JPS591223B2 - 光ファイバ用母材の製造装置 - Google Patents
光ファイバ用母材の製造装置Info
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- JPS591223B2 JPS591223B2 JP16853980A JP16853980A JPS591223B2 JP S591223 B2 JPS591223 B2 JP S591223B2 JP 16853980 A JP16853980 A JP 16853980A JP 16853980 A JP16853980 A JP 16853980A JP S591223 B2 JPS591223 B2 JP S591223B2
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- JP
- Japan
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- optical fiber
- raw material
- support rod
- material gas
- glass
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01884—Means for supporting, rotating and translating tubes or rods being formed, e.g. lathes
- C03B37/01892—Deposition substrates, e.g. tubes, mandrels
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
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- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、光通信等に用いる光ファイバの母材を製造
する装置に関する。
する装置に関する。
光ファイバ用母材の製造装置として、従来より内付ＣＶ
Ｄ法によるものや外付ＣＶＤ法によるもの等が知られて
いる。
Ｄ法によるものや外付ＣＶＤ法によるもの等が知られて
いる。
前者は、石英管の中空部に原料ガスを供給し、石英管の
外部よりバーナ等で熱して中空部においてガラス微粉末
を生成させてこれを内周面に堆積させると同時に前記の
熱で透明ガラス化するというものである。後者は、石英
棒や炭素棒等の支持棒の外周部にバーナにより形成され
た酸水素火炎をあて、この火炎中に原料ガスを供給して
火炎内でガラス微粉末を生成しこれを支持棒外周面に堆
積させ、後に高温下で透明ガラス化させるというもので
ある。いずれの場合も原料ガスとしてはＳｉＣｌ４等の
ガラス原料とＧｅＣｌ４、ＰＯＣｌ３等の屈折率制御用
の金属ハロゲン化物等であるが、通常これらはＯ２をキ
ャリヤガスとしバブリングによつて得るようにしている
ため、パブラ中の液面が徐々に低下するため長時間にわ
たつて厳密に一定の濃度のものを得ることは難しい。ま
た多数の原料ガス供給システムを用いたとしてもその各
々から得られる原料ガスは微妙に異なる。そのため、多
数本の光ファイバ用母材を製造する場合には、屈折率分
布等が微妙に異なり、これらを用いて作つた光ファイバ
は伝送特性が完全には一致しない。本発明は上記に鑑み
、複数本の均質な光ファイバ用母材を一度に製造するこ
とのできる光ファイバ用母材の製造装置を提供すること
を目的とする。
外部よりバーナ等で熱して中空部においてガラス微粉末
を生成させてこれを内周面に堆積させると同時に前記の
熱で透明ガラス化するというものである。後者は、石英
棒や炭素棒等の支持棒の外周部にバーナにより形成され
た酸水素火炎をあて、この火炎中に原料ガスを供給して
火炎内でガラス微粉末を生成しこれを支持棒外周面に堆
積させ、後に高温下で透明ガラス化させるというもので
ある。いずれの場合も原料ガスとしてはＳｉＣｌ４等の
ガラス原料とＧｅＣｌ４、ＰＯＣｌ３等の屈折率制御用
の金属ハロゲン化物等であるが、通常これらはＯ２をキ
ャリヤガスとしバブリングによつて得るようにしている
ため、パブラ中の液面が徐々に低下するため長時間にわ
たつて厳密に一定の濃度のものを得ることは難しい。ま
た多数の原料ガス供給システムを用いたとしてもその各
々から得られる原料ガスは微妙に異なる。そのため、多
数本の光ファイバ用母材を製造する場合には、屈折率分
布等が微妙に異なり、これらを用いて作つた光ファイバ
は伝送特性が完全には一致しない。本発明は上記に鑑み
、複数本の均質な光ファイバ用母材を一度に製造するこ
とのできる光ファイバ用母材の製造装置を提供すること
を目的とする。
以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。第１図において、ガラス旋盤１に回転枠２、３
が回転可能に支持されており、この回転枠２、３にはそ
れぞれ４個の回転支持体（チャック）４ａ〜４ｄ、５ａ
〜５ｄが回転可能に支持されて、それぞれが一定速度で
回転している。各回転支持体により４本の石英管６ａ〜
６ｄが支持されており、これらは各々一定速度で回転し
ている。これら４本の石英管６ａ〜６ｄの各々には回転
ジヨイント７ａ〜７ｄが取り付けられており、これを介
して管内に原料ガスが供給されている。第１図では４本
の石英管６ａ〜６ｄのうちの２本６ｂ，６ｄがバーナ９
，１０の酸水素火炎によつて熱せられている。このバー
ナ９，１０は移動台８に保持されており、ガラス旋盤１
の端部から端部まで石英管の長手方向に矢印に示すよう
にトラバース（移動）する。回転ジヨイント７ａ〜７ｄ
の各々には、第２図に示すように電磁弁１１ａ〜１１ｄ
を介して原料ガス供給システム１３から原料ガスが、及
び電磁弁１２ａ〜１２ｄを介して乾燥ガス供給システム
１４から乾燥ガスが送られてきている。
明する。第１図において、ガラス旋盤１に回転枠２、３
が回転可能に支持されており、この回転枠２、３にはそ
れぞれ４個の回転支持体（チャック）４ａ〜４ｄ、５ａ
〜５ｄが回転可能に支持されて、それぞれが一定速度で
回転している。各回転支持体により４本の石英管６ａ〜
６ｄが支持されており、これらは各々一定速度で回転し
ている。これら４本の石英管６ａ〜６ｄの各々には回転
ジヨイント７ａ〜７ｄが取り付けられており、これを介
して管内に原料ガスが供給されている。第１図では４本
の石英管６ａ〜６ｄのうちの２本６ｂ，６ｄがバーナ９
，１０の酸水素火炎によつて熱せられている。このバー
ナ９，１０は移動台８に保持されており、ガラス旋盤１
の端部から端部まで石英管の長手方向に矢印に示すよう
にトラバース（移動）する。回転ジヨイント７ａ〜７ｄ
の各々には、第２図に示すように電磁弁１１ａ〜１１ｄ
を介して原料ガス供給システム１３から原料ガスが、及
び電磁弁１２ａ〜１２ｄを介して乾燥ガス供給システム
１４から乾燥ガスが送られてきている。
第１図のように石英管６ｂ，６ｄが加熱されているとき
、電蒸弁１１ｂ，１１ｄが開き、１１ａ，１１ｃが閉じ
て、原料ガスがこの加熱されている石英管６ｂ，６ｄの
中空部に送られ、電蒸弁１２ａ，１２ｃが開き、１２ｂ
，１２ｄが閉じて、乾燥ガスが石英管６ａ，６ｃの中空
部に送られる。原料ガスとしては０２をキヤリヤガスと
したＳｌＣｌ４，ＧｅＣｌ４等であり、乾燥ガスとして
は乾燥した 二０２やＡｒ，Ｈｅ等のガスである。原料
ガスは石英管６ｂ，６ｄの管内で加熱領域において反応
し、ガラス微粉末が生成されてこれが管の内周面に堆積
し、同時に加熱領域内の熱で焼結され透明ガラス化する
。加熱されていない石英管６ａ，６ｃに乾燥ガスを供給
するのは、管内を乾燥昭囲気に保持し、０Ｈ基をなるべ
く少なくして０Ｈ基吸収による損失を少なくするためで
ある。こうしてバーナ９，１０の１トラバース（ガラス
旋盤１の端から端までの１方向への移動）が終了すると
回転枠２，３が９００回転し、石英管６ａ，６ｃがバー
ナ９，１０により加熱されるようになる。
、電蒸弁１１ｂ，１１ｄが開き、１１ａ，１１ｃが閉じ
て、原料ガスがこの加熱されている石英管６ｂ，６ｄの
中空部に送られ、電蒸弁１２ａ，１２ｃが開き、１２ｂ
，１２ｄが閉じて、乾燥ガスが石英管６ａ，６ｃの中空
部に送られる。原料ガスとしては０２をキヤリヤガスと
したＳｌＣｌ４，ＧｅＣｌ４等であり、乾燥ガスとして
は乾燥した 二０２やＡｒ，Ｈｅ等のガスである。原料
ガスは石英管６ｂ，６ｄの管内で加熱領域において反応
し、ガラス微粉末が生成されてこれが管の内周面に堆積
し、同時に加熱領域内の熱で焼結され透明ガラス化する
。加熱されていない石英管６ａ，６ｃに乾燥ガスを供給
するのは、管内を乾燥昭囲気に保持し、０Ｈ基をなるべ
く少なくして０Ｈ基吸収による損失を少なくするためで
ある。こうしてバーナ９，１０の１トラバース（ガラス
旋盤１の端から端までの１方向への移動）が終了すると
回転枠２，３が９００回転し、石英管６ａ，６ｃがバー
ナ９，１０により加熱されるようになる。
そしてこのとき電磁弁が切り換えられて電磁弁１１ａ，
１１ｃ，１２ｂ，１２ｄが開き、電磁弁１１ｂ，１１ｄ
，１２ａ，１２ｃが閉じて、石英管６ａ，６ｃに原料ガ
スが、石英管６ｂ，６ｄに乾燥ガスが供給される。この
状態でバーナ９，１０の次の１トラバース（逆方向への
直線移動）が行なわれる。そしてこれが終了した後、更
に回転枠２，３が９００回転し、再び石英管６ｂ，６ｄ
が加熱されるようにするとともにこれらの石英管に原料
ガスが供給されるようにして、更に次のトラバースが行
なわれる。こうしてバーナ９，１０のトラバース毎に加
熱される石英管が交替し、また原料ガスの供給も切り換
えられる。そのため原料ガス供給システム１３における
パブラの液面が徐々に低下すること等による原料ガスの
変動が生じたとしても、４本の母材には略同一にその影
響が表われるので、均一な光フアイバ用母材を一度に４
本作ることが可能である。なお、回転枠２，３を回転さ
せるときに石英管がバーナ９，１０と衝突するような場
合には、これを避けるようなバーナ９，１０を下方に移
動させる機構を備えるようにする。次に上記のような装
置を用い、次の条件でグレーデツド型光フアイバ用母材
を試作した。
１１ｃ，１２ｂ，１２ｄが開き、電磁弁１１ｂ，１１ｄ
，１２ａ，１２ｃが閉じて、石英管６ａ，６ｃに原料ガ
スが、石英管６ｂ，６ｄに乾燥ガスが供給される。この
状態でバーナ９，１０の次の１トラバース（逆方向への
直線移動）が行なわれる。そしてこれが終了した後、更
に回転枠２，３が９００回転し、再び石英管６ｂ，６ｄ
が加熱されるようにするとともにこれらの石英管に原料
ガスが供給されるようにして、更に次のトラバースが行
なわれる。こうしてバーナ９，１０のトラバース毎に加
熱される石英管が交替し、また原料ガスの供給も切り換
えられる。そのため原料ガス供給システム１３における
パブラの液面が徐々に低下すること等による原料ガスの
変動が生じたとしても、４本の母材には略同一にその影
響が表われるので、均一な光フアイバ用母材を一度に４
本作ることが可能である。なお、回転枠２，３を回転さ
せるときに石英管がバーナ９，１０と衝突するような場
合には、これを避けるようなバーナ９，１０を下方に移
動させる機構を備えるようにする。次に上記のような装
置を用い、次の条件でグレーデツド型光フアイバ用母材
を試作した。
コア形成時の流量条件
こうして得た４本の母材を紡糸して、コア径５０μｍ１
外径１２５μｍ１屈折率差１．０％の４本のグレーデツ
ド型光フアイバを得た。
外径１２５μｍ１屈折率差１．０％の４本のグレーデツ
ド型光フアイバを得た。
この４本の光フアイバを測定してみたところ、４本とも
帯域＋
＋１０００−１００ＭＨＺ
−Ｋｍｌ損失２．５−０．０５ｄＢ／Ｋｍとなり、同一
伝送特性のものが得られたことが分つた。なお、上記の
実施例は内付ＣＶＤ法によるものであるが、外付ＣＶＤ
法や気相軸付法（ＡＤ法）等の他の方法によるものの場
合にも同様に適用できることは明らかであろう（なお、
外付ＣＶＤ法及びＶＡＤ法では母材はガラス微粉末が堆
積したままの多孔質の状態であるから、後に焼結して透
明ガラス化する）。
帯域＋
＋１０００−１００ＭＨＺ
−Ｋｍｌ損失２．５−０．０５ｄＢ／Ｋｍとなり、同一
伝送特性のものが得られたことが分つた。なお、上記の
実施例は内付ＣＶＤ法によるものであるが、外付ＣＶＤ
法や気相軸付法（ＡＤ法）等の他の方法によるものの場
合にも同様に適用できることは明らかであろう（なお、
外付ＣＶＤ法及びＶＡＤ法では母材はガラス微粉末が堆
積したままの多孔質の状態であるから、後に焼結して透
明ガラス化する）。
以上、実施例について説明したように、本発明によれば
、均質な複数本の光フアイバ母材を同時に作ることがで
き、良好な伝送特性を有する光フアイバの生産性向上を
図ることができる。
、均質な複数本の光フアイバ母材を同時に作ることがで
き、良好な伝送特性を有する光フアイバの生産性向上を
図ることができる。
また、この高い生産能力に比して装置の設置スペースは
小さいものでよい。
小さいものでよい。
第１図は本発明の一実施例を示す斜視図、第２図は第１
図のガス供給系統を示すプロツク図である。 １・・・・・・ガラス旋盤、２，３・・・・・・回転枠
、４ａ〜４ｄ，５ａ〜５ｄ・・・・・・回転支持体、６
ａ〜６ｄ・・・・・・石英管、７ａ〜７ｄ・・・・・・
回転ジヨイント、８・・・・・・移動台、９，１０・・
・・・・バーナ、１１ａ〜１１ｄ，１２ａ〜１２ｄ・・
・・・・電磁弁、１３・・・・・・原料ガス供給システ
ム、１４・・・・・・乾燥ガス供給システム。
図のガス供給系統を示すプロツク図である。 １・・・・・・ガラス旋盤、２，３・・・・・・回転枠
、４ａ〜４ｄ，５ａ〜５ｄ・・・・・・回転支持体、６
ａ〜６ｄ・・・・・・石英管、７ａ〜７ｄ・・・・・・
回転ジヨイント、８・・・・・・移動台、９，１０・・
・・・・バーナ、１１ａ〜１１ｄ，１２ａ〜１２ｄ・・
・・・・電磁弁、１３・・・・・・原料ガス供給システ
ム、１４・・・・・・乾燥ガス供給システム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 支持棒を一定速度で回転させ、この支持棒を熱源で
加熱し、その加熱領域に原料ガスを供給してガラス生成
反応を行なわせつつ前記熱源を支持棒の長手方向に移動
させるようにした光ファイバ用母材の製造装置において
、前記支持棒を複数本とし、前記熱源の予め定められた
移動距離毎に支持棒を交替させてガラス生成反応を行な
うようにして複数本の光ファイバ用母材を一度に製造す
るようにした光ファイバ用母材の製造装置。 ２ 前記複数本の支持棒は管状体でなり、この管状体支
持棒の中空部に原料ガスを送つてガラス微粉末を管状体
支持棒の内周面に堆積させるとともに透明ガラス化する
ようにした特許請求の範囲第１項記載の光ファイバ用母
材の製造装置。 ３ 前記複数本の支持棒は中実棒状体でなり、前記熱源
は酸水素火炎を生じるバーナでなり、この酸水素火炎中
に原料ガスを供給して前記中実棒状体支持棒の外周面に
ガラス微粉末を堆積させるようにした特許請求の範囲第
１項記載の光ファイバ用母材の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16853980A JPS591223B2 (ja) | 1980-11-29 | 1980-11-29 | 光ファイバ用母材の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16853980A JPS591223B2 (ja) | 1980-11-29 | 1980-11-29 | 光ファイバ用母材の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5792537A JPS5792537A (en) | 1982-06-09 |
| JPS591223B2 true JPS591223B2 (ja) | 1984-01-11 |
Family
ID=15869885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16853980A Expired JPS591223B2 (ja) | 1980-11-29 | 1980-11-29 | 光ファイバ用母材の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS591223B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2846048B2 (ja) * | 1990-03-29 | 1999-01-13 | 信越化学工業株式会社 | 多孔質ガラス母材の製造方法 |
| JP2866436B2 (ja) * | 1990-04-06 | 1999-03-08 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質プリフォーム母材の製造方法 |
-
1980
- 1980-11-29 JP JP16853980A patent/JPS591223B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5792537A (en) | 1982-06-09 |
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