JPS6180240A - 架橋性感光性重合体組成物 - Google Patents
架橋性感光性重合体組成物Info
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- JPS6180240A JPS6180240A JP60205180A JP20518085A JPS6180240A JP S6180240 A JPS6180240 A JP S6180240A JP 60205180 A JP60205180 A JP 60205180A JP 20518085 A JP20518085 A JP 20518085A JP S6180240 A JPS6180240 A JP S6180240A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
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- G—PHYSICS
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
本発明は感光性重合体組成物、および、導電性表面上に
着着性の均一な感光性の膜を設けるための電気泳動付着
法にそれを使用することに関する。
着着性の均一な感光性の膜を設けるための電気泳動付着
法にそれを使用することに関する。
もつと詳しく云うと、本発明は帯電キャリア基を有する
重合体少なくとも１種と光開始剤と化学線露光時に付着
膜を架橋させるための不飽和源との水性エマルジョンま
たは水溶液から成る感光性重合体組成物に関し、該組成
物は強い無機酸および水性塩基に抵抗性である水性現像
可能な均一なネガ作用膜として導電性表面上に電気泳動
付着されることができる。本発明の好ましい態様は正帯
電キャリア基を有する重合体少なくとも１種と光開始剤
と不飽和多官能性架橋用単量体とを含有する感光性重合
体組成物からカソード電気泳動付着によって形成された
水性現像可能なネガフォトレジスト膜に関する。
重合体少なくとも１種と光開始剤と化学線露光時に付着
膜を架橋させるための不飽和源との水性エマルジョンま
たは水溶液から成る感光性重合体組成物に関し、該組成
物は強い無機酸および水性塩基に抵抗性である水性現像
可能な均一なネガ作用膜として導電性表面上に電気泳動
付着されることができる。本発明の好ましい態様は正帯
電キャリア基を有する重合体少なくとも１種と光開始剤
と不飽和多官能性架橋用単量体とを含有する感光性重合
体組成物からカソード電気泳動付着によって形成された
水性現像可能なネガフォトレジスト膜に関する。
発明の背景
本発明は液状型フォトレジストの分野、および導電性表
面上にかかる膜馨付着させるための電気泳動方法に関す
る。
面上にかかる膜馨付着させるための電気泳動方法に関す
る。
フォトレジストはプリント回路板や平版印刷板の金属表
面のような導電性表面上に画像を転写することン可能に
する感光性の膜である。液状型フォトレジストは一般に
、有機液体のような溶剤中に溶解または分散されたフィ
ルム形成性樹脂または重合体と、感光性化合物または光
開始剤との組合わせから収る。
面のような導電性表面上に画像を転写することン可能に
する感光性の膜である。液状型フォトレジストは一般に
、有機液体のような溶剤中に溶解または分散されたフィ
ルム形成性樹脂または重合体と、感光性化合物または光
開始剤との組合わせから収る。
フォトレジスト即ちネガレジストの場合には、表面上に
膜を付着させ、そして加熱等によって溶剤ケ除失した後
に、一般にフォトマスクを介して紫外線のようなエネル
ギー源で膜を選択露光する。
膜を付着させ、そして加熱等によって溶剤ケ除失した後
に、一般にフォトマスクを介して紫外線のようなエネル
ギー源で膜を選択露光する。
フォトマスクは露光用光線に対して不透明な領域と透明
な領域とを有している。不透明領域と透明領域によって
形成されたフォトマスク上のパターンは基体表面に転写
されるべき所望画像例えば回路を規定する。ネガレジス
ト膜の露光部は露光時の光開始剤と重合体または樹脂と
の間の光化学反応の結果、非露光部よりも現像液に可溶
性でなくなる。この溶解度差は非露光膜の選択的除去を
可能にしそして基体表面への画像転写を可能にする。
な領域とを有している。不透明領域と透明領域によって
形成されたフォトマスク上のパターンは基体表面に転写
されるべき所望画像例えば回路を規定する。ネガレジス
ト膜の露光部は露光時の光開始剤と重合体または樹脂と
の間の光化学反応の結果、非露光部よりも現像液に可溶
性でなくなる。この溶解度差は非露光膜の選択的除去を
可能にしそして基体表面への画像転写を可能にする。
ポジレジストの場合、膜の露光部は光化学反応の結果、
非露光部よりも現像剤に可溶性になり、露光膜の選択的
除去を許す。どちらのタイプのレジスト膜においても現
像後には、レジストによって保護されていない表面部分
乞、一般に無機酸を含有する酸化用溶液の作用等によっ
てエツチングしてもよい。それから、残ったレジスト膜
を表面から剥離して基体上に望みの食刻画像のみを残し
てもよい。そうではなく、レジスト像を含有する基体表
面を金属または金属の組合わせ例えば錫と鉛によってめ
っきしてもよい。それからレジストな選択剥離してもよ
く、それから基体上の裸出金属をエツチングして基体表
面上に必要なパターンまたは回路を形成してもよい。従
来の７オトレジストの歴史的背景、タイプ、および操作
はフォトン（Ｐｈｏｔｏｒｓａｉ、ｓｔ Ｍａｔｅｒｉ
ａｌｓ ａｎａ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ） Ｗ、Ｓ。
非露光部よりも現像剤に可溶性になり、露光膜の選択的
除去を許す。どちらのタイプのレジスト膜においても現
像後には、レジストによって保護されていない表面部分
乞、一般に無機酸を含有する酸化用溶液の作用等によっ
てエツチングしてもよい。それから、残ったレジスト膜
を表面から剥離して基体上に望みの食刻画像のみを残し
てもよい。そうではなく、レジスト像を含有する基体表
面を金属または金属の組合わせ例えば錫と鉛によってめ
っきしてもよい。それからレジストな選択剥離してもよ
く、それから基体上の裸出金属をエツチングして基体表
面上に必要なパターンまたは回路を形成してもよい。従
来の７オトレジストの歴史的背景、タイプ、および操作
はフォトン（Ｐｈｏｔｏｒｓａｉ、ｓｔ Ｍａｔｅｒｉ
ａｌｓ ａｎａ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ） Ｗ、Ｓ。
デフオンスト著（マグｍ−ヒル、１９７５年）に記載さ
れている。
れている。
液状型レジストは長年平版印刷分野および電子工学分野
で使用されており、そしてその使用に伴ってレジストシ
ステムおよび処理工程について多数の改善がなされたに
もかかわらず、これ等従来の液状レジストは尚１つ以上
の欠点をかかえている。例えば、表面上への液状レジス
ト膜の良好な接着性を得るために特殊な表面調Ｎを必要
とする。
で使用されており、そしてその使用に伴ってレジストシ
ステムおよび処理工程について多数の改善がなされたに
もかかわらず、これ等従来の液状レジストは尚１つ以上
の欠点をかかえている。例えば、表面上への液状レジス
ト膜の良好な接着性を得るために特殊な表面調Ｎを必要
とする。
これは処理時間とコストを増大させる。また、レジスト
自体も他の特殊な処理工程例えば硬化や焼付工程を必要
とし、それがまた処理時間を増大させる。膜付着におけ
る材料損失および安定な系を再現可能に組立てることの
難しさをかかえた従来システムに利用されているレジス
ト成分のコストも問題になっている。しかしながら、液
状レジストの最も広く認められている弱点はボイドやピ
ンホールの形成なしで表面上に均−且つ十分な厚さの膜
を付着させることが困難なことである。さらに、最小の
露光量と露光時間に於いて露光用光線の広範囲にわたっ
て機能的であるエツチング浴およびめっき浴に対して抵
抗性であるレジストは依然必要とされている。液状レジ
スト自体合するため及び現像するために有機溶剤ヶ使用
することはまた、潜在的に健康、引火性、および環境の
問題をかかえこむばかりでなく、形成される画像を膨潤
させ達成可能な解像力を減少させる危険性をはらんでい
る。
自体も他の特殊な処理工程例えば硬化や焼付工程を必要
とし、それがまた処理時間を増大させる。膜付着におけ
る材料損失および安定な系を再現可能に組立てることの
難しさをかかえた従来システムに利用されているレジス
ト成分のコストも問題になっている。しかしながら、液
状レジストの最も広く認められている弱点はボイドやピ
ンホールの形成なしで表面上に均−且つ十分な厚さの膜
を付着させることが困難なことである。さらに、最小の
露光量と露光時間に於いて露光用光線の広範囲にわたっ
て機能的であるエツチング浴およびめっき浴に対して抵
抗性であるレジストは依然必要とされている。液状レジ
スト自体合するため及び現像するために有機溶剤ヶ使用
することはまた、潜在的に健康、引火性、および環境の
問題をかかえこむばかりでなく、形成される画像を膨潤
させ達成可能な解像力を減少させる危険性をはらんでい
る。
多数の従来の液状型感光性被膜が存在するにもかかわら
ず、ドライフィルム型レジストもプリント回路板の製造
に重要である。ドライフィルムレジストはフォトレジス
トがプレキャストされて固体膜になりそしてポリエチレ
ン膜とポリエステルカバーシートとの開にはさまれてい
る多層膜である。ドライフィルムレジストは米国特許第
３．４６９．９８２号、第４，３７８，２６４号および
第４，３４３，８８５号に記載されている。ドライフィ
ルムレジストは一般に、底面ポリエチレン膜層な隣接フ
ォトレジスト層およびトップカバーシートから剥離した
後に、例えば熱田−ラーで貼付けることによってプリン
ト回路板の表面上にラミネートされる。フォトレジスト
膜層に対する機械的支持を可能にする透明カバーシート
は通常、フォトレジストがフォトマスクとカバーシート
ラ介して露光される後まで、あるべき場所に維持される
。
ず、ドライフィルム型レジストもプリント回路板の製造
に重要である。ドライフィルムレジストはフォトレジス
トがプレキャストされて固体膜になりそしてポリエチレ
ン膜とポリエステルカバーシートとの開にはさまれてい
る多層膜である。ドライフィルムレジストは米国特許第
３．４６９．９８２号、第４，３７８，２６４号および
第４，３４３，８８５号に記載されている。ドライフィ
ルムレジストは一般に、底面ポリエチレン膜層な隣接フ
ォトレジスト層およびトップカバーシートから剥離した
後に、例えば熱田−ラーで貼付けることによってプリン
ト回路板の表面上にラミネートされる。フォトレジスト
膜層に対する機械的支持を可能にする透明カバーシート
は通常、フォトレジストがフォトマスクとカバーシート
ラ介して露光される後まで、あるべき場所に維持される
。
露光後、カバーシートはレジスト膜から剥離さ札そして
レジストは通常の方法で現像・処理される。
レジストは通常の方法で現像・処理される。
これ等ドライフィルムレジストは液状型レジストよりも
優れている点、例えば、ピンホールなしで均一な厚い被
膜を設けることができる点を有するにもかかわらず、や
はり多数の弱点にわずられされている。一般に、プリン
ト回路板の導電性銅表面は銅を酸化から保護する保護被
覆（クロム酸塩転化被覆として知られている）を有して
いる。
優れている点、例えば、ピンホールなしで均一な厚い被
膜を設けることができる点を有するにもかかわらず、や
はり多数の弱点にわずられされている。一般に、プリン
ト回路板の導電性銅表面は銅を酸化から保護する保護被
覆（クロム酸塩転化被覆として知られている）を有して
いる。
ドライフィルムレジストン金属表面に適用する前に、そ
の転化被覆は例えば研摩スクラッピングによって除去さ
れねばならない。このスクラッピングは表面を粗面化し
、そして基体表面へのドライフィルムレジストの接着を
促す。しかしながら、研摩スクラツバーの必要性は後の
エツチング作業で欠陥回路χ生じる原因となることがあ
る。また、ドライフィルムレジストは金属が特別に調製
されていない限り金属表面への接着が困難である。加え
て、ドライフィルムレジストは不規則形状を有する表面
では有効に使用できない。例えば、基体表面中の小さな
引掻傷はドライフィルムレジストによって充填されない
。ドライフィルムは引掻傷を単にまたいでいるにすぎな
いので、エツチング中にエツチング剤を引掻傷の中へし
み出させることがあり望ましくない回路を生じさせる。
の転化被覆は例えば研摩スクラッピングによって除去さ
れねばならない。このスクラッピングは表面を粗面化し
、そして基体表面へのドライフィルムレジストの接着を
促す。しかしながら、研摩スクラツバーの必要性は後の
エツチング作業で欠陥回路χ生じる原因となることがあ
る。また、ドライフィルムレジストは金属が特別に調製
されていない限り金属表面への接着が困難である。加え
て、ドライフィルムレジストは不規則形状を有する表面
では有効に使用できない。例えば、基体表面中の小さな
引掻傷はドライフィルムレジストによって充填されない
。ドライフィルムは引掻傷を単にまたいでいるにすぎな
いので、エツチング中にエツチング剤を引掻傷の中へし
み出させることがあり望ましくない回路を生じさせる。
さらに、ドライフィルムレジストはコスト高であるばか
りでなく、それ等は使用にあたってドライフィルムレジ
ストで被覆されるべき基体表面に合うように一般にトリ
ミングされることから不用な余分の膜片状のかなりの廃
棄物を生じる。
りでなく、それ等は使用にあたってドライフィルムレジ
ストで被覆されるべき基体表面に合うように一般にトリ
ミングされることから不用な余分の膜片状のかなりの廃
棄物を生じる。
本願の第二の発明は電気泳動付着方法に関する。
電気泳動は印加電界の影響下で帯電粒子または分子が液
状媒体中を移動することを云う。電気泳動付着即ち電着
は移動する帯電粒子によって被覆されるべき導電性材料
の表面が一方の電極として作用する電解槽中で行われる
。液状媒体中で正電荷を帯びる重合体、または正電荷を
有する界面活性剤のような物質と会合される重合体はカ
チオン重合体として知られている。負帯電電極（カソー
ド）の表面上へのカチオン重合体の電着はカソード電気
泳動と称され、他方、正帯電電極（アノード）の表面上
への負帯電重合体（アニオン重合体）の電気泳動付着は
アノード電気泳動として知られている。
状媒体中を移動することを云う。電気泳動付着即ち電着
は移動する帯電粒子によって被覆されるべき導電性材料
の表面が一方の電極として作用する電解槽中で行われる
。液状媒体中で正電荷を帯びる重合体、または正電荷を
有する界面活性剤のような物質と会合される重合体はカ
チオン重合体として知られている。負帯電電極（カソー
ド）の表面上へのカチオン重合体の電着はカソード電気
泳動と称され、他方、正帯電電極（アノード）の表面上
への負帯電重合体（アニオン重合体）の電気泳動付着は
アノード電気泳動として知られている。
電気泳動によって有機材料で金属対象物ン被覆すること
は周知であり、自動車のような金属表面を塗装するため
に広く使用されている。電気泳動はプリント回路板に一
体化されているレジスターやキャパシターのような′電
気部品を作製するために使用されている（米国特許第３
，５０３．０７８号玉米国特許第３．４０３，０８８号
は電気デバイス用熱硬化性非光活性絶縁性被膜を作製す
るための水分散アクリル中間重合体のアノード電気泳動
に関する。また、米国特許第３，４４６．７２３号は好
ましくはカソード電気泳動によって設けられた熱硬化非
光活性被膜に関する。この特許では、カソード電気泳動
は発生期酸素が重合体と反応しないのでアノード電気泳
動より優れていると教えている。
は周知であり、自動車のような金属表面を塗装するため
に広く使用されている。電気泳動はプリント回路板に一
体化されているレジスターやキャパシターのような′電
気部品を作製するために使用されている（米国特許第３
，５０３．０７８号玉米国特許第３．４０３，０８８号
は電気デバイス用熱硬化性非光活性絶縁性被膜を作製す
るための水分散アクリル中間重合体のアノード電気泳動
に関する。また、米国特許第３，４４６．７２３号は好
ましくはカソード電気泳動によって設けられた熱硬化非
光活性被膜に関する。この特許では、カソード電気泳動
は発生期酸素が重合体と反応しないのでアノード電気泳
動より優れていると教えている。
加えて、金属イオンは溶液中を通過することによって排
除されるので、被膜の撥水性と変色が減少される。非光
活性の熱硬化性被膜を付着させるための電気泳動の使用
を開示しているその他の特許は米国特許第３，９２５，
１８１号；第３，９７５，２５１号；第３，２ Ｄ Ｄ
、０５７号；第４，２３８，３８５号；および第４．３
３８．２３５号等である。また、ポリマー・Ｃｏａｔｉ
ｎｇｓ）、Ｐ、Ｅ、コンげメノスとＪ、Ｄ、ノーレスト
Ｅｌム執筆、ジャーナル・オプ・コーティングズ・チク
ノルジ−（、Ｔｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｏａｔｉｎｇｓ
’Ｉ’ｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）第５４巻第３８３号（１
９８２年３月）第３６〜４１頁にはこの被膜分野の最近
の進展が記載されている。
除されるので、被膜の撥水性と変色が減少される。非光
活性の熱硬化性被膜を付着させるための電気泳動の使用
を開示しているその他の特許は米国特許第３，９２５，
１８１号；第３，９７５，２５１号；第３，２ Ｄ Ｄ
、０５７号；第４，２３８，３８５号；および第４．３
３８．２３５号等である。また、ポリマー・Ｃｏａｔｉ
ｎｇｓ）、Ｐ、Ｅ、コンげメノスとＪ、Ｄ、ノーレスト
Ｅｌム執筆、ジャーナル・オプ・コーティングズ・チク
ノルジ−（、Ｔｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｏａｔｉｎｇｓ
’Ｉ’ｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）第５４巻第３８３号（１
９８２年３月）第３６〜４１頁にはこの被膜分野の最近
の進展が記載されている。
感光性被膜の電気泳動付着も一般に知られている。米国
特許第３，７３８，８３５号には、ポリクロロゾレン重
合体を含有する溶液と、感光剤例えば４．４′−ビス−
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノンと、安定割駒えば不
飽和重合体が溶液中で分解されるのを防ぐためのヒト田
キノンと、硬化剤例えば部分硬化樹脂やエツチング抵抗
を付与するためのその他万合体とから、８０％酢酸ブチ
ル／２０チメチルエチルケトン溶剤または８０％シクロ
ヘキサノン／２０％メチルエチルケトン溶剤中で調製さ
れたエマルジョンからアノード電気泳動によって感光性
組成物を付着させることが開示されてリドンとトリエチ
ルアミンとを含有する水溶液な第−溶液に添加すること
によって生成される。この感光性組成物を露光すると、
不飽和重合体は架橋し、そして非露光膜は有機溶剤で現
像される。
特許第３，７３８，８３５号には、ポリクロロゾレン重
合体を含有する溶液と、感光剤例えば４．４′−ビス−
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノンと、安定割駒えば不
飽和重合体が溶液中で分解されるのを防ぐためのヒト田
キノンと、硬化剤例えば部分硬化樹脂やエツチング抵抗
を付与するためのその他万合体とから、８０％酢酸ブチ
ル／２０チメチルエチルケトン溶剤または８０％シクロ
ヘキサノン／２０％メチルエチルケトン溶剤中で調製さ
れたエマルジョンからアノード電気泳動によって感光性
組成物を付着させることが開示されてリドンとトリエチ
ルアミンとを含有する水溶液な第−溶液に添加すること
によって生成される。この感光性組成物を露光すると、
不飽和重合体は架橋し、そして非露光膜は有機溶剤で現
像される。
また、米国特許第３．９５４，５８７号；第４．０２９
．５６１号；第４，０３５，２７３号：チ 第各、０３５，２７４号；第４，０３９，４１４号；第
４，０６６，５２３号；第４，０７０，２５８号および
第４．１６６，０１７号には、電気泳動によって設けら
れそして紫外線および／または熱にさらすことによって
硬化される被膜が開示されている。これ等被膜は永久保
護被膜を付与すること又は被覆すべき物品の外観を改善
することを意図している。
．５６１号；第４，０３５，２７３号：チ 第各、０３５，２７４号；第４，０３９，４１４号；第
４，０６６，５２３号；第４，０７０，２５８号および
第４．１６６，０１７号には、電気泳動によって設けら
れそして紫外線および／または熱にさらすことによって
硬化される被膜が開示されている。これ等被膜は永久保
護被膜を付与すること又は被覆すべき物品の外観を改善
することを意図している。
これ等特許にはかかる被膜がフォトレジストとして有効
である旨の開示または示唆が無く、実際、それ等はかか
る用途に適さない。米国特許第３．８４４，９１９号は
光導電性酸化亜鉛とアクリル樹脂のような電気絶縁性樹
脂と有機溶剤または水とから製造された永久光導電性材
料の電着に関する。
である旨の開示または示唆が無く、実際、それ等はかか
る用途に適さない。米国特許第３．８４４，９１９号は
光導電性酸化亜鉛とアクリル樹脂のような電気絶縁性樹
脂と有機溶剤または水とから製造された永久光導電性材
料の電着に関する。
米国特許第４．４１４，３１１号には、側鎖のジアゾニ
ウム塩を有する重合体材料の水溶液から薄いサブミクロ
ン感光性膜ン、電気化学的に親水化された金属表面上に
、カソード電気泳動四に設けることによる平版印刷板の
製造が記載されている。
ウム塩を有する重合体材料の水溶液から薄いサブミクロ
ン感光性膜ン、電気化学的に親水化された金属表面上に
、カソード電気泳動四に設けることによる平版印刷板の
製造が記載されている。
この薄い膜は紫外線で露光され、現像され、インク付与
されて平版印刷板となる。
されて平版印刷板となる。
特公昭５２−１１６０１号には、珪酸塩被覆金属表面上
に感光性重合体組成物を電気泳動的に付着させることが
記載されている。この感光性重合体は水性媒体中に可溶
性または分散性であり、そして中和された酸基を含有す
ることによって導電性表面上にアノード電気泳動付着可
能である。この重合体は露光時に架橋する不飽和基な含
有することによって感光性である。これ等重合体の製造
は少なくとも２工程を必要とする：不飽和基を有する重
合体に酸を添加するか又は酸基を有する重合体に不飽和
基を添加するかのいずれか。これ等樹脂はヒドロキシ側
基を有するアクリル重合体とインシアネート含有メタク
リレート化合物とから生成されると説明されている。こ
れ等感光性重合体の製造は多数の別々の反ツノ６が必要
なことから難かしい。加えて、かかる重合体が有効に架
橋できる度合は重合体上の利用できる不飽和基の数また
は重合体に結合し得る不飽和基の数によって制限される
。重合体に結合し得る不飽和基の数はまたレジストの望
ましいその他性質例えば水中溶解度や高品質膜形成能に
杉響するかも知れない。加えて、中和された酸基な含有
する感光性組成物はカソード電気泳動付着法に使用でき
ず、該特許はカンード電気泳動を述べているが、塩基水
溶液および無機酸に抵抗性である水性酸現像性可剥性レ
ジストンカンード電気泳動で形成するのに使用できる組
成物の示唆を欠いている。
に感光性重合体組成物を電気泳動的に付着させることが
記載されている。この感光性重合体は水性媒体中に可溶
性または分散性であり、そして中和された酸基を含有す
ることによって導電性表面上にアノード電気泳動付着可
能である。この重合体は露光時に架橋する不飽和基な含
有することによって感光性である。これ等重合体の製造
は少なくとも２工程を必要とする：不飽和基を有する重
合体に酸を添加するか又は酸基を有する重合体に不飽和
基を添加するかのいずれか。これ等樹脂はヒドロキシ側
基を有するアクリル重合体とインシアネート含有メタク
リレート化合物とから生成されると説明されている。こ
れ等感光性重合体の製造は多数の別々の反ツノ６が必要
なことから難かしい。加えて、かかる重合体が有効に架
橋できる度合は重合体上の利用できる不飽和基の数また
は重合体に結合し得る不飽和基の数によって制限される
。重合体に結合し得る不飽和基の数はまたレジストの望
ましいその他性質例えば水中溶解度や高品質膜形成能に
杉響するかも知れない。加えて、中和された酸基な含有
する感光性組成物はカソード電気泳動付着法に使用でき
ず、該特許はカンード電気泳動を述べているが、塩基水
溶液および無機酸に抵抗性である水性酸現像性可剥性レ
ジストンカンード電気泳動で形成するのに使用できる組
成物の示唆を欠いている。
一１４８４９１号には、プリント回路板の製造において
銅積層板の銅表面上に感光性物質ン被覆するために電気
泳動ケ使用することが開示されているが、この文献には
その方法に有効な材料またはそれに使用されるプロセス
条件が全く記載されていない。
銅積層板の銅表面上に感光性物質ン被覆するために電気
泳動ケ使用することが開示されているが、この文献には
その方法に有効な材料またはそれに使用されるプロセス
条件が全く記載されていない。
本発明の目的は電気泳動によって水溶液または水性エマ
ルジョンから導電性表面上に直接付着させることが可能
であり、従来の液状型レジストやドライフィルムレジス
トがかかえる問題を解決した感光性重合体組成物を提供
することである。
ルジョンから導電性表面上に直接付着させることが可能
であり、従来の液状型レジストやドライフィルムレジス
トがかかえる問題を解決した感光性重合体組成物を提供
することである。
さらに、本発明の目的は労力と時間を消耗する表面処理
工程を必要とせずに且つ感光性組成物を無駄にせずに規
則的または不規則的表面形状の導電性表面上に必要な厚
さの均一膜として電気泳動付着できる感光性重合体組成
物を提供することである。
工程を必要とせずに且つ感光性組成物を無駄にせずに規
則的または不規則的表面形状の導電性表面上に必要な厚
さの均一膜として電気泳動付着できる感光性重合体組成
物を提供することである。
さらに、本発明の目的は有機酸で現像されて高解像像を
形成できる水性塩基・無機酸抵抗性膜として、導電性表
面上にカソード電気泳動付着できる感光性重合体組成物
を提供することである。
形成できる水性塩基・無機酸抵抗性膜として、導電性表
面上にカソード電気泳動付着できる感光性重合体組成物
を提供することである。
発明の概要
水性エマルジョンまたは溶液から導電性表面上に必要な
厚さの均一接着性感光性膜として電気泳動付着できる感
光性１合体組成物、および、該表面上に水性無機酸・塩
基抵抗性の画像を形成する方法を提供する。導電性表面
上への電着に有効な感光性重合体組成物はキャリヤ基Ｙ
［する重合体少な（とも１種と光開始剤と光開始剤の化
学線露光時に膜を架橋させるための不飽和源と７含有す
る水溶液または水性エマルジョンから成る。この不飽和
源は好ましくは例えは多官能性不飽和単量体のような架
橋用不飽和単量体である。代りに、不飽和源は感光性重
合体組成物中に存在する１合体臼体の中に存在してもよ
い。キャリア基は正ま１こは負帯電基、またはそれぞれ
′ｒｇ／または塩基との反応時に正または負に帯電する
基である。
厚さの均一接着性感光性膜として電気泳動付着できる感
光性１合体組成物、および、該表面上に水性無機酸・塩
基抵抗性の画像を形成する方法を提供する。導電性表面
上への電着に有効な感光性重合体組成物はキャリヤ基Ｙ
［する重合体少な（とも１種と光開始剤と光開始剤の化
学線露光時に膜を架橋させるための不飽和源と７含有す
る水溶液または水性エマルジョンから成る。この不飽和
源は好ましくは例えは多官能性不飽和単量体のような架
橋用不飽和単量体である。代りに、不飽和源は感光性重
合体組成物中に存在する１合体臼体の中に存在してもよ
い。キャリア基は正ま１こは負帯電基、またはそれぞれ
′ｒｇ／または塩基との反応時に正または負に帯電する
基である。
本発明の別の目的および特徴は下記の詳細な記述および
実施例から容易に明らかになろう。
実施例から容易に明らかになろう。
発明の詳細
電着用に有効な感光性１合体組成物はキャリア基を含有
する重合体少な（とも１種と光開始剤と光開始剤の化学
線露光時に架橋反応を起させるための不飽和源との水溶
液または水性エマルジョンから成る。この不飽和源は好
ましくは例えは多官能性不飽和単量体のような架橋用不
飽和単量体である。代りに、不飽和源は感光性１合体組
成物中に存在する重合体中に存在してもよい。好ましく
は感光性重合体組成物はカチオンキャリア基ン含有する
１合体少な（とも１種と光開始剤と架橋用不飽和単量体
と！含有する水溶液ま１こは水性エマルジョンから成る
。
する重合体少な（とも１種と光開始剤と光開始剤の化学
線露光時に架橋反応を起させるための不飽和源との水溶
液または水性エマルジョンから成る。この不飽和源は好
ましくは例えは多官能性不飽和単量体のような架橋用不
飽和単量体である。代りに、不飽和源は感光性１合体組
成物中に存在する重合体中に存在してもよい。好ましく
は感光性重合体組成物はカチオンキャリア基ン含有する
１合体少な（とも１種と光開始剤と架橋用不飽和単量体
と！含有する水溶液ま１こは水性エマルジョンから成る
。
本発明の基本点は多数の望ましい性質を有する感光性１
合体組成物用の重合体または１釆合体混合物を生成する
のに適した単量体または単量体混合物の選択にある。重
合体または１合体混合物は低粘度の水性エマルジョンま
たは水溶液から車受泳動によって導電性表面上に均一密
着膜として付着されることができる。感光性１合体組成
物中の少な（とも１種の１合体は十分な数のキャリア基
を有していたけれはならない。これ等キャリア基は正ま
たは負帯電基、またはそれぞれ酸または塩基と反応した
ときに正または負に帯電することができる基である。重
合体上のまたは１合体混合物中の少な（とも一方の１合
体上のキャリア基は１合体または１合体混合物が電気泳
動法に有効であることＺ可能にしており、そして得られ
る膜の非露光部がキャリア基の電荷に応じて水性酸また
は水性塩基現像剤によって容易に除去できるように選択
されている。１合体または１合体混合物は電気泳動用に
、水に可溶性であるべきである、または水性エマルジョ
ンを生成するように水に対して限られた溶解度ケ有すべ
きである。本発明の電気原動力法は１合体溶液Ｚ使用で
きるが、感光性１合体組成物の水性エマルジョンから形
成された膜の方が好ましい。キャリア基含有１合体少な
（とも１種と光開始剤と化学線に光開始剤Ｚさらしたと
きに架橋反応乞起こさせるための不飽和源と７含有する
感光性１合体組成物はまた、例えはフォトレジスト用に
、電着以外の従来の成膜技術を用いて、水性エマルジョ
ンまたは分散物からの電着によって導電性表面上に形成
された膜と同じ性質を有する膜を、形成ｊることができ
る。
合体組成物用の重合体または１釆合体混合物を生成する
のに適した単量体または単量体混合物の選択にある。重
合体または１合体混合物は低粘度の水性エマルジョンま
たは水溶液から車受泳動によって導電性表面上に均一密
着膜として付着されることができる。感光性１合体組成
物中の少な（とも１種の１合体は十分な数のキャリア基
を有していたけれはならない。これ等キャリア基は正ま
たは負帯電基、またはそれぞれ酸または塩基と反応した
ときに正または負に帯電することができる基である。重
合体上のまたは１合体混合物中の少な（とも一方の１合
体上のキャリア基は１合体または１合体混合物が電気泳
動法に有効であることＺ可能にしており、そして得られ
る膜の非露光部がキャリア基の電荷に応じて水性酸また
は水性塩基現像剤によって容易に除去できるように選択
されている。１合体または１合体混合物は電気泳動用に
、水に可溶性であるべきである、または水性エマルジョ
ンを生成するように水に対して限られた溶解度ケ有すべ
きである。本発明の電気原動力法は１合体溶液Ｚ使用で
きるが、感光性１合体組成物の水性エマルジョンから形
成された膜の方が好ましい。キャリア基含有１合体少な
（とも１種と光開始剤と化学線に光開始剤Ｚさらしたと
きに架橋反応乞起こさせるための不飽和源と７含有する
感光性１合体組成物はまた、例えはフォトレジスト用に
、電着以外の従来の成膜技術を用いて、水性エマルジョ
ンまたは分散物からの電着によって導電性表面上に形成
された膜と同じ性質を有する膜を、形成ｊることができ
る。
感光性１合体組成物およびそれから形成された感光性１
合体付着膜は光開始剤が化学線露光によって活性化され
たときに架橋されることができなければならない。この
架橋反応は１合体または１合体混合物中に不飽和基が存
在すること、又は好ましくは、感光性組成物中に架橋用
不飽和増量体少な（とも１種が存在すること娑必要とす
る。本発明の実施においては、不飽和基２個以上乞有す
る架橋用不飽和増量体（本願においては多官能性単量体
と称されている）ン感光性１合体組成物中に導入するこ
とが好ましい。
合体付着膜は光開始剤が化学線露光によって活性化され
たときに架橋されることができなければならない。この
架橋反応は１合体または１合体混合物中に不飽和基が存
在すること、又は好ましくは、感光性組成物中に架橋用
不飽和増量体少な（とも１種が存在すること娑必要とす
る。本発明の実施においては、不飽和基２個以上乞有す
る架橋用不飽和増量体（本願においては多官能性単量体
と称されている）ン感光性１合体組成物中に導入するこ
とが好ましい。
重合体膜が感光性１合体組ａ物の水溶液または水性エマ
ルジョンから、好ましくはカソード電気泳動によって付
着され、そして化学線露光によって架橋される場合、架
橋膜は水性酸に本質的に不溶性であり且つエツチング剤
例えは無機酸ケ含有するものや電気めっき槽に対して抵
抗性であらねばならない。同時に、化学線露光されなか
った部分の膜は水性無機酸に可溶性であるか又はそれに
よって容易に除去されねばならない。
ルジョンから、好ましくはカソード電気泳動によって付
着され、そして化学線露光によって架橋される場合、架
橋膜は水性酸に本質的に不溶性であり且つエツチング剤
例えは無機酸ケ含有するものや電気めっき槽に対して抵
抗性であらねばならない。同時に、化学線露光されなか
った部分の膜は水性無機酸に可溶性であるか又はそれに
よって容易に除去されねばならない。
本発明の感光性１合体組成物に使用するのに適する１合
体はキャリヤ基ｙａ１′有する付加１合体または縮合重
合体である。エチレン型不飽和を有する単量体から合成
されたキャリア基含有付加１合体が好ましい。感光性重
合体組成物に有効なキャリア基含有１合体はアクリル１
合体、アクリル１合体以外のビニル１合体、エポキシ１
合体、ポリウレタン、ポリエステル、およびポリアミド
等である。正帯電キャリア基即ちカソード電気泳動用キ
ャＩＪア卑−は例えは第四アンモニウム基、スルホニウ
ム基、スルホキソニウム基である。
体はキャリヤ基ｙａ１′有する付加１合体または縮合重
合体である。エチレン型不飽和を有する単量体から合成
されたキャリア基含有付加１合体が好ましい。感光性重
合体組成物に有効なキャリア基含有１合体はアクリル１
合体、アクリル１合体以外のビニル１合体、エポキシ１
合体、ポリウレタン、ポリエステル、およびポリアミド
等である。正帯電キャリア基即ちカソード電気泳動用キ
ャＩＪア卑−は例えは第四アンモニウム基、スルホニウ
ム基、スルホキソニウム基である。
酸と反応したときに正に帯電するその他糸例えはアミン
基も使用できる。１合体のキャリア基をプロトン化する
のに有効な酸は乳酸、グリコール酸、ヒドロキシ酢酸、
塩酸、ギ酸、酢酸、燐酸等である。
基も使用できる。１合体のキャリア基をプロトン化する
のに有効な酸は乳酸、グリコール酸、ヒドロキシ酢酸、
塩酸、ギ酸、酢酸、燐酸等である。
負帯電キャリア基即ちアノード電気泳動性キャリア基は
例えはカルボン酸基である。
例えはカルボン酸基である。
キャリア基を含有するアクリル重合体はアクリル酸、メ
タクリル酸、それ等のエステルまたはアミド、およびか
かる単量体の混合物の１合または共１合によって合成さ
れる：但し、少なくとも一方のかかる単量体はキャリア
基を含有していることを条件とする。カソード電気泳動
用キャリア基を担持するアクリル重合体は単量体の１つ
が２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレート（ＤＭ
ＡＫＭＡ ）や６−（ジメチルアミノ）プロピルメタク
リルアミド（ＤＭＡＰＭＡ ）のような塩基性アミン基
ン有する単量体４！：１合することによって合成できる
。例えば乳酸のような酸との反応時に、重合体上のアミ
ン基は正帯電アミン塩に転化される。
タクリル酸、それ等のエステルまたはアミド、およびか
かる単量体の混合物の１合または共１合によって合成さ
れる：但し、少なくとも一方のかかる単量体はキャリア
基を含有していることを条件とする。カソード電気泳動
用キャリア基を担持するアクリル重合体は単量体の１つ
が２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレート（ＤＭ
ＡＫＭＡ ）や６−（ジメチルアミノ）プロピルメタク
リルアミド（ＤＭＡＰＭＡ ）のような塩基性アミン基
ン有する単量体４！：１合することによって合成できる
。例えば乳酸のような酸との反応時に、重合体上のアミ
ン基は正帯電アミン塩に転化される。
同様に、アノード電気泳動用キャリア基を担持する（メ
タ）アクリル酸重合体はアクリル酸もしくはメタクリル
酸岸量体単独からまたはアクリル酸もしくはメタクリル
酸の低級アルキルエステル（但し、アルキル基は１〜約
８個の炭素原子Ｚ有する）のようなその他単量体例えは
メチルメタクリレートやブチルアクリレート等とから合
成されてもよい。それから、ポリ（メタ）アクリル酸１
合体上の側鎖のカルボン酸は例えは水酸化ナトリウムの
ような塩基との反応によって負帯電カルボン酸塩に転化
される。
タ）アクリル酸重合体はアクリル酸もしくはメタクリル
酸岸量体単独からまたはアクリル酸もしくはメタクリル
酸の低級アルキルエステル（但し、アルキル基は１〜約
８個の炭素原子Ｚ有する）のようなその他単量体例えは
メチルメタクリレートやブチルアクリレート等とから合
成されてもよい。それから、ポリ（メタ）アクリル酸１
合体上の側鎖のカルボン酸は例えは水酸化ナトリウムの
ような塩基との反応によって負帯電カルボン酸塩に転化
される。
代りに、キャリア基を含有しない重合体ケ改質してかか
るキャリア基を導入することも可能である。例えは、グ
リシジルメタクリレート１合体ケアミンと反応させて１
合体鎖にアミンキャリア基を結合させることができる。
るキャリア基を導入することも可能である。例えは、グ
リシジルメタクリレート１合体ケアミンと反応させて１
合体鎖にアミンキャリア基を結合させることができる。
キャリア基を伴う上記アクリルまたはメタクリル重合体
以外のビニル１合体を使用してもよい。
以外のビニル１合体を使用してもよい。
これ等１−合体はビニル単量体例えばスチレンや置換ス
チレン、塩化ビニルのようなハロゲン化ビニル、酢酸ビ
ニルのようなビニルエステル、メチルビニルエーテルの
ようなビニルエステルン箪独で又は担体基を有する他の
ビニル単量体例えはカソード電気泳動用キャリア基を有
する２−メチルビニルイミダゾールやビニルイミダゾー
ルと共に１合することによって合成できる。
チレン、塩化ビニルのようなハロゲン化ビニル、酢酸ビ
ニルのようなビニルエステル、メチルビニルエーテルの
ようなビニルエステルン箪独で又は担体基を有する他の
ビニル単量体例えはカソード電気泳動用キャリア基を有
する２−メチルビニルイミダゾールやビニルイミダゾー
ルと共に１合することによって合成できる。
また、少な（とも一方の単量体がキャリヤ基を有するこ
とン条件に、アクリルおよびメタクリル単量体を他のビ
ニル単量体と共に重合させることによって本発明の実施
に適する１合体ヶ合成することも可能である。
とン条件に、アクリルおよびメタクリル単量体を他のビ
ニル単量体と共に重合させることによって本発明の実施
に適する１合体ヶ合成することも可能である。
エポキシ重合体も感光性重合体組成物に有効である。そ
れ等は一般にジエボキシドをジオール、ジアミン、また
はジカルボン酸と反応させることによって合成される。
れ等は一般にジエボキシドをジオール、ジアミン、また
はジカルボン酸と反応させることによって合成される。
ジエポキシドとジオールとの１合は重合体中にカソード
電気泳動用キャリア基を導入するためにアミンの存在下
で行うことができる。アノード電気泳動用エポキシ重合
体は非帯電エポキシ重合体から、エポキシ重合体にカル
ボン醪キャリヤ基を結合させる化学反応によって合成で
きる。
電気泳動用キャリア基を導入するためにアミンの存在下
で行うことができる。アノード電気泳動用エポキシ重合
体は非帯電エポキシ重合体から、エポキシ重合体にカル
ボン醪キャリヤ基を結合させる化学反応によって合成で
きる。
感光性重合体組成物に使用できるポリウレタンは一般に
ジイソシアネートとジオールとの反応によって合成され
る。残留インシアネート基ヲトリエタノールアミンのよ
うなヒドロキシアミンと反応させてカソード電気泳動付
着用のアミンキャリヤ基を結合させることができる。ア
ノード電気泳舶用ポリウレタン１合体は残留ヒドロキシ
ル基を無水トリメリット酸のようなポリカルボン酸無水
物と反応させてｈ：、ｒキャリヤ基を結合させることに
よって合成されることができる。
ジイソシアネートとジオールとの反応によって合成され
る。残留インシアネート基ヲトリエタノールアミンのよ
うなヒドロキシアミンと反応させてカソード電気泳動付
着用のアミンキャリヤ基を結合させることができる。ア
ノード電気泳舶用ポリウレタン１合体は残留ヒドロキシ
ル基を無水トリメリット酸のようなポリカルボン酸無水
物と反応させてｈ：、ｒキャリヤ基を結合させることに
よって合成されることができる。
末端カルボン酸基ヶ有するポリエステルは感光性１１合
体組成物に使用するのに適するアノード電気泳動用１合
体である。これ等重合体は２．２−ジ（ヒドロキシメチ
ル）−２−アミンエタノールのような第一２−了ミノア
ルコールとの反応によってオキサゾリンキャリヤ基を生
成する１ことによってカソード電気泳動用沖合体に転化
することができる。
体組成物に使用するのに適するアノード電気泳動用１合
体である。これ等重合体は２．２−ジ（ヒドロキシメチ
ル）−２−アミンエタノールのような第一２−了ミノア
ルコールとの反応によってオキサゾリンキャリヤ基を生
成する１ことによってカソード電気泳動用沖合体に転化
することができる。
カソード電気泳動用に適する重合体の好ましいクラスは
適する溶剤中でアクリル酸および／またはメタクリル酸
のエステルおよび／またはアミド（但し、少な（とも一
方の増量体はアミンキャリヤ基ｙａ’Ｗする）をラジカ
ル１合することによって合成される。１合に適する溶剤
は１．２−プロパンジオールのモノプロピルエーテル（
例工は、ユニオン・カーバイド・コーポレーション製プ
ロパツヤ■−Ｆ）、）、、ヤヤヮッヤブ、工、ヤヤヮッ
ルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、メチ
ルカルピトール、ブチルカルピトール、１゜２−ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
インプロパツール、プロパツール、ｎ−ブタノール、ｅ
ｅｃ−ブタノール、インブタノール、エチレングリコー
ル、１．３−７’ロパンジオール、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、テトラヒドロフ
ラン、酢酸エチル、酢酸ブチル、１．４−ジオキサン、
トルエン、キシレン、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等である。非常に水溶性
である溶剤が好ましい。
適する溶剤中でアクリル酸および／またはメタクリル酸
のエステルおよび／またはアミド（但し、少な（とも一
方の増量体はアミンキャリヤ基ｙａ’Ｗする）をラジカ
ル１合することによって合成される。１合に適する溶剤
は１．２−プロパンジオールのモノプロピルエーテル（
例工は、ユニオン・カーバイド・コーポレーション製プ
ロパツヤ■−Ｆ）、）、、ヤヤヮッヤブ、工、ヤヤヮッ
ルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、メチ
ルカルピトール、ブチルカルピトール、１゜２−ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
インプロパツール、プロパツール、ｎ−ブタノール、ｅ
ｅｃ−ブタノール、インブタノール、エチレングリコー
ル、１．３−７’ロパンジオール、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、テトラヒドロフ
ラン、酢酸エチル、酢酸ブチル、１．４−ジオキサン、
トルエン、キシレン、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等である。非常に水溶性
である溶剤が好ましい。
キャリア基を含有する１合体または重合体混合物は（Ｎ
合体または１合体混合物が水分散性であり且つ膜として
電気泳動付着されるようにするため）Ｎ合体または１合
体混合物１００ｇ当り少な（とも約１０ミリ当量の帯電
キャリア基〜（電気泳動付着膜が膜の露光部への悪影響
なしで選択的に現像されるように）１合体または混合物
１００１当り約２００ミリ当量未満の帯電キャリア基を
含有していなければならない。１合体１００ｇ当りの帯
電キャリア基のミリ当量（ミリ当量／１００９）は添加
された酸（カソード電気泳動用キャリア基の場合）の各
当量が１合体上のアミンのような各基ｔプロトン化した
と仮定して算出される。
合体または１合体混合物が水分散性であり且つ膜として
電気泳動付着されるようにするため）Ｎ合体または１合
体混合物１００ｇ当り少な（とも約１０ミリ当量の帯電
キャリア基〜（電気泳動付着膜が膜の露光部への悪影響
なしで選択的に現像されるように）１合体または混合物
１００１当り約２００ミリ当量未満の帯電キャリア基を
含有していなければならない。１合体１００ｇ当りの帯
電キャリア基のミリ当量（ミリ当量／１００９）は添加
された酸（カソード電気泳動用キャリア基の場合）の各
当量が１合体上のアミンのような各基ｔプロトン化した
と仮定して算出される。
正帯キャリア基を含有するカソード電気泳動用沖合体の
場合には、重合体は約２０〜約１００ミリ当量／１００
ｇを含有することが好ましい。約２５〜約７５ミリ当量
／１００ｇ’ａ？含有するカソード電気泳動用重合体は
さらに好ましい。
場合には、重合体は約２０〜約１００ミリ当量／１００
ｇを含有することが好ましい。約２５〜約７５ミリ当量
／１００ｇ’ａ？含有するカソード電気泳動用重合体は
さらに好ましい。
本発明の感光性１合体組成物に使用される１合体の分子
量はＭｆ／Ｉｒ平均分子量１００，０００未満であるべ
きである。キャリア基を含有するアクリル、メタクリル
、またはその他のビニル１合体を使用する場合には、１
を平均分子量は約１０．０ ［１０〜約１．００，００
’０の範囲にあるべきであり、好ましくは約２０，００
０〜約６０．［］ ００の重量平均分子量である。
量はＭｆ／Ｉｒ平均分子量１００，０００未満であるべ
きである。キャリア基を含有するアクリル、メタクリル
、またはその他のビニル１合体を使用する場合には、１
を平均分子量は約１０．０ ［１０〜約１．００，００
’０の範囲にあるべきであり、好ましくは約２０，００
０〜約６０．［］ ００の重量平均分子量である。
本発明の感光性１合体組成物に有効な特に好ま６ま
しいカソード電気泳動用沖合体混合物の一つは約２〜約
１５Ｎ量％ＤＭＡＰＭＡと約２〜ＦＩ４３ｉ量％エチル
アクリレートと約８３〜Ｆ１５５！ｔ％のメチルメタク
リレートとから成る。これ等共１合体は約１０．０００
〜約１００．０００の分子量と約０℃〜約１００℃のガ
ラス転移温度ケ有する。この重合体混合物が架橋用不飽
和単量体、光開始剤、およびキャリア基をプロトン化す
るための酸と一緒に水性エマルジョンとして配合された
場合には、導電性基体表面上に形成されたカソード電気
泳動付着密着膜は有機酸の水溶液で容易に現像され、そ
して膜の露光部は強い無機酸溶液および強い水性塩基に
抵抗性である。
１５Ｎ量％ＤＭＡＰＭＡと約２〜ＦＩ４３ｉ量％エチル
アクリレートと約８３〜Ｆ１５５！ｔ％のメチルメタク
リレートとから成る。これ等共１合体は約１０．０００
〜約１００．０００の分子量と約０℃〜約１００℃のガ
ラス転移温度ケ有する。この重合体混合物が架橋用不飽
和単量体、光開始剤、およびキャリア基をプロトン化す
るための酸と一緒に水性エマルジョンとして配合された
場合には、導電性基体表面上に形成されたカソード電気
泳動付着密着膜は有機酸の水溶液で容易に現像され、そ
して膜の露光部は強い無機酸溶液および強い水性塩基に
抵抗性である。
本発明の好ましい感光性重合体組成物はキャリア基含有
重合体ケ不飽和単量体少なくとも１種と混合することに
よって生成されているので感光性重合体組成物から形成
された感光性重合体膜は化学線露光されたときに光開始
剤によって架橋１合体になるように１合されることがで
きる。２個以上の不飽和基が同一分子に結合している不
飽和岸量￥ｆ−（本願では多官能性単量体と称される）
が好ましい。２個以上のアクリレートまたはメタクリレ
ート基が各単量体分子に結合している多官能性単量体は
より好ましい。多官能性単量体は約３５以上の臭素価乞
与えるに足る不飽和が存在するように１合体または１合
体混合物へ添加される。臭素価はサンプル中の不飽和度
を求めるために一般に許容されている方法である。臭素
価はサンプル１００μ中の不飽和基全部を反応させるの
に必要な臭素のグラム数を意味する。
重合体ケ不飽和単量体少なくとも１種と混合することに
よって生成されているので感光性重合体組成物から形成
された感光性重合体膜は化学線露光されたときに光開始
剤によって架橋１合体になるように１合されることがで
きる。２個以上の不飽和基が同一分子に結合している不
飽和岸量￥ｆ−（本願では多官能性単量体と称される）
が好ましい。２個以上のアクリレートまたはメタクリレ
ート基が各単量体分子に結合している多官能性単量体は
より好ましい。多官能性単量体は約３５以上の臭素価乞
与えるに足る不飽和が存在するように１合体または１合
体混合物へ添加される。臭素価はサンプル中の不飽和度
を求めるために一般に許容されている方法である。臭素
価はサンプル１００μ中の不飽和基全部を反応させるの
に必要な臭素のグラム数を意味する。
適する多官能性単量体の例は次の通りである：アリルメ
タクリレー）：１，４−ベンゼンジオールジアクリレー
ト；１，４−ベンゼンジオールジアクリレート；ビス−
（アクリロキシエチル）ホスフェート；ビスフェノール
−Ａジアクリレート；ビスフェノール−Ａジメタクリレ
ート；１゜６−プタンジオールジアクリレー）；１．３
−ブタンジオールジメタクリレート；１，４−ブタンジ
オールジアクリレー）；１，４−ブタンジオールジメタ
クリレート；２−ブテン−１，４−ジオールジアクリレ
ート；２−ブテン−１，４−ジオールジメタクリレート
；ブチレングリコールジメタクリレート；１．２．４−
ブタントリオールトリメタクリレート；クロチルアクリ
レート；クロチルメタクリレ−）；１．４−シクロヘキ
サンジオールジアクリレー）：１，４−シクロヘキサン
ジオールジメタクリレート；デカメチレングリコールジ
アクリレート；デカメチレングリコールジアクリレート
；ジアリルイソシアヌレート；ジアリルイタコネート：
ジエチレングリコールジアクリレート；ジエチレングリ
コールジアクリレート；ビスフェノールＡのジー（６−
アクリロキシエチル）エーテル；ビスフェノールＡのジ
ー（−アクリロキシ−２−ヒドロキシゾロピル）エーテ
ル：ジアリルフマレート；ジインプロプレニルベンゼン
；ビスフェノールＡのジー （３−メタクリロキシエチ
ル）エーテル：ビスフェノールＡのジー（６−メタクリ
ロキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル；テトラク
ロロビスフェノールＡのジー（６−メタクリロキシ−２
−ヒドロキシプロピル）エーテル；テトラブロモビスフ
ェノールＡのジー（６−メタクリロキシ−２−ヒドロキ
シプロピル）エーテル：１，４−ブタンジオールのジー
（３−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）エー
テル：ジフェノール酸のジー（３−メタクリロキシ−２
−ヒドロキシプロピル）エーテル；２，２−ジメチル−
１，３−プロパンジオールジアクリレート；２，２−ジ
メチル−１，６−プロパンジオールジメタクリレート；
ジプロピレングリコールジメタクリレート；エチレング
リコールジアクリレート；エチレングリコールジアクリ
レート；グリセロールトリアクリレート；グリセロール
トリメタクリレート：ヘキサメチレングリコールジアク
リレート：ヘキサメチレングリコールジメタクリレート
；水素化ビスフェノールＡジメタクリレート；メラミン
了りリレート；メタリルエタクリレー） ： ’Ｎ 、
Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド；１，９−ノナン
ジオールジメククリレー）；１．５−ベンタンジオール
ジアクリレート；１，５−ペンクンジオールジメタクリ
レ一ト；ペンタエリトリトールテトラアクリレート；ペ
ンタエリトリトールテトラメタクリレート；ペンタエリ
トリトールトリアクリレート；ペンタエリトリトールト
リメタクリレート：１−フェニル−１＋ ２−エタンジ
オールジメタクリレート；ポリオキシエチル−２，２−
ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンジアクリレート
；ポリオキシエチル−２，２−ジ（１）−ヒドロキシフ
ェニル）プロパンジメタクリレート；ポリオキシプロピ
ルトリメチロールプロパントリアクリレート；１゜６−
ブロパンジオールジアクリレー）：１．２−プロパンジ
オールジメタクリレート；１，６−プロパンジオールジ
メタクリレート；プロポキシル化ビフェノールＡジメタ
クリレート；テトラエチレングリコールジアクリレート
；テトラエチレング１）フールジメタクリレート；１，
３．５−トリアクリロイルへキサヒドロ−８−トリアジ
ン：トリエチレングリコールジアクリレート；トリエチ
レングリコールジアクリレートニ インプロペニルベンゼン；トリメチロールエタントリア
クリレート；トリメチロールプロパンジアリルエーテル
モノメタクリレート；トリメチロールプロパントリアク
リレート；トリメチロールプロパントリメタクリレート
：２．２．４−）リフチル−１，６−ベンタンシオール
ジメタクリレート；トリプロピレングリコールジアクリ
レート；トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシア
ヌレート；およびトリス−（２−メタクリロキシエチル
）インシアヌレート。米国特許第３．５９４．４１０号
、第４，１８０，４７４号、および第４．３８２，１３
５号に記載されているもののようなポリアルコキシル化
化合物のアクリレートおよびメタク１）レートエステル
；米国特許第３．３８０，８３１号に開示されているよ
うなポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリア
クリレートおよびトリメタクリレートおよび類似化合物
：および、同時係属中の米国特許出願第３２９，８５７
号に記載されているようなアクリル酸のミハエル付加に
よって合成されたもののような２−アクリロキシプロピ
オン酸のエステルも有効である。
タクリレー）：１，４−ベンゼンジオールジアクリレー
ト；１，４−ベンゼンジオールジアクリレート；ビス−
（アクリロキシエチル）ホスフェート；ビスフェノール
−Ａジアクリレート；ビスフェノール−Ａジメタクリレ
ート；１゜６−プタンジオールジアクリレー）；１．３
−ブタンジオールジメタクリレート；１，４−ブタンジ
オールジアクリレー）；１，４−ブタンジオールジメタ
クリレート；２−ブテン−１，４−ジオールジアクリレ
ート；２−ブテン−１，４−ジオールジメタクリレート
；ブチレングリコールジメタクリレート；１．２．４−
ブタントリオールトリメタクリレート；クロチルアクリ
レート；クロチルメタクリレ−）；１．４−シクロヘキ
サンジオールジアクリレー）：１，４−シクロヘキサン
ジオールジメタクリレート；デカメチレングリコールジ
アクリレート；デカメチレングリコールジアクリレート
；ジアリルイソシアヌレート；ジアリルイタコネート：
ジエチレングリコールジアクリレート；ジエチレングリ
コールジアクリレート；ビスフェノールＡのジー（６−
アクリロキシエチル）エーテル；ビスフェノールＡのジ
ー（−アクリロキシ−２−ヒドロキシゾロピル）エーテ
ル：ジアリルフマレート；ジインプロプレニルベンゼン
；ビスフェノールＡのジー （３−メタクリロキシエチ
ル）エーテル：ビスフェノールＡのジー（６−メタクリ
ロキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル；テトラク
ロロビスフェノールＡのジー（６−メタクリロキシ−２
−ヒドロキシプロピル）エーテル；テトラブロモビスフ
ェノールＡのジー（６−メタクリロキシ−２−ヒドロキ
シプロピル）エーテル：１，４−ブタンジオールのジー
（３−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）エー
テル：ジフェノール酸のジー（３−メタクリロキシ−２
−ヒドロキシプロピル）エーテル；２，２−ジメチル−
１，３−プロパンジオールジアクリレート；２，２−ジ
メチル−１，６−プロパンジオールジメタクリレート；
ジプロピレングリコールジメタクリレート；エチレング
リコールジアクリレート；エチレングリコールジアクリ
レート；グリセロールトリアクリレート；グリセロール
トリメタクリレート：ヘキサメチレングリコールジアク
リレート：ヘキサメチレングリコールジメタクリレート
；水素化ビスフェノールＡジメタクリレート；メラミン
了りリレート；メタリルエタクリレー） ： ’Ｎ 、
Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド；１，９−ノナン
ジオールジメククリレー）；１．５−ベンタンジオール
ジアクリレート；１，５−ペンクンジオールジメタクリ
レ一ト；ペンタエリトリトールテトラアクリレート；ペ
ンタエリトリトールテトラメタクリレート；ペンタエリ
トリトールトリアクリレート；ペンタエリトリトールト
リメタクリレート：１−フェニル−１＋ ２−エタンジ
オールジメタクリレート；ポリオキシエチル−２，２−
ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンジアクリレート
；ポリオキシエチル−２，２−ジ（１）−ヒドロキシフ
ェニル）プロパンジメタクリレート；ポリオキシプロピ
ルトリメチロールプロパントリアクリレート；１゜６−
ブロパンジオールジアクリレー）：１．２−プロパンジ
オールジメタクリレート；１，６−プロパンジオールジ
メタクリレート；プロポキシル化ビフェノールＡジメタ
クリレート；テトラエチレングリコールジアクリレート
；テトラエチレング１）フールジメタクリレート；１，
３．５−トリアクリロイルへキサヒドロ−８−トリアジ
ン：トリエチレングリコールジアクリレート；トリエチ
レングリコールジアクリレートニ インプロペニルベンゼン；トリメチロールエタントリア
クリレート；トリメチロールプロパンジアリルエーテル
モノメタクリレート；トリメチロールプロパントリアク
リレート；トリメチロールプロパントリメタクリレート
：２．２．４−）リフチル−１，６−ベンタンシオール
ジメタクリレート；トリプロピレングリコールジアクリ
レート；トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシア
ヌレート；およびトリス−（２−メタクリロキシエチル
）インシアヌレート。米国特許第３．５９４．４１０号
、第４，１８０，４７４号、および第４．３８２，１３
５号に記載されているもののようなポリアルコキシル化
化合物のアクリレートおよびメタク１）レートエステル
；米国特許第３．３８０，８３１号に開示されているよ
うなポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリア
クリレートおよびトリメタクリレートおよび類似化合物
：および、同時係属中の米国特許出願第３２９，８５７
号に記載されているようなアクリル酸のミハエル付加に
よって合成されたもののような２−アクリロキシプロピ
オン酸のエステルも有効である。
好ましい架橋用不飽和単量体はかかる結合の少なくとも
１つ（好ましくは大部分）が炭素に又は窒素や酸素や硫
黄のようなヘテロ原子に二重結合した炭素を含む二重結
合炭素と共役しているものである。最も好ましい架橋用
単量体はエチレン型不飽和基がエステルまたはアミドと
共役しているもの、例えは、ペンタエリトリトールトリ
アクリレート等である。
１つ（好ましくは大部分）が炭素に又は窒素や酸素や硫
黄のようなヘテロ原子に二重結合した炭素を含む二重結
合炭素と共役しているものである。最も好ましい架橋用
単量体はエチレン型不飽和基がエステルまたはアミドと
共役しているもの、例えは、ペンタエリトリトールトリ
アクリレート等である。
感光性１合体組成物は光開始剤Ｚ含有する。光開始剤は
適する波長の光線で露光されたときに１合体中の不飽和
基および／または架橋用不飽和単量体７！−１合させる
物質である。１合体組成物中に使用するのに適する光開
始剤の例は米国特許第４．３４３．８８５号第１３欄第
１６行〜第１７橢第１８行に開示されているようなアゾ
化合物、含硫黄化合物、金属塩、金属錯体、オキシム、
アミン、多核化合物、有機カルボニル化合物、およびそ
れ等の混合物、その開示は本願の参考になる；および、
９．１０−アントラキノン；１−クロロアントラキノン
；２−クロロアントラキノン：２−メチルアントラキノ
ン；２−エチルアントラキノン； ２− ｔｅｒｔ−ブ
チルアントラキノン；オクタメチルアントラキノン；１
，４−ナフトキノン；９゜１０−フェナントレンキノン
：１．２−ベンズアントラキノン；２，３−ベンズアン
トラキノン；２−メチル−１，４−ナフトキノン：２，
６−シクロロナフトキノン；１．４−ジメチルアントラ
キノン；２，６−シメチルアントラキノン；２−フェニ
ルアントラキノン：２，３−ジフェニルアントラキノン
：６−クロロ−２−メチルアントラキノン；レチンキノ
ン；７．８，９．１０−テトラヒドロナフタレンキノン
；および１，２，３゜４−テトラヒドロベンズ（ａ）ア
ントラセン−７゜１２−ジオンである。その他の有効な
光開始剤は米国特許第２．７６０，８３３号に記載され
ており、ビシナルケトアルドニルアルコール例工はベン
ゾイン、ビバロイン、アシロインエーテル例工ばベンゾ
インメチルおよびエチルエーテル；α−メチルベンゾイ
ンやα−アリルベンゾインやα−フェニルベンゾイン乞
含むα−炭炭化水素置換芳香族アロ ０ロイン等である。米国特許第２．８５０．４４５号；
第２，８７５．０４７号：第３．０９７，０９６号：第
３、［ｌ ７４．９７４号；第３．［） ９７．［１９
７号；および第３．１４５．１０４号に開示されている
光還元性染料と還元剤、並びに米国特許第３，４２７．
１６１号；第３．４７９．１８５号；および第３，５４
９，３６７号に記載されているようなフェナジンやオキ
サジンやキノンのクラスの染料、ベンゾフェノン、２．
４，５．−）リフェニルイミダゾリルニ量体と水素供与
体、およびそれ等の混合物もまた光開始剤として使用で
きる。米国特許第４，１６２．１６２号に開示されてい
る増感剤もまた光開始剤および元押制剤と共に有効であ
る。
適する波長の光線で露光されたときに１合体中の不飽和
基および／または架橋用不飽和単量体７！−１合させる
物質である。１合体組成物中に使用するのに適する光開
始剤の例は米国特許第４．３４３．８８５号第１３欄第
１６行〜第１７橢第１８行に開示されているようなアゾ
化合物、含硫黄化合物、金属塩、金属錯体、オキシム、
アミン、多核化合物、有機カルボニル化合物、およびそ
れ等の混合物、その開示は本願の参考になる；および、
９．１０−アントラキノン；１−クロロアントラキノン
；２−クロロアントラキノン：２−メチルアントラキノ
ン；２−エチルアントラキノン； ２− ｔｅｒｔ−ブ
チルアントラキノン；オクタメチルアントラキノン；１
，４−ナフトキノン；９゜１０−フェナントレンキノン
：１．２−ベンズアントラキノン；２，３−ベンズアン
トラキノン；２−メチル−１，４−ナフトキノン：２，
６−シクロロナフトキノン；１．４−ジメチルアントラ
キノン；２，６−シメチルアントラキノン；２−フェニ
ルアントラキノン：２，３−ジフェニルアントラキノン
：６−クロロ−２−メチルアントラキノン；レチンキノ
ン；７．８，９．１０−テトラヒドロナフタレンキノン
；および１，２，３゜４−テトラヒドロベンズ（ａ）ア
ントラセン−７゜１２−ジオンである。その他の有効な
光開始剤は米国特許第２．７６０，８３３号に記載され
ており、ビシナルケトアルドニルアルコール例工はベン
ゾイン、ビバロイン、アシロインエーテル例工ばベンゾ
インメチルおよびエチルエーテル；α−メチルベンゾイ
ンやα−アリルベンゾインやα−フェニルベンゾイン乞
含むα−炭炭化水素置換芳香族アロ ０ロイン等である。米国特許第２．８５０．４４５号；
第２，８７５．０４７号：第３．０９７，０９６号：第
３、［ｌ ７４．９７４号；第３．［） ９７．［１９
７号；および第３．１４５．１０４号に開示されている
光還元性染料と還元剤、並びに米国特許第３，４２７．
１６１号；第３．４７９．１８５号；および第３，５４
９，３６７号に記載されているようなフェナジンやオキ
サジンやキノンのクラスの染料、ベンゾフェノン、２．
４，５．−）リフェニルイミダゾリルニ量体と水素供与
体、およびそれ等の混合物もまた光開始剤として使用で
きる。米国特許第４，１６２．１６２号に開示されてい
る増感剤もまた光開始剤および元押制剤と共に有効であ
る。
本発明の感光性重合体組成物にとって好ましいことが判
明した光開始剤は３−フェニル−５−イソオキサシロン
／ベンズアントロン：２−ｔ−ブチルアントラキノン：
２１２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン；１
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン；ジェトキ
シアセトフェノン等である。その他の適する光開始剤は
日本化学会仕置１１９２−１９９（１９８４）に開示さ
れており、２，４．６−）リス（トリクロロメチル）−
１，３，５−）リアジンと６，３′−カルボニルビス（
７−ジニチルアミノクマリン）または１−メチル−２−
ベンジルメチレン−１，２−ジヒドロナフトール（１，
２ａ）チアゾールまたは９−フェニルアクリジン；２−
メルカゾトペンズイミダゾールと９−フェニルアクリジ
ン；および６−フェニル−５−インキサシリンと９−フ
ルオレノンまたは１−メチル−２−ベンジルメチレン−
１，２−ジヒドロナフト（１，２＋１）チアゾール；等
々である。
明した光開始剤は３−フェニル−５−イソオキサシロン
／ベンズアントロン：２−ｔ−ブチルアントラキノン：
２１２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン；１
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン；ジェトキ
シアセトフェノン等である。その他の適する光開始剤は
日本化学会仕置１１９２−１９９（１９８４）に開示さ
れており、２，４．６−）リス（トリクロロメチル）−
１，３，５−）リアジンと６，３′−カルボニルビス（
７−ジニチルアミノクマリン）または１−メチル−２−
ベンジルメチレン−１，２−ジヒドロナフトール（１，
２ａ）チアゾールまたは９−フェニルアクリジン；２−
メルカゾトペンズイミダゾールと９−フェニルアクリジ
ン；および６−フェニル−５−インキサシリンと９−フ
ルオレノンまたは１−メチル−２−ベンジルメチレン−
１，２−ジヒドロナフト（１，２＋１）チアゾール；等
々である。
本発明の好ましい感光性のカソード電気泳動用１合体組
成物は次のように製造される。ます、重合体酸液を架橋
用不飽オロ単り体と混合フる。それから、適する溶剤に
溶解した光開始剤を上記溶液に添加し、そしてその撹拌
混合物に、キャリア基ンプロトン化するために使用され
る酸ン添加する。
成物は次のように製造される。ます、重合体酸液を架橋
用不飽オロ単り体と混合フる。それから、適する溶剤に
溶解した光開始剤を上記溶液に添加し、そしてその撹拌
混合物に、キャリア基ンプロトン化するために使用され
る酸ン添加する。
混合物を完全に撹拌した後、水ケ加える。水を加えると
、混合物は粘稠性が弱まり、水性エマルジョンが生成さ
れる。エマルジョンの固形分はエマルジョンを追加の水
で希釈することによって調節できる。１合体と光開始剤
と不飽和単量体と酸との相対濃度は第１表に示されてい
るが、成分はいずれも１合体１ｏｏｘｉ？部に対する重
量部で表わされている。
、混合物は粘稠性が弱まり、水性エマルジョンが生成さ
れる。エマルジョンの固形分はエマルジョンを追加の水
で希釈することによって調節できる。１合体と光開始剤
と不飽和単量体と酸との相対濃度は第１表に示されてい
るが、成分はいずれも１合体１ｏｏｘｉ？部に対する重
量部で表わされている。
一般的 好ましい 最適範囲
範囲 範囲
重合体 １００ １００ １００溶
剤 ０−３００ ０−１００
０−７０不飽和単量体 ０−１００ ２５−
７５ ３０−５０光開始剤 １−２０ ２
−１０ ３−８酸 ０−５−１０
１−５ １−３水 ４０
０−４０００ ５００−３１００ ９００−２６００
一般的亀気泳動手順 水溶液または水性エマルジョンから感光性１合体膜をカ
ソード電気泳動付着させる方法は次のような一般的手順
を用いて行われろ。各面上に銅張りを有する回路板用側
斜のように導電性表面ケ有する基体は研摩クリーナーで
スクラッピングされ、空気で乾燥されてから、カソード
として作用するように水性エマルジョンまたは水溶液の
中に沈められてもよい。研摩クリーナーでスクラッピン
グすることによる基体の下処理は感光性膜の良好な付着
を達成するために必すしも必要ではないので、望むなら
ば本方法から削除することができる。ステンレス鋼のよ
うな不活性対向電極をアノードとして使用する。アノー
ドも水性エマルジョンまたは水溶液の中に、２個の電極
が互いに平行に且つ少な（とも約肌５ｃｌｒＬの一定距
離隔離心れるように、沈められる。電極ン定電圧直流電
源に接続する。
剤 ０−３００ ０−１００
０−７０不飽和単量体 ０−１００ ２５−
７５ ３０−５０光開始剤 １−２０ ２
−１０ ３−８酸 ０−５−１０
１−５ １−３水 ４０
０−４０００ ５００−３１００ ９００−２６００
一般的亀気泳動手順 水溶液または水性エマルジョンから感光性１合体膜をカ
ソード電気泳動付着させる方法は次のような一般的手順
を用いて行われろ。各面上に銅張りを有する回路板用側
斜のように導電性表面ケ有する基体は研摩クリーナーで
スクラッピングされ、空気で乾燥されてから、カソード
として作用するように水性エマルジョンまたは水溶液の
中に沈められてもよい。研摩クリーナーでスクラッピン
グすることによる基体の下処理は感光性膜の良好な付着
を達成するために必すしも必要ではないので、望むなら
ば本方法から削除することができる。ステンレス鋼のよ
うな不活性対向電極をアノードとして使用する。アノー
ドも水性エマルジョンまたは水溶液の中に、２個の電極
が互いに平行に且つ少な（とも約肌５ｃｌｒＬの一定距
離隔離心れるように、沈められる。電極ン定電圧直流電
源に接続する。
それから、１００ボルトのオーダーのｔ位を印加する。
印加電圧の量と電圧印加時間とによって付着膜の岸さが
決まる。電圧印加時間は約１分未満であるべきであり、
好ましくは約５〜１５秒の短かさである。電圧印加時間
の間中ストリップチャートレコーダーで監視したとき、
初期電流値の約１０〜１５％にまで電流が低下すると電
着の完了である。それから、電源を切り、カソードン水
性エマルジョンまたは水溶液から取り出し、水で洗い、
空気または窒累で乾燥する。必要ならば膜の粘着性ケ低
下させそして耐摩耗性ヶ増大させるために、膜乞１００
℃で約１０分間焼付けることは任意である。付着膜即ち
被膜の厚さは例えはテンっヤ、イ：／□ツヤ、７ツ製ア
ヤ、ア、７ケツゾ■ゾロフィラーによって測定される。
決まる。電圧印加時間は約１分未満であるべきであり、
好ましくは約５〜１５秒の短かさである。電圧印加時間
の間中ストリップチャートレコーダーで監視したとき、
初期電流値の約１０〜１５％にまで電流が低下すると電
着の完了である。それから、電源を切り、カソードン水
性エマルジョンまたは水溶液から取り出し、水で洗い、
空気または窒累で乾燥する。必要ならば膜の粘着性ケ低
下させそして耐摩耗性ヶ増大させるために、膜乞１００
℃で約１０分間焼付けることは任意である。付着膜即ち
被膜の厚さは例えはテンっヤ、イ：／□ツヤ、７ツ製ア
ヤ、ア、７ケツゾ■ゾロフィラーによって測定される。
プロフィラーは次のように膜厚ケ測定する二基板から膜
の小区画をけずり取り、そして、プロフィラーの針が基
体表面上の銅張りに沿ってそれから基体表面から付着膜
の表面上界どるようにサンプルケプロフイラーの中に配
置する。プロフィラーは針が銅張りの表面から膜の表面
へ登るときの移動距離ケ追跡する。この距離が付着膜の
厚さに等しい。
の小区画をけずり取り、そして、プロフィラーの針が基
体表面上の銅張りに沿ってそれから基体表面から付着膜
の表面上界どるようにサンプルケプロフイラーの中に配
置する。プロフィラーは針が銅張りの表面から膜の表面
へ登るときの移動距離ケ追跡する。この距離が付着膜の
厚さに等しい。
この一般的手順は導電性表面ンアノードとじてそして不
活性対向電極をカソードとして使用する本発明のアノー
ド電気泳動性感光性１合体組成物を使用するアノード電
気泳動付着にも適する。
活性対向電極をカソードとして使用する本発明のアノー
ド電気泳動性感光性１合体組成物を使用するアノード電
気泳動付着にも適する。
カソード電気泳動電着中、正帯電キャリア基を含有する
連合体はカソードへ向って移動するが、水はカソードで
電解されて水素イオンと水酸化物イオンになる。水酸化
物生成により、カソード表面のＰＨは溶液またはエマル
ジョンの内部におけるよりもはるかに高い。１合体粒子
がカソード表面に達すると、１合体のプロトン化アミン
基のような正帯電キャリア基が水酸化物イオンと反応し
て水と１合体上の中和アミン基のような中和キャリア基
とになる。これ等非プロトン化キャリア基は１合体粒子
ンエマルジョン中または溶液中で安定化させることがで
きず、軍合体粒子はカソード表面上に沈殿し他の同杼粒
子と凝集してカソード表面上に膜ン形成する。膜はカソ
ードに対して電気絶縁体として作用し、膜厚が成長する
と２電極間の抵抗が増大して電流が降下する。この電流
降下は追加膜の付着速度ン低下させ、ついには膜成長が
止まる。従って、初期電流がその初期値の約１０〜１５
％に低下したときに電着は有効に完了、する。従って、
膜の成長は自己制限的であり、導電性基体全表面上に均
一で一様厚さの被膜または膜を生じさせる。
連合体はカソードへ向って移動するが、水はカソードで
電解されて水素イオンと水酸化物イオンになる。水酸化
物生成により、カソード表面のＰＨは溶液またはエマル
ジョンの内部におけるよりもはるかに高い。１合体粒子
がカソード表面に達すると、１合体のプロトン化アミン
基のような正帯電キャリア基が水酸化物イオンと反応し
て水と１合体上の中和アミン基のような中和キャリア基
とになる。これ等非プロトン化キャリア基は１合体粒子
ンエマルジョン中または溶液中で安定化させることがで
きず、軍合体粒子はカソード表面上に沈殿し他の同杼粒
子と凝集してカソード表面上に膜ン形成する。膜はカソ
ードに対して電気絶縁体として作用し、膜厚が成長する
と２電極間の抵抗が増大して電流が降下する。この電流
降下は追加膜の付着速度ン低下させ、ついには膜成長が
止まる。従って、初期電流がその初期値の約１０〜１５
％に低下したときに電着は有効に完了、する。従って、
膜の成長は自己制限的であり、導電性基体全表面上に均
一で一様厚さの被膜または膜を生じさせる。
それから、フォトマスク上に描かれたパターンのような
画像ケ基体上へ転写するために、この感光性膜被覆基体
を露光・現像する。膜の露光はフォトマスクを膜と接触
させて置きそしてマスクを介して膜ケ必要光線で露光す
ることによって大気圧で（空気中で）行うこともできる
。しかし、好ましくは膜の露光は少な（とも部分真空下
で行われ、露光用光線に透明な窓を有しているフレーム
の中に膜被覆基体とフォトマスフケ入れることによって
部分真壁下で行われる。真空にしたときに、窓が載って
いるシールは窓がマスクを感光性膜上にしつかり押しつ
けるように圧縮される。それから、マスク乞介して感光
性膜夕露光するために、平均波長約３６６ ｎｍ Ｙ有
する水銀灯から発生したフィルターなし紫外線のような
露光用光線が使用できる。後に記載する具体的実施例に
使用されたフォトマスクは不透明パターンヲ刊する透明
膜からなるストウファー・レゾル−ジョン・ガイド（１
−Ｔ）であった。パターン部は黒色または不透明な１０
本の平行線パターンからなり、それ等は粉の巾が約５０
００μから約１０μまでの勅、囲に及ぶように次第に細
（なっている。どの点の線間隔もその点の線巾の約１．
５倍である。例えは、線巾が６００μの場合、森間隔は
約４５０μである、フォトマスクのもう一方の部分は上
記パターンの不透明間隔によって隔離された透明線から
成るイ・ガ像を有している。数ケ所で線にさしわたされ
た目盛りバーは線の巾馨表示する役目を果たす。
画像ケ基体上へ転写するために、この感光性膜被覆基体
を露光・現像する。膜の露光はフォトマスクを膜と接触
させて置きそしてマスクを介して膜ケ必要光線で露光す
ることによって大気圧で（空気中で）行うこともできる
。しかし、好ましくは膜の露光は少な（とも部分真空下
で行われ、露光用光線に透明な窓を有しているフレーム
の中に膜被覆基体とフォトマスフケ入れることによって
部分真壁下で行われる。真空にしたときに、窓が載って
いるシールは窓がマスクを感光性膜上にしつかり押しつ
けるように圧縮される。それから、マスク乞介して感光
性膜夕露光するために、平均波長約３６６ ｎｍ Ｙ有
する水銀灯から発生したフィルターなし紫外線のような
露光用光線が使用できる。後に記載する具体的実施例に
使用されたフォトマスクは不透明パターンヲ刊する透明
膜からなるストウファー・レゾル−ジョン・ガイド（１
−Ｔ）であった。パターン部は黒色または不透明な１０
本の平行線パターンからなり、それ等は粉の巾が約５０
００μから約１０μまでの勅、囲に及ぶように次第に細
（なっている。どの点の線間隔もその点の線巾の約１．
５倍である。例えは、線巾が６００μの場合、森間隔は
約４５０μである、フォトマスクのもう一方の部分は上
記パターンの不透明間隔によって隔離された透明線から
成るイ・ガ像を有している。数ケ所で線にさしわたされ
た目盛りバーは線の巾馨表示する役目を果たす。
膜に到達ｊる露光用光線の７ぐターは膜の露光前に測定
できる。ハイブリッド・チクノロシーズ・グループ・パ
ワー・メーター（モデル１００）ｖ使用して約３６６
ｎｍの無光パワーを測定した。
できる。ハイブリッド・チクノロシーズ・グループ・パ
ワー・メーター（モデル１００）ｖ使用して約３６６
ｎｍの無光パワーを測定した。
このメーターは約３６６ ｎｍ以外の波長を除（フィル
ター付きのフォトセルを使用している。ターターは露光
ランプの下の被露光サンプルによって通常占拠される位
置に配置される。フォトセルからの信号はパタ一単位（
ミリワット／ ｃＩｎ” ）のデジタル読出しに変換さ
れる、それから、パワーはパワ一単位に露光時間（秒）
を乗じることによってエネルヤー卑位（ミリジュール／
ｃｒｎ２）に変換される。
ター付きのフォトセルを使用している。ターターは露光
ランプの下の被露光サンプルによって通常占拠される位
置に配置される。フォトセルからの信号はパタ一単位（
ミリワット／ ｃＩｎ” ）のデジタル読出しに変換さ
れる、それから、パワーはパワ一単位に露光時間（秒）
を乗じることによってエネルヤー卑位（ミリジュール／
ｃｒｎ２）に変換される。
露光後、フォトマスフケ取り除いてから、感光性膜は膜
上に現像剤をスプレーするか又は膜被覆基体ケ状像液中
に浸漬することによって膜に現像液ン施こすことによっ
て現像される。本発明のカソード電気泳動付着ネガフォ
トレジスト膜を現像するのに有効であることが判明した
現像液は酢酸、乳剤、グリコール酸、ギ酸、コハク酸等
の約１０〜約１５重量％水溶液であり、酢酸は好ましい
現像剤である。“いずれの場合にも、現像液は約２０℃
〜約５０℃の範囲の温度で使用された。
上に現像剤をスプレーするか又は膜被覆基体ケ状像液中
に浸漬することによって膜に現像液ン施こすことによっ
て現像される。本発明のカソード電気泳動付着ネガフォ
トレジスト膜を現像するのに有効であることが判明した
現像液は酢酸、乳剤、グリコール酸、ギ酸、コハク酸等
の約１０〜約１５重量％水溶液であり、酢酸は好ましい
現像剤である。“いずれの場合にも、現像液は約２０℃
〜約５０℃の範囲の温度で使用された。
本発明のカソード電気泳動付着ネガレジストの浸漬現像
中に、現像領域が表面から容易に除去されるように、非
露光部の重合体上のアミンまたはその他キャリア基を完
全にプロトン化せしめてそれ等領域の膜を十分に親水性
且つＦ１４５〜約５０℃の温度の温水に可溶性または膨
潤性にするのに十分な時ｌ￥ｉｍ、像液をおだやかにか
きまぜた。
中に、現像領域が表面から容易に除去されるように、非
露光部の重合体上のアミンまたはその他キャリア基を完
全にプロトン化せしめてそれ等領域の膜を十分に親水性
且つＦ１４５〜約５０℃の温度の温水に可溶性または膨
潤性にするのに十分な時ｌ￥ｉｍ、像液をおだやかにか
きまぜた。
スプレー功伶はスプレーノズルを通して現像剤を露光済
み膜被覆基体の表面上に汲み上げることによって行われ
てもよい。それから、非露光膜はスプレーされた現像剤
によって除去される。過剰の現像剤は水で洗うことによ
って表面から除去されてもよい。現像後、基体表面は空
気または窒素で乾燥される。
み膜被覆基体の表面上に汲み上げることによって行われ
てもよい。それから、非露光膜はスプレーされた現像剤
によって除去される。過剰の現像剤は水で洗うことによ
って表面から除去されてもよい。現像後、基体表面は空
気または窒素で乾燥される。
フィルムの露光された架橋領域は現像剤との反応に対し
てより抵抗性になり、現像剤との成る程度限られた反応
の後でさえ非露光部よりもはるかに可溶性でなくなる。
てより抵抗性になり、現像剤との成る程度限られた反応
の後でさえ非露光部よりもはるかに可溶性でなくなる。
膜の非露光部を完全除去するのに必賛な時間を通して、
露光部は不備的に影響されないままである。
露光部は不備的に影響されないままである。
エツチング
それカミら、露光部架橋レジスト膜によって被覆されて
いない基体の導電性表面は普通の酸化剤によって腐蝕・
除去される。例えは、銅金属表面を有する基体の場合、
塩化第二鉄、塩化第二銅、またはシブレイ社ノイトラー
エツチ■ｖ−１（アルカリアンモニア）やヒドロエッチ
■５３６のような市販のエツチング剤の溶液！使用でき
る。普通に使用されているその他のエツチング液および
工０、Ｆ、 クームズ編、第８−１１頁〜第８−２７
頁に記載されている。
いない基体の導電性表面は普通の酸化剤によって腐蝕・
除去される。例えは、銅金属表面を有する基体の場合、
塩化第二鉄、塩化第二銅、またはシブレイ社ノイトラー
エツチ■ｖ−１（アルカリアンモニア）やヒドロエッチ
■５３６のような市販のエツチング剤の溶液！使用でき
る。普通に使用されているその他のエツチング液および
工０、Ｆ、 クームズ編、第８−１１頁〜第８−２７
頁に記載されている。
ストリッピング
エツチング後、基体上に非腐蝕金属の線ン裸出させるた
めに感光性膜ン剥いでもよい。感光性膜 □の剥離は功
像工程に関連した上記技術と同じように、露光部膜が除
去されるまで、露光済み感光膜で被覆されている基体Ｚ
ス） ＩＪツぎンダ液中に浸漬することによって又はレ
ジストにストリツビンダ液をスプレーすることによって
行われてもよい。
めに感光性膜ン剥いでもよい。感光性膜 □の剥離は功
像工程に関連した上記技術と同じように、露光部膜が除
去されるまで、露光済み感光膜で被覆されている基体Ｚ
ス） ＩＪツぎンダ液中に浸漬することによって又はレ
ジストにストリツビンダ液をスプレーすることによって
行われてもよい。
レジストン剥ぐのに使用されてもよい水溶液はレジスト
ン状像するのに使用されたものと類似している。それ等
は少量の界面活性剤およびその他添加剤を含有すること
もできる。適するストリッピング水溶液はコハク酸、ブ
チルカルピトール、またはブチルセロソルブの５Ｎ量％
溶液等である。
ン状像するのに使用されたものと類似している。それ等
は少量の界面活性剤およびその他添加剤を含有すること
もできる。適するストリッピング水溶液はコハク酸、ブ
チルカルピトール、またはブチルセロソルブの５Ｎ量％
溶液等である。
これ等ストリッピング液は高温例えば１１５０℃で使用
されてもよい。
されてもよい。
解像力
表面上の功像された感光性膜即ち画像の解像力はエツチ
ングおよびス） ＩＪツピングの後の、感光膜像に確実
に転写されたフォトマスク上の不透明と透明の交互の線
に相応する、線と間隔の最小巾として定義される。表面
上に非腐蝕金属の連続面ｙ！ｌ−有する線は解像された
とみなされる。実際に報告されてい７−解像力はその線
ン作成する１こめに使用されたフォトマスクの公称線巾
であるが、腐蝕線の和実の巾はエツチング剤による露光
部膜のわずかなアンダーカッティングのために公称中よ
りもわずかに細くなっているかも知れない。
ングおよびス） ＩＪツピングの後の、感光膜像に確実
に転写されたフォトマスク上の不透明と透明の交互の線
に相応する、線と間隔の最小巾として定義される。表面
上に非腐蝕金属の連続面ｙ！ｌ−有する線は解像された
とみなされる。実際に報告されてい７−解像力はその線
ン作成する１こめに使用されたフォトマスクの公称線巾
であるが、腐蝕線の和実の巾はエツチング剤による露光
部膜のわずかなアンダーカッティングのために公称中よ
りもわずかに細くなっているかも知れない。
感光−性重合体組成物を使用して紫根酸抵抗性のネガフ
ォトレジストン電気泳動付着させること（それから、さ
らに上記一般的記載のように処理゛５２ することができる）は下記実施例により詳しく記載され
ている。
ォトレジストン電気泳動付着させること（それから、さ
らに上記一般的記載のように処理゛５２ することができる）は下記実施例により詳しく記載され
ている。
本発明の感光性１合体組成物はま良、蝕刻用フォトレジ
ストとして及びプリント回路板用はんだマスクとして使
用することができる。蝕刻の場合、蝕刻されるべき金属
加工材に感光性１合体組成物を電気泳動付着させること
ができる。蝕刻中に保護されるこ、とケ必璧する被覆加
工材領域は紫外線露光される。それから、非露光部膜は
現像剤で除去されて金属裸出領域が残される。それから
、加工材の金属裸出領域はフォトレジストに影響しない
溶液でエツチングされる。
ストとして及びプリント回路板用はんだマスクとして使
用することができる。蝕刻の場合、蝕刻されるべき金属
加工材に感光性１合体組成物を電気泳動付着させること
ができる。蝕刻中に保護されるこ、とケ必璧する被覆加
工材領域は紫外線露光される。それから、非露光部膜は
現像剤で除去されて金属裸出領域が残される。それから
、加工材の金属裸出領域はフォトレジストに影響しない
溶液でエツチングされる。
感光性１合体組成物ケプリント回路板用はんだマスクと
して使用する場合、最終プリント回路板の導電性線は感
光性１合体組成物で被覆される。
して使用する場合、最終プリント回路板の導電性線は感
光性１合体組成物で被覆される。
被膜は回路にはんだ付けされるべき構成要素が存在する
場所ン除いて全て露光される。非露光部膜は現像されて
、はんだ付けされるところの導電性線の裸の金属部が裸
出する。はんだ付は中に、はんだは裸出金属にはくつ付
（が、それ以外の露光部膜によって被膜された導電性線
の領域には付かない。従って、はんだレジスト膜は導電
性膜にまたがるはんだによって起っていた短絡を防止し
、且つ、線Ｚ腐蝕および摩耗から保護する。
場所ン除いて全て露光される。非露光部膜は現像されて
、はんだ付けされるところの導電性線の裸の金属部が裸
出する。はんだ付は中に、はんだは裸出金属にはくつ付
（が、それ以外の露光部膜によって被膜された導電性線
の領域には付かない。従って、はんだレジスト膜は導電
性膜にまたがるはんだによって起っていた短絡を防止し
、且つ、線Ｚ腐蝕および摩耗から保護する。
本感光性榛脂は印刷プレートの作製に使用できる。印刷
プレートはフォトレジスト膜で被覆されることができ、
そしてインクで被【されるべき領域に対応する透明領域
ヶ有するマスク！介して露光されろ。レジストは状体さ
れて非露光部レジストが除去される。レジスト像！担持
−Ｔるプレートはレジストにはくつ付（がプレート表面
には付かないインクを伺与される。インク伺与されたプ
レート７紙にプレスしてインキケ紙歩面に転写する。
プレートはフォトレジスト膜で被覆されることができ、
そしてインクで被【されるべき領域に対応する透明領域
ヶ有するマスク！介して露光されろ。レジストは状体さ
れて非露光部レジストが除去される。レジスト像！担持
−Ｔるプレートはレジストにはくつ付（がプレート表面
には付かないインクを伺与される。インク伺与されたプ
レート７紙にプレスしてインキケ紙歩面に転写する。
代りに、レジスト像を担持するプレー）Ｙエツチングし
てレジストで抜角されていない領域ケ部分除去すること
ができる。それから、レジストンはがしプレートにイン
キを伺与してエツチングによって部分除去されなかった
領域に塗布する。プレート７紙にプレスしてインキを紙
表面へ転写する。
てレジストで抜角されていない領域ケ部分除去すること
ができる。それから、レジストンはがしプレートにイン
キを伺与してエツチングによって部分除去されなかった
領域に塗布する。プレート７紙にプレスしてインキを紙
表面へ転写する。
加えて、本感光性組成物は導電性不透明表面上に感光性
１合体組成物を電気泳動被覆することによって陰極線管
用スクリーンＺ作製するのに有利に使用できる。陰極線
管表面は通常平面ではな（曲面であり、かかる表面に均
一フオトレジスト液〜を設けることは従来の液状レジ７
）−Ｙ用いては達成し難い。最終スクリーンでは透明に
なる領域に対応する不透明領域ケ有するフォトマスフケ
感光性膜の上に置き、膜を露光し、そして状像する。
１合体組成物を電気泳動被覆することによって陰極線管
用スクリーンＺ作製するのに有利に使用できる。陰極線
管表面は通常平面ではな（曲面であり、かかる表面に均
一フオトレジスト液〜を設けることは従来の液状レジ７
）−Ｙ用いては達成し難い。最終スクリーンでは透明に
なる領域に対応する不透明領域ケ有するフォトマスフケ
感光性膜の上に置き、膜を露光し、そして状像する。
膜によって保護されていない不透明表面ケエッチングし
て透明基体ケ裸出し、それからスクリーンを通常の陰極
線管作製法で処理する。
て透明基体ケ裸出し、それからスクリーンを通常の陰極
線管作製法で処理する。
本発明の感光性重合体組成物はまた、露光済み感光膜に
よって保護されていたい銅箔基体上に錫／鉛合金のよう
な異質材料ン電気めっきすることによって形成されたプ
リント回路板によって使用されることができる。電気め
っき稜、膜をはがして裸の金属箔ン裸出し、それから、
異質金属めっき像を攻撃しないエツチング剤を使用して
その裸出金属箔乞エツチングする。
よって保護されていたい銅箔基体上に錫／鉛合金のよう
な異質材料ン電気めっきすることによって形成されたプ
リント回路板によって使用されることができる。電気め
っき稜、膜をはがして裸の金属箔ン裸出し、それから、
異質金属めっき像を攻撃しないエツチング剤を使用して
その裸出金属箔乞エツチングする。
本発明の感光性１合体組成物の別の用途は下記実施例か
ら尚業者には容易に明らかになろう。これ等実施例は本
発明を例示するためのものでおって、その応用性ケ制限
するものと解されるべきでない。実施例において使用さ
れているパーセントは特に別に言及されていない限りい
ずれも重量による。
ら尚業者には容易に明らかになろう。これ等実施例は本
発明を例示するためのものでおって、その応用性ケ制限
するものと解されるべきでない。実施例において使用さ
れているパーセントは特に別に言及されていない限りい
ずれも重量による。
実施例１：感光性重合体組成物の製造
機械的撹拌器と窒素流入口と冷却器と温度計とＸ具備し
た４０丸底フラスコの中にプロパンルーＰ■溶剤４００
ｇを入れた。窒素ガスを溶剤中に吹き込みそして冷却器
に結合されたオイルバブラーから排気させて溶剤からガ
ス欠除き且つ反応容器から空気ケ追い出した。窒素流口
管を溶剤面よ′り高クシ、そして反応の間中フラスコ内
の窒素ン正圧に保つように流れ欠維持した。サーモスタ
ット制御加熱マントルをフラスコの下側に取り付け、？
１Ｈ１１ｖ１ｏ５℃に加熱した。２−（ジメチルアミノ
）エチルメタクリレート４８Ｆとメチルメタクリレ−）
４［１Ｂ９とブチルアクリレート１６２９とｔ−ブチル
ペルオクトエート遊離基開始剤６．２ｇとの混合物を撹
拌反応器へ４時間かけて滴加した。全都量体添加後２０
分してから追加のｔ−ブチルペルオクトエート０．６９
（もとの添加量の１０％）ケ反応器へ添加した。加熱
・撹拌ケさらに３０分間維持してから停止した。性成さ
れた１合体溶液は６１重量％の固形分を有していたが、
それは単量体の重合体への転化が不動的に完了したこと
７示している。
た４０丸底フラスコの中にプロパンルーＰ■溶剤４００
ｇを入れた。窒素ガスを溶剤中に吹き込みそして冷却器
に結合されたオイルバブラーから排気させて溶剤からガ
ス欠除き且つ反応容器から空気ケ追い出した。窒素流口
管を溶剤面よ′り高クシ、そして反応の間中フラスコ内
の窒素ン正圧に保つように流れ欠維持した。サーモスタ
ット制御加熱マントルをフラスコの下側に取り付け、？
１Ｈ１１ｖ１ｏ５℃に加熱した。２−（ジメチルアミノ
）エチルメタクリレート４８Ｆとメチルメタクリレ−）
４［１Ｂ９とブチルアクリレート１６２９とｔ−ブチル
ペルオクトエート遊離基開始剤６．２ｇとの混合物を撹
拌反応器へ４時間かけて滴加した。全都量体添加後２０
分してから追加のｔ−ブチルペルオクトエート０．６９
（もとの添加量の１０％）ケ反応器へ添加した。加熱
・撹拌ケさらに３０分間維持してから停止した。性成さ
れた１合体溶液は６１重量％の固形分を有していたが、
それは単量体の重合体への転化が不動的に完了したこと
７示している。
それから、１合体溶液１６．４ｇＹ多官能性！量体ペン
タエリトリトールトリアクリレ−） ５．０９およびグ
リノ（１，２−ジメトキシエタン）中の２−ｔ−ブチル
アントラキノン元開始剤の２１１量％溶液１．９９と一
緒に撹拌することによって水性エマルジョン７つ（つ１
こ。それから、上記混合物に８５１１％乳剤水溶液０．
２廐ン少しずつ添加した。それから、撹拌しながら脱イ
オン水をゆっくりと、混合物が完全に分散されるまで且
つ混合物の粘度が顕著に低下するまで、添加した。脱イ
オン水は約１０１旬ｙ ％ Ｉ７）固形分Ｙ！する感光
性１合体エマルジョンの総量１５０ｇになるように添加
された。
タエリトリトールトリアクリレ−） ５．０９およびグ
リノ（１，２−ジメトキシエタン）中の２−ｔ−ブチル
アントラキノン元開始剤の２１１量％溶液１．９９と一
緒に撹拌することによって水性エマルジョン７つ（つ１
こ。それから、上記混合物に８５１１％乳剤水溶液０．
２廐ン少しずつ添加した。それから、撹拌しながら脱イ
オン水をゆっくりと、混合物が完全に分散されるまで且
つ混合物の粘度が顕著に低下するまで、添加した。脱イ
オン水は約１０１旬ｙ ％ Ｉ７）固形分Ｙ！する感光
性１合体エマルジョンの総量１５０ｇになるように添加
された。
実施例２：感光性乳剤の電気泳動付着
２．５ｃｍＸ１０ｃｍの寸法と１／１６インチの厚さヲ
有し且つ各面に１０オンス／平方フイートの銅張りを有
するプリント回路板を研摩クリーナー（シブレイ社スク
ラップ・クリーナー１１）でこすり、空気流で乾燥し、
そして実施例１で製造した感光性１合体エマルジョンの
中に約５ｃｍ沈めた。このプリント回路板と同じ大きさ
のステンレス鋼電極もこのエマルジョン中に沈めて電解
槽を形成した。
有し且つ各面に１０オンス／平方フイートの銅張りを有
するプリント回路板を研摩クリーナー（シブレイ社スク
ラップ・クリーナー１１）でこすり、空気流で乾燥し、
そして実施例１で製造した感光性１合体エマルジョンの
中に約５ｃｍ沈めた。このプリント回路板と同じ大きさ
のステンレス鋼電極もこのエマルジョン中に沈めて電解
槽を形成した。
これ等２つの電極は２．５錦間隔で互いに平行に配置さ
れた。電極ンＤｏ電源に接続した。ステンレス鋼電極を
アノードにし、そ【７て回路板表面をカンードにした。
れた。電極ンＤｏ電源に接続した。ステンレス鋼電極を
アノードにし、そ【７て回路板表面をカンードにした。
１００ボルトの電位ケラ２秒間印、 加しム：。エマ
ルジョンの温度は３０”Ｏであり、初期電流密度は１５
ミリアンペア／ Ｃｍ２テあった。
ルジョンの温度は３０”Ｏであり、初期電流密度は１５
ミリアンペア／ Ｃｍ２テあった。
それから電力供給ケ停止し、被攪板ケエマルジョンから
取り出し、水で洗い、そして窒素で乾燥した。この被膜
の厚さはアルファーステップ■プロフィラーで抑］定し
たとぎに５１であった。
取り出し、水で洗い、そして窒素で乾燥した。この被膜
の厚さはアルファーステップ■プロフィラーで抑］定し
たとぎに５１であった。
実施例３：感光性膜の露光および現像
実施例２で作製された膜被覆プリント回路板をストウフ
ァー・レゾル−ジョン・ガイド・フォトマスクと一緒に
真空フレームの中に置き、そしてフィルターなし３６６
ｎｍ紫外線１ｍＷ ７ｃｍ２ テｇ光した。露光時間
は３分であり、ハイブリッド・チクノロシーズ・グルー
プ・パワー・メーター（モデル１００）によって測定さ
れたときの露光パワーはＦＪ１ｍＷ／儂？であった。
ァー・レゾル−ジョン・ガイド・フォトマスクと一緒に
真空フレームの中に置き、そしてフィルターなし３６６
ｎｍ紫外線１ｍＷ ７ｃｍ２ テｇ光した。露光時間
は３分であり、ハイブリッド・チクノロシーズ・グルー
プ・パワー・メーター（モデル１００）によって測定さ
れたときの露光パワーはＦＪ１ｍＷ／儂？であった。
それから、露光済み膜を４５℃の酢酸１’Ｅ４量％水溶
液中に浸してその基体をコンスタントに前後に動かしな
がら２分間物像した。それから、基体を温水（４５℃）
流下で１０〜１５秒間洗い、そして窒素流で乾燥した。
液中に浸してその基体をコンスタントに前後に動かしな
がら２分間物像した。それから、基体を温水（４５℃）
流下で１０〜１５秒間洗い、そして窒素流で乾燥した。
ストウファー・レゾル−ジョン・ｉｆガイド２５μの線
および間隔は画像形成されたフォトレジストパターンで
正確に再生された。
および間隔は画像形成されたフォトレジストパターンで
正確に再生された。
実施例４：エツチング
実施例３に従って作製されたプリント回路板は下記無機
エツチング剤のいずれかの中に各板ケ浸漬しながら、フ
ォトレジストによって保護されていない裸の銅か腐食さ
れて板の絶縁性材料が裸出するまで前後にＡＪかてこと
によって、エツチングされた。各エツチング剤でエツチ
ングされた後のプリント回路板の状態を視覚検査して、
感光膜がエツチング剤によって攻撃されなかったかどう
か、即ち、膜か膜下の銅をエツチング剤から十分に保護
することに失敗しなかったかどうかケ調べた。
エツチング剤のいずれかの中に各板ケ浸漬しながら、フ
ォトレジストによって保護されていない裸の銅か腐食さ
れて板の絶縁性材料が裸出するまで前後にＡＪかてこと
によって、エツチングされた。各エツチング剤でエツチ
ングされた後のプリント回路板の状態を視覚検査して、
感光膜がエツチング剤によって攻撃されなかったかどう
か、即ち、膜か膜下の銅をエツチング剤から十分に保護
することに失敗しなかったかどうかケ調べた。
エツチング試験の結果は第１表に示されている。
注１）珍１化第二鉄エツチング削は、ザ・プリンテ２０
頁、第８．５表の最適Ｆｅｅ１３溶液に記載されている
ような２０〜２５℃で比ｉ １．４０２０）ボーメ４２
０）密ｍ’４．４５’ｌｌ）／ｇａｌ（５３０，！９／
Ａ’ ）、およびモル濃度６．２７乞有する３８ｍ鄭゛
％溶液であった。
頁、第８．５表の最適Ｆｅｅ１３溶液に記載されている
ような２０〜２５℃で比ｉ １．４０２０）ボーメ４２
０）密ｍ’４．４５’ｌｌ）／ｇａｌ（５３０，！９／
Ａ’ ）、およびモル濃度６．２７乞有する３８ｍ鄭゛
％溶液であった。
一２表に記載されているような、２．２モルの０ｕＯ１
□Ｈ２Ｈ２Ｏと３０ｍ／ ｇａｌノ１ｑｃ１（２Ｄ’０
Ｂｅ）と４モルのＮａＣ１と１ガロンにｊ７−のに必要
な水とであった。
□Ｈ２Ｈ２Ｏと３０ｍ／ ｇａｌノ１ｑｃ１（２Ｄ’０
Ｂｅ）と４モルのＮａＣ１と１ガロンにｊ７−のに必要
な水とであった。
注３） もう１つの酸像済み感光膜板はシブレイ・ヒド
ロ−エッチ５３６でエツチングされるηＩノに１７０℃
の温度の空気流で約１分間加熱されて７５μや解像力を
有する食刻線乞形成した。このパターンの細かい紛の、
銅基体からの剥離傾向はヒドロ−エッチ５３６に先立っ
て加熱されなかった第１衣のサンプルのそれよりも小さ
かった。
ロ−エッチ５３６でエツチングされるηＩノに１７０℃
の温度の空気流で約１分間加熱されて７５μや解像力を
有する食刻線乞形成した。このパターンの細かい紛の、
銅基体からの剥離傾向はヒドロ−エッチ５３６に先立っ
て加熱されなかった第１衣のサンプルのそれよりも小さ
かった。
実施例５ニスドリツピング
実施例４（注３）に記載されているエツチング前に加熱
されたヒドロ−エッチ５３６プリント回Ｍ＆ｖ１５％酢
酸水溶液からなるストリッピンダ液の中に６０℃で８分
装置いた。感光膜は軟化されて容易に表面からはらいの
けられ、きれいな銅表面が残された。
されたヒドロ−エッチ５３６プリント回Ｍ＆ｖ１５％酢
酸水溶液からなるストリッピンダ液の中に６０℃で８分
装置いた。感光膜は軟化されて容易に表面からはらいの
けられ、きれいな銅表面が残された。
実施例６：はんだめっき
実施例３の現像済み感光重合体膜を有するプリント回路
板は感光膜でカバーされていない領域にはんだ７＜ １
Ｑ ｍＡ ／ｃＩｒＬ２で１ｏ分間電気めっきされて約
５μ厚のはんだ層音形成された。膜を視覚検査したとこ
ろ、膜はめつき処理によって本動的に影響されないこと
が判明した。望ましくない領域にはんだ付けかなされる
結果となるビンポールは７０倍率での検査によっては膜
中に発見されながったＯ ンドプック（０，Ｆ、クームズ・ジュニア）シアー１６
頁〜第７−１８頁と、第７−１９頁〜第７−２２頁に従
って、標準銅めっき浴と標準はんだめっき浴を調製した
。実施例３に従って製造されたプリント回路板ケ鋼めっ
き浴中に６０分間それからはんだめっき浴中に３０分間
入れて置（ことによって露光済み感光膜の抵抗性ン試験
した。それから、膜は硬度および接着性の実質的変化に
ついて又はめつき浴による攻撃の徴候または画像の変化
について検査された。プリント回路板はめつき浴中で本
質的に変化しないままであり、しかも７０倍率での検査
によってＶンホールは検出されなかった。
板は感光膜でカバーされていない領域にはんだ７＜ １
Ｑ ｍＡ ／ｃＩｒＬ２で１ｏ分間電気めっきされて約
５μ厚のはんだ層音形成された。膜を視覚検査したとこ
ろ、膜はめつき処理によって本動的に影響されないこと
が判明した。望ましくない領域にはんだ付けかなされる
結果となるビンポールは７０倍率での検査によっては膜
中に発見されながったＯ ンドプック（０，Ｆ、クームズ・ジュニア）シアー１６
頁〜第７−１８頁と、第７−１９頁〜第７−２２頁に従
って、標準銅めっき浴と標準はんだめっき浴を調製した
。実施例３に従って製造されたプリント回路板ケ鋼めっ
き浴中に６０分間それからはんだめっき浴中に３０分間
入れて置（ことによって露光済み感光膜の抵抗性ン試験
した。それから、膜は硬度および接着性の実質的変化に
ついて又はめつき浴による攻撃の徴候または画像の変化
について検査された。プリント回路板はめつき浴中で本
質的に変化しないままであり、しかも７０倍率での検査
によってＶンホールは検出されなかった。
実施例８：感光性１合体組成物および画像形成ペジタエ
リトリトールトリアクリレート多官能性単量体の代りに
トリメチロールプロパントリメタクリレ−） ４．０９
Ｙ用いたこと以外は実施例１および２と同じ材料およ
び手順ヶ用いて水性エマルジョンを配合することによっ
て感光性１合体組成物ケ製造した。それから、この水性
エマルジョンをプリント回路板上にカソード電気泳動付
着させた。２０℃で１００ボルトで１２秒後の膜厚は５
μであると測定された。膜被覆板はストゥファー・レゾ
ル−ジョン・ガイドと水銀灯（ＵＶ３６６ｎｍ ） Ｙ
用いて真空下で１ ｍＷ ／ ｃｍ２の強度で６分間露
光され、それから１５重量％酢酸水溶液で４０℃で２．
５分間埃像された。鋼上のフォトレジスト像には解像力
３０μの線および間隔が得られたＯ 実施例９：感光性１合体組成物゛および画像形成状の点
を変更して実施例８を繰り返した：感光性１合体組成物
の製造においてトリメチロールプロパントリメタクリレ
ート４．０ ｇの代りにトリメチロールプロパントリア
クリレート多官能性単量体５．０ ｇＹ使用した。２１
℃で１２秒間のカソード電気泳動付着は４μ厚の膜を生
じた。膜はストウファ−・レゾル−ジョン・ガイドを用
いて真空下で紫外ｍ（３６６ｎｍ）に１ ｍｗ ／ ｃ
ｍ２で６分間露光された。非露光部膜は１５％酢酷水溶
液中で３０℃で３．５分間現像された。鋼上の７オトレ
ジスト像では６０μの線と間隔が解像された。
リトリトールトリアクリレート多官能性単量体の代りに
トリメチロールプロパントリメタクリレ−） ４．０９
Ｙ用いたこと以外は実施例１および２と同じ材料およ
び手順ヶ用いて水性エマルジョンを配合することによっ
て感光性１合体組成物ケ製造した。それから、この水性
エマルジョンをプリント回路板上にカソード電気泳動付
着させた。２０℃で１００ボルトで１２秒後の膜厚は５
μであると測定された。膜被覆板はストゥファー・レゾ
ル−ジョン・ガイドと水銀灯（ＵＶ３６６ｎｍ ） Ｙ
用いて真空下で１ ｍＷ ／ ｃｍ２の強度で６分間露
光され、それから１５重量％酢酸水溶液で４０℃で２．
５分間埃像された。鋼上のフォトレジスト像には解像力
３０μの線および間隔が得られたＯ 実施例９：感光性１合体組成物゛および画像形成状の点
を変更して実施例８を繰り返した：感光性１合体組成物
の製造においてトリメチロールプロパントリメタクリレ
ート４．０ ｇの代りにトリメチロールプロパントリア
クリレート多官能性単量体５．０ ｇＹ使用した。２１
℃で１２秒間のカソード電気泳動付着は４μ厚の膜を生
じた。膜はストウファ−・レゾル−ジョン・ガイドを用
いて真空下で紫外ｍ（３６６ｎｍ）に１ ｍｗ ／ ｃ
ｍ２で６分間露光された。非露光部膜は１５％酢酷水溶
液中で３０℃で３．５分間現像された。鋼上の７オトレ
ジスト像では６０μの線と間隔が解像された。
実施例１０：感光性重合体組成物および画像形成２−ｔ
−ブチルアントラキノンの代りに光開始剤としてグリノ
（１，２−ジメトキシエタン）中のチバガイギー製イル
ガキュア６５１■（２，２−ジ１メトキシー２−フェニ
ルアセトフェノン）の２１％溶液１．９ｇ’Ｙ使用する
ことによって実施例１７繰り返した。２０℃で１２秒間
の電気泳動付着の後にストウファー・センシテイビテイ
・ガイド・マスフケ介して真空下で１ｍＷ ／ Ｃｍ２
で２分間露光された。視像はＩＥｆ量％酢酸水溶液を用
いて４０℃で２分間行われた。もう１つのサンプルはス
トウファ−・レゾル−ジョン・ガイドヶ介して露光され
そして上記のように掬体された。銅基体上のフォトレジ
ストパターンでは巾６０μの線および間隔が解像された
。
−ブチルアントラキノンの代りに光開始剤としてグリノ
（１，２−ジメトキシエタン）中のチバガイギー製イル
ガキュア６５１■（２，２−ジ１メトキシー２−フェニ
ルアセトフェノン）の２１％溶液１．９ｇ’Ｙ使用する
ことによって実施例１７繰り返した。２０℃で１２秒間
の電気泳動付着の後にストウファー・センシテイビテイ
・ガイド・マスフケ介して真空下で１ｍＷ ／ Ｃｍ２
で２分間露光された。視像はＩＥｆ量％酢酸水溶液を用
いて４０℃で２分間行われた。もう１つのサンプルはス
トウファ−・レゾル−ジョン・ガイドヶ介して露光され
そして上記のように掬体された。銅基体上のフォトレジ
ストパターンでは巾６０μの線および間隔が解像された
。
実施例１１：非スクラップド表面の感光性膜被覆この実
施例は本発明の感光性１合体組成物ヶ非スクラップド導
電性表面の被覆に利用することの例示であり、実施例２
に記載されているスクラップド表面（サンプル１）の被
覆との比較である。
施例は本発明の感光性１合体組成物ヶ非スクラップド導
電性表面の被覆に利用することの例示であり、実施例２
に記載されているスクラップド表面（サンプル１）の被
覆との比較である。
多層プリント回路板の内層として代表的に使用されてい
るクロム酸塩転化被膜ケ有し、１ｏｃＩｒＬ×３．７５
ｃｍ Ｘ Ｄ、［ｌ ３の寸法であり、そして各面上
に３５μ厚の銅層が被着された鉋張り基体（サンプル２
）を使用したが、クリーニングまたはスクラッピングは
されなかった。
るクロム酸塩転化被膜ケ有し、１ｏｃＩｒＬ×３．７５
ｃｍ Ｘ Ｄ、［ｌ ３の寸法であり、そして各面上
に３５μ厚の銅層が被着された鉋張り基体（サンプル２
）を使用したが、クリーニングまたはスクラッピングは
されなかった。
サンプル３はサンプル２におけると同様の内層基体であ
ったが、それはスクラッピングされた。
ったが、それはスクラッピングされた。
銅表面は多層板の作製中に層間の接着性を増大させるた
めに一般に工業的に行われてぃ−るように黒色酸化物に
転化された。
めに一般に工業的に行われてぃ−るように黒色酸化物に
転化された。
サンプル４はクロム酸塩転化被膜を有さない平滑高純度
銅箔（ペーカ−１−１７１４、厚さ０．００５インチ）
であった；表面はやや酸化され、そして手で汚された。
銅箔（ペーカ−１−１７１４、厚さ０．００５インチ）
であった；表面はやや酸化され、そして手で汚された。
表面はスクラッピングまたはクリーニングされなかった
。
。
サンプル５はカバーシートヶ除去された銅基体（ケプロ
８ｌ−１２１２６）上にラミネートされたドライフィル
ムのサンプルである。このサンプルは比較のためにある
。
８ｌ−１２１２６）上にラミネートされたドライフィル
ムのサンプルである。このサンプルは比較のためにある
。
サンプル１〜４は各々、感光性１合体フィルムでカソー
ド電気泳動付着され、そしてサンプル１〜６は第２衣に
指定されているように大気中（周囲大気圧）または真空
下でレゾル−ジョン・ガイド・フォトマスフケ介して１
ｍＷ／ｃｌｎ２で６分間露光された。それから、サンプ
ル１〜３は４０℃で現像剤１５％酢酸水溶液で掬体され
、そして第二銅（実施例４におけると同じ）でエツチン
グされて銅基体に画像を形成した。サンプル１〜５の非
露光部膜の表面への接着性はＡＳＴＭ Ｄ ３３５９
−７８（テープ試験による接着性測定）によって測定さ
れ、その達成された接着性および解像力は第２表に示さ
れている。
ド電気泳動付着され、そしてサンプル１〜６は第２衣に
指定されているように大気中（周囲大気圧）または真空
下でレゾル−ジョン・ガイド・フォトマスフケ介して１
ｍＷ／ｃｌｎ２で６分間露光された。それから、サンプ
ル１〜３は４０℃で現像剤１５％酢酸水溶液で掬体され
、そして第二銅（実施例４におけると同じ）でエツチン
グされて銅基体に画像を形成した。サンプル１〜５の非
露光部膜の表面への接着性はＡＳＴＭ Ｄ ３３５９
−７８（テープ試験による接着性測定）によって測定さ
れ、その達成された接着性および解像力は第２表に示さ
れている。
１ スクラップド ５ 真空中
７５２ 内層 ２ 大気中
７５６ 黒色酸化物 ５ 真空中
７５４ 非スクラップド箔 ５ −
−５ ドライフィルム ４
− −注１）接着性は０〜５に等吸付けされる
。等級０はＡＳＴＭ Ｄ ３３５９−７８によって測
定されたときに最低であり、等級５は最高である。
７５２ 内層 ２ 大気中
７５６ 黒色酸化物 ５ 真空中
７５４ 非スクラップド箔 ５ −
−５ ドライフィルム ４
− −注１）接着性は０〜５に等吸付けされる
。等級０はＡＳＴＭ Ｄ ３３５９−７８によって測
定されたときに最低であり、等級５は最高である。
実施例１２：感光性フィルムの固形分の測定法の点を変
更して実施例１の感光性１合体組成物の水性エマルジョ
ンを配合するため材料および手順ン使用した： 重合体合成 溶剤：ゾロバソル■−：ｐ １３３
ｇ単量体：２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレー
ト ５０ｇメチルメタクリレ−）
１５０ｇブチルメタクリレート ５０ｇ１
４始剤：ｔ−ブチルペルオクトエート単量体と一緒に添
加 ２．８ｇ単量体添加後の添加 ０
．０ｇ重合体溶液の最終固形分は５８Ｍ肯°％であり、
それは９５％超の重合転化ン表わしている。水性エマル
ジョンは次のものから製造された：１合体溶液
１７．５．！ｉ’ペンクエリトリトールトリ
アクリ レート ５．Ｏｇグリメ中の
２１％の２−ｔ−ブチ ルアントラキノン １．６９８９％の乳酸水
溶液 ０．２蛯水で全体ケ１５０ｇにする。
更して実施例１の感光性１合体組成物の水性エマルジョ
ンを配合するため材料および手順ン使用した： 重合体合成 溶剤：ゾロバソル■−：ｐ １３３
ｇ単量体：２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレー
ト ５０ｇメチルメタクリレ−）
１５０ｇブチルメタクリレート ５０ｇ１
４始剤：ｔ−ブチルペルオクトエート単量体と一緒に添
加 ２．８ｇ単量体添加後の添加 ０
．０ｇ重合体溶液の最終固形分は５８Ｍ肯°％であり、
それは９５％超の重合転化ン表わしている。水性エマル
ジョンは次のものから製造された：１合体溶液
１７．５．！ｉ’ペンクエリトリトールトリ
アクリ レート ５．Ｏｇグリメ中の
２１％の２−ｔ−ブチ ルアントラキノン １．６９８９％の乳酸水
溶液 ０．２蛯水で全体ケ１５０ｇにする。
４ｃｒｎ×８ＣｒＩＬ×０．０１３ｃＩｒＬの寸法の銅
箔のサンプル２個を１００℃で２時間乾燥し、秤量した
。各サンプルの約半分に水性エマルジョンを２１℃で１
００ざルトの電位で１２秒間軍着した。各サンプルを水
で洗い、窒素ガスで乾燥した。各サンプルを角秤都して
付着フィルムの１量ケ求め１こ。それかも、それ等欠強
制空気炉内で９０℃で１量が一定になるまで１時間乾燥
し、そしてフィルム中の不揮発固形分の重量ン求めろた
めに再秤量した。
箔のサンプル２個を１００℃で２時間乾燥し、秤量した
。各サンプルの約半分に水性エマルジョンを２１℃で１
００ざルトの電位で１２秒間軍着した。各サンプルを水
で洗い、窒素ガスで乾燥した。各サンプルを角秤都して
付着フィルムの１量ケ求め１こ。それかも、それ等欠強
制空気炉内で９０℃で１量が一定になるまで１時間乾燥
し、そしてフィルム中の不揮発固形分の重量ン求めろた
めに再秤量した。
不揮発面ｌ形弁はそれぞれ焼付けられる前のフィルムの
Ｎ量の９０〜９６％に当たることが判明した。
Ｎ量の９０〜９６％に当たることが判明した。
実施例１３：電気泳動温度の関数としての膜の厚さ
この実験は表面上に形成される電気泳動付着膜の厚さに
対する感光性組成物の温度の影響を求めるために行われ
た。この実験には実施例１で製造された感光性エマルジ
ョンが利用され、そしてエマルジョンの温度を変更した
こと以外は実施例２に記載されている電着手順が利用さ
れた。各温度における膜厚Ｚ記録しそれを第３衣に示し
た。
対する感光性組成物の温度の影響を求めるために行われ
た。この実験には実施例１で製造された感光性エマルジ
ョンが利用され、そしてエマルジョンの温度を変更した
こと以外は実施例２に記載されている電着手順が利用さ
れた。各温度における膜厚Ｚ記録しそれを第３衣に示し
た。
１．０７
この実験は電気泳動付着膜が電気泳動中の感光性組成物
の温度の変更によって調節され得ることケ実証している
。
の温度の変更によって調節され得ることケ実証している
。
実施例１４：電気泳動電位の関数としての膜厚この実験
は付着感光性膜の厚さが電気泳動電位の変化によって制
御可能かどうかを求めるために行われた。１合体溶液お
よびエマルジョンは実施例１に従って製造された。
は付着感光性膜の厚さが電気泳動電位の変化によって制
御可能かどうかを求めるために行われた。１合体溶液お
よびエマルジョンは実施例１に従って製造された。
プリント回路板の電気泳動付着は水性エマルジョンン用
いて様々な印加電位で６５℃で１２秒間行われた。電気
泳動電位（＋］？ルト）および初期電流密度（ｍＡ ／
ｃｍ” ）の関数としての膜厚は第４表に提示されて
いる。
いて様々な印加電位で６５℃で１２秒間行われた。電気
泳動電位（＋］？ルト）および初期電流密度（ｍＡ ／
ｃｍ” ）の関数としての膜厚は第４表に提示されて
いる。
電 位 初期電流密度 膜 厚（ボルト）
（ｍＡ／ｃｍリ （μ）１
ＤＯ２４１４ これは水性エマルジョンの温度（実施例１３）と印加さ
れた電気泳動電位（実施例１４）の両方が付着膜の厚さ
に有意に影響することケ実証している。
（ｍＡ／ｃｍリ （μ）１
ＤＯ２４１４ これは水性エマルジョンの温度（実施例１３）と印加さ
れた電気泳動電位（実施例１４）の両方が付着膜の厚さ
に有意に影響することケ実証している。
実施例１５：均一膜厚の実証
次の点ン変更して実施例１の材料および手順ン使用した
： 溶剤：プロパンルーＰ １６７、！ｉ
＋単量体：２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレ−
） ２’ ０．ＯＦメチルメタクリレー
ト １９９ｇエチルメタクリレート ４２
．５９開始剤：ｔ−ブチルペルオクトエート 単量体と一緒に添加 ２．７ｇ却量体添加後に
添加 ０．３ ｇ１合体溶液の最終固形分は６
０％であり、それは単量体の本堂的に完全なる１合が行
われたこと乞表わしている。
： 溶剤：プロパンルーＰ １６７、！ｉ
＋単量体：２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレ−
） ２’ ０．ＯＦメチルメタクリレー
ト １９９ｇエチルメタクリレート ４２
．５９開始剤：ｔ−ブチルペルオクトエート 単量体と一緒に添加 ２．７ｇ却量体添加後に
添加 ０．３ ｇ１合体溶液の最終固形分は６
０％であり、それは単量体の本堂的に完全なる１合が行
われたこと乞表わしている。
水性エマルジョン：
重合体溶液 １６．６．！ｉ’ペンタ
エリトリトールトリアク リレート ５．０ｇグリメ中の
２１％の２−ｔ−ブチ ルアントラキノン １．９ｇ８９７ｏ酢酸水
溶液 ０．２ｍｌ水で全体’Ｙ１５０ｇに
する。
エリトリトールトリアク リレート ５．０ｇグリメ中の
２１％の２−ｔ−ブチ ルアントラキノン １．９ｇ８９７ｏ酢酸水
溶液 ０．２ｍｌ水で全体’Ｙ１５０ｇに
する。
電気泳動被覆は各々８ｃＩｒＬ×９ｃＩｎの寸法のプリ
ント回路板カソード（両面に導電性被膜）とステンレ、
１Ｍ７／−ドヶ０．７ｃｍの間隔で使用して２１℃で初
期電流密度３５ ｍＡ ／ａｎ２で１００ボルトで１２
秒間行われた。プリント回路板上の感光性１合体膜の厚
さは板の中心と４角の各々で測定され、第５表に示され
ている。
ント回路板カソード（両面に導電性被膜）とステンレ、
１Ｍ７／−ドヶ０．７ｃｍの間隔で使用して２１℃で初
期電流密度３５ ｍＡ ／ａｎ２で１００ボルトで１２
秒間行われた。プリント回路板上の感光性１合体膜の厚
さは板の中心と４角の各々で測定され、第５表に示され
ている。
中心 １６．５左上の角１
）１３．０ 左下の角 １３．０右上の角
１６．。
）１３．０ 左下の角 １３．０右上の角
１６．。
右下の角 １４．０注１）上と下
はそれぞれ、板の大気に一番近い場所と、板のエマルジ
ョン界面から一番遠い場所を意味する。
はそれぞれ、板の大気に一番近い場所と、板のエマルジ
ョン界面から一番遠い場所を意味する。
これは本発明の感光性１合体組成物ン用いた電気泳動付
着方法によると基体の表面に対する厚さの変動は殆んど
現われなかったことを実証している。
着方法によると基体の表面に対する厚さの変動は殆んど
現われなかったことを実証している。
実施例１６：有機溶剤功像剤の使用
法のようにして実施例１の材料および手順を繰り返した
： 溶剤：プロパンルーｐ １５０ｇ単量
体＝２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレ−）
６．３９メチルメタクリレート
９６ｇブチルメタクリレート ３１．５．！９
開始剤：ｔ−ブチルペルオクトエート 単量体と一緒に添加 １．６ｇ単量体添加後に
添加 ０．１６９１合体溶液の最終固形分は４８
１量％であったが、それは単量体が本質的に完全に重合
体に転化したことを表わしている。
： 溶剤：プロパンルーｐ １５０ｇ単量
体＝２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレ−）
６．３９メチルメタクリレート
９６ｇブチルメタクリレート ３１．５．！９
開始剤：ｔ−ブチルペルオクトエート 単量体と一緒に添加 １．６ｇ単量体添加後に
添加 ０．１６９１合体溶液の最終固形分は４８
１量％であったが、それは単量体が本質的に完全に重合
体に転化したことを表わしている。
水性エマルジョン：
１合体溶液 ２１０，９ペンタエリト
リトールトリアク リ レー ）
５．０ ｇグリメ中の２１％の、２−ｔ
−ブ チルアントラキノン １．９ｇ８９％乳■ノ水
溶液 ０．２１水で全体ケ１５０ｇにする
。
リトールトリアク リ レー ）
５．０ ｇグリメ中の２１％の、２−ｔ
−ブ チルアントラキノン １．９ｇ８９％乳■ノ水
溶液 ０．２１水で全体ケ１５０ｇにする
。
２１℃で１００ボルトで初期電流密度１３ ｍＡ／（１
ｍ”で１２秒間電気泳動被被覆性ったところ４μ厚の膜
が得られた。露光はストウファ−・レゾル−ジョン・ガ
イドを用いて真空下で紫外ｉ ３６６ ｎｍで１ｍＷ／
ｃＩｎ２で４分間行われた。現像は２１℃のトルエンケ
用いて１０秒で完了し、解像力６０μの線および間隔を
生じた。
ｍ”で１２秒間電気泳動被被覆性ったところ４μ厚の膜
が得られた。露光はストウファ−・レゾル−ジョン・ガ
イドを用いて真空下で紫外ｉ ３６６ ｎｍで１ｍＷ／
ｃＩｎ２で４分間行われた。現像は２１℃のトルエンケ
用いて１０秒で完了し、解像力６０μの線および間隔を
生じた。
実施例１７ ： ＤＭＡＰＭＡ感光性１合感光性１仁
りＭＡＥＭＡの代りに３−（ジメチルアミノ）プロピル
メタクリルアミドケ用いて感光性１合体組成物を配合し
、そしてこの組成物から電気泳動によつて画像を形成す
ることを説明するものである。次の点を変更して実施例
１〜４の材料および手順を使用した０ １合体の合成： 溶剤：プロパンルーＰ １３３ｇ単量
体：３−（ジメチルアミノ）プロ ピルメタクリルアミド １８ｇ メチルメタクリレート １３０，！９ブチルメタ
クリレート ５２ｇ開始剤：ｔ−ブチルペルオ
クトエート 単量体と一緒に添加 ２．２ｇ単量体添加後に
添加 ０．２ｇ１合体溶液の最終固形分は５７
％であり、１合収率は約９５％であった。
メタクリルアミドケ用いて感光性１合体組成物を配合し
、そしてこの組成物から電気泳動によつて画像を形成す
ることを説明するものである。次の点を変更して実施例
１〜４の材料および手順を使用した０ １合体の合成： 溶剤：プロパンルーＰ １３３ｇ単量
体：３−（ジメチルアミノ）プロ ピルメタクリルアミド １８ｇ メチルメタクリレート １３０，！９ブチルメタ
クリレート ５２ｇ開始剤：ｔ−ブチルペルオ
クトエート 単量体と一緒に添加 ２．２ｇ単量体添加後に
添加 ０．２ｇ１合体溶液の最終固形分は５７
％であり、１合収率は約９５％であった。
エマルジョンの生成：
１合体溶液 １７．８ｇペンタエリト
リトールトリアク リレ−） ５．０ Ｆグリメ
中の１７％の２−ｔ−ブ チルアントラキノン ２．４Ｉ８９％乳酸水溶
液 ０．２ｇ水で全体乞１５０ｇにする。
リトールトリアク リレ−） ５．０ Ｆグリメ
中の１７％の２−ｔ−ブ チルアントラキノン ２．４Ｉ８９％乳酸水溶
液 ０．２ｇ水で全体乞１５０ｇにする。
電気泳動：
時間 １２秒温度
２０℃被覆厚
５μ露光 マスク ストウファー・レゾル−ジョン・ガイド 状態 真 空 元強度 １ｍＷ／ｃｍ２時間
６分状体 耕像剤 １５％酢酸水溶液温度
６０℃時間
１分銅被覆基体上のフォトレジストパターンでは
３０μの線および間隔が解像された。
２０℃被覆厚
５μ露光 マスク ストウファー・レゾル−ジョン・ガイド 状態 真 空 元強度 １ｍＷ／ｃｍ２時間
６分状体 耕像剤 １５％酢酸水溶液温度
６０℃時間
１分銅被覆基体上のフォトレジストパターンでは
３０μの線および間隔が解像された。
メッキ浴に対する安定性
銅および錫／鉛めつき浴に対する露光・現像済みフォト
レジスト像の安定性は実施例７の手順に従って求められ
た。銅めっき浴中で３０分後、レジストはやや軟化した
が、次の３０分の間には更なる変化ン示さなかったはか
りでな（、その後の錫／鉛めつき浴中での３０分浸漬中
にも何らの変加も追加されなかった。
レジスト像の安定性は実施例７の手順に従って求められ
た。銅めっき浴中で３０分後、レジストはやや軟化した
が、次の３０分の間には更なる変化ン示さなかったはか
りでな（、その後の錫／鉛めつき浴中での３０分浸漬中
にも何らの変加も追加されなかった。
エツチング抵抗
本発明の露光された現像されたフォトレジスト像を有す
る銅張り基体ケ実施例４に記載されているようにエツチ
ングした。塩化第二鉄、塩化第二銅、およびシブレイ・
ナイトラーエツチｖ−１によるエツチングは７５μ以下
の線および間隔ンもたらした。塩化第二鉄および塩化第
二銅エツチング剤はレジヌト馨やや軟化させたが性能ケ
減少させるには到らず、仲方、ノイトラーエツチドで蝕
刻されたレジストは軟化を示さなかった。シブレイ・ヒ
ドロ−エッチ５３６で蝕刻されたサンプルは膜のい（ら
かの軟化と許容できないふくれケもって解像力１００μ
の線および間隔ケ示した。
る銅張り基体ケ実施例４に記載されているようにエツチ
ングした。塩化第二鉄、塩化第二銅、およびシブレイ・
ナイトラーエツチｖ−１によるエツチングは７５μ以下
の線および間隔ンもたらした。塩化第二鉄および塩化第
二銅エツチング剤はレジヌト馨やや軟化させたが性能ケ
減少させるには到らず、仲方、ノイトラーエツチドで蝕
刻されたレジストは軟化を示さなかった。シブレイ・ヒ
ドロ−エッチ５３６で蝕刻されたサンプルは膜のい（ら
かの軟化と許容できないふくれケもって解像力１００μ
の線および間隔ケ示した。
泳動付着
この実施例は水性塩基で現像されるフォトレジスト膜ン
作製するためのアノード電気泳動被覆方法における感光
性１合体組成物の使用に関する。
作製するためのアノード電気泳動被覆方法における感光
性１合体組成物の使用に関する。
下記事項以外は実施例１に記載されている材料および手
順を使用した： １合体の合成： 溶剤：プロパンルーＰ １６７、！９
単量体：メタクリル酸 ３７．５ ｇメ
チルメククリレー） １２１ブチルメタクリ
レート ８７．５９開始剤：ｔ−ブチルペルオ
クトエート 単量体と一緒に添加 ２．７ｇ単量体添加後に
添加 ０．３ｇ１合体溶液の最終固形分は６０
％であったが、それは単量体の１合体への転化が完了し
たことを表わしている。
順を使用した： １合体の合成： 溶剤：プロパンルーＰ １６７、！９
単量体：メタクリル酸 ３７．５ ｇメ
チルメククリレー） １２１ブチルメタクリ
レート ８７．５９開始剤：ｔ−ブチルペルオ
クトエート 単量体と一緒に添加 ２．７ｇ単量体添加後に
添加 ０．３ｇ１合体溶液の最終固形分は６０
％であったが、それは単量体の１合体への転化が完了し
たことを表わしている。
エマルジョンの生成１：
１合体溶液 １６．４ｇペンタエリト
リトールトリアク リレー） ５．０ 、！９グリ
メ中の２１％の２−ｔ−ブチル アントラキノン １．９９１Ｎの水酸化ナ
トリウム ５．０ｇ水で全体を１５０ｇにする。
リトールトリアク リレー） ５．０ 、！９グリ
メ中の２１％の２−ｔ−ブチル アントラキノン １．９９１Ｎの水酸化ナ
トリウム ５．０ｇ水で全体を１５０ｇにする。
電気泳動被＆：
膜がアノード電気泳動によって設けられたこと以外は実
施例２に記載されている手順に従った。被覆されるべき
銅張り基体ンアノードとして使用し、そしてステンレス
鋼電極をカソードとして使用した。被覆は１００ボルト
で行われた。
施例２に記載されている手順に従った。被覆されるべき
銅張り基体ンアノードとして使用し、そしてステンレス
鋼電極をカソードとして使用した。被覆は１００ボルト
で行われた。
時間 １２秒濁度
２０℃初期ｔ 流密度 ２
Ｑ ｍＡ ／ ｃｍ２厚さ
３μ露光 マスク ストウファ−・レゾル−ジョン・マスク 状態 真 壁 ｊｔ、 ’Ｊ 度１ｍＷ ／ ｃｒｎ２時間
３分功像 状体剤 １％炭酸カリウム水溶液温度
２０℃時間
３０秒銅の上のフォトレジストパターンでは３０μ
の線および間隔が解像された。
２０℃初期ｔ 流密度 ２
Ｑ ｍＡ ／ ｃｍ２厚さ
３μ露光 マスク ストウファ−・レゾル−ジョン・マスク 状態 真 壁 ｊｔ、 ’Ｊ 度１ｍＷ ／ ｃｒｎ２時間
３分功像 状体剤 １％炭酸カリウム水溶液温度
２０℃時間
３０秒銅の上のフォトレジストパターンでは３０μ
の線および間隔が解像された。
実施例１９：非平面基体上への電着
この実験では、不規則形状の基体ケ容易に被覆できるこ
とケ実証するために、非平面基体に感光性１合体組成物
を電気泳動被覆した。１合体およびエマルジョンは実施
例１に記載されているように製造された。各面に３７μ
の銅がラミネートされている寸法１２．５ ＣＩｒＬ
Ｘ ２−５ ｃｍ Ｘ ０．１３ ｍｍの一片のフレキ
シブルプリント回路板ケ第１図に示されているような「
Ｊ」になるように最長辺の８ｃｒｎと１０ｃｒＩＬの２
ケ所で直角に曲げた。それから、この基体ンカソードと
して使用し、「、」」の幹（点１と２の間）がアノード
から２．５６ｆｎの処に位置しそして「Ｊ」のカギ部（
点２・と３、の間）がアノードから離れた方に向（よう
に槽内に配置した。電気泳動被覆は６５℃で１００ボル
トで３０秒間行われた。各水平および垂面面（第１図に
示されている〕の厚さを測定した。結果は下記の表に記
載されている。
とケ実証するために、非平面基体に感光性１合体組成物
を電気泳動被覆した。１合体およびエマルジョンは実施
例１に記載されているように製造された。各面に３７μ
の銅がラミネートされている寸法１２．５ ＣＩｒＬ
Ｘ ２−５ ｃｍ Ｘ ０．１３ ｍｍの一片のフレキ
シブルプリント回路板ケ第１図に示されているような「
Ｊ」になるように最長辺の８ｃｒｎと１０ｃｒＩＬの２
ケ所で直角に曲げた。それから、この基体ンカソードと
して使用し、「、」」の幹（点１と２の間）がアノード
から２．５６ｆｎの処に位置しそして「Ｊ」のカギ部（
点２・と３、の間）がアノードから離れた方に向（よう
に槽内に配置した。電気泳動被覆は６５℃で１００ボル
トで３０秒間行われた。各水平および垂面面（第１図に
示されている〕の厚さを測定した。結果は下記の表に記
載されている。
表
表 面 厚 さ （μ）ａ
１７ｂ
１７ Ｃ１９ ” １９ ｅ ＩＢｆ
１７ これ等データは不規則形状の対象物乞フォトレジストの
本質的に均一な被膜で被覆できると云うことを示してい
る。
１７ｂ
１７ Ｃ１９ ” １９ ｅ ＩＢｆ
１７ これ等データは不規則形状の対象物乞フォトレジストの
本質的に均一な被膜で被覆できると云うことを示してい
る。
第１図は本発明のカソード電気原動力法においてカソー
ドとして使用される「Ｊ」型銅積層フレキシブル回路板
概略図である。狂、２図は第１図下部の○印の部分の拡
大図である。
ドとして使用される「Ｊ」型銅積層フレキシブル回路板
概略図である。狂、２図は第１図下部の○印の部分の拡
大図である。
Claims (29)
- （１）キャリア基を有する重合体少なくとも１種と光開
始剤と組成物の露光時に重合体を架橋させるための不飽
和基源とから成る、架橋性感光性重合体組成物。 - （２）該不飽和基源が架橋用不飽和単量体である、特許
請求の範囲第１項の組成物。 - （３）該キャリア基を有する該重合体はアクリル酸エス
テル、メタクリル酸エステル、アクリル酸、メタクリル
酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、その他ビニル
単量体、およびその混合物からなる群から選択された単
量体の重合または共重合から、 ポリエポキシド、ポリエステル、およびポリウレタンか
らなる群から選択された縮合または付加重合体から、 またはそれ等の混合物から、 生成され、そして該キャリア基は水溶液中もしくは水性
エマルジョン中で正もしくは負に帯電するか又はそれぞ
れ酸もしくは塩基との反応時に水溶液中もしくは水性エ
マルジョン中で正もしくは負に帯電し得る化合物から選
択される、特許請求の範囲第２項の組成物。 - （４）アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ア
クリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリル
アミド、その他ビニル単量体、およびその混合物からな
る群から選択された単量体の重合または共重合から生成
された、 ポリエポキシド、ポリエステル、およびポリウレタンか
らなる群から選択された縮合または付加重合体からの、 またはそれ等の混合物からの重合体少なくとも１種（但
し、該重合体は正帯電キャリア基または酸との反応時に
正に帯電し得る基を有している）と、 光開始剤と、架橋用不飽和単量体との水溶液または水性
エマルジョンから成る、カソード電気泳動付着可能な感
光性組成物。 - （５）キャリア基が重合体１００ｇ当り約１０ミリ当量
から約２００ミリ当量未満までの帯電キャリア基から成
る、特許請求の範囲第３項の組成物。 - （６）重合体が約２重量％〜約１５重量％の２−（ジメ
チルアミノ）エチルメタクリレートから成る、特許請求
の範囲第３項の組成物。 - （７）該キャリア基がアミン、スルホニウム、およびス
ルホキソニウム基から選択される、特許請求の範囲第３
項または第４項のカソード電気泳動付着可能な感光性重
合体組成物。 - （８）該キャリア基が重合体１００ｇ当り約１０〜約１
００ミリ当量の正帯電キャリア基から成る、特許請求の
範囲第７項のカソード電気泳動付着可能な感光性重合体
組成物。 - （９）重合体が約２重量％〜約１５重量％の２−（ジメ
チルアミノ）エチルメタクリレートと約５５重量％〜約
８３重量％のメチルメタクリレート約２重量％〜約４３
重量％のエチルアクリレートとから生成された共重合体
である、特許請求の範囲第３項の組成物。 - （１０）さらに、約０℃〜約１００℃のガラス転移温度
と約１０，０００〜約１００，０００の範囲の分子量を
有する、特許請求の範囲第８項の組成物。 - （１１）該光開始剤が２，２−ジメトキシ−２−フェニ
ルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、ジエトキシアセトフェノン、２−ｔ−ブチ
ルアントラキノン、および３−フェニル−５−イソキソ
ロンとベンズアントロンとの混合物からなる群から選択
された化合物から成る、特許請求の範囲第３項の組成物
。 - （１２）該架橋用不飽和単量体が多官能性単量体である
、特許請求の範囲第２項の組成物。 - （１３）トリメチロールプロパントリアクリレート、ト
リメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリ
トリトールトリアクリレート、メラミンアクリレート、
トリメチロールプロパントリ（２−アクリロキシプロピ
オネート）、およびジエチレングリコールジアクリレー
トからなる群から選択される、特許請求の範囲第１２項
の多官能性単量体。 - （１４）（ａ）帯電キャリア基を有する重合体少なくと
も１種と光開始剤と重合体を架橋させるための不飽和基
源との水溶液または水性エマルジョンから成る感光性重
合体組成物から導電性表面上に均一膜を電気泳動付着さ
せ； （ｂ）該膜を化学線源によって部分露光し；そして （ｃ）その非露光部膜を水溶液によって現像して該表面
上に架橋重合体像を形成することから成り、且つ該像が
エッチング剤またはめっき液に対して抵抗性であること
を特徴とする、導電性表面上に重合体像を形成する方法
。 - （１５）該不飽基源が架橋用不飽和単量体からなる、特
許請求の範囲第１４項の方法。 - （１６）さらに、該架橋重合体像によって保護されてい
ない表面領域をエッチング液で腐蝕し、そして水溶液を
用いて該架橋重合体像を該表面から除去することを包含
する、特許請求の範囲第１４項の方法。 - （１７）（ａ）導電性表面をカソードとしてそして不活
性材料をアノードとして利用して電解槽を形成し、 （ｂ）正帯電キャリア基を有する重合体少なくとも１種
と光開始剤と架橋用不飽和単量体との水溶液または水性
エマルジョンから成る感光性重合体組成物中に該アノー
ドと該カソードを浸し、 （ｃ）アノードおよびカソードを直流電源に接続するこ
とによって電解回路を完成し； （ｄ）該電流が初期電流の約１５％未満に低下するまで
、アノード、カソードおよび重合体の溶液またはエマル
ジョンを横切る電位を印加して該カソードを被覆し； （ｅ）印加電位を停止し、そして該被覆カソードを該槽
から取り出し； （ｆ）該被覆カソードを化学線源によって部分露光し；
そして （ｇ）該被覆カソードの非露光部を有機酸の水溶液によ
って現像して該表面上に架橋重合体ネガ像を形成するこ
とから成り、且つ該像がエッチング剤またはめっき液に
抵抗性であるが水溶液によって該被覆表面から剥離可能
であることを特徴とする、導電性表面上にネガ像を形成
するためのカソード電気泳動方法。 - （１８）特許請求の範囲第１項の感光性重合体組成物か
ら形成された膜を上に有している表面。 - （１９）特許請求の範囲第１７項の方法に従って形成さ
れたネガ像を上に有している導電性表面。 - （２０）特許請求の範囲第１４項の方法に従って形成さ
れた重合体像を上に有している導電性表面。 - （２１）アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、
アクリルアミド、メタクリルアミド、その他ビニル単量
体、およびその混合物からなる群から選択された単量体
から生成された、 ポリエポキシド、ポリエステル、およびポリウレタンか
らなる群から選択された縮合または付加重合体からの、 またはそれ等の混合物からの重合体または共重合体少な
くとも１種（但し、重合体は負帯電キャリア基または塩
基との反応時に負に帯電し得る基を有している）と、 光開始剤と、架橋用不飽和単量体との水溶液または水性
エマルジョンからなるアノード電気泳動付着可能な感光
性組成物。 - （２２）該キャリア基がカルボン酸基である、特許請求
の範囲第３項または第２１項の組成物。 - （２３）該キャリア基が重合体１００ｇ当り約１００〜
約２００ミリ当量のカルボン酸基からなる、特許請求の
範囲第２２項の組成物。 - （２４）重合体が約８重量％〜約１５重量％のアクリル
酸またはメタクリル酸単位からなる、特許請求の範囲第
２３項の組成物。 - （２５）重合体が約０℃〜約１００℃の範囲のガラス転
移温度と約１０，０００〜約１００，０００の範囲の分
子量を有する、特許請求の範囲第２４項の組成物。 - （２６）プリント回路板用の電気泳動付着はんだマスク
としての、特許請求の範囲第１項の感光性組成物の用途
。 - （２７）エッチングのための電気泳動付着膜としての、
特許請求の範囲第１項の感光性組成物の用途。 - （２８）印刷板を作製するための、特許請求の範囲第１
項の感光性組成物の用途。 - （２９）陰極線管用スクリーンを電気泳動的に作製する
ための、特許請求の範囲第１項の感光性組成物の用途。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/654,821 US4592816A (en) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | Electrophoretic deposition process |
| US654821 | 1984-09-26 | ||
| CN198686100150A CN86100150A (zh) | 1984-09-26 | 1986-01-11 | 感光聚合物组合物及其电泳沉积工艺过程 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6180240A true JPS6180240A (ja) | 1986-04-23 |
| JPH081519B2 JPH081519B2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=67809744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60205180A Expired - Lifetime JPH081519B2 (ja) | 1984-09-26 | 1985-09-17 | 架橋性感光性重合体組成物 |
Country Status (19)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4592816A (ja) |
| EP (1) | EP0176356B1 (ja) |
| JP (1) | JPH081519B2 (ja) |
| KR (1) | KR920005775B1 (ja) |
| CN (2) | CN86100150A (ja) |
| AU (1) | AU586189B2 (ja) |
| BR (1) | BR8504640A (ja) |
| CA (1) | CA1257803A (ja) |
| DE (1) | DE3566047D1 (ja) |
| DK (1) | DK168802B1 (ja) |
| FI (1) | FI80350C (ja) |
| HK (1) | HK58289A (ja) |
| IE (1) | IE58622B1 (ja) |
| IL (1) | IL76491A (ja) |
| MX (1) | MX165458B (ja) |
| NO (1) | NO168857C (ja) |
| PH (1) | PH22139A (ja) |
| SG (1) | SG8489G (ja) |
| ZA (1) | ZA857435B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| JPH01261852A (ja) * | 1988-04-12 | 1989-10-18 | Fuji Plant Kogyo Kk | リードフレームへの部分メッキ方法 |
| JPH059407A (ja) * | 1990-12-18 | 1993-01-19 | Ciba Geigy Ag | 溶媒又は分散剤として水を含む感光性組成物 |
| JPH087440B2 (ja) * | 1990-03-24 | 1996-01-29 | ビーエーエスエフ ラッケ ウント ファルベン アクチェンゲゼルシャフト | 水で現像可能で電着可能および光硬化可能なネガ型の被覆剤、印刷回路の製造法、ならびに２次元的、２１／２次元的および３次元的な導体板の製造法 |
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| DE3517796A1 (de) * | 1985-05-17 | 1986-11-20 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von elektrisch isolierendem basismaterial fuer die fertigung von durchkontaktierten leiterplatten |
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