JPS6186442A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
- Publication number
- JPS6186442A JPS6186442A JP21004984A JP21004984A JPS6186442A JP S6186442 A JPS6186442 A JP S6186442A JP 21004984 A JP21004984 A JP 21004984A JP 21004984 A JP21004984 A JP 21004984A JP S6186442 A JPS6186442 A JP S6186442A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- burner
- temp
- underside
- optical fiber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/60—Relationship between burner and deposit, e.g. position
- C03B2207/62—Distance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/70—Control measures
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
本発明は、光フッフィバ母材の製造方法、ざらにＪ １
ｍには、ＶＡＤ法（気相軸（＝Ｊ法： ｖａｐｏｒ ｏ
ｒＰｌｌ−ａｓｃ Ａｘｉａｌ Ｄｃｐｏｓｉｔｉｏｎ
）を採用した光フ、アイバＩＵ ４４の製造ＩＪ法に門
ツる６のである。
ｍには、ＶＡＤ法（気相軸（＝Ｊ法： ｖａｐｏｒ ｏ
ｒＰｌｌ−ａｓｃ Ａｘｉａｌ Ｄｃｐｏｓｉｔｉｏｎ
）を採用した光フ、アイバＩＵ ４４の製造ＩＪ法に門
ツる６のである。
ｉ［ｉ ｉ＋＋に＼′Ｌ；ｉＪ Ｌ／た多・ｎ管バーツ
−内に原料ならびに燃ｒ１ガスを送り込み、バーナト方
に位置覆る棒状ターゲットの先９νＩ：に多孔１Ｊ Ｉ
ｌｌ ＩＪ （Ｍ化物微粒体）を成長させて、艮千ｌＪ
″向に均一な屈１１ｉ−競分イ１１を自覆る光ノ１イバ
の摸造方法（ＶΔＤ法）に、１３いＣは、上記屈折率分
イｆｆを制御りるパラメータとしＣ、ガス流量、バーツ
′位置、多孔買ｔＳ ＋＜底面、：１０艮４〔どがある
。
−内に原料ならびに燃ｒ１ガスを送り込み、バーナト方
に位置覆る棒状ターゲットの先９νＩ：に多孔１Ｊ Ｉ
ｌｌ ＩＪ （Ｍ化物微粒体）を成長させて、艮千ｌＪ
″向に均一な屈１１ｉ−競分イ１１を自覆る光ノ１イバ
の摸造方法（ＶΔＤ法）に、１３いＣは、上記屈折率分
イｆｆを制御りるパラメータとしＣ、ガス流量、バーツ
′位置、多孔買ｔＳ ＋＜底面、：１０艮４〔どがある
。
しかしながら、光ファイバ母＋４５′ＪｉΔの実際にＪ
５いては、上記パラメータが変動・」ろことがあり、特
に、多孔質母材を垂直に引き上げる場合、バーナ中心と
多孔質母材中心との調心ｆｉ′＋１良は、光）／イバ丹
月製造の実際に則して±５０μｍか限庶であり、この調
心精磨の限界がパラメータ変−１ｉＪｌの−・囚となる
。
５いては、上記パラメータが変動・」ろことがあり、特
に、多孔質母材を垂直に引き上げる場合、バーナ中心と
多孔質母材中心との調心ｆｉ′＋１良は、光）／イバ丹
月製造の実際に則して±５０μｍか限庶であり、この調
心精磨の限界がパラメータ変−１ｉＪｌの−・囚となる
。
しかして、バーナ中心と多孔７１１：Ｊ ４４中心どの
間に調心ズレを生じ、多孔質面Ｈの底面温度や引り速度
にバラツキがあるど、光ノンフィバＥ１１４）Ｊの長手
方向に屈折率分布の不均一・を生じる乙のであって。
間に調心ズレを生じ、多孔質面Ｈの底面温度や引り速度
にバラツキがあるど、光ノンフィバＥ１１４）Ｊの長手
方向に屈折率分布の不均一・を生じる乙のであって。
バーナ中心と多孔質ＬＱ ＋Ａ中心どの間の調心ズレガ
０．０５ｍｍあるど、第２図に示すごとく、多孔７４母
材の底面温度は１℃変化りる。また、多孔質Ｒ１材の底
面温度が１℃変化づるど、光フトイバ１２） ＋Ａの１
１１（折１・′分（１１定あシαは０．０３へ・０．０
４変化−りろｂのであー）て、スー１〜長５００ ｍｍ
の光ファイバを製Ｊニー（ＩるＪ−１合１ご、Ｉ＞りる
多孔ｖ１母材の底面温度変化ｌｉ５ｉ １よ、従来、２
・〜・９℃と人ぎかった。
０．０５ｍｍあるど、第２図に示すごとく、多孔７４母
材の底面温度は１℃変化りる。また、多孔質Ｒ１材の底
面温度が１℃変化づるど、光フトイバ１２） ＋Ａの１
１１（折１・′分（１１定あシαは０．０３へ・０．０
４変化−りろｂのであー）て、スー１〜長５００ ｍｍ
の光ファイバを製Ｊニー（ＩるＪ−１合１ご、Ｉ＞りる
多孔ｖ１母材の底面温度変化ｌｉ５ｉ １よ、従来、２
・〜・９℃と人ぎかった。
本発明（，Ｌ１以下の点を：Ｊ Ｌ？してイ【されたも
のでｌｉリー〕−（、イの目的どりるところは、光ファ
イバ母ｉ、ｌ ｑ） ：トラ）青に際し、多孔？：（ｍ
月の長手方向にｄ３ ＋プるｂ１１析率分イ１」の不均
一を従来よりも少なくし、ひいて【ま光伝送帯域特性の
向上化を図り得るようにしたしのである。
のでｌｉリー〕−（、イの目的どりるところは、光ファ
イバ母ｉ、ｌ ｑ） ：トラ）青に際し、多孔？：（ｍ
月の長手方向にｄ３ ＋プるｂ１１析率分イ１」の不均
一を従来よりも少なくし、ひいて【ま光伝送帯域特性の
向上化を図り得るようにしたしのである。
「允１！１１の１以要］
１記［Ｉ的を達成覆るため、本発明は、垂直に立設した
多・Ｆ管バーツ内に原料ならびに湛料ガスを）スり込み
、バーツ−上方に位置する棒状ターゲットの先端に多孔
質母材を成長させる光ファイバの製造１ノ法に、１３い
て、上記多孔質Ｉｌｌ Ｋ４の底面温度を連続的に測定
してバーツ−にフィードバックし、そのフｆ〜ドハック
ｌｉｉｊにもとづいてバーナを移動ざｌ（、多孔質ＩＮ
目Δの底面温度を均一化づ”ることを特撒とづるｂので
ある。
多・Ｆ管バーツ内に原料ならびに湛料ガスを）スり込み
、バーツ−上方に位置する棒状ターゲットの先端に多孔
質母材を成長させる光ファイバの製造１ノ法に、１３い
て、上記多孔質Ｉｌｌ Ｋ４の底面温度を連続的に測定
してバーツ−にフィードバックし、そのフｆ〜ドハック
ｌｉｉｊにもとづいてバーナを移動ざｌ（、多孔質ＩＮ
目Δの底面温度を均一化づ”ることを特撒とづるｂので
ある。
「実施例１
以下、本発明を第１図にもどづいＣ説明りると、同図は
本発明方法の実施に供しＣ好適な尤）／７−（ｒ＜ ｌ
ｓｌ材製造装置の制御系統説明図で、第１図にｄ３ハで
、１は多孔＋ｆ４ｒ母材、２はノード付／ｌ ｉ［管バ
ーナ、３はバーナ固定微動台、４はし−タ、５＋、を赤
！４線温度５１，６はＩＪ）月底面記度−バーノ１八γ
置演Ｑ回路を示し、試作実験においては、垂直に立設し
たフートイ＝、ｌ Ｊ ｉｎ管バーナ２の最内層に３１
Ｃｌｔ１゜２ ００ｍｇ／ｍｉｎ 、 Ｇｃｃｆ
ａ １ ６０ｍｇ／ｍｉｎ、 △ ｒ キレリア
ガス６８０ ｃｃ／ｍｉｎを流し、第２層にはＡｒガス
１ 、２００ｃｃ／ｍｉｎを、第３層にはト１２ガス４
．７ｆｔ／ｍｉｎを、最外層である第４層にｆＪ Ｏｚ
ガス８．２５ｆｌ／ｍｉｎを流し、さらに上記ＯＺガス
の外周（フード部分）に１よ、バーナ炎の１：Ｉ：らさ
を防ＩＬ１るＮ２ガス１０ｆ／ｍｉｎとＮＺカス３８ｇ
／ｍｉｎとを内外２層に流し、バーナ２の先端と多孔質
母＋Ｊ １の底面との距離を１３２．５ａｍとした。ま
た、赤外線温度５１５からの出力（０〜１０Ｖ）を母材
底面温度−バーナ位置換停回路６に入力し、・ノ１、シ
ト線；（１＾度計５での測定１直が−・定どなるにうバ
ーツ固定微千力ｆコ３のモータ４を（多Φ力さ１ま、バ
ー〕２へ−中心ブ）向く１うるいは外側へと移動ざＶて
、多孔１．１母材′１の底面温度均−化を図った。なｄ
５、試１′１−実１１１ｊ例においＣ，多Ａ ｒｑ母材
１の底面温度を測定り−る赤外線温反計５の波長は５．
１ｔｔｍ、その測定苗１哀は−Ｕ：１°Ｃであり、第１
図に示す装置を用いて約７時間作業を続り、スート艮／
１．５０ ｍｍの光ツノ・イハ１々ｉ ４４をｉｊフ
ｋが、その時の多孔質ａｌ材１の底面温１・夏空化幅（
よ」＝１°Ｃ，バーナ２の位置変化つ１＋１ 二！０．
２５ ｍｍ ′ｃ′あった。
本発明方法の実施に供しＣ好適な尤）／７−（ｒ＜ ｌ
ｓｌ材製造装置の制御系統説明図で、第１図にｄ３ハで
、１は多孔＋ｆ４ｒ母材、２はノード付／ｌ ｉ［管バ
ーナ、３はバーナ固定微動台、４はし−タ、５＋、を赤
！４線温度５１，６はＩＪ）月底面記度−バーノ１八γ
置演Ｑ回路を示し、試作実験においては、垂直に立設し
たフートイ＝、ｌ Ｊ ｉｎ管バーナ２の最内層に３１
Ｃｌｔ１゜２ ００ｍｇ／ｍｉｎ 、 Ｇｃｃｆ
ａ １ ６０ｍｇ／ｍｉｎ、 △ ｒ キレリア
ガス６８０ ｃｃ／ｍｉｎを流し、第２層にはＡｒガス
１ 、２００ｃｃ／ｍｉｎを、第３層にはト１２ガス４
．７ｆｔ／ｍｉｎを、最外層である第４層にｆＪ Ｏｚ
ガス８．２５ｆｌ／ｍｉｎを流し、さらに上記ＯＺガス
の外周（フード部分）に１よ、バーナ炎の１：Ｉ：らさ
を防ＩＬ１るＮ２ガス１０ｆ／ｍｉｎとＮＺカス３８ｇ
／ｍｉｎとを内外２層に流し、バーナ２の先端と多孔質
母＋Ｊ １の底面との距離を１３２．５ａｍとした。ま
た、赤外線温度５１５からの出力（０〜１０Ｖ）を母材
底面温度−バーナ位置換停回路６に入力し、・ノ１、シ
ト線；（１＾度計５での測定１直が−・定どなるにうバ
ーツ固定微千力ｆコ３のモータ４を（多Φ力さ１ま、バ
ー〕２へ−中心ブ）向く１うるいは外側へと移動ざＶて
、多孔１．１母材′１の底面温度均−化を図った。なｄ
５、試１′１−実１１１ｊ例においＣ，多Ａ ｒｑ母材
１の底面温度を測定り−る赤外線温反計５の波長は５．
１ｔｔｍ、その測定苗１哀は−Ｕ：１°Ｃであり、第１
図に示す装置を用いて約７時間作業を続り、スート艮／
１．５０ ｍｍの光ツノ・イハ１々ｉ ４４をｉｊフ
ｋが、その時の多孔質ａｌ材１の底面温１・夏空化幅（
よ」＝１°Ｃ，バーナ２の位置変化つ１＋１ 二！０．
２５ ｍｍ ′ｃ′あった。
Ｊ）ご、本発明方法を実施して得られた光フ／フイバ／
ｌ ４イから１５ Ｋｍｌ＞の光ファイバを製造し、こ
の先フｊ・イハの伝送帯域を１１くｍごとに測定したと
ころ、Ｃのハラツ１は１．０５０±１００ Ｍ ｌ−Ｉ
ｚ −Ｋｌｌ＋”８ど小さい値に止どまっていること
がＭｒ認され ｌご 。
ｌ ４イから１５ Ｋｍｌ＞の光ファイバを製造し、こ
の先フｊ・イハの伝送帯域を１１くｍごとに測定したと
ころ、Ｃのハラツ１は１．０５０±１００ Ｍ ｌ−Ｉ
ｚ −Ｋｌｌ＋”８ど小さい値に止どまっていること
がＭｒ認され ｌご 。
［発明のグＪ宋］
本発明は以上のごときくあり、本発明は、光フン・イム
Ｂ１月の製造に際し、多孔ｖ′１ｍ材引上時にｄ５ける
当該Ｑｌ ＋Ｊの底面温度を３１■続的にＵｌ１１定し
てハープにフィードバックし、そのフィードバック１直
（こもとづいてバーナを移動ざ［（Ｃ、多孔７′ｆ団祠
の底面温度を均一化り°るものであって、本発明によれ
ば、多孔質母材の艮丁方向におりろ屈１バ零分イ１１の
不均一を従来よりも少なくし、ひいＣは光１人送帯域特
性の向上化を図ることのでさ・る、改良された尤〕１イ
バ母材の製造方法を得ることがでぎる。
Ｂ１月の製造に際し、多孔ｖ′１ｍ材引上時にｄ５ける
当該Ｑｌ ＋Ｊの底面温度を３１■続的にＵｌ１１定し
てハープにフィードバックし、そのフィードバック１直
（こもとづいてバーナを移動ざ［（Ｃ、多孔７′ｆ団祠
の底面温度を均一化り°るものであって、本発明によれ
ば、多孔質母材の艮丁方向におりろ屈１バ零分イ１１の
不均一を従来よりも少なくし、ひいＣは光１人送帯域特
性の向上化を図ることのでさ・る、改良された尤〕１イ
バ母材の製造方法を得ることがでぎる。
第１図は本発明方法の実施に供して好３ａな光フッ・イ
バ母月製造装置の制御系統説明図第２図は光ファイバＩ
”Ｊ材製造りにｄ５ ｉノるバーリー位胃−母材底而温
度特性線図である。 １・・・多孔質母材、２・・・フード付／ｌ小管バーツ
−。 ３・・・バーナ固定微動台、４・・・七−タ、５・・・
赤外線温度計、６・・・ｆｉｌ ｒＡ底面温度−バーナ
位置１０１０回路。 代即人 弁理士 仏 Ｉｉ？ｆ イニノＩＩｔ Ｇ 第 閉
バ母月製造装置の制御系統説明図第２図は光ファイバＩ
”Ｊ材製造りにｄ５ ｉノるバーリー位胃−母材底而温
度特性線図である。 １・・・多孔質母材、２・・・フード付／ｌ小管バーツ
−。 ３・・・バーナ固定微動台、４・・・七−タ、５・・・
赤外線温度計、６・・・ｆｉｌ ｒＡ底面温度−バーナ
位置１０１０回路。 代即人 弁理士 仏 Ｉｉ？ｆ イニノＩＩｔ Ｇ 第 閉
Claims (1)
- （１）垂直に立設した多重管バーナ内に原料ならびに燃
料ガスを送り込み、バーナ上方に位置する棒状ターゲッ
トの先端に多孔質母材を成長させる光ファイバの製造方
法において、上記多孔質母材の底面温度を連続的に測定
してバーナにフィードバックし、そのフィードバック値
にもとづいてバーナを移動させて、多孔質母材の底面温
度を均一化することを特徴とする光ファイバ母材の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21004984A JPS6186442A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21004984A JPS6186442A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6186442A true JPS6186442A (ja) | 1986-05-01 |
Family
ID=16582954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21004984A Pending JPS6186442A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6186442A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6232583B1 (en) | 1999-08-20 | 2001-05-15 | Alcatel | Infrared high temperature measurement of optical fiber during draw |
-
1984
- 1984-10-05 JP JP21004984A patent/JPS6186442A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6232583B1 (en) | 1999-08-20 | 2001-05-15 | Alcatel | Infrared high temperature measurement of optical fiber during draw |
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