JPH0475174B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0475174B2 JPH0475174B2 JP60294782A JP29478285A JPH0475174B2 JP H0475174 B2 JPH0475174 B2 JP H0475174B2 JP 60294782 A JP60294782 A JP 60294782A JP 29478285 A JP29478285 A JP 29478285A JP H0475174 B2 JPH0475174 B2 JP H0475174B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core
- core layer
- preform
- quartz tube
- elliptical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000012792 core layer Substances 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 19
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 11
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 7
- 238000009987 spinning Methods 0.000 claims description 4
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 17
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 6
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N phosphinic chloride Chemical compound ClP=O RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/105—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type having optical polarisation effects
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01861—Means for changing or stabilising the diameter or form of tubes or rods
- C03B37/01869—Collapsing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/30—Polarisation maintaining [PM], i.e. birefringent products, e.g. with elliptical core, by use of stress rods, "PANDA" type fibres
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、楕円コア定偏波光フアイバの製造
方法に関し、特にコアを楕円にする方法に関す
る。
方法に関し、特にコアを楕円にする方法に関す
る。
従来の技術
従来において、楕円コア定偏波光フアイバの製
造方法として次の２つの方法が知られている。第
１の方法は、第２図に示すようにMCVD法によ
り石英管２１の内壁面にクラツド層２２およびコ
ア層２３を内付けし（同図Ａ，Ｂ）、コラプスを
行なう際に石英管２１の内側の圧力を大気圧より
も低い圧力にして強制的に偏平にコラプスするこ
とにより、第２図ＣのようにコアとなるSiO2−
GeO2層２３を楕円化するというものである。
造方法として次の２つの方法が知られている。第
１の方法は、第２図に示すようにMCVD法によ
り石英管２１の内壁面にクラツド層２２およびコ
ア層２３を内付けし（同図Ａ，Ｂ）、コラプスを
行なう際に石英管２１の内側の圧力を大気圧より
も低い圧力にして強制的に偏平にコラプスするこ
とにより、第２図ＣのようにコアとなるSiO2−
GeO2層２３を楕円化するというものである。
第２の方法では、第３図のように、まず、
MCVD法により石英管３１内にクラツド層３２
およびコア層３３を内付け（同図Ａ，Ｂ）した
後、通常通りコラプスを行なつて円形のコア層３
３を持つプリフオームを作製する（同図Ｃ）。次
にこのプリフオームの外周を研摩して外形が楕円
形となるようにする（同図Ｄ）。そして、この外
形が楕円形となつてプリフオームを酸水素火炎な
どで高温に加熱し、ガラスの表面張力を利用して
外形を再び円形に整形する（同図Ｅ）。すると内
部のSiO2より軟らかいGeO2をドープしたコア層
３３が変形して楕円形のコア層３３が得られる。
MCVD法により石英管３１内にクラツド層３２
およびコア層３３を内付け（同図Ａ，Ｂ）した
後、通常通りコラプスを行なつて円形のコア層３
３を持つプリフオームを作製する（同図Ｃ）。次
にこのプリフオームの外周を研摩して外形が楕円
形となるようにする（同図Ｄ）。そして、この外
形が楕円形となつてプリフオームを酸水素火炎な
どで高温に加熱し、ガラスの表面張力を利用して
外形を再び円形に整形する（同図Ｅ）。すると内
部のSiO2より軟らかいGeO2をドープしたコア層
３３が変形して楕円形のコア層３３が得られる。
これらの方法で作製した楕円形のコア層を有す
るプリフオームを線引きすることにより楕円コア
定偏波光フアイバが得られる。
るプリフオームを線引きすることにより楕円コア
定偏波光フアイバが得られる。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、上記の第１の方法では、石英管
の内圧を負圧にし、この圧力を調整することのよ
つてコアの楕円率を制御することになるため、制
御性が悪く、再現性に欠けるという欠点がある。
の内圧を負圧にし、この圧力を調整することのよ
つてコアの楕円率を制御することになるため、制
御性が悪く、再現性に欠けるという欠点がある。
また、第２の方法では、研摩工程が加わるので
作製するのに時間がかかり、プリフオームロツド
のねじれが生じ易く、長尺のプリフオームを作り
にくいという難点がある。
作製するのに時間がかかり、プリフオームロツド
のねじれが生じ易く、長尺のプリフオームを作り
にくいという難点がある。
この発明は、楕円率の制御性が良好で、再現性
高く、しかも長尺のプリフオームを作ることが容
易で、新たな工程の追加による負担が少なく時間
もかからない、楕円コア定偏波光フアイバの製造
方法を提供することを目的とする。
高く、しかも長尺のプリフオームを作ることが容
易で、新たな工程の追加による負担が少なく時間
もかからない、楕円コア定偏波光フアイバの製造
方法を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
この発明による楕円コア定偏波光フアイバの製
造方法は、MCVD法により石英管の内壁にコア
層を内付けする工程と、この内付けされたコア層
の周方向特定部分のみを気相エツチングする工程
と、該特定部分のみがエツチングされたコア層を
有する石英管をコラプスしてプリフオームを得る
工程と、該プリフオームを線引きして紡糸する工
程とからなる。
造方法は、MCVD法により石英管の内壁にコア
層を内付けする工程と、この内付けされたコア層
の周方向特定部分のみを気相エツチングする工程
と、該特定部分のみがエツチングされたコア層を
有する石英管をコラプスしてプリフオームを得る
工程と、該プリフオームを線引きして紡糸する工
程とからなる。
作 用
周方向の特定部分のみがエツチングされたコア
層を有する石英管をコラプスすると、コア層は周
方向に均一な厚さとなつていないため、コラプス
された後のコア層は楕円形となる。
層を有する石英管をコラプスすると、コア層は周
方向に均一な厚さとなつていないため、コラプス
された後のコア層は楕円形となる。
実施例
この発明によれば基本的にはMCVD法により
楕円コア定偏波光フアイバが作製される。まず、
出発石英管として外径20mm、厚さ1.7mmのものを
用い、その内側の汚れを取るために内側にO2を
流しながら酸水素の炎で加熱して空焼きを行な
う。このときの条件はたとえば水素流量40リツト
ル／分、O2流量20リツトル／分、トラバース速
度78mm／分、温度1650℃とすることができる。つ
ぎに、この石英管の内周面にバリア層として
SiO2層を付ける。原料ガスとしてSiCl4を、反応
ガスとしてO2を、それぞれ流し、酸水素バーナ
で加熱して反応させSiO2のスートを管の内壁に
堆積させガラス化させる。このときの条件は、た
とえばSiCl4流量560mg／分、O2流量1.5リツト
ル／分、バーナ温度1800℃、移動速度78mm／分、
石英管の回転速度50回／分、堆積回数３回とした
ところ、できた層の厚さは13μmとなつた。
楕円コア定偏波光フアイバが作製される。まず、
出発石英管として外径20mm、厚さ1.7mmのものを
用い、その内側の汚れを取るために内側にO2を
流しながら酸水素の炎で加熱して空焼きを行な
う。このときの条件はたとえば水素流量40リツト
ル／分、O2流量20リツトル／分、トラバース速
度78mm／分、温度1650℃とすることができる。つ
ぎに、この石英管の内周面にバリア層として
SiO2層を付ける。原料ガスとしてSiCl4を、反応
ガスとしてO2を、それぞれ流し、酸水素バーナ
で加熱して反応させSiO2のスートを管の内壁に
堆積させガラス化させる。このときの条件は、た
とえばSiCl4流量560mg／分、O2流量1.5リツト
ル／分、バーナ温度1800℃、移動速度78mm／分、
石英管の回転速度50回／分、堆積回数３回とした
ところ、できた層の厚さは13μmとなつた。
このような石英管１１に、第１図Ａに示すよう
にクラツド層１２を内付けする。このクラツド層
１２は光フアイバを低損失にするためのもので、
SiO2層がSiO2−Ｆ−P2O5層とする。SiO2−Ｆ−
P2O5層の場合は屈折率がSiO2と同じか若干低く
なるようにする。この実施例では、原料ガスとし
てSF6を用い、P2O5の原料ガスとしてPOCl3を使
用し、たとえばSiCl4流量560mg／分、O2流量1.6
リツトル／分、バーナ温度1730℃、移動速度133
mm／分、石英管１１の回転速度50回／分、堆積回
数80回、SF6流量0.5c.c.／分、POCl3流量１c.c.／分
の条件とし、SiO2−Ｆ−P2O5層よりなる厚さ0.8
mmのクラツド層１２を形成した。
にクラツド層１２を内付けする。このクラツド層
１２は光フアイバを低損失にするためのもので、
SiO2層がSiO2−Ｆ−P2O5層とする。SiO2−Ｆ−
P2O5層の場合は屈折率がSiO2と同じか若干低く
なるようにする。この実施例では、原料ガスとし
てSF6を用い、P2O5の原料ガスとしてPOCl3を使
用し、たとえばSiCl4流量560mg／分、O2流量1.6
リツトル／分、バーナ温度1730℃、移動速度133
mm／分、石英管１１の回転速度50回／分、堆積回
数80回、SF6流量0.5c.c.／分、POCl3流量１c.c.／分
の条件とし、SiO2−Ｆ−P2O5層よりなる厚さ0.8
mmのクラツド層１２を形成した。
つぎに第１図Ｂのようにクラツド層１２の内側
にSiO2−GeO2層からなるコア層１３を内付けす
る。条件として、SiCl4流量240mg／分、GeCl4流
量65mg／分、バーナ温度1730℃、移動速度105
mm／分、石英管１１の回転速度50回／分、堆積回
数10回の条件で、厚さ0.077mmのSiO2−GeO2層１
３を得た。
にSiO2−GeO2層からなるコア層１３を内付けす
る。条件として、SiCl4流量240mg／分、GeCl4流
量65mg／分、バーナ温度1730℃、移動速度105
mm／分、石英管１１の回転速度50回／分、堆積回
数10回の条件で、厚さ0.077mmのSiO2−GeO2層１
３を得た。
その後、第１図Ｃのように、石英管１１の回転
を止め、石英管１１の周方向両側（図の左右）か
らバーナ１４，１５で加熱することにより、石英
管１１の中心軸に対称な位置に２つのヒートゾー
ンをつくり、バーナを軸に沿つて移動させてこの
ヒートゾーンを軸方向に移動させ、同時に石英管
１１内にSF6ガスを流す。こうして気相エツチン
グを行ない、第１図Ｃに示すように周方向の２箇
所においてコア層１３を選択的に取り除く。具体
的には、SF6流量５c.c.／分、バーナ移動速度105
mm／分、バーナ温度1850℃、エツチング回数10回
とした。
を止め、石英管１１の周方向両側（図の左右）か
らバーナ１４，１５で加熱することにより、石英
管１１の中心軸に対称な位置に２つのヒートゾー
ンをつくり、バーナを軸に沿つて移動させてこの
ヒートゾーンを軸方向に移動させ、同時に石英管
１１内にSF6ガスを流す。こうして気相エツチン
グを行ない、第１図Ｃに示すように周方向の２箇
所においてコア層１３を選択的に取り除く。具体
的には、SF6流量５c.c.／分、バーナ移動速度105
mm／分、バーナ温度1850℃、エツチング回数10回
とした。
このようなMCVD法により各層が堆積された
第１図Ｃの石英管１１を、最後にコラプスして中
実化する。すると、コア層１３は周方向に均一な
厚さとなつていないため、コラプスされた後のコ
ア層１３は第１図Ｄのように楕円形となる。こう
して楕円形のコア層１３が軸方向に伸びているプ
リフオームが得られる。このプリフオームを紡糸
装置にかけて線引き紡糸すれば楕円コア定偏波光
フアイバが作製される。
第１図Ｃの石英管１１を、最後にコラプスして中
実化する。すると、コア層１３は周方向に均一な
厚さとなつていないため、コラプスされた後のコ
ア層１３は第１図Ｄのように楕円形となる。こう
して楕円形のコア層１３が軸方向に伸びているプ
リフオームが得られる。このプリフオームを紡糸
装置にかけて線引き紡糸すれば楕円コア定偏波光
フアイバが作製される。
この場合、できあがつた楕円コア定偏波光フア
イバにおけるコア径およびコアの楕円率はコア層
１３の厚さとその周方向の除去した量により決ま
るため、コア層１３を内付けする際の堆積回数お
よびその一部を取り除くためのエツチング回数に
よりコアの径および楕円率を制御することは容易
である。
イバにおけるコア径およびコアの楕円率はコア層
１３の厚さとその周方向の除去した量により決ま
るため、コア層１３を内付けする際の堆積回数お
よびその一部を取り除くためのエツチング回数に
よりコアの径および楕円率を制御することは容易
である。
発明の効果
この発明の製造方法によれば、通常のMCVD
法による単一モード光フアイバを作製する工程中
に単に気相エツチングを行なう工程を入れるだけ
でよいので、製造工程の追加が少なく簡単でしか
も一連の製造工程で作製でき、時間もかからな
い。また、コア径およびコアの楕円率は、簡単
に、しかも精度高く制御でき、再現性も良好であ
る。
法による単一モード光フアイバを作製する工程中
に単に気相エツチングを行なう工程を入れるだけ
でよいので、製造工程の追加が少なく簡単でしか
も一連の製造工程で作製でき、時間もかからな
い。また、コア径およびコアの楕円率は、簡単
に、しかも精度高く制御でき、再現性も良好であ
る。
第１図Ａ〜Ｄはこの発明の一実施例の製造方法
における各工程での断面図、第２図Ａ〜Ｃおよび
第３図Ａ〜Ｅは従来の製造方法をそれぞれ示すた
めの各工程での断面図である。 １１，２１，３１…出発石英管、１２，２２，
３２…クラツド層、１３，２３，３３…コア層、
１４，１５…バーナ。
における各工程での断面図、第２図Ａ〜Ｃおよび
第３図Ａ〜Ｅは従来の製造方法をそれぞれ示すた
めの各工程での断面図である。 １１，２１，３１…出発石英管、１２，２２，
３２…クラツド層、１３，２３，３３…コア層、
１４，１５…バーナ。
Claims (1)
- １ MCVD法により石英管の内壁にコア層を内
付けする工程と、この内付けされたコア層の周方
向特定部分のみを気相エツチングする工程と、該
特定部分のみがエツチングされたコア層を有する
石英管をコラプスしてプリフオームを得る工程
と、該プリフオームを線引きして紡糸する工程と
からなる楕円コア定偏波光フアイバの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60294782A JPS62153136A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 楕円コア定偏波光フアイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60294782A JPS62153136A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 楕円コア定偏波光フアイバの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62153136A JPS62153136A (ja) | 1987-07-08 |
| JPH0475174B2 true JPH0475174B2 (ja) | 1992-11-30 |
Family
ID=17812211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60294782A Granted JPS62153136A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 楕円コア定偏波光フアイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62153136A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2725712B1 (fr) * | 1994-10-18 | 1996-12-13 | Alcatel Fibres Optiques | Procede d'amelioration geometrique d'un tube pour realisation de preforme |
| US6587624B2 (en) * | 1996-06-17 | 2003-07-01 | Corning Incorporated | Polarization retaining fiber |
| KR100333897B1 (ko) * | 1998-06-24 | 2002-07-31 | 광주과학기술원 | 스트레스이완된장주기광섬유격자 |
-
1985
- 1985-12-25 JP JP60294782A patent/JPS62153136A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62153136A (ja) | 1987-07-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1338067C (en) | Forming optical fiber having abrupt index change | |
| US4599098A (en) | Optical fiber and method of producing same | |
| EP0198510B1 (en) | Method of producing glass preform for optical fiber | |
| JP5249954B2 (ja) | 圧密中の光ファイバケーン／プレフォーム変形の削減 | |
| JPH0753591B2 (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
| JPS591221B2 (ja) | 光伝送繊維用棒状母材の製造方法 | |
| JPH0475174B2 (ja) | ||
| US20040123630A1 (en) | Preform fabrication process | |
| CN113716861A (zh) | 一种采用外气相沉积法制备弯曲不敏感光纤的方法 | |
| JP3823341B2 (ja) | 光ファイバ母材、光ファイバ及びこれらの製造方法 | |
| US6928841B2 (en) | Optical fiber preform manufacture using improved VAD | |
| JPH06235838A (ja) | 偏波面保存光ファイバの製法 | |
| JPH04231336A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| EP0276311B1 (en) | Method for manufacturing basic material for optical fiber | |
| JPH085685B2 (ja) | 分散シフト光ファイバ用母材の製造方法 | |
| JPH0460930B2 (ja) | ||
| JPH0316930A (ja) | 複雑屈折率分布を有する光ファイバの製造方法 | |
| JPH0327491B2 (ja) | ||
| JPH0742131B2 (ja) | 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 | |
| JPS591222B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
| WO2002008133A2 (en) | Process of manufacturing glass optical fibre preforms | |
| JPS595532B2 (ja) | 光伝送用ガラスファイバの製造方法 | |
| JPS59141436A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| CN116081939A (zh) | 一种椭圆芯保偏光纤的制备方法 | |
| JPS6054939A (ja) | シングルモ−ドファイバ用プリフォ−ムロッドの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |