JPS60151241A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
- Publication number
- JPS60151241A JPS60151241A JP610084A JP610084A JPS60151241A JP S60151241 A JPS60151241 A JP S60151241A JP 610084 A JP610084 A JP 610084A JP 610084 A JP610084 A JP 610084A JP S60151241 A JPS60151241 A JP S60151241A
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- JP
- Japan
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- glass
- rod
- distance
- torch
- target rod
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
- C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
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- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の背景と目的〕
本発明は、高周波プラズマトーチにより酸素プラズマ炎
を発生させ該プラズマ炎によシガラス形成用の原料を供
給し加熱酸化反応によりターゲツト棒外周面に直接ガラ
ス合成を行なう光フアイバ母材の製造方法に関するもの
である。
を発生させ該プラズマ炎によシガラス形成用の原料を供
給し加熱酸化反応によりターゲツト棒外周面に直接ガラ
ス合成を行なう光フアイバ母材の製造方法に関するもの
である。
一般に、光フアイバ母材の製造は、ＭＣＶＤ（化学気相
沈積）法、ＶＡＤ （気相軸付）法によって行われてい
る。そして、これらの方法の熱源は主に酸水素バーナが
用いられている。
沈積）法、ＶＡＤ （気相軸付）法によって行われてい
る。そして、これらの方法の熱源は主に酸水素バーナが
用いられている。
一方、プラズマ炎を用いる場合、プラズマの高温を利用
して直接ガラス形成が可能である。そして、プラズマ炎
は中心では約２０，０００℃であるが距離により温度は
急激に低下する。従って、プラズマ中心とターゲットと
の距離により、ターゲット上に形成される合成ガラスは
、不透明体か、または透明ガラス化温度領域内でも一定
の距離を保たなければ、形成されるガラスの屈折率は変
化し、長手方向の均一性が悪く、低損失な光フアイバ母
材の製造はできない。
して直接ガラス形成が可能である。そして、プラズマ炎
は中心では約２０，０００℃であるが距離により温度は
急激に低下する。従って、プラズマ中心とターゲットと
の距離により、ターゲット上に形成される合成ガラスは
、不透明体か、または透明ガラス化温度領域内でも一定
の距離を保たなければ、形成されるガラスの屈折率は変
化し、長手方向の均一性が悪く、低損失な光フアイバ母
材の製造はできない。
本発明は上記の状況に鑑みなされたものであり、長手方
向に低損失なガラス膜を均一に形成できる光フアイバ母
材の製造方法を提供することを目的としたものである。
向に低損失なガラス膜を均一に形成できる光フアイバ母
材の製造方法を提供することを目的としたものである。
本発明の光フアイバ母材の製造方法は、高周波プラズマ
ト−チにより酸素プラズマ炎を発生させ該プラズマ炎に
ガラス形成用の屑料を供給ｌ〜加熱酸化反応によりガラ
ス旋盤に支持されるターゲツト棒外周面に直接ガラス合
成を行なう場合に、上記高周波プラズマトーチに対する
上記ターゲツト棒外周もしくは該ターゲツト棒外周上に
形成されたガラス膜表面との距離を常時、２０〜６０ｒ
ｔａｎに保持し上記ガラス膜形成を行なう方法である。
ト−チにより酸素プラズマ炎を発生させ該プラズマ炎に
ガラス形成用の屑料を供給ｌ〜加熱酸化反応によりガラ
ス旋盤に支持されるターゲツト棒外周面に直接ガラス合
成を行なう場合に、上記高周波プラズマトーチに対する
上記ターゲツト棒外周もしくは該ターゲツト棒外周上に
形成されたガラス膜表面との距離を常時、２０〜６０ｒ
ｔａｎに保持し上記ガラス膜形成を行なう方法である。
［実施例］
以下本発明の光ファイバ母４Ｎの製造方法を実施例を用
い第１図により説明する。図において、１は高周波プラ
ズマトーチ、２は反応ガス導入管、６はＮ２のガスが供
給されるガスンールギャノプ、４はチャンバである。５
はガラス旋盤でターゲット棒６の両端をそれぞれへ、ノ
ド移動用モータ１８に駆動される移動ヘッド１７に支承
され、ベッド９上を軸方向に駆動装置（図示せず）によ
って駆動されるようになっており、８はベッド９上に取
り付けられたストッパーである。７はガラス膜、１０は
バノノアタンク、１１は排気官、１２は熱交換器、１６
はスクラバー、１４は排気ファン、１５はバルブ、１６
はガス圧力計である。
い第１図により説明する。図において、１は高周波プラ
ズマトーチ、２は反応ガス導入管、６はＮ２のガスが供
給されるガスンールギャノプ、４はチャンバである。５
はガラス旋盤でターゲット棒６の両端をそれぞれへ、ノ
ド移動用モータ１８に駆動される移動ヘッド１７に支承
され、ベッド９上を軸方向に駆動装置（図示せず）によ
って駆動されるようになっており、８はベッド９上に取
り付けられたストッパーである。７はガラス膜、１０は
バノノアタンク、１１は排気官、１２は熱交換器、１６
はスクラバー、１４は排気ファン、１５はバルブ、１６
はガス圧力計である。
そ（７て、高周波プラズマトーチ１に矢印の如く酸素が
送り込まれて酸素プラズマ炎が発生され、反応カス導入
管２からＳ ｉ Ｃｔ４２０００ ｍｇ／ｍ”ＣＦ２Ｃ
ｌ２ガス３５０ｃｃ／ｌ１ｌｆｆを酸素ガスキャリアに
してプラズマ炎の下方で反応チャンバ４内に送り込み反
応させ１０ｍ＋ｎ＄の石英ガラス棒のターゲツト棒６に
、ＦドープＳｉ０２系ガラス膜７を堆積させる。ターゲ
ツト棒６はガラス旋盤５によって一定の回転数に回転、
駆動されるようになっており、ガラス旋盤５はベッド９
−ヒを矢印の軸方向に駆動されてターゲット棒６の外周
及び長手方向にガラス膜７が形成されるようになってい
る。
送り込まれて酸素プラズマ炎が発生され、反応カス導入
管２からＳ ｉ Ｃｔ４２０００ ｍｇ／ｍ”ＣＦ２Ｃ
ｌ２ガス３５０ｃｃ／ｌ１ｌｆｆを酸素ガスキャリアに
してプラズマ炎の下方で反応チャンバ４内に送り込み反
応させ１０ｍ＋ｎ＄の石英ガラス棒のターゲツト棒６に
、ＦドープＳｉ０２系ガラス膜７を堆積させる。ターゲ
ツト棒６はガラス旋盤５によって一定の回転数に回転、
駆動されるようになっており、ガラス旋盤５はベッド９
−ヒを矢印の軸方向に駆動されてターゲット棒６の外周
及び長手方向にガラス膜７が形成されるようになってい
る。
そして、未反応ガス及び排気ガスは、反応チャンバ４、
ｌｉ気肯１１ 、バッファタンク１０．熱交換器１２及
びスクラバー１６を通り排気され、内圧はプラズマ炎を
安定させるために■要である。
ｌｉ気肯１１ 、バッファタンク１０．熱交換器１２及
びスクラバー１６を通り排気され、内圧はプラズマ炎を
安定させるために■要である。
プラズマ炎の中心温度は約２０，０００”Ｃであるが、
距離が離れることによって急激に温度は低下するため、
ターゲツト棒６とプラズマトーチ１間の距離によっては
透明ガラス膜の形成が離しい。
距離が離れることによって急激に温度は低下するため、
ターゲツト棒６とプラズマトーチ１間の距離によっては
透明ガラス膜の形成が離しい。
第２図（イ）は高周波プラズマトーチ１とターゲラ］・
棒６との距離（ｘ ｒｕｎ ）関係の説明図である。（
ｏ）はその距離を横軸にとり縦軸にターゲツト棒６の温
度をとって示した温度曲線説明図であり、温度は赤外線
温度計で測定した。上記のガス組成で透明ガラス膜を形
成できる範囲は、距離χが２０〜６０胴の間であった。
棒６との距離（ｘ ｒｕｎ ）関係の説明図である。（
ｏ）はその距離を横軸にとり縦軸にターゲツト棒６の温
度をとって示した温度曲線説明図であり、温度は赤外線
温度計で測定した。上記のガス組成で透明ガラス膜を形
成できる範囲は、距離χが２０〜６０胴の間であった。
ｚ ＝ ３０ ｉ訓以上では不透明ガラスになり、また
、Ｚ ＝ ’ｌ Ｑ ｗ以下では尚温なため、ガラス組
成と同時にガラスの蒸発も起こり、ガラス膜はほとんど
形成されない。
、Ｚ ＝ ’ｌ Ｑ ｗ以下では尚温なため、ガラス組
成と同時にガラスの蒸発も起こり、ガラス膜はほとんど
形成されない。
このため、冒周波プラズマトーチ１とターゲツト棒６と
の間の距離を一定に制御する心安がある。
の間の距離を一定に制御する心安がある。
従って、まず、簡周波プラズマトーチ１とターゲツト棒
６との間の距離を２５１訓に設定し、ターゲツト棒６の
外径をモニター装置（図示せず〕を介しモニターし、ガ
ラス膜７の成長と同時に、モニター装置と運動するガラ
ス旋盤５の移動ヘッド１７が下がり一定距離が保たれる
ようにした。
６との間の距離を２５１訓に設定し、ターゲツト棒６の
外径をモニター装置（図示せず〕を介しモニターし、ガ
ラス膜７の成長と同時に、モニター装置と運動するガラ
ス旋盤５の移動ヘッド１７が下がり一定距離が保たれる
ようにした。
この方法では、ｘ＝２０〜５Ｑ＋＋＋ｍの範囲でもガラ
ス形成の場合、反応温度の依存性があり、均一な屈折率
を有するガラス膜を形成する場合でも有効である。
ス形成の場合、反応温度の依存性があり、均一な屈折率
を有するガラス膜を形成する場合でも有効である。
以上の方法で直径１０叫の石英ガラス棒のターゲット棒
６に厚さ２胴のＦドープ−８ｉｎ ２系ガラス膜が形成
された。ガラス膜の比屈折率差△ｎは干渉法で測定し、
長手方向の屈折率駆動は、△ｎ±０．０１チの範囲であ
った。
６に厚さ２胴のＦドープ−８ｉｎ ２系ガラス膜が形成
された。ガラス膜の比屈折率差△ｎは干渉法で測定し、
長手方向の屈折率駆動は、△ｎ±０．０１チの範囲であ
った。
このように本発明の光フアイバ母材の製造方法は高周波
プラズマトーチと、ターゲット棒外周もしくはターゲツ
ト棒外周に形成されたガラス膜表面との距離を、常時２
０〜３０ｍ＋ｎに保持しガラス膜を形成することにより
長手方向の屈折率の変動が少なく低損失の光フアイバ母
材を均一に製造できる。
プラズマトーチと、ターゲット棒外周もしくはターゲツ
ト棒外周に形成されたガラス膜表面との距離を、常時２
０〜３０ｍ＋ｎに保持しガラス膜を形成することにより
長手方向の屈折率の変動が少なく低損失の光フアイバ母
材を均一に製造できる。
以上記述した如く本発明の光フアイバ母材の製造方法に
よれば、長手方向に低損失なガラス膜を均一に形成でき
る効果を有するものである。
よれば、長手方向に低損失なガラス膜を均一に形成でき
る効果を有するものである。
第１図は本発明の光フアイバ母材の製造方法を実施する
装置の説明図、第２図（イ）は第１図の高周波プラズマ
ト−ヂとターゲツト棒との距離関係の説明図、（ロ）は
（イ）の高周波ブジズマトーチ及びターゲット間距離と
ターゲット温度との関係曲線図である。 １；高周波プラズマト−チ、 ２；反応ガス導入管、５；ガラス旋盤、６；ターゲット
棒、Ｘ；距離。 鶏 １ 日 靴 ２図 （イ） （ロ） ０ １（＋ ２０ ３０ ４０ ｓＯ
装置の説明図、第２図（イ）は第１図の高周波プラズマ
ト−ヂとターゲツト棒との距離関係の説明図、（ロ）は
（イ）の高周波ブジズマトーチ及びターゲット間距離と
ターゲット温度との関係曲線図である。 １；高周波プラズマト−チ、 ２；反応ガス導入管、５；ガラス旋盤、６；ターゲット
棒、Ｘ；距離。 鶏 １ 日 靴 ２図 （イ） （ロ） ０ １（＋ ２０ ３０ ４０ ｓＯ
Claims (1)
- （１）高周波プラズマトーチにより酸素プラズマ炎を発
生させ該プラズマ炎にガラス形成用の原料を供給し、加
熱酸化反応によりガラス旋盤に支持されるターゲツト棒
外周面に直接ガラス合成を行なう方法において、」二記
高周波プラズマトーチに対する上記ターゲツト棒外周も
しくは該ターゲット棒外周上に形成されたガラス膜表面
との距離を常時、２０〜５０ｎａに保持し、上記ガラス
膜形成を行なうことを特徴とする光フアイバ母材の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP610084A JPS60151241A (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP610084A JPS60151241A (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60151241A true JPS60151241A (ja) | 1985-08-09 |
Family
ID=11629082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP610084A Pending JPS60151241A (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60151241A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE29823926U1 (de) | 1997-12-19 | 2000-01-13 | Fibercore, Inc., Charlton, Mass. | Lichtwellenleiterglashalbzeug und Vorrichtung zur Herstellung eines rohrförmigen Gliedes zur Lichtwellenleiterproduktion |
| GB2351287A (en) * | 1997-12-19 | 2000-12-27 | Fibercore Inc | Making optical fibre preforms using plasma outside vapour deposition |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56104738A (en) * | 1980-01-22 | 1981-08-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of glass preform for light-piping |
| JPS5738334A (en) * | 1980-08-06 | 1982-03-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Controlling method for deposition of oxide powder in vapor axial deposition method |
| JPS57100930A (en) * | 1980-12-12 | 1982-06-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of base material for optical fiber |
-
1984
- 1984-01-17 JP JP610084A patent/JPS60151241A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56104738A (en) * | 1980-01-22 | 1981-08-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of glass preform for light-piping |
| JPS5738334A (en) * | 1980-08-06 | 1982-03-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Controlling method for deposition of oxide powder in vapor axial deposition method |
| JPS57100930A (en) * | 1980-12-12 | 1982-06-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of base material for optical fiber |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE29823926U1 (de) | 1997-12-19 | 2000-01-13 | Fibercore, Inc., Charlton, Mass. | Lichtwellenleiterglashalbzeug und Vorrichtung zur Herstellung eines rohrförmigen Gliedes zur Lichtwellenleiterproduktion |
| GB2351287A (en) * | 1997-12-19 | 2000-12-27 | Fibercore Inc | Making optical fibre preforms using plasma outside vapour deposition |
| GB2351287B (en) * | 1997-12-19 | 2002-02-27 | Fibercore Inc | Method of making a tubular member for optical fiber production using plasma outside vapor deposition |
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