飽和アルキレン中間基を介してそれぞれの分子基に結
合している。ペルフルオロアルキル漬目体は、不飽和ま
f:、は飽和、分枝または非分校であり、通常4〜20
1殊に5〜5Dの炭素原子を有し;これらはM利に非分
枝分子基であり、各々の分子基中に最尚2つの二車結合
を有する。
本発明によるポリマーの分子量は約10110〜100
000、殊に1200〜50000の範囲内にある。
000、殊に1200〜50000の範囲内にある。
本発明のポリマーは次のようにして、即ち2御般式(1
)および(1)の化合物は、フェノール成分(■)を一
般式(vill)に相当するアルデヒドまたはケトンと
縮合するかまたは一般式(IX) IC相当する反応性
ビスメチレン化合物と縮合することにより製造すること
ができる。
)および(1)の化合物は、フェノール成分(■)を一
般式(vill)に相当するアルデヒドまたはケトンと
縮合するかまたは一般式(IX) IC相当する反応性
ビスメチレン化合物と縮合することにより製造すること
ができる。
式中E−回−H1亘−アルキル(Cx−C4)、C1に
よりIt換されている化合物によってt換され【いても
よ<;シかしながらこれらのエダクトの少なくとも10
%、殊に少なくとも50%&末ペルフルオロアルキル基
〔−4′R7またはR2としてか置換基−(A )XR
FX中に〕をゼすべきである。
よりIt換されている化合物によってt換され【いても
よ<;シかしながらこれらのエダクトの少なくとも10
%、殊に少なくとも50%&末ペルフルオロアルキル基
〔−4′R7またはR2としてか置換基−(A )XR
FX中に〕をゼすべきである。
一般式(量)〜(Vl)に相・当する化合物は、ポリマ
ー(X)または共縮合物(組からベルフルオ、ロアルキ
ル譲を含頁する一般式(Xll) K相当するカルボン
ば、カルボンはハロゲン化9勿、カルボン戚エステル、
ハロゲン化物、アルコール、スルホ/酸または相当する
スルホン酸ハロゲン化物との反応により製造することが
できる: (X) 式中G −= 4−H1Had (Brまたはat )
、回−アルキル(01〜Cs )であり、mはnより小
さく、nの最低10%および成鳥90チに等しい。
ー(X)または共縮合物(組からベルフルオ、ロアルキ
ル譲を含頁する一般式(Xll) K相当するカルボン
ば、カルボンはハロゲン化9勿、カルボン戚エステル、
ハロゲン化物、アルコール、スルホ/酸または相当する
スルホン酸ハロゲン化物との反応により製造することが
できる: (X) 式中G −= 4−H1Had (Brまたはat )
、回−アルキル(01〜Cs )であり、mはnより小
さく、nの最低10%および成鳥90チに等しい。
一般式(Vll)に相当する化合物の例は、次のものを
′−貧する:芳4f1ヒドロキシカルボン酸とペルフル
オロアルキル基含有アルコールとから形成されるエステ
ル、たとえは4−ヒドロキシ安息香酸 シ安息香酸、サリチル改、αおよびβ−レゾルシルは、
没食子ば、β−ヒドロキシナフトエ眼のエステル;芳査
秩ヒドロキシ化合物と次式(Xll)に相当する、ペル
フルオロアルキル基ヲ含有する反応性化合物との、アル
カリ性媒体(たとえばトリエチルアミンの存在で)また
は敵性媒体(定とえばA/C1,の存在で)中で製造し
た反応生成物: (Xll) 〔式中p=1または2である〕:およびフェノール、レ
ゾルシノールまたは1ハ侠レゾルシノールと、フェノー
ルエステルまたはケトンのいずれかであるペルフルオロ
アルキル基含有′酸クロリドとの反応生成物。
′−貧する:芳4f1ヒドロキシカルボン酸とペルフル
オロアルキル基含有アルコールとから形成されるエステ
ル、たとえは4−ヒドロキシ安息香酸 シ安息香酸、サリチル改、αおよびβ−レゾルシルは、
没食子ば、β−ヒドロキシナフトエ眼のエステル;芳査
秩ヒドロキシ化合物と次式(Xll)に相当する、ペル
フルオロアルキル基ヲ含有する反応性化合物との、アル
カリ性媒体(たとえばトリエチルアミンの存在で)また
は敵性媒体(定とえばA/C1,の存在で)中で製造し
た反応生成物: (Xll) 〔式中p=1または2である〕:およびフェノール、レ
ゾルシノールまたは1ハ侠レゾルシノールと、フェノー
ルエステルまたはケトンのいずれかであるペルフルオロ
アルキル基含有′酸クロリドとの反応生成物。
一般式(Vil)の上述の化合物を、ポルムアルデbド
、アセトアルデヒドおよびベンズアルデヒドのよう71
アルデヒドかまたはア七トンのようなケトンと、自体公
知の方法で縮合させて、すぐれた疎水性および疎油特性
を有するフェノール樹脂(1)および(II)を形成す
ることができる。
、アセトアルデヒドおよびベンズアルデヒドのよう71
アルデヒドかまたはア七トンのようなケトンと、自体公
知の方法で縮合させて、すぐれた疎水性および疎油特性
を有するフェノール樹脂(1)および(II)を形成す
ることができる。
アルデヒドまたはケトンの代わりに、ビスクロロメチル
化合物またはビスヒドロキシメチル化合物(たとえばビ
スメトキシメチル−ベンゼンビスヒドロキシメチル−ベ
ンゼン、ビスクロロメチル−ベンゼン、ビスメトキシメ
チル−ジフェニルエーテルまたは2,6−ビスメトキシ
メチA・ピリジン)のよ5な−・般式(■)に相当する
化合物を使用することもできる。
化合物またはビスヒドロキシメチル化合物(たとえばビ
スメトキシメチル−ベンゼンビスヒドロキシメチル−ベ
ンゼン、ビスクロロメチル−ベンゼン、ビスメトキシメ
チル−ジフェニルエーテルまたは2,6−ビスメトキシ
メチA・ピリジン)のよ5な−・般式(■)に相当する
化合物を使用することもできる。
上6 のyエノールは、個々に爽たは他のフッ素含有ま
たはフッ素不含フェノールとの混合物で反応させること
ができ:後者の方法では、殊にカルボキシル基を含有す
るフェノールとの縮合を行なうのが有利であり、この方
法でアルカリ性水浴液中の溶解度を付加的に―願するこ
とができる。
たはフッ素不含フェノールとの混合物で反応させること
ができ:後者の方法では、殊にカルボキシル基を含有す
るフェノールとの縮合を行なうのが有利であり、この方
法でアルカリ性水浴液中の溶解度を付加的に―願するこ
とができる。
一般式(X) yよび(XI)に相当するポリマーの例
は、マルゼン オイル Co (Marnzen 0i
lCo、)により市販名雪■樹脂M1により販買されて
いるヒドロキシポリスチレン(ポリマー)およびヘキス
ト社(Hoechst AG )により市販名“■アル
ノポール(Alnovol ) P N 429 ”で
販売されているフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(重
縮付物)である。これらのポリマ゛−のヒドロキシル基
の最高90%が、反応性ペルフルオロアルキル基を有す
る一般式(■)による化合物と反応している。反応は、
殊にアルカリ性または酸性媒体中で進行する。一般式(
■)に相当する適当な化合物は、たとえば2,2−ジヒ
ドq−ペルフルオロデカン酸クロリド、ブタン(2)−
ジ威−モツクロリドモノ−1’1’、2’2″−テトラ
ヒドロペルフルオロオクチル−1′−エステル、6−ペ
ルフルオロオクチル−ベンゼア スk ホン賊クロリド
または2−クロロ−7’。
は、マルゼン オイル Co (Marnzen 0i
lCo、)により市販名雪■樹脂M1により販買されて
いるヒドロキシポリスチレン(ポリマー)およびヘキス
ト社(Hoechst AG )により市販名“■アル
ノポール(Alnovol ) P N 429 ”で
販売されているフェノール・ホルムアルデヒド樹脂(重
縮付物)である。これらのポリマ゛−のヒドロキシル基
の最高90%が、反応性ペルフルオロアルキル基を有す
る一般式(■)による化合物と反応している。反応は、
殊にアルカリ性または酸性媒体中で進行する。一般式(
■)に相当する適当な化合物は、たとえば2,2−ジヒ
ドq−ペルフルオロデカン酸クロリド、ブタン(2)−
ジ威−モツクロリドモノ−1’1’、2’2″−テトラ
ヒドロペルフルオロオクチル−1′−エステル、6−ペ
ルフルオロオクチル−ベンゼア スk ホン賊クロリド
または2−クロロ−7’。
パンば一1’ 、1’ 、 2’ 、 2’−テトラヒ
ドロペルフルオロオクチル−1′−エステルである。
ドロペルフルオロオクチル−1′−エステルである。
+発明のペルフルオロアルキル基な含有するポリマーは
、ワニスまたは含浸またはコーティング剤のような疎水
性および疎油性組成物の製造に謁いて、体に放射線感性
複写、Hの製造において杖用することかできる。従って
、本発明によりC)放射綜感性化合物少なくとも1種お
よびd)有機ホリマーバインダー少なくとも1棟を含有
し、成分(d)が上述の成分から成るポリマーである放
射線感性複写j−も提供される。使用されるバインダー
は、殊にアルカリ性水溶液中にoJ浴のポリマーを損金
する。本発明のポリマーを仮写J−中で成分(d)とし
て使用する場合、成分(C)は殊に、またフッ素または
有利にベルフルメロアルキル基を含有する化合物を有す
るか、その理由はこの化合物はしはしは成分の改良され
た混合性をもたらし、このようにして光学的により均一
な被膜を生じるからである。本発明によるポリマーに加
えて、複写増は該ポリマーとは!Aなるバインダーも含
有し5るが、こりような兵なるバインダーの割合は使用
されるバインダーの量の40%を癌えて(工ならない。
、ワニスまたは含浸またはコーティング剤のような疎水
性および疎油性組成物の製造に謁いて、体に放射線感性
複写、Hの製造において杖用することかできる。従って
、本発明によりC)放射綜感性化合物少なくとも1種お
よびd)有機ホリマーバインダー少なくとも1棟を含有
し、成分(d)が上述の成分から成るポリマーである放
射線感性複写j−も提供される。使用されるバインダー
は、殊にアルカリ性水溶液中にoJ浴のポリマーを損金
する。本発明のポリマーを仮写J−中で成分(d)とし
て使用する場合、成分(C)は殊に、またフッ素または
有利にベルフルメロアルキル基を含有する化合物を有す
るか、その理由はこの化合物はしはしは成分の改良され
た混合性をもたらし、このようにして光学的により均一
な被膜を生じるからである。本発明によるポリマーに加
えて、複写増は該ポリマーとは!Aなるバインダーも含
有し5るが、こりような兵なるバインダーの割合は使用
されるバインダーの量の40%を癌えて(工ならない。
4当なバインダーの例は仄のものである:ポリアミド、
ポリビニルエステル、ポリビニルアセタール、ポリビニ
ルエーテル、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、
ポリエステル、アルキド樹脂、ポリアクリルアミド、ポ
リビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリジメ
チルアクリルアミド、ポリビニルメチルホルムアミド、
ポリビニルメチルアセトアミド、および挙けられたホモ
ポリマーを形成する七ツマ−のコポリマー。天然物質ま
たは変性された天然物質、たとえばゼラチンまた(求セ
ルロースエーテルを含竹するバインダーも適している。
ポリビニルエステル、ポリビニルアセタール、ポリビニ
ルエーテル、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、
ポリエステル、アルキド樹脂、ポリアクリルアミド、ポ
リビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリジメ
チルアクリルアミド、ポリビニルメチルホルムアミド、
ポリビニルメチルアセトアミド、および挙けられたホモ
ポリマーを形成する七ツマ−のコポリマー。天然物質ま
たは変性された天然物質、たとえばゼラチンまた(求セ
ルロースエーテルを含竹するバインダーも適している。
アルカリ性水溶液に−T[であるかまたは少なくとも膨
潤可能なバインダーを使用するのが有利であり、これら
のバインダーを含有するI#iは任意の水性−アルカリ
性現像液を用いて現像することができる。この糧のバイ
ンダーは、たとえば仄の基を含有していてよい: −C
OOH。
潤可能なバインダーを使用するのが有利であり、これら
のバインダーを含有するI#iは任意の水性−アルカリ
性現像液を用いて現像することができる。この糧のバイ
ンダーは、たとえば仄の基を含有していてよい: −C
OOH。
−PO5H,、、−8(ハH、−8o2Nf(、、およ
び−802−NH−CO−0このようなバインダーの例
は次のものを包含する:マレイネート媚脂、β−メタク
リロイルオキシ−エチル−N−(p−)ルイルースルホ
ニル)−カルバメートのポリマー、これおよび朔似のモ
ノマーと他の七ツマ−とのコポリマー、およびメチルメ
タクリレート/メタクリル酸コホリマー、またはメクク
リルば、アルキルメタクリレートおよびメチルメ、タク
リレートおよび/よだ−lエスチレン、アクリロニトリ
ルのコポリマー等。
び−802−NH−CO−0このようなバインダーの例
は次のものを包含する:マレイネート媚脂、β−メタク
リロイルオキシ−エチル−N−(p−)ルイルースルホ
ニル)−カルバメートのポリマー、これおよび朔似のモ
ノマーと他の七ツマ−とのコポリマー、およびメチルメ
タクリレート/メタクリル酸コホリマー、またはメクク
リルば、アルキルメタクリレートおよびメチルメ、タク
リレートおよび/よだ−lエスチレン、アクリロニトリ
ルのコポリマー等。
成分(C)即ち放射線感性化合物を含有する成分として
、収写ノーは根本的には、照射(露光)および現11転
印刷のために使用できる画像による表面を生じる化合物
を含有しうる。
、収写ノーは根本的には、照射(露光)および現11転
印刷のために使用できる画像による表面を生じる化合物
を含有しうる。
多くの用途に便用される・・ログン化銀含有層とは別に
、捕々の他の増か公知であり、これらはたとえはコザー
ル(Joromir Koaar )著、1ライト−セ
ンシティブ システムズ(Light−densiti
ve Systems )’ 、 (%行者ジョン
ウィリー&サンズ(John Wiley & 5on
s ) =ニーヨーク在、1965年〕に記載さiシて
いるニクロムば塩および東クロムば塩を含有するコロイ
ド層(コず−ル、弗2$);不飽和化合物を含有し、露
乎の際これらの化合物が異性化、弦位、環化また一工采
憤される1m (コザール、第4車):光皇合されうる
化合物を含有し、露光される除にモノマーまたはプレポ
リマーか、場合により開始剤を用いる重合を受けるノー
(コず一理、第5輩);およびナフトキノン−ジアジド
のよりな0−ジアゾキノ、ン、p−ジアゾキノンまたは
ジアゾニウム塩の縮合生成物を含有する層(コデール、
第7章)。適当な層はまた、電子写真層、即ち無機また
は有機光導′1体を有する増を含有する。
、捕々の他の増か公知であり、これらはたとえはコザー
ル(Joromir Koaar )著、1ライト−セ
ンシティブ システムズ(Light−densiti
ve Systems )’ 、 (%行者ジョン
ウィリー&サンズ(John Wiley & 5on
s ) =ニーヨーク在、1965年〕に記載さiシて
いるニクロムば塩および東クロムば塩を含有するコロイ
ド層(コず−ル、弗2$);不飽和化合物を含有し、露
乎の際これらの化合物が異性化、弦位、環化また一工采
憤される1m (コザール、第4車):光皇合されうる
化合物を含有し、露光される除にモノマーまたはプレポ
リマーか、場合により開始剤を用いる重合を受けるノー
(コず一理、第5輩);およびナフトキノン−ジアジド
のよりな0−ジアゾキノ、ン、p−ジアゾキノンまたは
ジアゾニウム塩の縮合生成物を含有する層(コデール、
第7章)。適当な層はまた、電子写真層、即ち無機また
は有機光導′1体を有する増を含有する。
複写1−の成分(C)中の、殊に適した放射線感性化合
物または糸は、最初に同日付は出願(西ドイツ国時針出
願明細書第p3421511.5号および同側P342
1471.2号)明細書に記載された4胡の化合物を包
含する、即ち糸は、少な(とも2つのエチレン性不飽和
末端基を有し、少なくとも1つのペルフルオロアルキル
基を含有する重合OJ能な化付物、および少なくとも1
個の九産金開始剤または置換基として少なくとも1つの
ペルフルオロアルキル基を有する1、2−ナフトキノン
ジアジド化合物少な(とも1つを有する。
物または糸は、最初に同日付は出願(西ドイツ国時針出
願明細書第p3421511.5号および同側P342
1471.2号)明細書に記載された4胡の化合物を包
含する、即ち糸は、少な(とも2つのエチレン性不飽和
末端基を有し、少なくとも1つのペルフルオロアルキル
基を含有する重合OJ能な化付物、および少なくとも1
個の九産金開始剤または置換基として少なくとも1つの
ペルフルオロアルキル基を有する1、2−ナフトキノン
ジアジド化合物少な(とも1つを有する。
汲写ノーは一般に成分(C)5〜50%を含有し:光重
合0J能な化合物または糸が使用される場合、成分<c
)は80%までの量で存在してもよい。
合0J能な化合物または糸が使用される場合、成分<c
)は80%までの量で存在してもよい。
成分(d)は収写層中に95〜50%の−で〔または光
車台可能な化合物が成分(C)として使用される場合は
20%まで〕含有される。
車台可能な化合物が成分(C)として使用される場合は
20%まで〕含有される。
成分(C)および(d)に加えて、指示された複写層は
2理の旧の通常の礒加物、たとえばモノマーの熱重合を
妨げるための禁止剤、水素供与体、感度調顛剤、均染剤
、指示薬、染料、膚色および非有色M科を含有していて
よい。全成分の合titは100%になるべきである。
2理の旧の通常の礒加物、たとえばモノマーの熱重合を
妨げるための禁止剤、水素供与体、感度調顛剤、均染剤
、指示薬、染料、膚色および非有色M科を含有していて
よい。全成分の合titは100%になるべきである。
これらの成分は開始ゾロセスにとって嵐決な化学梱の狽
域における眩収を最小にするために適当に選択される。
域における眩収を最小にするために適当に選択される。
化学糊は、そのエネルギーか少なくとも短波長可視光の
ものに相当する任意の放射−を表わす。殊に適当なのは
、長波長紫外線、ならびに電子線、X線およびレーず一
光線である。
ものに相当する任意の放射−を表わす。殊に適当なのは
、長波長紫外線、ならびに電子線、X線およびレーず一
光線である。
複写層は通電のように製盾される。成分を、たとえば溶
剤中に溶解し、生じる溶液または分畝液を、流延、噴き
、浸漬またはローラーかけにより、薄膜として企図され
た支持体に通用し、その後乾燥することができる。複写
層を、常法で、露光および現像する。適当な現像液は、
水性、有利にアルカリ性水溶液、fことえば場合により
混合可能な有機溶剤または湿潤剤の少量と混合されてい
る、アルカリ金属リン酸塩またはアルカリ金属ケイ酸塩
の溶液である。
剤中に溶解し、生じる溶液または分畝液を、流延、噴き
、浸漬またはローラーかけにより、薄膜として企図され
た支持体に通用し、その後乾燥することができる。複写
層を、常法で、露光および現像する。適当な現像液は、
水性、有利にアルカリ性水溶液、fことえば場合により
混合可能な有機溶剤または湿潤剤の少量と混合されてい
る、アルカリ金属リン酸塩またはアルカリ金属ケイ酸塩
の溶液である。
本発明のポリマーは、殊に上述のフルオロアルキル基を
含有する放射線感性化合物まt二は糸との組合せで、拘
置な外観および良好な付着を有する、放射−感性の向い
複写層を生じ、これはfi富アルカリ性水浴液中で現像
でき、すぐれたインキ反発性を示す。篤いたことに、本
発明のポリマーは、そのフッ素含有単位の含量が10〜
20%の範囲内にある場合、なおインキ反発性である。
含有する放射線感性化合物まt二は糸との組合せで、拘
置な外観および良好な付着を有する、放射−感性の向い
複写層を生じ、これはfi富アルカリ性水浴液中で現像
でき、すぐれたインキ反発性を示す。篤いたことに、本
発明のポリマーは、そのフッ素含有単位の含量が10〜
20%の範囲内にある場合、なおインキ反発性である。
フェノール性OH基を含有する本発明のポリマーは、ラ
ジカル脱除剤として働くフェノール性OH基がむしろ重
合禁止剤とみなされるにもかかわらず、商い放射線感性
を有する感光性樹脂印桐板の複写J−中でバインダーと
して使用しうろことは殊に屑異的である。
ジカル脱除剤として働くフェノール性OH基がむしろ重
合禁止剤とみなされるにもかかわらず、商い放射線感性
を有する感光性樹脂印桐板の複写J−中でバインダーと
して使用しうろことは殊に屑異的である。
本発明の収写ノーは、たとえばアルミニウム、ポリエス
テルまたは亜鉛から成る逸した支持体上に仔在する、予
備センシタイジングされた複写拐料の形で、水なしオフ
セット印刷用オフセット印刷板の写真製版製逅に使用す
るのに物に泌している。たとえはアルミニウムから成る
支付体栃科の表面は、機械的、化学的および/または鉦
気化学的徂面化処理、場合により引続く向憾賊化により
変性されていてもよい。
テルまたは亜鉛から成る逸した支持体上に仔在する、予
備センシタイジングされた複写拐料の形で、水なしオフ
セット印刷用オフセット印刷板の写真製版製逅に使用す
るのに物に泌している。たとえはアルミニウムから成る
支付体栃科の表面は、機械的、化学的および/または鉦
気化学的徂面化処理、場合により引続く向憾賊化により
変性されていてもよい。
支付坏I料がたんに14里または数種のポリマーおよび
適当な場合は、該ポリマーとは異なる付加的なバインダ
ーを用いCm布される場合、すぐれた水およびインキ反
発性、および同時に良好な機械的強度も示すノーが製造
される。従来の仮相から公知のように、画像部分は、こ
のように塗布された材料上でさえ、フッ素ポリマーフィ
ルムの部分の、機械的、′−気的または化学的分解によ
るかまたはトナーの適用またはレタリングにより製造で
きる。次いで、これらの−隊部分は、インキを受理する
ことができるので、均一に変性されたこの種の材料は、
場合により印刷のために使用することができる。
適当な場合は、該ポリマーとは異なる付加的なバインダ
ーを用いCm布される場合、すぐれた水およびインキ反
発性、および同時に良好な機械的強度も示すノーが製造
される。従来の仮相から公知のように、画像部分は、こ
のように塗布された材料上でさえ、フッ素ポリマーフィ
ルムの部分の、機械的、′−気的または化学的分解によ
るかまたはトナーの適用またはレタリングにより製造で
きる。次いで、これらの−隊部分は、インキを受理する
ことができるので、均一に変性されたこの種の材料は、
場合により印刷のために使用することができる。
本文および次の実施例では、重電部と容量部との関係は
g対−の如くであり、別記しないかぎり、パーセンテー
ジは重電チである。
g対−の如くであり、別記しないかぎり、パーセンテー
ジは重電チである。
実施例
例1〔一般式(■)に相当する七ツマー成分(a)の合
成〕 4−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル5厘量部(Ll
、035モル2および1,1,2.2−テトラヒドロベ
ルフルオロデカブール28恵瀘都(Ll、[J 6モル
)を酸性イオン交換体〔たとえはアンバーリスト(”A
mberlist ) 15 ) 2 N坦郡と一緒に
、100cに6時間加熱する。分能するメタノールを覧
縮器を介して集める。その1桑、過剰のペルフルオロア
ルコールを残物からできるかきり留去し、128〜12
9℃の一点をイラする純粋なペルフルオロエステル(4
−ヒドロキシ女息査酸−1’、 1’、 2’、 2’
−テトラヒドロペルフルオロデシルエステル)t[[−
[−チルから1株返し再結晶することにより収得する。
成〕 4−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル5厘量部(Ll
、035モル2および1,1,2.2−テトラヒドロベ
ルフルオロデカブール28恵瀘都(Ll、[J 6モル
)を酸性イオン交換体〔たとえはアンバーリスト(”A
mberlist ) 15 ) 2 N坦郡と一緒に
、100cに6時間加熱する。分能するメタノールを覧
縮器を介して集める。その1桑、過剰のペルフルオロア
ルコールを残物からできるかきり留去し、128〜12
9℃の一点をイラする純粋なペルフルオロエステル(4
−ヒドロキシ女息査酸−1’、 1’、 2’、 2’
−テトラヒドロペルフルオロデシルエステル)t[[−
[−チルから1株返し再結晶することにより収得する。
IHおよび”F−NMRスペクトルは想定された栴)貨
に一致する。
に一致する。
例 2
没食子酸およびペルフルオロアルコールカラ、例1によ
り相当する没食子酸エステルを得る。
り相当する没食子酸エステルを得る。
酢散エチル/ジイソプロピルエーテルの混合物から再結
晶した彼、この没食子酸エステルは170〜172″C
の融点を有する。この場合でも、・けられるスペクトル
は想定された構造に一致する。
晶した彼、この没食子酸エステルは170〜172″C
の融点を有する。この場合でも、・けられるスペクトル
は想定された構造に一致する。
例 6(共縮合)
ペルフルオロエステルを例1にボされたように製造する
が、反応混合物を15時間145°Cに加熱し、ペルフ
ルオロエステルを単離することなしに、4.4’−ビス
−メトキシメチル−ジフェニルエーテル(MMDPE
) 8重電部を直接145℃で1時間内に滴加する。操
作中に、反は 応混合物は粘度が増加し、試料がガラス棒により採取す
る場合、長い糸を引(ことができる。
が、反応混合物を15時間145°Cに加熱し、ペルフ
ルオロエステルを単離することなしに、4.4’−ビス
−メトキシメチル−ジフェニルエーテル(MMDPE
) 8重電部を直接145℃で1時間内に滴加する。操
作中に、反は 応混合物は粘度が増加し、試料がガラス棒により採取す
る場合、長い糸を引(ことができる。
反応混合物を約50〜60°Cに冷却し、アセトンで希
釈し、濾過によりイオン交換体を除去し、良好に攪拌し
ながらヘキサン中に注ぐ。ヘキサンで練り返し洗浄した
後、遊離ペルフルオロアルコールを含有しない粉末状共
縮合物15.7:jlE量部置部られる。
釈し、濾過によりイオン交換体を除去し、良好に攪拌し
ながらヘキサン中に注ぐ。ヘキサンで練り返し洗浄した
後、遊離ペルフルオロアルコールを含有しない粉末状共
縮合物15.7:jlE量部置部られる。
例 4(共縮合)
ペルフルオロエステルを、走当り例1に示したように製
造するか、反応は堅木下に150’Cで、エステル15
.2重を部(0,1モル)、ペルフルオロアルコール4
6.4 JMlm (0,1モルフおよびイオン交換体
6ム電部を用いて実施する。
造するか、反応は堅木下に150’Cで、エステル15
.2重を部(0,1モル)、ペルフルオロアルコール4
6.4 JMlm (0,1モルフおよびイオン交換体
6ム電部を用いて実施する。
約6時間後に期待童のメタノールが分離した後、反応混
合物を160℃に冷却し、ジメチル−ジエチレングリコ
ール40谷麓部中の4−ヒドロキシ安息香[6,9xx
部を混合する。次いで、ジメチル−ジエチレングリコー
ル60重重部中に溶解されたmpw 3 B59重童部
(0,15モル)を130’Oで4時間耐電供給する。
合物を160℃に冷却し、ジメチル−ジエチレングリコ
ール40谷麓部中の4−ヒドロキシ安息香[6,9xx
部を混合する。次いで、ジメチル−ジエチレングリコー
ル60重重部中に溶解されたmpw 3 B59重童部
(0,15モル)を130’Oで4時間耐電供給する。
160°Cで撹拌を継続した後、反応混合物を冷却し、
アセトンで希釈し、濾過によりイオン交換体を除去1゛
る。直しく攪拌しながら、アセトン溶液を除々に過剰量
の水に滴加し、方法中に、共縮合物が繊維状固形生成物
として沈殿する。共動合物の砿化点は70〜90℃であ
り、ガラス転移温度Tg (示差熱分析製造により測定
)は約14℃である。共輔合物は次の単位を有し、左側
の単位の数と右側の単位の数との比はほぼ2;1である
(計算値のフッ素含量は62.5チ、実測11ILのフ
ッ素含意は32.896である):例 5(共縮合) 例4により、2.6−シメチルー4−ヒドロキシ安息査
戚メチルエステル0.05モル、ペルフルオロアルコ−
/L10.05モル、4−ヒドロキシ安息香ば0.02
5モルおよびMMDPE 0.075モルから白色の薄
片状粉末が得られる。循環空気炉中で12時間乾燥した
後、共縮合物は90〜110℃の範囲内の軟化点を有す
る。フッ素分析は、隣接メチル基による立体障害のため
、完全なエステル化が行なわれなかったことを示す(理
崗値: 52.7%、分析値:2B、5%)。
アセトンで希釈し、濾過によりイオン交換体を除去1゛
る。直しく攪拌しながら、アセトン溶液を除々に過剰量
の水に滴加し、方法中に、共縮合物が繊維状固形生成物
として沈殿する。共動合物の砿化点は70〜90℃であ
り、ガラス転移温度Tg (示差熱分析製造により測定
)は約14℃である。共輔合物は次の単位を有し、左側
の単位の数と右側の単位の数との比はほぼ2;1である
(計算値のフッ素含量は62.5チ、実測11ILのフ
ッ素含意は32.896である):例 5(共縮合) 例4により、2.6−シメチルー4−ヒドロキシ安息査
戚メチルエステル0.05モル、ペルフルオロアルコ−
/L10.05モル、4−ヒドロキシ安息香ば0.02
5モルおよびMMDPE 0.075モルから白色の薄
片状粉末が得られる。循環空気炉中で12時間乾燥した
後、共縮合物は90〜110℃の範囲内の軟化点を有す
る。フッ素分析は、隣接メチル基による立体障害のため
、完全なエステル化が行なわれなかったことを示す(理
崗値: 52.7%、分析値:2B、5%)。
このm付物から形成され(溶媒としてブタノン−2およ
び1−メトキシ−プロパノ−ルー2を用いる)かつ粗面
化されたアルミニウムシートに通用されたコーティング
は、すぐれたインキ反発性をボす。
び1−メトキシ−プロパノ−ルー2を用いる)かつ粗面
化されたアルミニウムシートに通用されたコーティング
は、すぐれたインキ反発性をボす。
例6〜27 (フェノール性OH基を含有するポリマー
中へのペルフルオロアルキルエステルの導入) 相当するフェノール樹脂の式童をアセトン1000容電
部中に溶解し、フェノール性OH基の完全なまたは部分
的な反応に必要な当麓の、相当スるペルフルオロアルキ
ル基含有酸クロリドを麻加する。氷を用いて冷却しなか
ら当電のトリエチルアミンを調加し、温度を方法中60
′Cより下に保つ。それから反応混合物を2時間m流す
る。冷却した後、液相から濾過により不浴性沈腋物を除
去し、残分を水で洗浄し、乾燥する(画分1)。濾液を
ば性にされた氷水と攪拌することにより混合し、淡色の
沈殿′l勿が形成し、これをa鑞別し、中性になるまで
洗浄し、循環空気炉中で50°Cで乾燥する(画分2)
。最初の両分はおそらく画分2よりも商い分子量のポリ
マーを含有する。通用および分析の例のためには、画分
2を使用する。
中へのペルフルオロアルキルエステルの導入) 相当するフェノール樹脂の式童をアセトン1000容電
部中に溶解し、フェノール性OH基の完全なまたは部分
的な反応に必要な当麓の、相当スるペルフルオロアルキ
ル基含有酸クロリドを麻加する。氷を用いて冷却しなか
ら当電のトリエチルアミンを調加し、温度を方法中60
′Cより下に保つ。それから反応混合物を2時間m流す
る。冷却した後、液相から濾過により不浴性沈腋物を除
去し、残分を水で洗浄し、乾燥する(画分1)。濾液を
ば性にされた氷水と攪拌することにより混合し、淡色の
沈殿′l勿が形成し、これをa鑞別し、中性になるまで
洗浄し、循環空気炉中で50°Cで乾燥する(画分2)
。最初の両分はおそらく画分2よりも商い分子量のポリ
マーを含有する。通用および分析の例のためには、画分
2を使用する。
例6〜18
し1128(通用列)
例6〜27および15〜18で得られる本発明によるポ
リマーを、各々の礪会、ブタノン−2またはブタノン−
2および1−メトキシノロパノール−2の混合物中にそ
れぞれ溶解し、粗間化されたアルミニウムシート上に回
転塗布する。仄いで、塗膜をファンを用いて1〜2分間
乾沫し、その後1分間I D O”Oの乾燥炉中で乾昧
する。このように製造し1こ印刷板を、水なしオフセッ
ト印刷用の市販の印刷インキを用いてローラ盛りする。
リマーを、各々の礪会、ブタノン−2またはブタノン−
2および1−メトキシノロパノール−2の混合物中にそ
れぞれ溶解し、粗間化されたアルミニウムシート上に回
転塗布する。仄いで、塗膜をファンを用いて1〜2分間
乾沫し、その後1分間I D O”Oの乾燥炉中で乾昧
する。このように製造し1こ印刷板を、水なしオフセッ
ト印刷用の市販の印刷インキを用いてローラ盛りする。
印刷板のインキ反発性は後方ないし良好であり、これら
は実際に汚れを有しない(例5.12.15および16
のポリマー)か、非常にわずかな汚れ(yu5.4.6
〜10.13.14および19〜25のポリマー)を示
すにすきない。次の湿し製造のスイッチを切った印刷伎
における塗布されたアルミニウム験体および堕布されて
いない検体を用いる印刷試験では、比較用能な紹釆か得
られる。
は実際に汚れを有しない(例5.12.15および16
のポリマー)か、非常にわずかな汚れ(yu5.4.6
〜10.13.14および19〜25のポリマー)を示
すにすきない。次の湿し製造のスイッチを切った印刷伎
における塗布されたアルミニウム験体および堕布されて
いない検体を用いる印刷試験では、比較用能な紹釆か得
られる。
・−129〜45(適用例)
有壁ポリマーバインダーとして使用される例6−27で
合成された生成物のそれぞれから、ペルフルオロアルキ
ル基を含有する1、2−ナフトキノン−ジアジド化合物
および染料との混合物で複写増を製造することかできる
。この目的のために、有機溶剤〔ブタノン−2または1
−メトキシ−プロパノ−ルー2、THFまたはエチレン
グリコールモノメチルエーテル(MG)) 中の成分の
溶液または分散液を通常のように夷遺し、支持体材料、
たとえば′電気化学的に粗面化されたアルミニウムシー
トまたはポリエステルフィルム上に塗布する。その後、
放射線感性塗1換を乾燥する。
合成された生成物のそれぞれから、ペルフルオロアルキ
ル基を含有する1、2−ナフトキノン−ジアジド化合物
および染料との混合物で複写増を製造することかできる
。この目的のために、有機溶剤〔ブタノン−2または1
−メトキシ−プロパノ−ルー2、THFまたはエチレン
グリコールモノメチルエーテル(MG)) 中の成分の
溶液または分散液を通常のように夷遺し、支持体材料、
たとえば′電気化学的に粗面化されたアルミニウムシー
トまたはポリエステルフィルム上に塗布する。その後、
放射線感性塗1換を乾燥する。
このようにして製造されたオフセット印刷板を、具空被
写フレームから100+、rILの距離に配置された金
属ハロゲン化物ランf (5KW )の光に、ネガチプ
原図を通して20〜150秒間蕗光する。露光された材
料を通常6%一度のNa28103水浴液(El)で現
像する。水ですすぎ、100℃で藺単に乾燥した後、製
造される印刷板は、水なしオフセット印刷用の市販の特
殊インキを用いて、乾式印刷(即ち印刷機の湿し装置の
スイッチを切る)のために使用できる。インキ受理部分
は支持体材料の表面の一部であり、インキ反発部分は複
写ノーの残りの部分である。
写フレームから100+、rILの距離に配置された金
属ハロゲン化物ランf (5KW )の光に、ネガチプ
原図を通して20〜150秒間蕗光する。露光された材
料を通常6%一度のNa28103水浴液(El)で現
像する。水ですすぎ、100℃で藺単に乾燥した後、製
造される印刷板は、水なしオフセット印刷用の市販の特
殊インキを用いて、乾式印刷(即ち印刷機の湿し装置の
スイッチを切る)のために使用できる。インキ受理部分
は支持体材料の表面の一部であり、インキ反発部分は複
写ノーの残りの部分である。
使用される放射a感性化合物は、v1=2゜5.4−ト
リヒドロキシベンゾフェノン1モルと01.6?l6C
H,、CHOOC−C試H−COCJ、 (ブタン−2
−ジー1.4−vモノクロリド−モノフルオロアルキル
エチルエステ#)1モルおよび1,2−ナフトキノン−
2−ジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルからの反
応生成物、およびv2=1−ペルフルオロオクタノイル
オキシ−2゜4−ジヒドロキシベンゼン1モルと、キノ
ンジアシド2モルとからの反応生成物を包含する。
リヒドロキシベンゾフェノン1モルと01.6?l6C
H,、CHOOC−C試H−COCJ、 (ブタン−2
−ジー1.4−vモノクロリド−モノフルオロアルキル
エチルエステ#)1モルおよび1,2−ナフトキノン−
2−ジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルからの反
応生成物、およびv2=1−ペルフルオロオクタノイル
オキシ−2゜4−ジヒドロキシベンゼン1モルと、キノ
ンジアシド2モルとからの反応生成物を包含する。
複写層の評価において力点される基準は、照射、現隊お
よびインキ層は前に視覚試験により0111足されるコ
ーテイング品質(G=良好、S:=満足、M−4度、P
=不良)およびこれらの1橿に引続き、[J、15のく
さび足数(密度段階)を有する16段の連続トーン段階
くさびでのクリーン段数およびペタ段数〔たとえばヘキ
スト社(Hoechst AG )の力1/ ニータ
ーラフXフグ(Kalle Niederlassun
g )の露光試験(さびl BKOI ’ )および、
段階1における5%のトーン値から始まり、段階1・2
における95%のトーン1直に終わる、12段、150
ドツトスクリーンハーフトーンくさびでの著しく鮮明な
画像要素の複写(たとえばヘキスト社のカレ ニーダー
ラツス/グのハーフトーン(さぴIRK[)iつである
;ハーフトーン(さびの適用において、表は一方ではな
おインキを反発する段数(即ち非ll1i111域部分
)および他方では最初にインクを受理するくさび段e
(W)を示す。
よびインキ層は前に視覚試験により0111足されるコ
ーテイング品質(G=良好、S:=満足、M−4度、P
=不良)およびこれらの1橿に引続き、[J、15のく
さび足数(密度段階)を有する16段の連続トーン段階
くさびでのクリーン段数およびペタ段数〔たとえばヘキ
スト社(Hoechst AG )の力1/ ニータ
ーラフXフグ(Kalle Niederlassun
g )の露光試験(さびl BKOI ’ )および、
段階1における5%のトーン値から始まり、段階1・2
における95%のトーン1直に終わる、12段、150
ドツトスクリーンハーフトーンくさびでの著しく鮮明な
画像要素の複写(たとえばヘキスト社のカレ ニーダー
ラツス/グのハーフトーン(さぴIRK[)iつである
;ハーフトーン(さびの適用において、表は一方ではな
おインキを反発する段数(即ち非ll1i111域部分
)および他方では最初にインクを受理するくさび段e
(W)を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、それぞれの場合ベンゼン環の異なるC原子における
置換基としてフェノール性OH基およびペルフルオロア
ルキル基を含有し、該基が場合により中間基を介して結
合されていることを特徴とする、ペルフルオロアルキル
基を含有するポリマー。 2、一般式( I a)または(IIa): ▲数式、化学式、表等があります▼( I a)▲数式、
化学式、表等があります▼(IIa) 〔式中R^1、R^2=H、C_1〜C_6のアルキル
、R^F、▲数式、化学式、表等があります▼、■−ア
ルキル(C_1〜C_6)、▲数式、化学式、表等があ
ります▼であり、R^F=F(CwF_2_w)(−C
H_2)_zまたはF(C_w_−_1F_2_W_−
_2)−CF=CHであり、ジフルオロメチレン基は場
合によりエーテル架橋により結合されており;w=5〜
15であり;z=0〜5であり; x=0または1、 R^3、R^4=C_1〜C_6のアルキル、H、フェ
ニル、R^Fであり; ▲数式、化学式、表等があります▼、R^F、▲数式、
化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があ
ります▼であり; D=C_1〜C_8アルキレン、フェニレン、ナフチレ
ン(エーテル、チオエーテルまたはカルボニル基によっ
ても架橋)である〕で示されるポリマー単位を含有する
、特許請求の範囲第1項記載のポリマー。 3、一般式(IIIa)〜(IVa): (IIIa)▲数式、化学式、表等があります▼(IVa)
▲数式、化学式、表等があります▼ (Va)▲数式、化学式、表等があります▼→(VIa)
▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^5、R^6=H、C_1〜C_6アルキル、
フェニル、ナフチルであり; ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
(R^7=C_1〜C_1_2アルキル)、 ▲数式、化学式、表等があります▼、SO_2、▲数式
、化学式、表等があります▼である〕で 示されるポリマー単位を含有する、特許請求の範囲第1
項記載のポリマー。 4、ポリマー単位の10〜100%がペルフルオロアル
キル基を含有する、特許請求の範囲第2項記載のポリマ
ー。 5、ポリマー単位の10〜90%がペルフルオロアルキ
ル基を含有する、特許請求の範囲第3項記載のポリマー
。 6、それぞれの場合、ベンゼン環の異なるC原子におけ
る置換基としてフェノール性OH基およびペルフルオロ
アルキル基を含有し、該基が場合により中間基を介して
結合されている、ペルフルオロアルキル基を含有するポ
リマーの製法において、置換フェノールをアルデヒド、
ケトンまたは反応性ビスメチレン化合物と縮合させるこ
とを特徴とするペルフルオロアルキル基を含有するポリ
マーの製法。 7、それぞれの場合、ベンゼン環の異なるC原子におけ
る置換基としてフェノール性OH基およびペルフルオロ
アルキル基を含有し、該基が場合により中間基を介して
結合されている、ペルフルオロアルキル基を含有するポ
リマーの製法において、フェノール性OH基を含有する
ポリマーまたは重縮合物を、ペルフルオロアルキル基を
含有する化合物と反応させることを特徴とする、ペルフ
ルオロアルキル基を含有するポリマーの製法。 8、(c)放射線感性化合物少なくとも1種および(d
)有機ポリマーバインダー少なくとも1種を含有する放
射線感性複写層において、成分(d)が、場合により中
間体員を介して接続されているフェノールのOH基およ
びペルフルオロアルキル基を、−各々の場合ベンゼン環
の異なるC原子上の置換基として−含有する、ペルフル
オロアルキル基を含有するポリマーから成ることを特徴
とする、放射線感性複写層。 9、ポリマーがアルカリ性水溶液中で溶性である、特許
請求の範囲第8項記載の複写層。 10、成分(C)がペルフルオロアルキル基少なくとも
1種を含有する化合物、少なくとも1種から成る、特許
請求の範囲第8項または第9項記載の複写層。 11、成分(C)が、重合可能なペルフルオロアルキル
基少なくとも1種を有する、エチレン性不飽和末端基少
なくとも2種および光重合開始剤少なくとも1種を有す
る化合物から成る、特許請求の範囲第8項から第10項
までのいずれか1項記載の複写層。 12、成分(C)が、置換基としてペルフルオロアルキ
ル基少なくとも1種を含有する、1,2−ナフトキノン
ジアジド化合物少なくとも1種から成る、特許請求の範
囲第8項から第 10項までのいずれか1項記載の複写層。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19843421448 DE3421448A1 (de) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | Perfluoralkylgruppen aufweisende polymere, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck |
DE3421448.8 | 1984-06-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS619420A true JPS619420A (ja) | 1986-01-17 |
Family
ID=6237977
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60122881A Pending JPS619420A (ja) | 1984-06-08 | 1985-06-07 | ペルフルオロアルキル基を含有するポリマー、その製法およびこれを含有する放射線感性複写層 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5006443A (ja) |
EP (1) | EP0164059A3 (ja) |
JP (1) | JPS619420A (ja) |
DE (1) | DE3421448A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63273619A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-10 | Daikin Ind Ltd | 含フツ素ノボラツク及びその誘導体 |
JPS6456714A (en) * | 1987-05-08 | 1989-03-03 | Neos Kk | Fluorine-containing phenolic resin precursor |
JP2009080287A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Sharp Corp | オフセット印刷版、およびその製造方法 |
WO2014104126A1 (ja) * | 2012-12-26 | 2014-07-03 | セントラル硝子株式会社 | ヘキサフルオロイソプロパノール基を含むノボラック樹脂およびその製造方法、並びにその組成物 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3421448A1 (de) * | 1984-06-08 | 1985-12-12 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Perfluoralkylgruppen aufweisende polymere, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck |
US4877859A (en) * | 1987-03-24 | 1989-10-31 | Daikin Industries, Ltd. | Fluorine-containing novolak resin and derivative thereof |
US5279917A (en) * | 1991-05-09 | 1994-01-18 | Konica Corporation | Light-sensitive composition comprising a fluorine copolymer surfactant |
GB9516723D0 (en) * | 1995-08-15 | 1995-10-18 | Horsell Plc | Water-less lithographic plates |
GB9516694D0 (en) * | 1995-08-15 | 1995-10-18 | Horsell Plc | Water-less lithographic plates |
GB9806478D0 (en) | 1998-03-27 | 1998-05-27 | Horsell Graphic Ind Ltd | Pattern formation |
JP3567115B2 (ja) * | 1999-12-28 | 2004-09-22 | 株式会社日立製作所 | 刷版及びそれを用いた印刷装置 |
US6232025B1 (en) | 2000-01-10 | 2001-05-15 | Lexmark International, Inc. | Electrophotographic photoconductors comprising polaryl ethers |
JP2002055446A (ja) * | 2000-08-11 | 2002-02-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
US6787286B2 (en) * | 2001-03-08 | 2004-09-07 | Shipley Company, L.L.C. | Solvents and photoresist compositions for short wavelength imaging |
US20070299276A1 (en) * | 2006-06-22 | 2007-12-27 | Andrew Edward Feiring | Preparation of fluoroalkoxystyrenes |
US20110218319A1 (en) * | 2009-09-02 | 2011-09-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polyaramid films comprising fluorovinylether functionalized aromatic moieties |
WO2011028766A2 (en) * | 2009-09-02 | 2011-03-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluorinated 4-oxo-chroman-carboxylates |
WO2011028778A2 (en) * | 2009-09-02 | 2011-03-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polyesters comprising fluorovinylether functionalized aromatic moieties |
IN2012DN01732A (ja) * | 2009-09-02 | 2015-06-05 | Du Pont | |
JP5731511B2 (ja) * | 2009-09-02 | 2015-06-10 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーE.I.Du Pont De Nemours And Company | 撥油性が改善されたポリエステルフィルム |
KR20120070579A (ko) * | 2009-09-02 | 2012-06-29 | 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 | 플루오로에테르 작용화된 방향족 다이에스테르 및 그 유도체 |
FR3049611A1 (fr) * | 2016-04-01 | 2017-10-06 | Michelin & Cie | Composition adhesive aqueuse comportant une resine thermodurcissable |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1146618A (en) * | 1965-10-11 | 1969-03-26 | Harry Frank Gipe | Method for preparing photo-lithographic plates |
US3511178A (en) * | 1967-01-06 | 1970-05-12 | Minnesota Mining & Mfg | Printing plate and method |
US3682633A (en) * | 1967-01-06 | 1972-08-08 | Minnesota Mining & Mfg | Color proofing method |
US3870682A (en) * | 1970-10-29 | 1975-03-11 | Minnesota Mining & Mfg | Aldehyde condensation products of fluoraliphatic phenols |
US3832409A (en) * | 1970-10-29 | 1974-08-27 | L Endres | Aldehyde condensation products of fluoroaliphatic phenols |
US3910187A (en) * | 1971-08-30 | 1975-10-07 | Du Pont | Dry planographic printing plate |
GB1375461A (ja) * | 1972-05-05 | 1974-11-27 | ||
JPS4968803A (ja) * | 1972-11-02 | 1974-07-03 | ||
JPS525884B2 (ja) * | 1973-05-09 | 1977-02-17 | ||
GB1437459A (en) * | 1973-05-10 | 1976-05-26 | Ici Ltd | Fluorocarbon-substituted polymers heat exchanger |
AR206022A1 (es) * | 1974-05-01 | 1976-06-23 | Olin Corp | Un procedimiento para preparar 3 - triclorometil - 5 - cloro-1,2,4-tiadiazol util como fungicida nematocida controlador de malezas e intermediario en la preparacion de 3-triclorometil - 5 - alcoxi-1,2,4 tiadiazol |
GB1501128A (en) * | 1975-05-06 | 1978-02-15 | Minnesota Mining & Mfg | Development-free driographic printing plate |
US4087584A (en) * | 1975-10-31 | 1978-05-02 | Ricoh Co., Ltd. | Lithographic printing plate |
DE2616992A1 (de) * | 1976-04-17 | 1977-11-03 | Agfa Gevaert Ag | Lichtempfindliches material zur herstellung von druckformen und aetzresistagen |
JPS561045A (en) * | 1979-06-16 | 1981-01-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive composition |
JPS56139515A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-31 | Daikin Ind Ltd | Polyfluoroalkyl acrylate copolymer |
JPS56167139A (en) * | 1980-05-27 | 1981-12-22 | Daikin Ind Ltd | Sensitive material |
DE3022362A1 (de) * | 1980-06-14 | 1981-12-24 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zu seiner herstellung |
EP0054258B1 (en) * | 1980-12-17 | 1986-03-05 | Konica Corporation | Photosensitive compositions |
JPS57178242A (en) * | 1981-04-27 | 1982-11-02 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive lithographic plate |
DE3127754A1 (de) * | 1981-07-14 | 1983-02-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
JPS58134631A (ja) * | 1982-01-08 | 1983-08-10 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS58203433A (ja) * | 1982-05-21 | 1983-11-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS58205147A (ja) * | 1982-05-25 | 1983-11-30 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
JPS58215411A (ja) * | 1982-06-09 | 1983-12-14 | Daikin Ind Ltd | 感応性材料 |
US4564575A (en) * | 1984-01-30 | 1986-01-14 | International Business Machines Corporation | Tailoring of novolak and diazoquinone positive resists by acylation of novolak |
DE3406927A1 (de) * | 1984-02-25 | 1985-08-29 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Strahlungsempfindliches gemisch auf basis von saeurespaltbaren verbindungen |
DE3421448A1 (de) * | 1984-06-08 | 1985-12-12 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Perfluoralkylgruppen aufweisende polymere, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck |
-
1984
- 1984-06-08 DE DE19843421448 patent/DE3421448A1/de not_active Withdrawn
-
1985
- 1985-05-29 EP EP85106566A patent/EP0164059A3/de not_active Withdrawn
- 1985-06-07 JP JP60122881A patent/JPS619420A/ja active Pending
-
1988
- 1988-01-07 US US07/141,531 patent/US5006443A/en not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-12-19 US US07/630,176 patent/US5104961A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63273619A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-10 | Daikin Ind Ltd | 含フツ素ノボラツク及びその誘導体 |
JPS6456714A (en) * | 1987-05-08 | 1989-03-03 | Neos Kk | Fluorine-containing phenolic resin precursor |
JP2009080287A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Sharp Corp | オフセット印刷版、およびその製造方法 |
WO2014104126A1 (ja) * | 2012-12-26 | 2014-07-03 | セントラル硝子株式会社 | ヘキサフルオロイソプロパノール基を含むノボラック樹脂およびその製造方法、並びにその組成物 |
JP2014141655A (ja) * | 2012-12-26 | 2014-08-07 | Central Glass Co Ltd | ヘキサフルオロイソプロパノール基を含むノボラック樹脂およびその製造方法、並びにその組成物 |
US9464163B2 (en) | 2012-12-26 | 2016-10-11 | Central Glass Company, Limited | Novolak resin containing hexafluoroisopropanol group, method for producing same, and composition of same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0164059A2 (de) | 1985-12-11 |
US5104961A (en) | 1992-04-14 |
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EP0164059A3 (de) | 1989-02-22 |
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