JPS6185385A - テトラヒドロフタルイミド誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents
テトラヒドロフタルイミド誘導体およびそれを有効成分とする除草剤Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
- C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
- C07D403/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N43/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
- A01N43/48—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- A01N43/60—1,4-Diazines; Hydrogenated 1,4-diazines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
- C07D209/44—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles
- C07D209/48—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles with oxygen atoms in positions 1 and 3, e.g. phthalimide
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式
〔式中、R1はC,−C,アルキル基、C3−C5アル
ケニル基、C3−C,アルキニル基またはC,−C3ア
ルコキシメチル基を表わし、Xは水素原子、フッ素原子
または塩素原子を表こに R2は水素原子またはメチル
基を表わし R3は水素原子またはメチル基を表わし、
窒素原子はベンゼン環に結合している。)を表わす。〕 で示されるテトラヒドロフタルイミド誘導体(以下、本
発明化合物と記す。)、その製造法およびそれを有効成
分とする除草剤に関するものである。
ケニル基、C3−C,アルキニル基またはC,−C3ア
ルコキシメチル基を表わし、Xは水素原子、フッ素原子
または塩素原子を表こに R2は水素原子またはメチル
基を表わし R3は水素原子またはメチル基を表わし、
窒素原子はベンゼン環に結合している。)を表わす。〕 で示されるテトラヒドロフタルイミド誘導体(以下、本
発明化合物と記す。)、その製造法およびそれを有効成
分とする除草剤に関するものである。
本発明化合物は畑地の茎葉処理および土壌処理において
、問題となる種々の雑草、例えば、ソバカズラ、ザナエ
タデ、スベリヒエ、ハコベ、シロザ、アオビユ(アオゲ
イトウ)、ダイコン、ノハラがラシ、アメリカツノクサ
ネム、エビスグサ、イチビ、アメリカキンゴジカ、フィ
ールドパンジー、ヤエムグラ、アメリカアサガオ、マル
バアサガオ、ホトケノザ、ヨウシュチョウセンアサガオ
、イヌホオズキ、オオイヌノフグリ、オナモミ、ヒマワ
リ、コーンマリーゴールド等の広葉雑草、ヒエ、イヌビ
エ、エノコログサ、メヒシバ、スズメノカタビラ、ノス
ズメノテッポウ、エンバク、カラスムキ、セイバンモロ
コシ等のイネ科雑草およびツユクサ等のツユクサ科雑草
、ハマスゲ等のカヤツリグサ科雑草に対して除草効力を
有し、しかも本発明化合物はトウモロコシ、コムギ、イ
ネ、ダイズ、ワタ等の主要作物に対して問題となるよう
な薬害を示さない。
、問題となる種々の雑草、例えば、ソバカズラ、ザナエ
タデ、スベリヒエ、ハコベ、シロザ、アオビユ(アオゲ
イトウ)、ダイコン、ノハラがラシ、アメリカツノクサ
ネム、エビスグサ、イチビ、アメリカキンゴジカ、フィ
ールドパンジー、ヤエムグラ、アメリカアサガオ、マル
バアサガオ、ホトケノザ、ヨウシュチョウセンアサガオ
、イヌホオズキ、オオイヌノフグリ、オナモミ、ヒマワ
リ、コーンマリーゴールド等の広葉雑草、ヒエ、イヌビ
エ、エノコログサ、メヒシバ、スズメノカタビラ、ノス
ズメノテッポウ、エンバク、カラスムキ、セイバンモロ
コシ等のイネ科雑草およびツユクサ等のツユクサ科雑草
、ハマスゲ等のカヤツリグサ科雑草に対して除草効力を
有し、しかも本発明化合物はトウモロコシ、コムギ、イ
ネ、ダイズ、ワタ等の主要作物に対して問題となるよう
な薬害を示さない。
また、本発明化合物は水田の湛水処理において問題とな
る種々の雑草、例えば、タイヌビエ等のイネ科雑草、ア
ゼナ、キカシグサ、ミソハコベ等の広葉雑草、ホタルイ
、マツバイ等のカヤツリグサ科雑草、コナギ、ウリカワ
等に対して除草効力を有し、しかもイネに対して問題と
なるような薬害を示さない。
る種々の雑草、例えば、タイヌビエ等のイネ科雑草、ア
ゼナ、キカシグサ、ミソハコベ等の広葉雑草、ホタルイ
、マツバイ等のカヤツリグサ科雑草、コナギ、ウリカワ
等に対して除草効力を有し、しかもイネに対して問題と
なるような薬害を示さない。
本発明化合物は、一般式
〔式中、XおよびAは前記と同じ意味を表わす。〕
で示されるテトラヒドロフタルイミド誘導体と、一般式
%式%
〔式中、R1は前記と同じ意味を表わし、Yは塩素原子
、臭素原子またはヨウ素原子を表わす。〕 で示されるハロゲン化物とを溶媒中、脱ハロゲン化水素
剤の存在下、0℃〜50℃、0.5時間〜24時間反応
させること1こよって製造することができる。
、臭素原子またはヨウ素原子を表わす。〕 で示されるハロゲン化物とを溶媒中、脱ハロゲン化水素
剤の存在下、0℃〜50℃、0.5時間〜24時間反応
させること1こよって製造することができる。
反応に供される試剤の量は、テトラヒドロフタルイミド
誘導体(If)1当遣に対して、ハロゲン化物〔■〕は
1〜8当量、脱ハロゲン化水素剤は1〜3当量である。
誘導体(If)1当遣に対して、ハロゲン化物〔■〕は
1〜8当量、脱ハロゲン化水素剤は1〜3当量である。
溶媒としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル類、ホルムアミド
、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルア
セトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等の
硫黄化合物あるいは、それらの混合物があげられる。
テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル類、ホルムアミド
、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルア
セトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等の
硫黄化合物あるいは、それらの混合物があげられる。
脱ハロゲン化水素剤としては、水素化ナトリウム等の無
機塩基、n−ブチルリチウム、メチルリチウム、リチウ
ムジイソプロピルアミド等の有Ijl IJチウム塩基
等があげられる。
機塩基、n−ブチルリチウム、メチルリチウム、リチウ
ムジイソプロピルアミド等の有Ijl IJチウム塩基
等があげられる。
反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の通
常の後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィー、
再結晶等の操作番こよって精製することにより、目的の
本発明化合物を得ることができる。
常の後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィー、
再結晶等の操作番こよって精製することにより、目的の
本発明化合物を得ることができる。
製造例1 (本発明化合物14の製造)水素化ナトリウ
ム38岬をN、N−ジメチルホルムアミド1.5 ml
に懸濁させ、−30℃に冷却した。これに2−(6−フ
ルオロ−1,2,3,4−テトラヒドロキノキサリン−
2−オン−7−イル)−4,5,6゜7−チトラヒドロ
イソインドールーl、3−ジオン400■を一80℃で
加え、30分間−80℃で攪拌した。これ番こl−ブロ
モ−2−プロピオン165mfを一30℃で加え、徐々
に昇温し、室温で6時間攪拌した。水を加え、酢酸エチ
ルで抽出し、抽出液を水洗、乾燥後、濃縮した。得られ
た残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶媒
酢酸エチル:ヘキサン=l:2)で精製し、2−〔6
−フルオロ−1−(2−プロピニル)−1,2,8,4
−テトラヒドロキノキサリン−2−オン−7−イル)−
1,2,5,6,7,8−へキサヒドロインインドール
−1,3−ジオン80ηを得た。m、p、205.6℃ このような製造法によって製造できる本発明化合物のい
くつかを、第1表に示す。
ム38岬をN、N−ジメチルホルムアミド1.5 ml
に懸濁させ、−30℃に冷却した。これに2−(6−フ
ルオロ−1,2,3,4−テトラヒドロキノキサリン−
2−オン−7−イル)−4,5,6゜7−チトラヒドロ
イソインドールーl、3−ジオン400■を一80℃で
加え、30分間−80℃で攪拌した。これ番こl−ブロ
モ−2−プロピオン165mfを一30℃で加え、徐々
に昇温し、室温で6時間攪拌した。水を加え、酢酸エチ
ルで抽出し、抽出液を水洗、乾燥後、濃縮した。得られ
た残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶媒
酢酸エチル:ヘキサン=l:2)で精製し、2−〔6
−フルオロ−1−(2−プロピニル)−1,2,8,4
−テトラヒドロキノキサリン−2−オン−7−イル)−
1,2,5,6,7,8−へキサヒドロインインドール
−1,3−ジオン80ηを得た。m、p、205.6℃ このような製造法によって製造できる本発明化合物のい
くつかを、第1表に示す。
第1表
一般式
−11一
本発明化合物の原料化合物である一般式(口lのテトラ
ヒドロフタルイミド誘導体は以下のルートで製造される
。
ヒドロフタルイミド誘導体は以下のルートで製造される
。
〔式中、X 、 R,およびR3は前記と同じ意味を表
わし、R4は低級アルキル基を表わす。〕 スナわち、N−ニトロフェニルフタルイミド誘導体〔■
〕はジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド等の溶媒中、50℃〜200℃テ、ニトロフェ
ニルフタルイミド誘導体(IY)に対し、2.5〜4当
冊の一般式 %式% 〔式中、R2、R3およびR4は前記と同じ意味を表わ
す。〕 で示されるアミノ酸エステルとを反応させることでN−
フェニルアミノ酸エステル(V)に誘導される。
わし、R4は低級アルキル基を表わす。〕 スナわち、N−ニトロフェニルフタルイミド誘導体〔■
〕はジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド等の溶媒中、50℃〜200℃テ、ニトロフェ
ニルフタルイミド誘導体(IY)に対し、2.5〜4当
冊の一般式 %式% 〔式中、R2、R3およびR4は前記と同じ意味を表わ
す。〕 で示されるアミノ酸エステルとを反応させることでN−
フェニルアミノ酸エステル(V)に誘導される。
さらに、適当な還元剤(例えば、酢酸中の鉄)を用い、
二1・0基を還元、閉環することでジヒドロキノキサリ
ノン誘導体(■)が製造される。より詳しくは、N−フ
ェニルアミノ酸エステル〔Y〕に対し、8〜10当量の
電解鉄、還元鉄等の鉄粉を用い、溶媒中、大過剰の酸の
存在下50〜200℃で還元、閉環が行われる。溶媒と
しては、水、アルコール、酢酸、酢酸エチル等あるいは
これらの混合物が用いられ、酸としては酢酸、塩酸等が
用いられる。
二1・0基を還元、閉環することでジヒドロキノキサリ
ノン誘導体(■)が製造される。より詳しくは、N−フ
ェニルアミノ酸エステル〔Y〕に対し、8〜10当量の
電解鉄、還元鉄等の鉄粉を用い、溶媒中、大過剰の酸の
存在下50〜200℃で還元、閉環が行われる。溶媒と
しては、水、アルコール、酢酸、酢酸エチル等あるいは
これらの混合物が用いられ、酸としては酢酸、塩酸等が
用いられる。
さらに、一般式CI)において、Aが
−C=N−を表わす化合物については、大過剰量の過酸
化水素を水酸化す) IJウムの存在下、酸化すること
で、キノキサリノン誘導体(9)を得ることができる。
化水素を水酸化す) IJウムの存在下、酸化すること
で、キノキサリノン誘導体(9)を得ることができる。
なお、原料化合物であるN−ニトロフェニルフタルイミ
ド誘導体〔■〕は特開昭59−67261号公報に記載
の方法で製造することができる 次に、テトラヒドロフタルイミド誘導体(11)の製造
例を参考例として示す。
ド誘導体〔■〕は特開昭59−67261号公報に記載
の方法で製造することができる 次に、テトラヒドロフタルイミド誘導体(11)の製造
例を参考例として示す。
参考例1
N−(4−フルオロ−3−二トロフェニル)−8,4,
5,6−チトラヒドロフタルイミド5.81をグリシン
メチルエステル塩酸塩7.52、トリエチルアミン6P
、l。
5,6−チトラヒドロフタルイミド5.81をグリシン
メチルエステル塩酸塩7.52、トリエチルアミン6P
、l。
4−ジオキサン50 ytlの混液中に加えた。
4時間還流後、水を加え酢酸エチルで抽出した。抽出液
は水洗、乾燥、濃縮された。
は水洗、乾燥、濃縮された。
残渣はメタノールから結晶化し、2−(4−メトキシカ
ルボニルメチルアミノ−8−ニトロフェニル)−4,5
,6,7−チトラヒドローインインドールー1,8−ジ
オン2.62を得た。 m、p、220℃同様にして以
下の化合物が得られた。
ルボニルメチルアミノ−8−ニトロフェニル)−4,5
,6,7−チトラヒドローインインドールー1,8−ジ
オン2.62を得た。 m、p、220℃同様にして以
下の化合物が得られた。
一般式
%式%
8−ジオン2.06fを酢酸20vtl、酢酸エチル2
0tslの混液に溶かし、5%酢酸水10m11鉄粉4
?の混液に70〜80℃で滴下した。さらに、8時間同
温で攪拌後、放冷し、水を加え、酢酸エチルで抽出した
。抽出液を重曹水で洗い、乾燥、濃縮し、2−(1,2
,8,4−テトラヒドロキノキサリン−2−オン−7−
イル)−4,5,6゜ツーテトラヒドロ−インインドー
ル1.3−ジオ71.8rを得た。 m、p、208−
209℃ 同様にして以下の化合物を得た。
0tslの混液に溶かし、5%酢酸水10m11鉄粉4
?の混液に70〜80℃で滴下した。さらに、8時間同
温で攪拌後、放冷し、水を加え、酢酸エチルで抽出した
。抽出液を重曹水で洗い、乾燥、濃縮し、2−(1,2
,8,4−テトラヒドロキノキサリン−2−オン−7−
イル)−4,5,6゜ツーテトラヒドロ−インインドー
ル1.3−ジオ71.8rを得た。 m、p、208−
209℃ 同様にして以下の化合物を得た。
一般式
参考例3
2−(6−フルオロ−1,2,3,4−テトラヒドロ−
キノキサリン−2−オン−7−イル)−4,5,6,7
−チトラヒドローインインドールー1.3−ジオン0.
43Vを水酸化ナトリウム0.16 F、水2.1ml
。
キノキサリン−2−オン−7−イル)−4,5,6,7
−チトラヒドローインインドールー1.3−ジオン0.
43Vを水酸化ナトリウム0.16 F、水2.1ml
。
80%過酸化水素水0.21 tttlの混液に加え、
室温で16時間攪拌した。反応液にエーテルを加え、水
層を分離した。分離した水層を酢酸を用いpH=4とし
、生じた結晶を戸別、水洗し、2−(6−フルオロ−1
゜2−ジヒドロキノキサリン−2−オン−7−イル)−
4,5,6,7−チトラヒドローインインドールー1.
3−ジオン0.321を得た。 m、p、>aoo℃ 本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合は、
通常固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補
助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤等に製剤
する。
室温で16時間攪拌した。反応液にエーテルを加え、水
層を分離した。分離した水層を酢酸を用いpH=4とし
、生じた結晶を戸別、水洗し、2−(6−フルオロ−1
゜2−ジヒドロキノキサリン−2−オン−7−イル)−
4,5,6,7−チトラヒドローインインドールー1.
3−ジオン0.321を得た。 m、p、>aoo℃ 本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合は、
通常固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補
助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤等に製剤
する。
これらの製剤には有効成分として本発明化合物を、重量
比で0.05〜90%、好ましくは0.1〜80%含有
する。
比で0.05〜90%、好ましくは0.1〜80%含有
する。
固体担体としては、カオリンクレー、アッタパルジャイ
トクレー、ベントナイト、峻性白土、パイロフィライト
、タルク、珪藻上、方解石、クルミ粉、尿素、硫酸アン
モニウム、合成含水酸化珪素等の微粉末あるいは粒状物
があげられ、液体担体としては、キシレン、メチルナフ
タレン等の芳香族炭化水素類、イソプロパツール、エチ
レングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセト
ン、シクロヘキサノン、□イソホロン等のケトン類、大
豆油、綿実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、N、
N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、水等があ
げられる。
トクレー、ベントナイト、峻性白土、パイロフィライト
、タルク、珪藻上、方解石、クルミ粉、尿素、硫酸アン
モニウム、合成含水酸化珪素等の微粉末あるいは粒状物
があげられ、液体担体としては、キシレン、メチルナフ
タレン等の芳香族炭化水素類、イソプロパツール、エチ
レングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセト
ン、シクロヘキサノン、□イソホロン等のケトン類、大
豆油、綿実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、N、
N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、水等があ
げられる。
乳化、分散、湿炭等のために用いられる界面活性剤とし
ては、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスル
ホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエ
チレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩等の
陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポ
リマー、ソルヒタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
ンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等
があげられる。製剤用補助剤としては、リグニンスルホ
ン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビ
アがム、CMC(カルボキシメチルセルロース)、PA
P(酸性リン酸イソプロピル)等があげられる。
ては、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスル
ホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエ
チレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩等の
陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポ
リマー、ソルヒタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
ンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等
があげられる。製剤用補助剤としては、リグニンスルホ
ン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビ
アがム、CMC(カルボキシメチルセルロース)、PA
P(酸性リン酸イソプロピル)等があげられる。
次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は第1表の化合
物番号で示す。部は重量部を示す。
物番号で示す。部は重量部を示す。
製剤例1
本発明化合物14.50部、リグニンスルホン酸カルシ
ウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合成含水
酸化珪素45部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
ウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合成含水
酸化珪素45部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
製剤例2
本発明化合物8.5部、ポリオキシエチレンスチリルフ
ェニルエーテル14 部、ト’−rシルベンゼンスルホ
ン酸カルシウム6部、キシレン30部およびN、N−ジ
メチルホルムアミド45部をよく混合して乳剤を得る。
ェニルエーテル14 部、ト’−rシルベンゼンスルホ
ン酸カルシウム6部、キシレン30部およびN、N−ジ
メチルホルムアミド45部をよく混合して乳剤を得る。
製剤例3
本発明化合物5.2部、合成含水酸化珪素1部、リグニ
ンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト80部およ
びカオリンクレー65部をよく粉砕混合し、水を加えて
よく練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得る。
ンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト80部およ
びカオリンクレー65部をよく粉砕混合し、水を加えて
よく練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得る。
製剤例4
本発明化合物8.25部、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノオレエート3JCMC3部、水69部を混合し、
粒度が5ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤を
得る。
ンモノオレエート3JCMC3部、水69部を混合し、
粒度が5ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤を
得る。
このようにして製剤された本発明化合物は、雑草の出芽
前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理す
る。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があ
り、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作
物に付着しないよう雑草(こ限って処理する局部処理等
がある。
前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理す
る。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があ
り、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作
物に付着しないよう雑草(こ限って処理する局部処理等
がある。
また、他の除草剤と混合して用いることにより、除草効
力の増強を期待できる。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺
線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等
と混合して用いることもできる。
力の増強を期待できる。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺
線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等
と混合して用いることもできる。
なお、本発明化合物は、水田、畑地、果樹園、牧草地、
芝生地、森林あるいは非農耕地等の除草剤の有効成分と
して用いることができる。
芝生地、森林あるいは非農耕地等の除草剤の有効成分と
して用いることができる。
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、そ
の処理量は、気象条件、製剤形作物等によっても異なる
が、通常1アールあたり0.05 P〜50F、好まし
くは0.02r〜1001であり、乳剤、水和剤、懸濁
剤等は、通常その所定量を1アールあたりl IJット
ル〜10リットルの(必要ならば、張着剤等の補助剤を
添加した)水で希釈して処理し、粒剤等は、通常なんら
希釈することなくそのま\処理する。
の処理量は、気象条件、製剤形作物等によっても異なる
が、通常1アールあたり0.05 P〜50F、好まし
くは0.02r〜1001であり、乳剤、水和剤、懸濁
剤等は、通常その所定量を1アールあたりl IJット
ル〜10リットルの(必要ならば、張着剤等の補助剤を
添加した)水で希釈して処理し、粒剤等は、通常なんら
希釈することなくそのま\処理する。
展着剤としては、前記の界面活性剤のほか、ポリオキシ
エチレン樹脂酸(エステル)、リグニンスルホン酸塩、
アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、パ
ラフィン等があげられる。
エチレン樹脂酸(エステル)、リグニンスルホン酸塩、
アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、パ
ラフィン等があげられる。
次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であ
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は、第1表
の化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は第2表
の化合物記号で示す。
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は、第1表
の化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は第2表
の化合物記号で示す。
第 2 表
また、除草効力は、調査時の供試植物の出芽および生育
阻害の程度を肉眼観察し、化合物を供試していない場合
と全くないしほとんど違いがないものを「0」とし、供
試植物が枯死ないし生育が完全に阻害されているものを
「5」として、0〜5の6段階に評価し、0、l、2.
8.4.5で示す。
阻害の程度を肉眼観察し、化合物を供試していない場合
と全くないしほとんど違いがないものを「0」とし、供
試植物が枯死ないし生育が完全に阻害されているものを
「5」として、0〜5の6段階に評価し、0、l、2.
8.4.5で示す。
試験例1 畑地土壌処理試験
直径10crn、深さ106r1の円筒型プラスチック
ポットに畑地土壌を詰め、ヒエ、マルバアサガオ、イチ
ビを播種し、覆土した。
ポットに畑地土壌を詰め、ヒエ、マルバアサガオ、イチ
ビを播種し、覆土した。
製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を
、1アールあたり10リツトル相当の水で希釈し、小型
噴霧器で土壌表面に処理した。処理後20日間温室内で
育成し、除草効力を調査した。その結果を第3表に示す
。
、1アールあたり10リツトル相当の水で希釈し、小型
噴霧器で土壌表面に処理した。処理後20日間温室内で
育成し、除草効力を調査した。その結果を第3表に示す
。
第 8 表
試験例2 畑地茎葉処理試験
直径10c1r1、深さ1Ocrnの円筒型プラスチッ
クポットに畑地土壌を詰め、ヒエ、ダイコン、イチビを
播種し、温室内で10日間育成した。その後、製剤例2
に準じて供試化合物を乳剤にして、その所定量を、1ア
ールあたり10リツトル相当の展着剤を含む水で希釈し
、小型噴霧器で植物体の上方から茎葉処理した。処理後
20日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結
果を第4表に示す。
クポットに畑地土壌を詰め、ヒエ、ダイコン、イチビを
播種し、温室内で10日間育成した。その後、製剤例2
に準じて供試化合物を乳剤にして、その所定量を、1ア
ールあたり10リツトル相当の展着剤を含む水で希釈し
、小型噴霧器で植物体の上方から茎葉処理した。処理後
20日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結
果を第4表に示す。
\、
ゝゝ\
\11、
ゝ、 −、
パ\2.1)
パ\、
へ
第4表
−Z’/ −
(つづき)
試験例8 水田湛水処理試験
直径8c1n1深さ12閏の円筒型プラスチックポット
に水田土壌を詰め、タイヌビエ、広葉雑草(アゼナ、キ
カシグサ、ミゾハコベ)の種子を1〜2−の深さに混ぜ
込んだ。
に水田土壌を詰め、タイヌビエ、広葉雑草(アゼナ、キ
カシグサ、ミゾハコベ)の種子を1〜2−の深さに混ぜ
込んだ。
湛水して水田状態にした後、更に2葉期のイネを移植し
、温室内で育成した。6日後(各雑草の発生初期)に製
剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を5
ミIJ IJットルの水で希釈し、水面に処理した。
、温室内で育成した。6日後(各雑草の発生初期)に製
剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を5
ミIJ IJットルの水で希釈し、水面に処理した。
処理後20日間温室内で育成し、除草効力を調査した。
その結果を第5表に示す。
第5表
試験例4 畑地土壌処理試験
面積[lX28d、深さ11cTnのバットに畑地土嗅
を詰め、ダイズ、ワタ、トウモロコシ、オナモミ、マル
バアサガオ、イチビ、アオビユ、イヌホオズキ、イヌビ
エ、エノコログサ、を播種し、1〜2ctnの厚さに覆
土した。製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その
所定量を、1アールあたり101Jツトル相当の水で希
釈し、小型噴霧器で土壌表面に処理した。処理後20日
間温室内で育成し、除草効力を調査した。
を詰め、ダイズ、ワタ、トウモロコシ、オナモミ、マル
バアサガオ、イチビ、アオビユ、イヌホオズキ、イヌビ
エ、エノコログサ、を播種し、1〜2ctnの厚さに覆
土した。製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その
所定量を、1アールあたり101Jツトル相当の水で希
釈し、小型噴霧器で土壌表面に処理した。処理後20日
間温室内で育成し、除草効力を調査した。
その結果を第6表に示す。
試験例5 畑地土壌処理試験
面積88X28cd、深さ1lcrnのバットに畑地土
壌を詰め、コムギ、ヤエムグラ、オオイヌノフグリ、ハ
コベ、シロザ、サナエタデ、ソバカズラ、スズメノカタ
ビラを播種し、1〜2anの厚さに覆土した。製剤例2
に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を、1アー
ルあたりl 01Jツトル相当の水で希釈し、小型噴霧
器で土壌表面に処理した。処理後27日間温室内で育成
し、除草効力を調査した。その結果を第7表に示す。
壌を詰め、コムギ、ヤエムグラ、オオイヌノフグリ、ハ
コベ、シロザ、サナエタデ、ソバカズラ、スズメノカタ
ビラを播種し、1〜2anの厚さに覆土した。製剤例2
に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を、1アー
ルあたりl 01Jツトル相当の水で希釈し、小型噴霧
器で土壌表面に処理した。処理後27日間温室内で育成
し、除草効力を調査した。その結果を第7表に示す。
試験例6 畑地茎葉処理試験
面積88X28d、深さ11crnのバットに畑地土壌
を詰め、トウモロコシ、コムギ、テンサイ、オナモミ、
イチビ、イヌホオズキ、マルバアサガオ、シロザ、エノ
コログサを播種し、18日間育成した。その後、製剤例
2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を、展着
剤を含む1アールあたり5リツトル相当の水で希釈し、
小型噴霧器で植物体の上方から茎葉部会面に均一に処理
した。このとき雑草および作物の生育状況は草種により
異なるが、1〜4葉期で、草丈は2〜12−であった。
を詰め、トウモロコシ、コムギ、テンサイ、オナモミ、
イチビ、イヌホオズキ、マルバアサガオ、シロザ、エノ
コログサを播種し、18日間育成した。その後、製剤例
2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を、展着
剤を含む1アールあたり5リツトル相当の水で希釈し、
小型噴霧器で植物体の上方から茎葉部会面に均一に処理
した。このとき雑草および作物の生育状況は草種により
異なるが、1〜4葉期で、草丈は2〜12−であった。
処理20日後に除草効力を調査した。その結果を第8表
に示す。なお、本試験は、全期間を通して温室内で行っ
た。
に示す。なお、本試験は、全期間を通して温室内で行っ
た。
手続補正書(自発)
昭和10年2月7日
Claims (3)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1はC_1−C_5アルキル基、C_3−
C_5アルケニル基、C_3−C_5アルキニル基また
はC_1−C_3アルコキシメチル基を表わし、Xは水
素原子、フッ素原子または 塩素原子を表わし、Aは▲数式、化学式、表等がありま
す▼または ▲数式、化学式、表等があります▼(ここに、R^2は
水素原子または メチル基を表わし、R^3は水素原子またはメチル基を
表わし、窒素原子はベンゼン環 に結合している。)を表わす。〕 で示されるテトラヒドロフタルイミド誘導体。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子、フッ素原子または 塩素原子を表わし、Aは ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼(ここに、R^2は 水素原子またはメチル基を表わし、R^3は水素原子ま
たはメチル基を表わし、窒素原 子はベンゼン環に結合している。)を表わ す。〕 で示されるテトラヒドロフタルイミド誘導体と、一般式 R^1Y 〔式中、R^1はC_1−C_5アルキル基、C_3−
C_5アルケニル基、C_3−C_5アルキニル基また
はC_1−C_3アルコキシメチル基を表わし、Yは塩
素原子、臭素原子またはヨウ素 原子を表わす。〕 で示されるハロゲン化物とを反応させることを特徴とす
る一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、XおよびAは前記と同じ意味を表わす
。〕 で示されるテトラヒドロフタルイミド誘導体の製造法。 - (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1はC_1−C_5アルキル基、C_3−
C_5アルケニル基、C_3−C_5アルキニル基また
はC_1−C_3アルコキシメチル基を表わし、Xは水
素原子、フッ素原子または塩素原子 を表わし、Aは▲数式、化学式、表等があります▼また
は▲数式、化学式、表等があります▼ (ここに、R^2は水素原子またはメチル基を表わし、
R^3は水素原子またはメチル基を表わし、窒素原子は
ベンゼン環に結合し ている。)を表わす。〕 で示されるテトラヒドロフタルイミド誘導体を有効成分
とすることを特徴とする除草剤。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59207498A JPH06777B2 (ja) | 1984-10-03 | 1984-10-03 | テトラヒドロフタルイミド誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 |
AU48182/85A AU575202B2 (en) | 1984-10-03 | 1985-09-27 | 2-(2-quinoxalinon-7-yl) isoindol-1,3-dione derivatives |
DE8585112471T DE3575302D1 (de) | 1984-10-03 | 1985-10-02 | Tetrahydrophthalimide, deren herstellung und deren verwendung. |
US06/783,104 US4670042A (en) | 1984-10-03 | 1985-10-02 | Tetrahydrophthalimides, and their production and use as herbicides |
EP89102312A EP0322401B1 (en) | 1984-10-03 | 1985-10-02 | Tetrahydrophthalimide derivatives, their production and use |
EP85112471A EP0177032B1 (en) | 1984-10-03 | 1985-10-02 | Tetrahydrophthalimides, and their production and use |
DE8989102312T DE3586324T2 (de) | 1984-10-03 | 1985-10-02 | Tetrahydrophthalimidderivate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung. |
CA000492126A CA1244429A (en) | 1984-10-03 | 1985-10-03 | TETRAHYDROPHTALIMIDES; PREPARATION AND USE AS HERBICIDES |
CA000564547A CA1250843A (en) | 1984-10-03 | 1988-04-20 | Quinoxaline and their production |
CA000564548A CA1250849A (en) | 1984-10-03 | 1988-04-20 | N-phenylamino acid esters and their production |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59207498A JPH06777B2 (ja) | 1984-10-03 | 1984-10-03 | テトラヒドロフタルイミド誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3256497A Division JPH0657708B2 (ja) | 1991-10-03 | 1991-10-03 | テトラヒドロフタルイミド誘導体 |
JP3256502A Division JPH0676376B2 (ja) | 1991-10-03 | 1991-10-03 | N−フェニルアミノ酸エステル誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6185385A true JPS6185385A (ja) | 1986-04-30 |
JPH06777B2 JPH06777B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=16540706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59207498A Expired - Lifetime JPH06777B2 (ja) | 1984-10-03 | 1984-10-03 | テトラヒドロフタルイミド誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4670042A (ja) |
EP (2) | EP0322401B1 (ja) |
JP (1) | JPH06777B2 (ja) |
AU (1) | AU575202B2 (ja) |
CA (1) | CA1244429A (ja) |
DE (2) | DE3575302D1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0408382A2 (en) | 1989-07-14 | 1991-01-16 | Nissan Chemical Industries, Limited | Uracil derivatives and herbicides containing the same as active ingredient |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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