JPS6190500A - 電磁波遮蔽透視フイルタ−及び製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は視覚表示端末（ＶＤＴ）のブラウン管（ＣＲＴ
）に装着するのに適した電磁波遮蔽透視フィルター及び
その製造方法に関する。

〈従来の技術〉 近年ＶＤＴの普及は看しく、急速に職場や家庭に混迷し
つつわプ、その台数において民生用テレビの水準に近づ
きつつある◇ＶＤＴに長時間、間近で接する人の数が増
加するに伴ない、ＶＤＴ作業者の１ｔｓｔｖ！４害が新
しい職業病１社会間留として大きく取υろけられるよン
になって！！た。ＶＤＴのほとんどはＣＲＴ方式で６９
、眼の疲労と１１ｔ７１＆波障簀の問題がｍ要になって
いる。

ＶＤＴ上の文字やｂ像のチ〉ツキ（フリッカ）を抑え、
外光の反射によるグレアを消すことにより眼Ｏ疲労を抑
える工夫は従来からメツシュ織物によってなされている
。これは織物の緻密な格子がハニカム効呆によって外光
の反射を抑え、画面のコントラストが得られるものであ
る。

しかしながらこれらメツシュ織物では電磁波の遮蔽効果
は無く十分なフィルター性能を発揮できない０ ｖＬｉ波遮蔽効果は導電性能が肝要なため金網等金属材
料が考えられている。しかしながらＶＤＴはどんどん高
精細化の方向に進み金属細線等の金網では限界に違して
いる０−万有機高分子材料を加工して導電性を付与する
工夫も桟々なされているが、モノフィラメントのメツシ
ュ織物ｔｃ金Ｍ被膜をメッキしたシ金属蒸着する方法が
考えられるが、金属被膜がうまく付着せず、所定の導電
性や１−両波シールド性及び透視性が得られず、この分
野の進展をさまたげていた。

〈発明が解決しようとする問題点〉 前述の、モノフィラメントのメッキ織物に金属被−を被
覆したフィルターにつき鋭意研究した結果、透視性にす
ぐれかつ電磁波シールド性の艮い本発明フィルターに到
達したものでるる。

！しち布状構造物である織物、Ｉｌ物、不織布、紙等の
４を化と１ＪＬ磁波の減哀率との関係について微視的に
検討した結果送気抵抗が小さくかつ導電繊維部分が接触
する点数の多さＫよって１！磁波シールド性が決まるこ
とｔ二見い出された。４ｋｒｔ経路が閉回路を形成しか
つその割合の多いものが良いことが見い出されたのであ
る。

透視性の面からモノフィラメントのメツシュ織物は格子
構造を形成するのですぐれているが、繊ｔａ間の接点が
織物文差点に限定されるので尋電層の金属ｗＬ良の形成
と接合がきわめて不十分であることカニ見い出された。

１本の太いフィラメント同志力；安定に導通接合するに
ｉｌｌ繊維嚢面が粗面化されていることがＪｉ安であっ
て、凹凸表面が金属被膜のアンカーとなって交差点に？
けるすぐれた電気導通性を保有させうるようになった。

く問題点を解決するための手段〉 表面Ｏ凹凸の採さあるいは高さは金属被膜の厚さとも関
連し０．０５ミクロンメーター以下になるとアンカー効
果はやや不十分であシ％１ミクｃ！／メーターを越える
ような平均凹凸高さになると導電島の接合が不十分とな
って所望の性能が得られない。ポリマー基材と金属被膜
との耐着性、密着性の点から、金属被膜は厚すざるのは
工程の安定性や経済性の点から好ましくなく、かつ交差
点のはぐり防止の点からもｌミクロンメーター以下の厚
みが好ましく、逆に１０薄すぎると交差点での導通性が
不充分となって所望のＪ＃ＪＬ導性が得られないのでＯ
，ＯＳ＜クロンメーター以上の厚みが８畏である。

狂気の導通性は一般に体積固有抵抗で表示されるが、本
発明の如きｍ全集合体の接触点によって左右される電気
特性は電気の比抵抗で表示した方が適確である。

導電を測定する方法は第１図に例示するようなクリップ
平行電極巾１０　ｔａ　ｓ　ｖＬ極間距離１０簡におけ
る導電性をＹＨＰ４３２８λミリオームメータ（横河ヒ
ユーレット社製）によりーり定した。

Ωα／ｃｌｎあるいはΩ なお試料により嵌面状態不良のものは電極把持部分を藤
倉化成ＫＫドータイ）Ｋより良導電状態としてクリップ
部分の不完全さをカバーした。

電磁波Ｒ＠効果の測定方法は関西電子工業振興セ、ンタ
ーの生駒電波測定所の考案による測定セルと類似のもの
を作成し、ＹＨＰ８４４４Ａ　トラッキングジェネレー
ター（横河ヒユーレット＃りによ？）　５００　ｆｃＨ
ｚ　〜１．２５　ＧＨｚ発振を前述測定−ＩＩ！　／’
受信部にて測定サンプルを経て受信し、スペクトラム・
アナライザーで計量したものでおる。

１１Ｌ磁波の反射によるシールド効果は電気の４通性に
大きく影響をうける。金Ｍｗｔ膜層はカーボン程度の導
通性では不十分でらシ、ニッケル、コバルト、スズ、銀
、銅、アルミ、真ちゅう等が選ばれ、これら−株あるい
ｄ２種以上の金属被膜の組み合わせによりａ成される。

もちろんその他の金属であっても電気４通性が１０００
ｃｍ／ｃｍ以下でめれば所期の効果は得られるが、加工
性、ａ済性の点でニッケル、コバルト、スズ、銀、銅、
アルミ。

真ちゅうが都合が艮い。（気Ｏ比抵抗がメツシュ織物に
して１５００閏／謂以下になると電磁波の減衰率がｌ　
Ｑ　ｄＢ以下になるばかシでなく、メツシュ構造の布端
末よりアースをとる組立ても不良にな９ｆすいので１５
０Ωα／訓以下が必要で６シ、更に良好なのは１０００
／α以下、最も良いものでｒｉ３Ω副／百以下である。

−万一磁波減衰率の点ではＣＲＴと作業者との距酊にも
関係するがｌ　Ｑ　ｄＢ以上であれば十分効果は認めら
れ、好ましくは４０　ｄＢ以上であれば健康面で問題に
ならないレベルでろシ、少くともｌ　Ｑ　ｄＢ以上の電
磁波減衰率をＭする挙が肝要でらる◇電磁波Ｂ蔽は導電
経路が閉回路を形成するよう接合点を密にすれば向上す
るか、ＣＲＴｔＺ）苓米求める機能でらる視５を表示を
阻害するものでらりては役に立たない。特ＫＣＲＴが大
型化、フルカラー化、高￥Ｗ細化が進むため画像の′ｌ
！Ｉ監を悪化させる透視フィルターであってはならず、
より細い繊維のマス目に織られた精緻な格子パターンが
重装である。繊維直径が６０μを越えるものは、走査線
の一部消滅による画像の不鮮明さを生起して好ましくな
い。

一万細くなると画像の扁精細化には追随できるも、メツ
シュ構造が変形、破損しやすく、特に２５μ未満のｆ＆
維直径のも・のは、安定性や耐久性に欠けるため不都合
である。

また格子構造の開口部とは第２図で示す織目の空隙部を
意味し、次式で定義される。

開口率が小さいと光透過率が少なくなるためノ・イコン
トラストとなるが、高分解像には不向きであｐ１３５チ
未満は不適当である。開口率が７０チを超えると格子間
隔が粗にな多画像の不鮮明さを生起することがある。即
ち最大繊維径６０μの場合で格子間隙が約５０８μとな
シ、走査線ピッチとオーバーラツプして米る領域になシ
、モアレ縞等の思わぬ不都合を起こした多画像不良とな
る限昇でおる。繊維径を細くしてゆくことにより始めて
、このような高開口率の場合も有効になシ、高精細画像
の高解像カラーモニターとしてフィルター性能が発揮で
きるのである。

透視孔イルターは表面反射光によるグレアの無いことが
必要でわシ、このため金Ｗ４被膜を形成後黒色に着色さ
れているとグレア防止のため透視フィルターとして見易
くなる。黒色にすることくよＦ）　ハックの黒いマトリ
ックスによって画面のコントラストが強くなり見えやす
くなる一方、外光の反射による鏡面作用も、ＣＲＴの外
表面に設置した場合有効に作用しグレア防止効果も上げ
うる。

本発明を具体化するため細いモノフィラメントのメツシ
ュ織物を形成する８資がろるが、ポリアミドやポリエス
テルの場合繊物を形成した後、表面をビーリングオフし
うる手段が簡便にできるため好都合である。ポリアミド
については鉱戚処理炉、ポリエステルについてはアルカ
リ処理が適している。特にポリエステルのアルカリ処理
はシルクライク織物のアルカリ減量加工として広く工業
化されているため適しているが、アルカリ減菫加工はそ
Ｃ）ｅ￥ｆ性から均一にビールオフされるため織目の交
差点での空隙が広くなっていて接触点が甘くなっている
。通常のシルクライク加工と異なる点でおる。場合によ
りこの接点のルーズさを無くした方が良く、アルカリ減
量加工時張力を付与するか、アルカリ減量加工後、張力
をタテ、ヨコめるいは片方に掛けておいてヒートセット
を行ない接点のルーズさを無くす方が良い。ビールオフ
して繊維直径を細くすると同時に、あらかじめ繊維中に
エツチング溶液に対してポリマー基質よりも溶解性の高
い微粒子を分散させておくとビールオフの時に繊維表面
が粗面化できる。ポリアミドの場合酸処理によりビール
オ７させるため、次酸力ルシュクムの該粒子等が用いる
ことができ、ポリエステルの場合はアルカリ処理でビー
ルオフさせるため、シリカ、リン誠カリシウム、リン酸
マグネシウム等の微粒子が活用できるがこれに限定され
るものでない。

問題は微粒子のサイズが１００ｍμを越える粒径になる
と粗面がららくなり１平方ミクロン当りの凹凸の個数が
不足して来るため不適当である。

添加量としてはＱ、５ｗｔ％以上添加してあれば所望の
粗面を形成させることができるが、好ましくは１〜５　
ｗｔ％が良い。ｌＱｗｔ％を越えるとモノフィラメント
の製糸性が不調となる事があシｌｏｗｔチ以下が好まし
い。前記該粒子添加量範囲で見ると微粒子の粒径は小さ
い程凹凸は沢山形成でき５〜５０ｍμが特に好適であっ
た。ビールオフして細繊化しても凹凸が不十分な場合、
およびあらかじめ所定の微粒子が繊維中に混入されてい
ない場合に放電状態下に当該メツシュ織物をさらし粗面
凹凸を付与する。この場合も０．０５ミクロンメーター
以上１ミクロンメーター以下の凹凸が１平方ミクロンメ
ーター当９１０個以上の粗面化エツチングが必要でろる
。放電状態とは酸素あるいは？！気気中コロナ放電−？
０．０１〜２０　ＴｏｒｒＪ空下の低温プラズマ放電に
より達成される。比較的繊維本数の多いマルチフィラメ
ントに金）１４被膜をつけることは、化学メッキでは繊
維間に生じた毛管現象によりある程度の触媒が吸着され
て比較的容易にできるが、モノフィラメントは毛管現象
による吸着が充分でないため、斑のない連続的かつ安定
な全編被膜の形成ができなかったが、このような微細凹
凸粗面化処理によって初めて良好なメッキがなし得たの
である。蒸着については類似効果は無いものと予想され
たが意外な事に織物の交差点での金属被膜が繊維表面間
をうまく結合させ、好都合にも交差点での電気導通性を
良好ならしめると共に、被膜の密着性か向上し、粗面化
が有効でちることがわかった。この放電照射は表裏両面
でおれば当然良好でおるが、片面照射のみでもその効果
はあった。

金属被膜を全面もしくは片面に０５０５ミクロンメータ
ー以上、１ミクロンメーターまでの厚さに被膜形成させ
るのは化学メッキ処理時間や蒸着処理時間によって主と
して決まり、全域被膜付与後の電気の比抵抗によっても
管理でき、少くとも１５０Ωα１５＋以下、好ましくは
、１０Ω−／備以下、最も好ましいのは３Ωｃｒｎ／ｆ
ｆｉ以下でらる０このような金属被膜によりミ導性を付
与したる後に黒色化の着色を行う。浸漬、塗布、スプレ
ー等各種方法が挙げられるがこれに限定されるものでな
い。黒色化には金属の酸化や硫化によるもの、塗料もし
くは着色染料の付着等常法によるもので良い。金属の酸
化や硫化による黒色被膜としては例えばＡｇｚＯ１Ａｇ
２Ｓ、　Ｃｕｂ、　ＣｕＯ等−ｂＫ　ｌ）るが、第１層
の導電層被膜をニッケルで行い、ついで剣１らるいは銅
の第２層の金属被膜を形成後黒色化処理をする方が、電
導性と黒色化を住持させうる点で都合が良い点も多い。

〈実施例〉 以下実施例を挙げて説明する。

実施例１ 平均粒子径が４５ｆｆｉμの水系シリカゾルをエチレン
グリコールに混合し、十分攪拌した後テレフタル酸と、
該エチレングリコールとテレフタル耽とのモル比が１．
２となるようにｖ４整して混合し、シリカを含有したス
ラリーとした。このスラリーを反応温度が２５０℃内圧
１．２　ｋｆ／ｍでるるハツチ式エステル化槽に供給し
てエステル化を行い、続いて２８５°Ｃで重合を行い、
オルソクロロフェノール２５°Ｓ溶液として測定した固
有粘度が０，７０のポリエチレンテレフタレートを得た
。この時のシリカの添加４ｉ＃−ｉｌ、５［ｉｌでわる
。このポリマーを溶融紡糸し通常の延伸を行なって、１
２０デニール１２フイラメント、１２０デニール８フイ
ラメ／ト、１２０デニール６フイラメントの３種の糸条
を得た。これら３８１の糸条を分子ａｍにて各々ｌＯデ
ニール、１５デニール、２０デニールのモノフィラメン
トの分線糸を作成し、１００メツシユ、１２０メツシユ
％　１５０メツシユ、２００メツシユ、２５０メツシユ
、２７０メツシユの６水準のモノフィラメツシュ織物を
作成した。対照に通常のポリエチレンテレフタレート１
５デニールモノフイラメ／トの２５０メツシユの１換金
作成した。これらの織物をヒートセット後アルカリ浴中
にて、ビールオフによるアルカリ減音処理を約３０％及
び約５０チを行った。アルカリ減音後の表面はいずれも
深さがＯ，ＯＳミクロンメーター以上１ミクロ／メータ
ー以下の凹凸が１平方ミクロン当り３０〜６０個存在す
ることが走査寛子顕微説観察のステレオ写真によ！５　
ｍ　１１＋３　して確認した。

ついで塩化第一スズ５０ｔ１塩酸２ＱＱｃｃ、水５ｏｏ
ｏｃｃからなる組成比の増感浴中を通し、塩化パラジウ
ム０．５ｆ％塩［５ｃｅ、水６０００ＣＲからなる組成
比の活性化浴を通し、塩化ニッケル１ＯＯ２１次亜リン
１１１３５　Ｆ、コハク酸ソーダ１００ｔ１水５ｏｏｏ
ｃｃよりなる組成比のニッケルメッキ浴に田５、温度８
０℃でゆりくシ通し、ニッケル金属被膜厚みが電量増加
より算出して−０，３５μ〜０．４０μ目標でニッケル
の化学メッキを行りな。

ついで別に仕立た銅の１１気メツキ浴を通す。電解、＋
’ツー？浴は水５０００ＣＣ，硫峨銅１０００　ｆ、硫
酸７０ｔ１ナオ尿素０．１５ｒ、峰密３．５ｆとした。

陽極に電気鋼板を用い、ニッケル化学メッキしたメツシ
ュ織物を陰極とし直流を源を付加し約０．１〜０．４μ
の＠′４ｉ膜層を形成させ、しかる後に硫化物を主体と
する黒色化工程を通してメッキ表面を黒色にした。得ら
れた電磁波遮蔽透視フィルターを開口部、繊維直径、電
気比抵抗、を磁波減衰率、金属被膜層と繊維の密層性及
び高解像度な要求される足女線密度が０．２−のカラー
モニターＶＤＴに取り付けて、画像の鮮明性とチラッキ
防止の肉眼評価を行った０粗面が一平方ミクロンメータ
ーのも■はメッキ性が悪く、電気導通性が悪く、電磁波
の′＄、薫性が劣っていた。一方間口部が３５％に満た
ないものや７０％を越えると画像のチラッキや不鮮明性
が１二りた０まだ開口部が７０％を越えるとメツ・ンユ
織物の目ずれや、ゆめ；みがひどく、取扱性が患いばか
りでなく、安定性ｆ均一性の点に欠けていた。

以上をまとめたのが第１表、第２表である。

実施例２ ナイロンの３０デニール七ノフイラメントを用い２５０
メツシユのｗｃ物作成し、黒染染色後、０．２Ｔｏｒｒ
　Ｘ臣下で酸素プラズマ照射を処理時間を変えて行った
。ついで活性化処理浴として塩化パラジウム０．４Ｆ、
塩酸３ＣＣ，水ｘｏｏｏｃｃｏ組成比に通し、２０分処
理した。乾燥後、無電解鋼メッキ処理蔭として硫酸銅１
４．５Ｆ、苛性ソーダ７．５？。

ロッシェル塩７．５ｆ％ホルマリ７３５　’　ｓ水１０
００Ｃｃの組成比にして化学メッキを行った。ついで実
施例１と同様に黒色化処理を行った後に実施例と同様の
電磁波遮蔽透視フィルターとしての計測を行った。また
ポリメタクリレート樹脂への包理処理を行って同様のテ
ストも加えた。尚フィルターの端末は藤倉化成ＫＫドー
タイトＤ−５００を盪布してアースをとるように一磁改
遁蔽性ｉεテストを行った。

プラズマ照射時間の短かいものでは凹凸が少なくメッキ
の付着性や密着性が不十分なため、電磁波遮蔽の効果が
不足した。同、メツシュ織物はあらかじめ黒染しておい
た几め、全域薄膜で黒色化されなくとも繊維が黒くなっ
ているため、チッソ。

キ防止や画像の鮮明性に悪形ｊｉ１を与えなかった０実
゛施例１でメッキ付着が悪いと黒色化が斑となシチラツ
キが発生したのと対照的であった０以上がグ３表で示さ
れる。

実施例３ 実施例１で用いたシリカ１，５ｗｔ％添カロのポリエス
テル１５デニールモノフイラメｙ）２５０メツシユ織物
を３０％アルカリ減斌減点染色された繊維直径３２μ、
開口部４７．３％のものを真空下にてアルミを蒸着した
。次いで銀をｉｆＱさせてから、更に酸素プラズマ中で
照射を行い、酸化銀による表面黒色化処理を行った。こ
のものの、＠着メッキ面の密度性は良好であシ寛気比抵
抗が１２０！／ｆｆｌで６り電磁波減衰単は３９　ｄＢ
と片面が導電層にもかかわらず良好な電磁波シール性を
示し、チラッキ防止や画像鮮明性もすぐれていた。

【図面の簡単な説明】

第１図はクリップ千行藏極を示す図でらシ、１は測定サ
ンプル、２はクリップ電極で、２対が平行に維持されて
いる。３はテフロン製の絶縁材による支持共、４及び４
’ｒｉ−極の端子で計器に接続される。 第２図は織目の格子を模式的に表示した図で、ｄｘがタ
テ糸の値組直径、　ｄｚがヨコ糸の！、１維直径。 ａがヨコ方向の空隙部長さ、ｂがタテ方向の空隙部長さ
を表わす。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）繊維直径が２５ミクロンメーター以上、６０ミクロ
   ンメーター以下で、かつ、表面が０．０５ミクロンメー
   ター以上、１ミクロンメーター以下の凹凸が１平方ミク
   ロン当り１０個以上の粗面を有するモノフィラメントの
   全表面もしくは片側表面に、０．０５ミクロンメーター
   以上、１ミクロンメーター以下の金属被膜を有し、更に
   その最表層が黒色に着色された外層被膜を形成してなる
   、開口部が３５％以上７０％以内のメッシュ織物で形成
   された電磁波遮蔽透視フィルター ２）金属被膜層がニッケル、コバルト、スズ、銀、銅、
   アルミ、真ちゆうの一種もしくは２種以上の組み合わせ
   より成り、電気の比抵抗が１５０Ωｃｍ／ｃｍ以下であ
   り、電磁波減衰率が１０ｄＢ以上であることを特徴とす
   る第１項記載の電磁波遮蔽透視フィルター ３）繊維基質がポリアミドおよび／またはポリエステル
   であり、導電処理と黒色化されたメッシュ織物が、透明
   プラスチック板に貼りつけあるいは内部に接合包理され
   たことを特徴とする電磁波遮蔽透視フィルター ４）有機合成繊維からなるメッシュ織物を形成した後エ
   ッチング処理を布状で施して繊維直径を減少せしめると
   共に、繊維表面に０．０５ミクロンメーター以上、１ミ
   クロンメーター以下の深さの凹凸が１平方ミクロン当り
   １０個以上の粗面を付与し、しかる後に化学メッキもし
   くは金属蒸着により金属被膜を形成せしめ、その後黒色
   に着色することを特徴とする電磁波遮蔽透視フィルター
   の製造方法 ５）メッシュ織物を構成するモノフィラメント中に１０
   ０ミリミクロンメーター以下の平均粒子径を有し、かつ
   エッチング溶液に対してポリマー基質より溶解性の大き
   い微粒子を分散せしめ、湿式エッチングにより繊維直径
   を減少せしめると同時に表面を粗面化させることを特徴
   とする第４項記載の電磁波遮蔽透視フィルターの製造方
   法６）メッシュ織物を湿式エッチングするかあるいはし
   ないまま、低温プラズマもしくはコロナ放電状態の下に
   さらし乾式エッチングを行つて表面粗面化させることを
   特徴とする第４項記載の電磁波透視フィルターの製造方
   法