JPS6047216B2 - 光フアイバ用母材の作製方法 - Google Patents
光フアイバ用母材の作製方法Info
- Publication number
- JPS6047216B2 JPS6047216B2 JP55103062A JP10306280A JPS6047216B2 JP S6047216 B2 JPS6047216 B2 JP S6047216B2 JP 55103062 A JP55103062 A JP 55103062A JP 10306280 A JP10306280 A JP 10306280A JP S6047216 B2 JPS6047216 B2 JP S6047216B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass tube
- optical fiber
- base material
- glass
- refractive index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01884—Means for supporting, rotating and translating tubes or rods being formed, e.g. lathes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/30—Polarisation maintaining [PM], i.e. birefringent products, e.g. with elliptical core, by use of stress rods, "PANDA" type fibres
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光ファイバ用母材の作製方法に係り、ことに将
来のヘテロダイン伝達方式における光通信用伝達媒体と
して期待される単一偏波単一モード光ファイバの原型と
なる非軸対称型の光ファイバ用母材を作製する作製方法
に関する。
来のヘテロダイン伝達方式における光通信用伝達媒体と
して期待される単一偏波単一モード光ファイバの原型と
なる非軸対称型の光ファイバ用母材を作製する作製方法
に関する。
従来、光伝送用媒体としての光ファイバを製造するにあ
たり、その母材を作製する方法としては化学気相沈積法
の修正された内付法、いわゆるＭＣＶＤ法（Ｍｏｄｉｆ
ｉｅｄＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏ
ｎ）、および気相軸付法すなわちＶＡＤ法（Ｖａｐｏｒ
ＰｈａｓｅＡｘｉａｌＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）がある。
たり、その母材を作製する方法としては化学気相沈積法
の修正された内付法、いわゆるＭＣＶＤ法（Ｍｏｄｉｆ
ｉｅｄＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏ
ｎ）、および気相軸付法すなわちＶＡＤ法（Ｖａｐｏｒ
ＰｈａｓｅＡｘｉａｌＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）がある。
ＭＣＶＤ法てはガラス管を、またＶＡＤ法では種棒１Ｊ
−Ｌメ、一 右ｆ＄年：“ｄ己ｕイヤ、え、プ〒するガ
ラスの堆積を行なうようにしてあるため、作製された母
材断面の屈折率分布は通常は軸対称である。ところてＭ
ＣＶＤ法で非軸対称型の母材を作製する従来の作製方法
として、第１図ａに示すように、ガラス管３すなわち出
発石英管の両側を平面状に削り、第１図をに示すように
、クラッド１２およびコア１３を堆積した後、第１図ｃ
に示すように、コア１３をほぼ円形、クラッド１２を楕
円形にする方法が提案されている（Ｒ、Ｈ、Ｓｔｏｌｅ
ｎ他、’４Ｌｉｎｅａｒｐｏｌａｒｉ２ａｔｉｏｎｉｎ
ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｔｓｉｎｇｌｅ一ｍｏｄｅｆｉ
ｂｅｒｓ’’ Ａｐｐｌ、Ｐｈｙｓ、Ｌｅｔｔ、、ｖｏ
ｌ、３３、ｐ、６９仄１９７８Ｎに記載がある）。
−Ｌメ、一 右ｆ＄年：“ｄ己ｕイヤ、え、プ〒するガ
ラスの堆積を行なうようにしてあるため、作製された母
材断面の屈折率分布は通常は軸対称である。ところてＭ
ＣＶＤ法で非軸対称型の母材を作製する従来の作製方法
として、第１図ａに示すように、ガラス管３すなわち出
発石英管の両側を平面状に削り、第１図をに示すように
、クラッド１２およびコア１３を堆積した後、第１図ｃ
に示すように、コア１３をほぼ円形、クラッド１２を楕
円形にする方法が提案されている（Ｒ、Ｈ、Ｓｔｏｌｅ
ｎ他、’４Ｌｉｎｅａｒｐｏｌａｒｉ２ａｔｉｏｎｉｎ
ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｔｓｉｎｇｌｅ一ｍｏｄｅｆｉ
ｂｅｒｓ’’ Ａｐｐｌ、Ｐｈｙｓ、Ｌｅｔｔ、、ｖｏ
ｌ、３３、ｐ、６９仄１９７８Ｎに記載がある）。
しカルこの従来の作製方法においては、ガラス管３を長
さ方向に均一に削り出すという面倒な切断、研磨等の工
程を含むばかりか、寸法制御が困難となる不具合がある
。
さ方向に均一に削り出すという面倒な切断、研磨等の工
程を含むばかりか、寸法制御が困難となる不具合がある
。
また著しく非軸対称な屈折率分布を有する母材を作製す
ることができない不具合がある。フ 本発明は上記した
従来技術における不具合に鑑みてなされたものて、その
目的は、作製工程の簡略化を図ることができるとともに
、低損失で高寸法精度の非軸対称型の光ファイバ用母材
を得ることができる光ファイバ用母材の作製方法を提供
す５ることにある。
ることができない不具合がある。フ 本発明は上記した
従来技術における不具合に鑑みてなされたものて、その
目的は、作製工程の簡略化を図ることができるとともに
、低損失で高寸法精度の非軸対称型の光ファイバ用母材
を得ることができる光ファイバ用母材の作製方法を提供
す５ることにある。
この目的を達成するために本発明は、ガラス管の回転を
停止し、所定の屈折率を有するガラス層をガラス管内壁
の相対向する両側のみに、長さ方向に均一に堆積させる
工程を含むとともに、このようにガラス層を堆積してな
るガラス管の断面の屈折率分布を非軸対称とする構成に
してある。
停止し、所定の屈折率を有するガラス層をガラス管内壁
の相対向する両側のみに、長さ方向に均一に堆積させる
工程を含むとともに、このようにガラス層を堆積してな
るガラス管の断面の屈折率分布を非軸対称とする構成に
してある。
以下、本発明の光ファイバ用母材の作製方法を図に基づ
いて詳述する。第２図ないし第５図は、本発明の作製方
法を例示する説明図で、第２図は本発明の作製方法を実
施する装置の一例を示す構成概略図、第３図は本発明の
作製方法の一工程を例示する説明図で、ＳｉＯ２＋Ｂ２
Ｏ３からなるガラス層を非軸対称に堆積した後のガラス
管の構成を示す断面図、第４図は本発明の作製方法によ
つて作製した母材の構成を示す断面図、第５図Ａ，ｂは
第４図に示す母材の直交２方向の屈折率分布を示すグラ
フである。なお、これらの図において、上記の第１図に
示す部材と同じ部材は同一の符号で示してある。第２図
において、１は原料ガス供給部、２は接続用バイブ、３
はガラス管、４はガラス管支持部すなわちチャック、５
は加熱源、６は管径測定部、７は回転コネクタ、はトラ
ップ、９は電磁弁、１０はノズル、１１は排気量制御部
である。
いて詳述する。第２図ないし第５図は、本発明の作製方
法を例示する説明図で、第２図は本発明の作製方法を実
施する装置の一例を示す構成概略図、第３図は本発明の
作製方法の一工程を例示する説明図で、ＳｉＯ２＋Ｂ２
Ｏ３からなるガラス層を非軸対称に堆積した後のガラス
管の構成を示す断面図、第４図は本発明の作製方法によ
つて作製した母材の構成を示す断面図、第５図Ａ，ｂは
第４図に示す母材の直交２方向の屈折率分布を示すグラ
フである。なお、これらの図において、上記の第１図に
示す部材と同じ部材は同一の符号で示してある。第２図
において、１は原料ガス供給部、２は接続用バイブ、３
はガラス管、４はガラス管支持部すなわちチャック、５
は加熱源、６は管径測定部、７は回転コネクタ、はトラ
ップ、９は電磁弁、１０はノズル、１１は排気量制御部
である。
原料ガス供給部１は接続用バイブ２を介してガラス管３
内に気体を供給するようになつており、一方このガラス
管３内を通過した気体はトラップ８を介し、電磁弁９、
ノズル１０から排気されるようになつている。ガラス管
３はチャック４によつて支持され、回転コネクタ７の作
用により回転可！能になつている。加熱源５および管径
測定部６は相互に隣接して設けられ、共にガラス管３の
長さ方向に対し、移動可能となつている。さらに排気量
制御部１１は管径測定部６の信号を受け、電磁弁９の開
閉を制御する。 ｃ次に上記した
第２図に示す装置の作用も含めて本発明の作製方法の一
実施例について以下に述べる。まずチャック４で支持さ
れたガラス管３を６０ｒ′Ｐｍ程度の回転数で回転させ
、原料ガス供給部４１からは原料ガスを流さず、接続用
バイブ２を介して０２、Ｎ等の乾燥気体のみを流す。
内に気体を供給するようになつており、一方このガラス
管３内を通過した気体はトラップ８を介し、電磁弁９、
ノズル１０から排気されるようになつている。ガラス管
３はチャック４によつて支持され、回転コネクタ７の作
用により回転可！能になつている。加熱源５および管径
測定部６は相互に隣接して設けられ、共にガラス管３の
長さ方向に対し、移動可能となつている。さらに排気量
制御部１１は管径測定部６の信号を受け、電磁弁９の開
閉を制御する。 ｃ次に上記した
第２図に示す装置の作用も含めて本発明の作製方法の一
実施例について以下に述べる。まずチャック４で支持さ
れたガラス管３を６０ｒ′Ｐｍ程度の回転数で回転させ
、原料ガス供給部４１からは原料ガスを流さず、接続用
バイブ２を介して０２、Ｎ等の乾燥気体のみを流す。
この状態で酸水素バーナ等の加熱源５によつてガラス管
３を数回走査加熱し、空焼きを行なう。ガラス管３を軟
化点以上に加熱すると、ガラス管３は同心円状に収縮し
、管径はより細くなる。この時の管径を管径測定部６で
測定する。排気量制御部１１にはあらかじめ下限管径が
設定してあり、管径測定部６で測定されたガラス管３の
管径がこの設定値より大きい場合には、電磁弁９は開放
され、管内を流れる気体は抵抗なく排気される。一方、
管径が設定値と比較して小さい場合には排気量制御部１
１から電磁弁９に電源を供給するフことにより電磁弁９
が閉じ、管内の気体の出口はノズル１０のわずかな間隙
のみとなる。
３を数回走査加熱し、空焼きを行なう。ガラス管３を軟
化点以上に加熱すると、ガラス管３は同心円状に収縮し
、管径はより細くなる。この時の管径を管径測定部６で
測定する。排気量制御部１１にはあらかじめ下限管径が
設定してあり、管径測定部６で測定されたガラス管３の
管径がこの設定値より大きい場合には、電磁弁９は開放
され、管内を流れる気体は抵抗なく排気される。一方、
管径が設定値と比較して小さい場合には排気量制御部１
１から電磁弁９に電源を供給するフことにより電磁弁９
が閉じ、管内の気体の出口はノズル１０のわずかな間隙
のみとなる。
原料ガス供給部１からは常１１？０２、Ａｒ等の気体が
供給されているため、管内の圧力は高まり、ガラス管３
の加熱部分は収縮しようとする表面張力に打ちかち７膨
張する。この膨張した管径が設定値と一致するか、ある
いは大きくなると排気量制御部１１の指示によつて電磁
弁９が開放され、管内の圧力は大気圧まで下がる。この
動作を加熱源５の移動と共にガラス管３の長手方向に行
なうことにより、設定値に合うように整形することがで
きる。次いで原料ガス供給部１から５００ｃｃ／分の０
２と共に、１７Ｃ１２００ｃｃ／分のＳｉＣｌ４を流し
、加熱源５によつてこれらを約１６００℃に加熱して酸
化反応を起こさせ、１５μｍ／回のＳｉＯ２薄膜をガラ
ス管３の内壁に堆積させる。
供給されているため、管内の圧力は高まり、ガラス管３
の加熱部分は収縮しようとする表面張力に打ちかち７膨
張する。この膨張した管径が設定値と一致するか、ある
いは大きくなると排気量制御部１１の指示によつて電磁
弁９が開放され、管内の圧力は大気圧まで下がる。この
動作を加熱源５の移動と共にガラス管３の長手方向に行
なうことにより、設定値に合うように整形することがで
きる。次いで原料ガス供給部１から５００ｃｃ／分の０
２と共に、１７Ｃ１２００ｃｃ／分のＳｉＣｌ４を流し
、加熱源５によつてこれらを約１６００℃に加熱して酸
化反応を起こさせ、１５μｍ／回のＳｉＯ２薄膜をガラ
ス管３の内壁に堆積させる。
この場合、加熱源５は例えば１０回往復させ、１５０μ
ｍ（Ｓ７）ＳｉＯ。膜を堆積させる。次にガラス管３の
回転を停止し、５００ｃｃ／分の０２、１７Ｃ１５０ｃ
ｃ／分のＳｉＣｌ４、および２０℃、４０ｃｃ／分のＢ
Ｂｒ３を流し、約１２５０℃に加熱してＳｌＯ２よりも
屈折率の低いＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３の薄膜を堆積させる。
この場合、例えば加熱源５を５回往復させ、約２０ｐｍ
（７）ＳｌＯ２＋Ｂ２Ｏ３薄膜を堆積させる。なお、ガ
ラス管３が回転を停止しているため、ＳｌＯ２＋Ｐｋ２
Ｏ３薄膜はガラス管３の図示下側だけに局所的に堆積さ
れる。次にガラス管３をその軸心を中心に１８０れ回転
して停止させ、上述と同様にＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３膜を堆
積させる。第３図はこの状態におけるガラス管３の断面
を表わしたものである。同図において１２はＳｉＯ２＋
Ｂ２Ｏ３ガラスからなるクラッドを示す。同図に示すよ
うに、ＳｊＯ２＋Ｂ２Ｏ３膜は上下の管壁にのみ堆積さ
れており、左右の管壁はＳｉＯ２よりなつている。なお
、ガラス管３の回転を停止しているために、そのガラス
管３の形状にひずみが生じ真円からずれることがある。
これを改善するため５００ｃｃ／分の０２のみを流し、
ガラス管３を６０ｒｐｍで回転させ、前述のように電磁
弁９の開閉により真円になるように整形する。次にコア
を堆積するため、ガラス管３を回転させたまま５００ｃ
ｃ／分の０２と共に１２℃、２０ｃｃ／分のＳｊＣｌ４
、６゜Ｃ１１０ＣＣ／分のＧｅＣｌ４、および６゜Ｃ１
１０ｃｃ／分のＰＣｌ３を流し、加熱源５により約１２
５０℃に加熱して酸化反応を起こさせ、約２μＴｒｌ．
／回のＳｌＯ２＋ＧｅＯ２＋Ｐ２Ｏ５薄膜を例えば７回
加熱源５を往復させ堆積させる。
ｍ（Ｓ７）ＳｉＯ。膜を堆積させる。次にガラス管３の
回転を停止し、５００ｃｃ／分の０２、１７Ｃ１５０ｃ
ｃ／分のＳｉＣｌ４、および２０℃、４０ｃｃ／分のＢ
Ｂｒ３を流し、約１２５０℃に加熱してＳｌＯ２よりも
屈折率の低いＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３の薄膜を堆積させる。
この場合、例えば加熱源５を５回往復させ、約２０ｐｍ
（７）ＳｌＯ２＋Ｂ２Ｏ３薄膜を堆積させる。なお、ガ
ラス管３が回転を停止しているため、ＳｌＯ２＋Ｐｋ２
Ｏ３薄膜はガラス管３の図示下側だけに局所的に堆積さ
れる。次にガラス管３をその軸心を中心に１８０れ回転
して停止させ、上述と同様にＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３膜を堆
積させる。第３図はこの状態におけるガラス管３の断面
を表わしたものである。同図において１２はＳｉＯ２＋
Ｂ２Ｏ３ガラスからなるクラッドを示す。同図に示すよ
うに、ＳｊＯ２＋Ｂ２Ｏ３膜は上下の管壁にのみ堆積さ
れており、左右の管壁はＳｉＯ２よりなつている。なお
、ガラス管３の回転を停止しているために、そのガラス
管３の形状にひずみが生じ真円からずれることがある。
これを改善するため５００ｃｃ／分の０２のみを流し、
ガラス管３を６０ｒｐｍで回転させ、前述のように電磁
弁９の開閉により真円になるように整形する。次にコア
を堆積するため、ガラス管３を回転させたまま５００ｃ
ｃ／分の０２と共に１２℃、２０ｃｃ／分のＳｊＣｌ４
、６゜Ｃ１１０ＣＣ／分のＧｅＣｌ４、および６゜Ｃ１
１０ｃｃ／分のＰＣｌ３を流し、加熱源５により約１２
５０℃に加熱して酸化反応を起こさせ、約２μＴｒｌ．
／回のＳｌＯ２＋ＧｅＯ２＋Ｐ２Ｏ５薄膜を例えば７回
加熱源５を往復させ堆積させる。
最後に加熱源５をゆつくり移動させ、約１９００℃に加
熱して中実化を行なうと第４図に示すような母材が作製
される。同図において１３はＳｌＯ２＋ＧｅＯ２＋Ｐ２
Ｏ５ガラスからなるコアを示す。この第４図に示す母材
は、第５図Ａ，ｂに示すように、２つの直交方向での屈
折率分布が異なり、非軸対称型の光導波路が作製される
。このようにして例えば、ガラス管３を構成するＳｉＯ
２に対してクラッド１２であるＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３層の
屈折率が約０．３％低下、その厚さが約０．５Ｔｍ！ｎ
またコア１３であるＳｌＯ２＋ＧｅＯ２＋Ｐ２Ｏ，層の
屈折率が約０．３％増加、コア径が約０．７瓢の非軸対
称型の光ファイバ用母材を作製することがてきる。なお
上記実施例ではＢ２Ｏ３、ＧｅＯ２、Ｐ２Ｏ５をドーパ
ントとして使用したが、他のドーパントであるＴｊＯ２
、Ｔａ２Ｃ）．、Ｓｂ２Ｃ）．およびフッ素等を使用す
ることもできる。
熱して中実化を行なうと第４図に示すような母材が作製
される。同図において１３はＳｌＯ２＋ＧｅＯ２＋Ｐ２
Ｏ５ガラスからなるコアを示す。この第４図に示す母材
は、第５図Ａ，ｂに示すように、２つの直交方向での屈
折率分布が異なり、非軸対称型の光導波路が作製される
。このようにして例えば、ガラス管３を構成するＳｉＯ
２に対してクラッド１２であるＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３層の
屈折率が約０．３％低下、その厚さが約０．５Ｔｍ！ｎ
またコア１３であるＳｌＯ２＋ＧｅＯ２＋Ｐ２Ｏ，層の
屈折率が約０．３％増加、コア径が約０．７瓢の非軸対
称型の光ファイバ用母材を作製することがてきる。なお
上記実施例ではＢ２Ｏ３、ＧｅＯ２、Ｐ２Ｏ５をドーパ
ントとして使用したが、他のドーパントであるＴｊＯ２
、Ｔａ２Ｃ）．、Ｓｂ２Ｃ）．およびフッ素等を使用す
ることもできる。
以上説明したように、本発明の光ファイバ用母材の作製
方法にあつては、母材の切断および研磨等の工程を必要
とせず、ＭＣＶＤ法により直接に非軸対称の光ファイバ
用母材の作製が可能となり、それ故、作製作業能率の向
上とともに、低損失化および寸法制御の向上を図ること
ができる効果がある。
方法にあつては、母材の切断および研磨等の工程を必要
とせず、ＭＣＶＤ法により直接に非軸対称の光ファイバ
用母材の作製が可能となり、それ故、作製作業能率の向
上とともに、低損失化および寸法制御の向上を図ること
ができる効果がある。
第１図Ａ，ｂ，ｃは従来の光ファイバ用母材の作製方法
の一例を示す説明図、第２図ないし第５図は本発明の光
ファイバ用母材の作製方法を例示する説明図で、第２図
は本発明の作製方法を実施する装置の一例を示す構成概
略図、第３図は本発．明の作製方法の一工程を例示する
説明図で、ＳｌＯ２＋Ｂ２Ｏ３からなるガラス層を非軸
対称に堆積した後のガラス管の構成を示す断面図、第４
図は本発明の作製方法によつて作製した母材の構成を示
す断面図、第５図Ａ，ｂは第４図に示す母材の直交２方
向の屈折率分布を示すグラフである。 １・・・・・・原料ガス供給部、２・・・・・・接続用
バイブ、３・・・・・・ガラス管、４・・・・・・チャ
ック、５・・・・・・加熱源、６・・・・・・管径測定
部、７・・・・・・回転コネクタ、８・・・トラップ、
９・・・・・・電磁弁、１０・・・・・・ノズル、５１
１・・・・・・排気量制御部、１２・・・・・・クラッ
ド、１３・・コア。
の一例を示す説明図、第２図ないし第５図は本発明の光
ファイバ用母材の作製方法を例示する説明図で、第２図
は本発明の作製方法を実施する装置の一例を示す構成概
略図、第３図は本発．明の作製方法の一工程を例示する
説明図で、ＳｌＯ２＋Ｂ２Ｏ３からなるガラス層を非軸
対称に堆積した後のガラス管の構成を示す断面図、第４
図は本発明の作製方法によつて作製した母材の構成を示
す断面図、第５図Ａ，ｂは第４図に示す母材の直交２方
向の屈折率分布を示すグラフである。 １・・・・・・原料ガス供給部、２・・・・・・接続用
バイブ、３・・・・・・ガラス管、４・・・・・・チャ
ック、５・・・・・・加熱源、６・・・・・・管径測定
部、７・・・・・・回転コネクタ、８・・・トラップ、
９・・・・・・電磁弁、１０・・・・・・ノズル、５１
１・・・・・・排気量制御部、１２・・・・・・クラッ
ド、１３・・コア。
Claims (1)
- １ 所定のガラス管を保持し、回転させて所定の屈折率
を有するガラス層を長さ方向に堆積させて光ファイバ用
母材を作製する光ファイバ用母材の作製方法において、
上記ガラス管の回転を停止し、所定の屈折率を有するガ
ラス層を上記ガラス管内壁の相対向する両側にのみ、長
さ方向に均一に堆積させる工程を含み、かつこのように
ガラス層を堆積してなるガラス管の断面の屈折率分布を
非軸対称とすることを特徴とする光ファイバ用母材の作
製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55103062A JPS6047216B2 (ja) | 1980-07-29 | 1980-07-29 | 光フアイバ用母材の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55103062A JPS6047216B2 (ja) | 1980-07-29 | 1980-07-29 | 光フアイバ用母材の作製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5727936A JPS5727936A (en) | 1982-02-15 |
| JPS6047216B2 true JPS6047216B2 (ja) | 1985-10-21 |
Family
ID=14344178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55103062A Expired JPS6047216B2 (ja) | 1980-07-29 | 1980-07-29 | 光フアイバ用母材の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6047216B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4528009A (en) * | 1983-06-01 | 1985-07-09 | Corning Glass Works | Method of forming optical fiber having laminated core |
| JPH077104B2 (ja) * | 1985-05-24 | 1995-01-30 | 中部電力株式会社 | 放射能汚染物の除染方法 |
| FR2649690B1 (fr) * | 1989-07-11 | 1994-01-28 | Cie Generale D Electricite | Procede de fabrication de preformes pour fibres optiques sans symetrie de revolution |
-
1980
- 1980-07-29 JP JP55103062A patent/JPS6047216B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5727936A (en) | 1982-02-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4478489A (en) | Polarization retaining single-mode optical waveguide | |
| CA1054795A (en) | Optical fibres | |
| JP2515728B2 (ja) | 光ファイバ−のロッド母材及びファイバの製造方法 | |
| KR830001001B1 (ko) | 광학 도파관 블랭크의 연속 형성방법 | |
| JPH0514242B2 (ja) | ||
| JPS6090846A (ja) | 光フアイバプレフオ−ムの高デポジシヨン速度での製造方法と装置 | |
| JPH0581543B2 (ja) | ||
| US4682994A (en) | Process and apparatus for forming optical fiber preform | |
| JPS6047216B2 (ja) | 光フアイバ用母材の作製方法 | |
| JP4359183B2 (ja) | 光ファイバ・プリフォームの楕円度修正方法 | |
| KR100426394B1 (ko) | 외부증착공법을 이용한 대형 프리폼 제조시에 증착입자를제어하는 방법 및 장치 | |
| US4140505A (en) | Method of manufacturing a limited mode optical fiber | |
| JP3032764B2 (ja) | 化学気相蒸着による光ファイバ母材の製造装置及び方法 | |
| CN112596151B (zh) | 一种掺铒保偏有源光纤及其制备方法 | |
| KR20040025087A (ko) | 수정화학기상증착법에 있어서 이중토치를 이용한 광섬유모재의 제조 방법 및 장치 | |
| JPH0316930A (ja) | 複雑屈折率分布を有する光ファイバの製造方法 | |
| CN108046610A (zh) | 一种低软化温度熔接光纤及其制备方法 | |
| JPH0867524A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JPS636842B2 (ja) | ||
| JPH04243931A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JPS58135141A (ja) | 単一偏波光フアイバの製造方法 | |
| JPH0525817B2 (ja) | ||
| JPS591222B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
| JPH0475174B2 (ja) | ||
| JPH01188441A (ja) | 高屈折率差微小コア母材の作製方法 |