JPS6184606A - 偏光ビ−ムスプリツタ− - Google Patents
偏光ビ−ムスプリツタ−Info
- Publication number
- JPS6184606A JPS6184606A JP20734784A JP20734784A JPS6184606A JP S6184606 A JPS6184606 A JP S6184606A JP 20734784 A JP20734784 A JP 20734784A JP 20734784 A JP20734784 A JP 20734784A JP S6184606 A JPS6184606 A JP S6184606A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- optical thickness
- thin film
- index material
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光の偏光状態によって光の進行方向を分離する
偏光ビームスプリッタ−に関するものである。
偏光ビームスプリッタ−に関するものである。
従来例の構成とその問題点
通常の偏光ビームスプリッタ−は光学的厚みが1A波長
の高屈折率(屈折率nH)薄膜と低屈折率(屈折率nL
)の薄膜を交互てくり返して構成される多層膜を2個の
46°プリズムの間に蒸着貼合せて構成されることはよ
く知られている。
の高屈折率(屈折率nH)薄膜と低屈折率(屈折率nL
)の薄膜を交互てくり返して構成される多層膜を2個の
46°プリズムの間に蒸着貼合せて構成されることはよ
く知られている。
中心波長λ1 において光学的厚みがλ、/4である高
屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜をそれぞれHおよびLと
表せば、プリズムの屈折率をns として、上記の構
成は形式的に nsl HLH−−−−−m、Hl ns−−−−(1
)と表される。また、光学的厚みがλ、/8の高屈折率
と低屈折率の薄膜をそれずれH/ 2およびL/2と表
せば、 のような構成も用いられている。(2)は簡略化しての
ように表すことができる。ここで、mは任意の整数であ
り、このときの膜の総数は2m+1である。
屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜をそれぞれHおよびLと
表せば、プリズムの屈折率をns として、上記の構
成は形式的に nsl HLH−−−−−m、Hl ns−−−−(1
)と表される。また、光学的厚みがλ、/8の高屈折率
と低屈折率の薄膜をそれずれH/ 2およびL/2と表
せば、 のような構成も用いられている。(2)は簡略化しての
ように表すことができる。ここで、mは任意の整数であ
り、このときの膜の総数は2m+1である。
第1図に(2)の構成の偏光ビームスプリッタ−の断面
図を示す。第1図で1と2は46°プリズヘ3は光学的
厚みがλ、/8の高屈折率物質、4は光学的厚みがλ1
/4の低屈折率物質、6は光学的厚みがλ、/4の高屈
折率物質である。
図を示す。第1図で1と2は46°プリズヘ3は光学的
厚みがλ、/8の高屈折率物質、4は光学的厚みがλ1
/4の低屈折率物質、6は光学的厚みがλ、/4の高屈
折率物質である。
第2図に(3)の構成で、nH==2.3、n、 −q
、46、n、=:1.52、m=16とした場合のP
偏光波とS偏光波に対する規格化波長λ/λ、対透過率
の計算値を示す。偏光ビームスプリッタ−ではP偏光波
の透過率が高く、S偏光波の反射率が大きいことが望ま
しい。第2図のようにP偏光波の透過率にリップルがあ
ると、偏光ビームスプリンターとして使用できる波長範
囲は制限されることになる。
、46、n、=:1.52、m=16とした場合のP
偏光波とS偏光波に対する規格化波長λ/λ、対透過率
の計算値を示す。偏光ビームスプリッタ−ではP偏光波
の透過率が高く、S偏光波の反射率が大きいことが望ま
しい。第2図のようにP偏光波の透過率にリップルがあ
ると、偏光ビームスプリンターとして使用できる波長範
囲は制限されることになる。
(2)tたは(3)で表されるような構成では本質的に
P偏光波の透過率にリップルが生じ、膜の総数が増すに
つれてリップル点での透過率の低下も大きくなる。
P偏光波の透過率にリップルが生じ、膜の総数が増すに
つれてリップル点での透過率の低下も大きくなる。
このようなリップルを低減する方法としては各層の光学
的膜厚をλ、/4(またはλ1/8)から試行錯誤でわ
ずかずつずらす方法が知られている。
的膜厚をλ、/4(またはλ1/8)から試行錯誤でわ
ずかずつずらす方法が知られている。
この方法では膜厚をずらす割合は各層によって異なシ規
則性がなく、設計における計算時間も長くかかるという
欠点がある。また、実際に製造する場合にも各層の膜厚
が個々に異なるため膜厚制御が難しいという欠点がある
。
則性がなく、設計における計算時間も長くかかるという
欠点がある。また、実際に製造する場合にも各層の膜厚
が個々に異なるため膜厚制御が難しいという欠点がある
。
発明の目的
本発明はP偏光波の透過率特性のリップルを簡単に低減
できる構成の偏光ビームスプリッタ−を与えることを目
的とする。
できる構成の偏光ビームスプリッタ−を与えることを目
的とする。
発明の構成
本発明は、中心波長λ、において光学的厚みがλ、/8
である高屈折率(屈折率n11)の薄膜と光学的厚みが
λ1/4である低屈折率(屈折率nL)の薄膜と光学的
厚みがλ1/8である高屈折率(屈折率n、 )の薄
膜から成る3層薄膜を基本周期として、これをm周期(
mは任意の整数)くり返して構成した多層薄膜(主要層
と呼ぶ)の両側に中心波長をλ2 (λ24λ1)とし
た上記3層薄膜と同様な構成を基本周期として、これを
3周期くり返して構成した多層薄膜(整合層と呼ぶ)を
積層して成る多層薄膜を2個の46°のプリズム(屈折
率”s )の間に蒸着して貼合せて構成した偏光ビー
ムスプリッタ−であり、上記中心波長λ2 をP偏光波
の透過率の低下する第1リツプル波長における上記主要
層のP偏光波に対する等側屈折率E1 と上記整合層
のP偏光波に対する等側屈折率E2 とがIC2=n
−なる関係を満たすように選んでリップルを低減させる
ものである。
である高屈折率(屈折率n11)の薄膜と光学的厚みが
λ1/4である低屈折率(屈折率nL)の薄膜と光学的
厚みがλ1/8である高屈折率(屈折率n、 )の薄
膜から成る3層薄膜を基本周期として、これをm周期(
mは任意の整数)くり返して構成した多層薄膜(主要層
と呼ぶ)の両側に中心波長をλ2 (λ24λ1)とし
た上記3層薄膜と同様な構成を基本周期として、これを
3周期くり返して構成した多層薄膜(整合層と呼ぶ)を
積層して成る多層薄膜を2個の46°のプリズム(屈折
率”s )の間に蒸着して貼合せて構成した偏光ビー
ムスプリッタ−であり、上記中心波長λ2 をP偏光波
の透過率の低下する第1リツプル波長における上記主要
層のP偏光波に対する等側屈折率E1 と上記整合層
のP偏光波に対する等側屈折率E2 とがIC2=n
−なる関係を満たすように選んでリップルを低減させる
ものである。
実施例の説明
本発明の実施例を図面を参照して説明する。第3図にお
いて、6と7は46°プリズム、8は光学的厚みがλ1
/8の高屈折率物質、9は光学的厚みがλ、/4の低屈
折率物質、1oは光学的厚みがλ、/4の高屈折率物質
、11は整合層である。
いて、6と7は46°プリズム、8は光学的厚みがλ1
/8の高屈折率物質、9は光学的厚みがλ、/4の低屈
折率物質、1oは光学的厚みがλ、/4の高屈折率物質
、11は整合層である。
第4図に第3図の整合層11の具体的な構成を示す。第
4図において12は光学的厚みがλ2/8の高屈折率物
質、13は光学的厚みがλ2/4の低屈折率物質、14
は光学的厚みがλ2/4の高屈折率物質である、 前述の記法を用いると本発明の構成は、n5l(F””
)3(Mf’(H”L”)’Ins −・・(4)
と表される。とこでH′とL′は中心波長λ2(λ2〜
λ、 )における光学的厚みがλ2/4の高屈折率nH
と低屈折率nL の薄膜を表す。
4図において12は光学的厚みがλ2/8の高屈折率物
質、13は光学的厚みがλ2/4の低屈折率物質、14
は光学的厚みがλ2/4の高屈折率物質である、 前述の記法を用いると本発明の構成は、n5l(F””
)3(Mf’(H”L”)’Ins −・・(4)
と表される。とこでH′とL′は中心波長λ2(λ2〜
λ、 )における光学的厚みがλ2/4の高屈折率nH
と低屈折率nL の薄膜を表す。
次に中心波長λ2 の決め方を説明する。
(H/2 L H/2 )構成のP偏光波に対する等
側屈折率Eと等価位相角rは以下のように与えられる: δ=π/2/(λ/λ、) ・・・・・
・ (5)θ。=45° ・・
・・・・ (6)・=バー”s/nH)’ 5irl’
τ ・・・・・・(ηβ= i −(n、/n、
)’ sin’ξ ・・・・・・(8)ηに=n−・
・・・・・ (9) ηL:nLβ ・・・・・
・ (10)ρ=ηH/九 ・
・・・・(11)M=cosaδcosβδ−V2(ρ
+1/ρ)Sinαδsinβδ、、−(12)’+
= (’/7H)(’工naδaosβδ+h <p+
+/p )cosaδsinβδ+h (p−+/p
)sinβδ) −−−−・−(13)
’2 ” ηHC8λnaδcosβδ+ h (ρ+
1/p)cosaδsinβδ’A Cp−!/II’
)sinβδ) −・、−(14)として g=5フ[・・・・・・(15) r = cos ’M =−=
−(1s)である。
側屈折率Eと等価位相角rは以下のように与えられる: δ=π/2/(λ/λ、) ・・・・・
・ (5)θ。=45° ・・
・・・・ (6)・=バー”s/nH)’ 5irl’
τ ・・・・・・(ηβ= i −(n、/n、
)’ sin’ξ ・・・・・・(8)ηに=n−・
・・・・・ (9) ηL:nLβ ・・・・・
・ (10)ρ=ηH/九 ・
・・・・(11)M=cosaδcosβδ−V2(ρ
+1/ρ)Sinαδsinβδ、、−(12)’+
= (’/7H)(’工naδaosβδ+h <p+
+/p )cosaδsinβδ+h (p−+/p
)sinβδ) −−−−・−(13)
’2 ” ηHC8λnaδcosβδ+ h (ρ+
1/p)cosaδsinβδ’A Cp−!/II’
)sinβδ) −・、−(14)として g=5フ[・・・・・・(15) r = cos ’M =−=
−(1s)である。
(H/2 L H/2 )mの第1リツプルの生ず
るδは C05r = −COs (3π/2 m )
−・−・・(17)を満たすδで与えられる。こ
れをδ1 で表す。
るδは C05r = −COs (3π/2 m )
−・−・・(17)を満たすδで与えられる。こ
れをδ1 で表す。
(H72L’H72)構成の等側屈折率E′と等価位相
角r′はδを δl:δ(λ2/λ、) ・・・・・・(
18)で置きかえればEとγと同様な式で与えられる。
角r′はδを δl:δ(λ2/λ、) ・・・・・・(
18)で置きかえればEとγと同様な式で与えられる。
δrでのEとE、とし、Σ′が
T!、2:+Arvr−・・・・−(19)となるとき
のδ′をδ1′とすれば λ2/λ1=δ、1/δr−・−・−G20)となる。
のδ′をδ1′とすれば λ2/λ1=δ、1/δr−・−・−G20)となる。
これがλ1 を与えたときのλ2 を与える。
次に、λ2 を上記の工うに選んだ場合にリップルが低
減される理由を説明する。
減される理由を説明する。
従来例のような主要層のみから成る偏光ビームスプリッ
タ−では、上記のδ1での主要層の等側屈折率2.とプ
リズムの屈折率ns の不整合からリップルが生ずる。
タ−では、上記のδ1での主要層の等側屈折率2.とプ
リズムの屈折率ns の不整合からリップルが生ずる。
従って、δ1において等側屈折率がIC2=f[町で、
位相角が90’の奇数倍となるような等測的な整合層を
挿入すれば主要層とプリズムの屈折率の整合がとれるこ
とになり、この結果リップルは低減される0 (H’ /2 L’ H’/2 ) ’の位相角は上記
のようにしてC2を決めると正確に90’の奇数倍にす
ることはできないが、通常偏光ビームスプリッタ−に用
いられている高屈折率物質TiO□(nH= 2.3
)と低屈折率物質5in2(nL:1.46 )K対し
ては、4600近くになる。
位相角が90’の奇数倍となるような等測的な整合層を
挿入すれば主要層とプリズムの屈折率の整合がとれるこ
とになり、この結果リップルは低減される0 (H’ /2 L’ H’/2 ) ’の位相角は上記
のようにしてC2を決めると正確に90’の奇数倍にす
ることはできないが、通常偏光ビームスプリッタ−に用
いられている高屈折率物質TiO□(nH= 2.3
)と低屈折率物質5in2(nL:1.46 )K対し
ては、4600近くになる。
第5図に、n、 =2.3、nL、=1.46、n5=
1.62、m=9とした場合の本発明の構成によってリ
ップルを低減した例を示す。膜の総数は第2図と同じ3
1層である。この場合λ2=Q、97λ1である。第2
図と第゛6図を比べれば、本発明の構成により大幅にリ
ップルが低減されていることがわかる。
1.62、m=9とした場合の本発明の構成によってリ
ップルを低減した例を示す。膜の総数は第2図と同じ3
1層である。この場合λ2=Q、97λ1である。第2
図と第゛6図を比べれば、本発明の構成により大幅にリ
ップルが低減されていることがわかる。
発明の効果
以上のように本発明は、多層膜の膜厚を個々に調整して
複雑な計算をすることなく、簡単な計算によってP偏光
波のりノズルを低減できるという特長をもった偏光ビー
ムス゛プリッタ−の構成を与えるものである。また、本
発明はプリズムに近い膜の光学的膜厚をすべて一定の割
合でVhe長またはVse長からずらすようにしている
ので、製造時の膜厚の制御が容易であるという特長も有
する。
複雑な計算をすることなく、簡単な計算によってP偏光
波のりノズルを低減できるという特長をもった偏光ビー
ムス゛プリッタ−の構成を与えるものである。また、本
発明はプリズムに近い膜の光学的膜厚をすべて一定の割
合でVhe長またはVse長からずらすようにしている
ので、製造時の膜厚の制御が容易であるという特長も有
する。
第1図は従来の偏光ビームスプリンターの構成図、第2
図は従来の偏光ビームスプリッタ−)規格化波長対透過
率特性の一例を示す線図、第3図は本発明の一実施例に
よる偏光ビームスプリッタ−の基本的構成を示す図、第
4図は整合層の具体的構成を示す図、第6図は本発明の
偏光ビームスプリッタ−の規格化波長対透過率特性の一
例を示す線図である。 6.7・・・・・・45°プリズム、8・・・・・・光
学的厚みがλ、/8の高屈折率物質、9・・・・・・光
学的厚みがλ、/4の低屈折率物質、10・・・・・・
光学的厚みがλ1/4の高屈折率物質、11・・・・・
・整合層、12・・・・・・光学的厚みがλ2/8の高
屈折率物質、13・・・・・・光学的厚みがλ2/4の
低屈折率物質、14・・・・・・光学的厚みがλ2/4
の高屈折率物質・ 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 8 9 1 L1 7tJORMALrZED WAVELENGTH第3
図 第4図
図は従来の偏光ビームスプリッタ−)規格化波長対透過
率特性の一例を示す線図、第3図は本発明の一実施例に
よる偏光ビームスプリッタ−の基本的構成を示す図、第
4図は整合層の具体的構成を示す図、第6図は本発明の
偏光ビームスプリッタ−の規格化波長対透過率特性の一
例を示す線図である。 6.7・・・・・・45°プリズム、8・・・・・・光
学的厚みがλ、/8の高屈折率物質、9・・・・・・光
学的厚みがλ、/4の低屈折率物質、10・・・・・・
光学的厚みがλ1/4の高屈折率物質、11・・・・・
・整合層、12・・・・・・光学的厚みがλ2/8の高
屈折率物質、13・・・・・・光学的厚みがλ2/4の
低屈折率物質、14・・・・・・光学的厚みがλ2/4
の高屈折率物質・ 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 8 9 1 L1 7tJORMALrZED WAVELENGTH第3
図 第4図
Claims (1)
- 中心波長λ_1において光学的厚みがλ_1/8である
高屈折率(屈折率n_H)の薄膜と光学的厚みがλ_1
/4である低屈折率(屈折率n_L)の薄膜と光学的厚
みがλ_1/8である高屈折率(屈折率n_H)の薄膜
からなる3層薄膜を基本周期として、これをm周期(m
は任意の整数)くり返して構成した多層薄膜(主要層と
呼ぶ)の両側に、中心波長をλ_2(λ_2≠λ_1)
とした上記3層薄膜と同様な構成を基本周期としてこれ
を3周期くり返して構成した多層薄膜(整合層と呼ぶ)
を積層して成る多層薄膜を2個45°プリズム(屈折率
n_S)の間に蒸着して貼合せて構成し、上記中心波長
λ_2をP偏光波の透過率の低下する第1リップル波長
における上記主要層のP偏光波に対する等価屈折率E_
1と上記整合層のP偏光波に対する等価屈折率E_2と
が、E_2=√(E_1n_S)なる関係を満たすよう
に選び前記P偏光波のリップルを低減したことを特徴と
する偏光ビームスプリッター。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20734784A JPS6184606A (ja) | 1984-10-02 | 1984-10-02 | 偏光ビ−ムスプリツタ− |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20734784A JPS6184606A (ja) | 1984-10-02 | 1984-10-02 | 偏光ビ−ムスプリツタ− |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6184606A true JPS6184606A (ja) | 1986-04-30 |
JPH0535403B2 JPH0535403B2 (ja) | 1993-05-26 |
Family
ID=16538230
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20734784A Granted JPS6184606A (ja) | 1984-10-02 | 1984-10-02 | 偏光ビ−ムスプリツタ− |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6184606A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01315704A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-12-20 | Alcatel Cit | 誘電性積層偏光器 |
WO1995021137A1 (fr) * | 1994-02-07 | 1995-08-10 | Nikon Corporation | Verre optique pour systemes optiques polarisants, procede de fabrication correspondant et dispositif de fractionnement du faisceau polarisant |
US5808795A (en) * | 1995-03-06 | 1998-09-15 | Nikon Corporation | Projection type display apparatus |
US5918961A (en) * | 1996-05-10 | 1999-07-06 | Nikon Corporation | Projection type display device |
US5969861A (en) * | 1994-02-07 | 1999-10-19 | Nikon Corporation | Polarizing optical system |
US6062694A (en) * | 1995-03-06 | 2000-05-16 | Nikon Corporation | Projection type display apparatus |
US6227670B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-05-08 | Nikon Corporation | Projection type display apparatus |
US6432854B1 (en) | 1994-02-07 | 2002-08-13 | Nikon Corporation | Optical glass for polarizing optical system, production process therefor and polarizing beam splitter |
CN110749950A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-02-04 | 沈阳仪表科学研究院有限公司 | 一种折射率匹配的消偏振膜系 |
WO2023065828A1 (zh) * | 2021-10-21 | 2023-04-27 | 沈阳仪表科学研究院有限公司 | 多色荧光检测用多通带消偏振二向分色滤光片 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5144414A (ja) * | 1974-10-09 | 1976-04-16 | Hitachi Electronics |
-
1984
- 1984-10-02 JP JP20734784A patent/JPS6184606A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5144414A (ja) * | 1974-10-09 | 1976-04-16 | Hitachi Electronics |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01315704A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-12-20 | Alcatel Cit | 誘電性積層偏光器 |
WO1995021137A1 (fr) * | 1994-02-07 | 1995-08-10 | Nikon Corporation | Verre optique pour systemes optiques polarisants, procede de fabrication correspondant et dispositif de fractionnement du faisceau polarisant |
US5969861A (en) * | 1994-02-07 | 1999-10-19 | Nikon Corporation | Polarizing optical system |
US6432854B1 (en) | 1994-02-07 | 2002-08-13 | Nikon Corporation | Optical glass for polarizing optical system, production process therefor and polarizing beam splitter |
US5808795A (en) * | 1995-03-06 | 1998-09-15 | Nikon Corporation | Projection type display apparatus |
US6062694A (en) * | 1995-03-06 | 2000-05-16 | Nikon Corporation | Projection type display apparatus |
US6227670B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-05-08 | Nikon Corporation | Projection type display apparatus |
US6464360B2 (en) | 1995-03-06 | 2002-10-15 | Nikon Corporation | Projection type display apparatus |
US5918961A (en) * | 1996-05-10 | 1999-07-06 | Nikon Corporation | Projection type display device |
CN110749950A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-02-04 | 沈阳仪表科学研究院有限公司 | 一种折射率匹配的消偏振膜系 |
CN110749950B (zh) * | 2019-11-29 | 2021-11-12 | 沈阳仪表科学研究院有限公司 | 一种折射率匹配的消偏振膜系 |
WO2023065828A1 (zh) * | 2021-10-21 | 2023-04-27 | 沈阳仪表科学研究院有限公司 | 多色荧光检测用多通带消偏振二向分色滤光片 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0535403B2 (ja) | 1993-05-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6590707B1 (en) | Birefringent reflectors using isotropic materials and form birefringence | |
JPH0223302A (ja) | 光パルスの周波数チャープ補償が出来る誘電体多層膜 | |
JPH07209623A (ja) | 可変波長フィルタ | |
JPH01315704A (ja) | 誘電性積層偏光器 | |
JPS6184606A (ja) | 偏光ビ−ムスプリツタ− | |
JPH07311303A (ja) | 光束分割素子 | |
JP2003172824A (ja) | 偏光ビームスプリッタ及びこれを用いた偏光子 | |
JPH08254611A (ja) | ビーム・スプリッタ | |
US6392801B1 (en) | Wide-angle rugate polarizing beamsplitter | |
US5319494A (en) | Light waveguide type polarized light beam splitter | |
JPH02187732A (ja) | 光学フィルター | |
JP3228773B2 (ja) | 光アイソレータ | |
JPH0682623A (ja) | 光ビーム分離素子及びその作製方法 | |
JP2862423B2 (ja) | 偏光ビームスプリッター | |
JPH08146218A (ja) | 偏光ビームスプリッター | |
JPH06308305A (ja) | 非偏光ビームスプリッター | |
JPH04116601A (ja) | 位相差素子 | |
JPH06174905A (ja) | 非偏光ビームスプリッター | |
JP2650048B2 (ja) | Co▲下2▼レーザ用ビームスプリッタ膜 | |
JP2650047B2 (ja) | Coレーザ用ビームスプリッタ膜 | |
JPH10154345A (ja) | 偏光ビームスプリッター | |
JP2001004840A (ja) | 偏光ビームスプリッタ | |
JPH07225316A (ja) | 偏光ビームスプリッター | |
JPH0263004A (ja) | 光波長フィルタ装置 | |
JPS63266402A (ja) | 反射防止膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |