JPH04240126A - 石英系多孔質ガラス層の形成装置 - Google Patents
石英系多孔質ガラス層の形成装置Info
- Publication number
- JPH04240126A JPH04240126A JP1841991A JP1841991A JPH04240126A JP H04240126 A JPH04240126 A JP H04240126A JP 1841991 A JP1841991 A JP 1841991A JP 1841991 A JP1841991 A JP 1841991A JP H04240126 A JPH04240126 A JP H04240126A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass layer
- porous glass
- rotating body
- burner
- quartz base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 title claims abstract description 40
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 33
- 239000010453 quartz Substances 0.000 title claims abstract description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 35
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 208000005156 Dehydration Diseases 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 2
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/0148—Means for heating preforms during or immediately prior to deposition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＯＶＤ法を介して回転体
の外周面に石英系の多孔質ガラス層を形成するための装
置に関する。
の外周面に石英系の多孔質ガラス層を形成するための装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバ用、イメージファイバ用、ラ
イトガイド用、ロッドレンズ用の各母材を作製する際の
一手段として、ＯＶＤ法が広く採用されている。周知の
とおり、ＯＶＤ法は、ガラス微粒子生成用のバーナを介
して生成した石英系のガラス微粒子を基体となる回転体
の外周面に噴射かつ堆積させて、その回転体の外周面に
多孔質ガラス層を形成する。その後、多孔質ガラス層に
脱泡、脱水、透明ガラス化の各処理を施し、これを透明
な合成石英とする。
イトガイド用、ロッドレンズ用の各母材を作製する際の
一手段として、ＯＶＤ法が広く採用されている。周知の
とおり、ＯＶＤ法は、ガラス微粒子生成用のバーナを介
して生成した石英系のガラス微粒子を基体となる回転体
の外周面に噴射かつ堆積させて、その回転体の外周面に
多孔質ガラス層を形成する。その後、多孔質ガラス層に
脱泡、脱水、透明ガラス化の各処理を施し、これを透明
な合成石英とする。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】一般的なＯＶＤ法にお
いて、回転体の外周面にガラス微粒子を堆積成長させて
多孔質ガラス層を形成するとき、ガラス微粒子生成用バ
ーナの燃焼条件、回転体の軸線方向に沿うこれら回転体
、バーナ相互の相対移動速度など、これらが変動した際
の影響を受けて多孔質ガラス層の長さ方向にわたる表面
温度にバラツキが生じるので、多孔質ガラス層に密度差
が発生する。かかる密度差は、多孔質ガラス層における
表層部の崩落とか、クラックを発生させる原因になり、
ファイバ段階でのＯＨ基による伝送ロス増の原因にもな
るので、良好な母材を作製する際の歩留りが低下する。
いて、回転体の外周面にガラス微粒子を堆積成長させて
多孔質ガラス層を形成するとき、ガラス微粒子生成用バ
ーナの燃焼条件、回転体の軸線方向に沿うこれら回転体
、バーナ相互の相対移動速度など、これらが変動した際
の影響を受けて多孔質ガラス層の長さ方向にわたる表面
温度にバラツキが生じるので、多孔質ガラス層に密度差
が発生する。かかる密度差は、多孔質ガラス層における
表層部の崩落とか、クラックを発生させる原因になり、
ファイバ段階でのＯＨ基による伝送ロス増の原因にもな
るので、良好な母材を作製する際の歩留りが低下する。
【０００４】本発明はこのような技術的課題に鑑み、石
英系の各種母材を得る際の良品の歩留りを向上させるこ
とのできる石英系多孔質ガラス層の形成装置を提供しよ
うとするものである。
英系の各種母材を得る際の良品の歩留りを向上させるこ
とのできる石英系多孔質ガラス層の形成装置を提供しよ
うとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は所期の目的を達
成するため、軸方向に長いガラス微粒子堆積用の回転体
と、該回転体の外周面に石英系のガラス微粒子を噴射か
つ堆積させて多孔質ガラス層を形成するためのガラス微
粒子生成用バーナとが反応容器内に配置されているとと
もに、これら回転体とバーナとが、回転体の回転軸線方
向に沿い相対移動自在なるよう支持されている石英系多
孔質ガラス層の形成装置において、前記反応容器内には
、前記回転体の軸方向に沿う多数の加熱部をもつヒータ
アレイが備えられていることを特徴とする。
成するため、軸方向に長いガラス微粒子堆積用の回転体
と、該回転体の外周面に石英系のガラス微粒子を噴射か
つ堆積させて多孔質ガラス層を形成するためのガラス微
粒子生成用バーナとが反応容器内に配置されているとと
もに、これら回転体とバーナとが、回転体の回転軸線方
向に沿い相対移動自在なるよう支持されている石英系多
孔質ガラス層の形成装置において、前記反応容器内には
、前記回転体の軸方向に沿う多数の加熱部をもつヒータ
アレイが備えられていることを特徴とする。
【０００６】
【作用】本発明装置の場合、ガラス微粒子堆積用の回転
体とガラス微粒子生成用のバーナとを収容している反応
容器内において、回転体（回転状態）とバーナとを回転
体の軸線方向へ相対移動させつつバーナを介して生成し
た石英系のガラス微粒子（火炎加水分解反応生成物また
は熱分解反応生成物）を回転体の外周面に噴射かつ堆積
させ、回転体の外周面に多孔質ガラス層を形成する。
体とガラス微粒子生成用のバーナとを収容している反応
容器内において、回転体（回転状態）とバーナとを回転
体の軸線方向へ相対移動させつつバーナを介して生成し
た石英系のガラス微粒子（火炎加水分解反応生成物また
は熱分解反応生成物）を回転体の外周面に噴射かつ堆積
させ、回転体の外周面に多孔質ガラス層を形成する。
【０００７】上述した反応容器内には、回転体の軸方向
に沿う多数の加熱部をもつヒータアレイが備えられてい
るから、たとえば、多孔質ガラス層の形成に際してバー
ナの燃焼条件、回転体、バーナ相互の相対移動速度など
が変動し、多孔質ガラス層が部分的に温度低下したとし
ても、この箇所に対応したヒータアレイの加熱部を介し
て多孔質ガラス層の温度低下部分を所定温度にまで加熱
昇温させればよく、かかる熱処理により多孔質ガラス層
の長さ方向にわたる温度を均一に保持することができる
。したがって、本発明装置を介して回転体の外周面に多
孔質ガラス層を形成するとき、その表層部の温度差に起
因した多孔質ガラス層に密度差が発生しない。
に沿う多数の加熱部をもつヒータアレイが備えられてい
るから、たとえば、多孔質ガラス層の形成に際してバー
ナの燃焼条件、回転体、バーナ相互の相対移動速度など
が変動し、多孔質ガラス層が部分的に温度低下したとし
ても、この箇所に対応したヒータアレイの加熱部を介し
て多孔質ガラス層の温度低下部分を所定温度にまで加熱
昇温させればよく、かかる熱処理により多孔質ガラス層
の長さ方向にわたる温度を均一に保持することができる
。したがって、本発明装置を介して回転体の外周面に多
孔質ガラス層を形成するとき、その表層部の温度差に起
因した多孔質ガラス層に密度差が発生しない。
【０００８】
【実施例】本発明に係る石英系多孔質ガラス層の形成装
置の実施例について、図面を参照して説明する。図１に
おいて、１１は反応容器、２１は一対の回転チャック、
３１はバーナ、４１は回転体、５１はヒータアレイ、６
１は制御盤、７１は温度測定器、８１は多孔質ガラス層
をそれぞれ示す。
置の実施例について、図面を参照して説明する。図１に
おいて、１１は反応容器、２１は一対の回転チャック、
３１はバーナ、４１は回転体、５１はヒータアレイ、６
１は制御盤、７１は温度測定器、８１は多孔質ガラス層
をそれぞれ示す。
【０００９】反応容器１１は一例として石英からなり、
これの内部には回転チャック２１、バーナ３１など、ガ
ラス旋盤（全体を図示せず）の要部が配置されている。
これの内部には回転チャック２１、バーナ３１など、ガ
ラス旋盤（全体を図示せず）の要部が配置されている。
【００１０】反応容器１１内に配置された多重管構造の
バーナ３１は公知ないし周知の多重管構造からなり、こ
れは、ＳｉＣｌ４ 、ＧｅＣｌ４、ＰＯＣｌ３ 、ＢＣ
ｌ３ のごとき気相ガラス原料、気相ドープ原料の供給
を受ける原料ガス流路と、水素、メタン、プロパン、ブ
タンのごとき易燃性ガスの単体または混合体からなる燃
料ガスの供給を受ける燃料ガス流路と、支燃ガスとして
Ｏ２ の供給を受ける支燃ガス流路とを備えており、他
に、緩衝ガス用のガス流路を備えていることもある。反
応容器１１内にあるバーナ３１の各流路には、反応容器
１１外から導かれた所定の各ガス管がそれぞれ接続され
ている。
バーナ３１は公知ないし周知の多重管構造からなり、こ
れは、ＳｉＣｌ４ 、ＧｅＣｌ４、ＰＯＣｌ３ 、ＢＣ
ｌ３ のごとき気相ガラス原料、気相ドープ原料の供給
を受ける原料ガス流路と、水素、メタン、プロパン、ブ
タンのごとき易燃性ガスの単体または混合体からなる燃
料ガスの供給を受ける燃料ガス流路と、支燃ガスとして
Ｏ２ の供給を受ける支燃ガス流路とを備えており、他
に、緩衝ガス用のガス流路を備えていることもある。反
応容器１１内にあるバーナ３１の各流路には、反応容器
１１外から導かれた所定の各ガス管がそれぞれ接続され
ている。
【００１１】回転体４１は棒状または管状の長い基体か
らなり、その一例として石英系のマンドレルをあげるこ
とができ、他の一例として石英系のガラス管をあげるこ
とができ、さらに、他の一例として石英系のガラス棒を
あげることができる。このような回転体５１の外周面に
は、すでに、多孔質ガラス層が形成されていることもあ
る。
らなり、その一例として石英系のマンドレルをあげるこ
とができ、他の一例として石英系のガラス管をあげるこ
とができ、さらに、他の一例として石英系のガラス棒を
あげることができる。このような回転体５１の外周面に
は、すでに、多孔質ガラス層が形成されていることもあ
る。
【００１２】ヒータアレイ５１は、たとえば、電熱式の
ヒータからなる多数の加熱部５２が所定方向に配列され
たものである。ヒータアレイ５１を構成している各加熱
部５２は、互いに独立していても、あるいは、相互に集
結されていてもよい。ヒータアレイ５１は、反応容器１
１内において一対の回転チャック２１を結ぶ線分、すな
わち、これら回転チャック２１により両端支持される回
転体４１の軸方向に沿い配置されている。ヒータアレイ
５１の各加熱部５２には、反応容器１１外に配置された
温度制御器５３がそれぞれ接続されており、該各温度制
御器５３が制御盤６１に接続されている。
ヒータからなる多数の加熱部５２が所定方向に配列され
たものである。ヒータアレイ５１を構成している各加熱
部５２は、互いに独立していても、あるいは、相互に集
結されていてもよい。ヒータアレイ５１は、反応容器１
１内において一対の回転チャック２１を結ぶ線分、すな
わち、これら回転チャック２１により両端支持される回
転体４１の軸方向に沿い配置されている。ヒータアレイ
５１の各加熱部５２には、反応容器１１外に配置された
温度制御器５３がそれぞれ接続されており、該各温度制
御器５３が制御盤６１に接続されている。
【００１３】温度測定器７１は、たとえば、被検物に外
乱を与えることのない熱放射式センサからなり、この温
度測定器７１も制御盤６１に接続されている。
乱を与えることのない熱放射式センサからなり、この温
度測定器７１も制御盤６１に接続されている。
【００１４】図１に例示した反応容器１１内において、
回転体４１の外周面に多孔質ガラス層８１を形成すると
き、回転体４１を回転させつつその軸線方向に往復動さ
せ、バーナ３１には、気相のガラス原料、燃料ガス、支
燃ガスなどを供給し、これら各ガスを燃焼状態にして石
英系のガラス微粒子を生成する。燃焼状態のバーナ３１
から連続的に噴射されるガラス微粒子は、回転しながら
軸線方向に往復動する回転体４１の外周面において堆積
成長し、多孔質ガラス層８１となる。
回転体４１の外周面に多孔質ガラス層８１を形成すると
き、回転体４１を回転させつつその軸線方向に往復動さ
せ、バーナ３１には、気相のガラス原料、燃料ガス、支
燃ガスなどを供給し、これら各ガスを燃焼状態にして石
英系のガラス微粒子を生成する。燃焼状態のバーナ３１
から連続的に噴射されるガラス微粒子は、回転しながら
軸線方向に往復動する回転体４１の外周面において堆積
成長し、多孔質ガラス層８１となる。
【００１５】このようにして多孔質ガラス層８１を形成
するとき、回転体４１と同期してこれの軸方向へ往復動
する温度測定器７１が、多孔質ガラス層８１の全長にわ
たる温度分布を測定してその測定信号（電気信号）を制
御盤６１へ入力し、これを受けた制御盤６１が、多孔質
ガラス層８１の全長にわたる温度分布のバラツキを較正
すべく所定の温度制御信号（電気信号）を温度制御器５
３へ入力し、さらに、該温度制御信号を入力された温度
制御器５３が、ヒータアレイ５１における各加熱部５２
の加熱出力を所定値に設定する。
するとき、回転体４１と同期してこれの軸方向へ往復動
する温度測定器７１が、多孔質ガラス層８１の全長にわ
たる温度分布を測定してその測定信号（電気信号）を制
御盤６１へ入力し、これを受けた制御盤６１が、多孔質
ガラス層８１の全長にわたる温度分布のバラツキを較正
すべく所定の温度制御信号（電気信号）を温度制御器５
３へ入力し、さらに、該温度制御信号を入力された温度
制御器５３が、ヒータアレイ５１における各加熱部５２
の加熱出力を所定値に設定する。
【００１６】上記のごとく制御されたヒータアレイ５１
の加熱部５２を介して多孔質ガラス層８１を加熱すると
、多孔質ガラス層８１の長さ方向にわたる温度が均一な
分布を呈するようになり、したがって、多孔質ガラス層
８１には、崩落、クラック、伝送ロス増などの原因とな
る密度差が生じない。
の加熱部５２を介して多孔質ガラス層８１を加熱すると
、多孔質ガラス層８１の長さ方向にわたる温度が均一な
分布を呈するようになり、したがって、多孔質ガラス層
８１には、崩落、クラック、伝送ロス増などの原因とな
る密度差が生じない。
【００１７】その後、多孔質ガラス層８１は、公知ない
し周知の脱泡処理、脱水処理、透明ガラス化処理を受け
、透明なガラス層（合成石英）となる。
し周知の脱泡処理、脱水処理、透明ガラス化処理を受け
、透明なガラス層（合成石英）となる。
【００１８】
【発明の効果】本発明に係る石英系多孔質ガラス層の形
成装置は、ガラス微粒子堆積用の回転体、ガラス微粒子
生成用バーナが配置された反応容器内に、回転体の軸方
向に沿う多数の加熱部をもつヒータアレイが備えられて
おり、当該装置を用いたＯＶＤ法において石英系の多孔
質ガラス層を形成するとき、前記ヒータアレイにより多
孔質ガラス層の長さ方向にわたる温度分布を均一にして
、密度差のない多孔質ガラス層を得ることができ、ひい
ては、石英系の各種母材を得る際の良品の歩留りを向上
させることができる。
成装置は、ガラス微粒子堆積用の回転体、ガラス微粒子
生成用バーナが配置された反応容器内に、回転体の軸方
向に沿う多数の加熱部をもつヒータアレイが備えられて
おり、当該装置を用いたＯＶＤ法において石英系の多孔
質ガラス層を形成するとき、前記ヒータアレイにより多
孔質ガラス層の長さ方向にわたる温度分布を均一にして
、密度差のない多孔質ガラス層を得ることができ、ひい
ては、石英系の各種母材を得る際の良品の歩留りを向上
させることができる。
【図１】本発明に係る石英系多孔質ガラス層の形成装置
のを一実施例を略示した断面図図である。
のを一実施例を略示した断面図図である。
１１ 反応容器
３１ バーナ
４１ 回転体
５１ ヒータアレイ
５２ 加熱部
８１ 多孔質ガラス層
Claims (1)
- 【請求項１】 軸方向に長いガラス微粒子堆積用の回
転体と、該回転体の外周面に石英系のガラス微粒子を噴
射かつ堆積させて多孔質ガラス層を形成するためのガラ
ス微粒子生成用バーナとが反応容器内に配置されている
とともに、これら回転体とバーナとが、回転体の回転軸
線方向に沿い相対移動自在なるよう支持されている石英
系多孔質ガラス層の形成装置において、前記反応容器内
には、前記回転体の軸方向に沿う多数の加熱部をもつヒ
ータアレイが備えられていることを特徴とする石英系多
孔質ガラス層の形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1841991A JPH04240126A (ja) | 1991-01-18 | 1991-01-18 | 石英系多孔質ガラス層の形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1841991A JPH04240126A (ja) | 1991-01-18 | 1991-01-18 | 石英系多孔質ガラス層の形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04240126A true JPH04240126A (ja) | 1992-08-27 |
Family
ID=11971141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1841991A Pending JPH04240126A (ja) | 1991-01-18 | 1991-01-18 | 石英系多孔質ガラス層の形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04240126A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0558647A (ja) * | 1991-08-30 | 1993-03-09 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 多孔質ガラス母材の製造方法 |
| JP2005537213A (ja) * | 2002-08-27 | 2005-12-08 | ヘレーウス テネーヴォ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 石英ガラス素材を製造するための方法及び装置 |
| JP2014514236A (ja) * | 2011-04-08 | 2014-06-19 | ヘレウス クオーツ ユーケー リミティド | シリカ煤体の製造 |
-
1991
- 1991-01-18 JP JP1841991A patent/JPH04240126A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0558647A (ja) * | 1991-08-30 | 1993-03-09 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 多孔質ガラス母材の製造方法 |
| JP2005537213A (ja) * | 2002-08-27 | 2005-12-08 | ヘレーウス テネーヴォ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 石英ガラス素材を製造するための方法及び装置 |
| JP2014514236A (ja) * | 2011-04-08 | 2014-06-19 | ヘレウス クオーツ ユーケー リミティド | シリカ煤体の製造 |
| US9284213B2 (en) | 2011-04-08 | 2016-03-15 | Heraeus Quartz Uk Limited | Production of silica soot bodies |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1054795A (en) | Optical fibres | |
| JPS5927728B2 (ja) | 煤状ガラスロッドの製造方法 | |
| US6536240B1 (en) | Method of making an optical fiber preform via multiple plasma depositing and sintering steps | |
| JPH039047B2 (ja) | ||
| US4259101A (en) | Method for producing optical fiber preform | |
| AU750390B2 (en) | Method of making an optical fiber preform | |
| KR101426158B1 (ko) | 광섬유 모재의 제조 장치 | |
| KR101169470B1 (ko) | 다공질 유리 모재의 소결 방법 및 소결 장치 | |
| JPH04240126A (ja) | 石英系多孔質ガラス層の形成装置 | |
| US4230473A (en) | Method of fabricating optical fibers | |
| JP2831855B2 (ja) | 石英系多孔質ガラス層の形成装置 | |
| JP4407742B2 (ja) | ガラス母材の屈折率分布の検査方法 | |
| US5337585A (en) | Method for producing an optical fiber | |
| JPS62223037A (ja) | 多孔質ガラス層の形成方法 | |
| JPH0583500B2 (ja) | ||
| KR20050093705A (ko) | 다공질 유리 모재의 제조 방법 및 광섬유용 유리 모재 | |
| JPS61158836A (ja) | 光学系ガラス母材の製造方法 | |
| JPS62132740A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| TWI261073B (en) | Method of manufacturing an optical fiber perform with a vertical, large-number, and synchronizing deposition in inside vapor-phase oxidation process | |
| JPS591223B2 (ja) | 光ファイバ用母材の製造装置 | |
| JPH0986948A (ja) | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 | |
| JPS60264336A (ja) | 光学系ガラス母材の製造方法 | |
| JPS5899129A (ja) | ロツドレンズの製造方法 | |
| JPS5844618B2 (ja) | 光伝送繊維用棒状母材の製造方法 | |
| JPS6379731A (ja) | 光フアイバ用多孔質母材の製造方法 |