JPS6174137A - 磁気デイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は非磁性支持体上に磁性塗膜が設けられたフロ
ッピーディスクの如き磁気ディスクに関する。

〔従来の技術〕

この覆の磁気ディスクは、磁気ヘッドが高速でかつ高パ
ッド圧で摺接するため磁性塗膜が扁度の耐摩耗性を有し
ている必要があり、また円周方向に沿う記録再生のため
塗膜中での磁性粉が実質的に無配向であることが要求さ
れるなど、磁気テープなどの他の磁気記録媒体とは異な
った特有の作用８機能が求められる。この観点から、磁
性粉やバインダなどの塗膜構成成分などにつき今日迄多
岐にわたる研究検討がなされ、その成果によってすでに
多方面で実用化され、近年その需要はますます増大しつ
つある。

このような状況下にあって、磁気ディスクの性能向上が
さらに一段と要求され、特に周波数特性にすぐれまた高
出力、高ＳＮ比の磁気ディスクの出現が強く望まれてい
る。しかるに、磁性粉として、磁気テープなどに汎用さ
れている酸化クロムや酸化鉄の如き磁性酸化物系のもの
を用いたものでは、上記特性に劣り、特に飽和磁化量に
限界があるためＳＮ比の高い磁気ディスクを得ることは
本質的に難しい。

そこで、磁性粉として保磁力および飽和磁化量の大きい
金属磁性粉を用いる試みがなされているが、この磁性粉
は酸化によって磁気特性の低下がおこる、つまり耐食性
に劣る欠点があるため、この問題を実用上許容できる範
囲に抑えた上で所期の目的とするＳＮ比の向上とさらに
周波数特性の向上とを図る必要がある。しかしながら、
現在のところ、このような特性を満足する磁気ディスク
はほとんど見出されていない。

（発明が解決しようとする問題点〕 この発明は、上記観点から、磁気ディスクの磁性粉とし
て金属磁性粉を用いる場合の上記耐食性に付随した問題
点を解決して、高ＳＮ比の如き出力の向上とさらに周波
数特性の向上を図れるとともに耐食性の問題が実用上許
容できる範囲に低減された高性能の磁気ディスクを提供
することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕 一般に、金属磁性粉の耐食性を向上させるためには、こ
の粉末の表面に特定の酸化防止膜などを形成することが
行われるが、このような防止膜の形成は通常金属磁性粉
を酸化する工程を含むので、この粉末の飽和磁化量が低
下しすぎて結果として磁気記録媒体としたとき好適な残
留磁束密度のものを得ることは実際と困難であった。

そこで、この発明者らは、金属磁性粉にこのような酸化
防止膜を付与するということよりもむしろ磁性塗膜内で
の金属磁性粉の結合剤との合計量中に占める割合を量的
に規制し、かつ金属磁性粉の粒子径、飽和磁化量を所定
範囲に設定することによって、耐食性の問題を回避しう
るとともに、磁気特性も良好なものが得られるという知
見を得た０ そして、この知見をもとに、さらにＳＮ比および周波数
特性の向上を図るに適した上記磁性粉の粒子径、磁気特
性および塗膜内での含有量やまたこれらによって生とし
て決定される磁性塗膜の磁気特性について追加検討した
ところ、これら因子を特定してかつ磁性塗膜の表面粗さ
を所定範囲に設定したときには、高ＳＮ比とすぐれた周
波数特性が邊られるうえに耐食性の問題の少ない高性能
の磁気ディスクが得られることを知り、この発明を完成
するに至った。

すなわち、この発明は、金属磁性粉と結合剤とを含む厚
みが０．５　）１Ｍ以上の磁性塗膜が非磁性支持体上に
設けられた磁気ディスクにおいて、上記磁性粉はその窒
素吸着法による比表面積が２０〜６０、、ｆ／？、飽和
磁化量が１００〜１３０　ｅｍｕ／　９であるとともに
、結合剤との合計量中に占める割合が６５〜８５重量％
の範囲にあり、かつ上記塗膜の保磁力が１，３５０〜２
，０００エルステッド、残留磁束密度が１，３５０〜２
．０００ガウス、表面粗さが０゜０２５Ｐ以下であるこ
とを特徴とする磁気ディスクに係るものである。

〔発明の構成・作用〕

この発明において使用する金属磁性粉としては、Ｆｅ、
Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｒなどの磁性金属ないし磁性合金が挙げ
られる。この磁性粉の粒子径としては−ｉＲ：０．１〜
１．０ＪｔＩｎ程度テアリ、そのｚａａｉ法による比表
面積が２０〜６０ｒｄ／？、好ましくは４Ｏ−５５ｒｒ
ｆ／？の範囲にあるものを使用する。

上記の比表面積が２０ｍ’／Ｖ未満となると、磁性塗膜
の保磁力が低（なりすぎるため周波数特性が悪くなる。

一方上記の比表面積が６０ｒｒｌ／ｆを超えてしまうと
粒子径が小さくなりすぎる結果として磁気ディスクの耐
食性が悪くなり、実用性に欠けたものとなる。

この金属磁性粉の保磁力としては、一般に１．４００〜
２．１００工ルステツド程度である。また飽和磁化量は
１００〜１３０　ｅｍｕ／　ｆ、好ましくは１１０〜１
２５　ｅｍｕ／？の範囲に設定される。この磁化量が１
００　ｅｍｕ／　９未満となると磁性塗膜の残留磁束密
度を一定値以上に設定しにくく、ＳＮ比の向上を望めな
い。一方この磁化量が１３０　ｅｍｕ／９を超えてしま
うと磁性塗膜の残留磁束密度を一定値以下に設定しにく
く、その結果磁気ディスクの耐食性が悪くなり、実用性
に欠けたものとなる。

この発明においては上記の金属磁性粉を適宜の結合剤と
混練して磁性塗料を調製し、これをポリエステルフィル
ムの如き非磁性支持体の片面ないし両面に塗布乾燥して
磁性塗膜を形成し、その後カレンダリング処理および円
板状の打抜き加工処理などを施して磁気ディスクとする
。

ここで、上記金属磁性粉の使用量は、結合剤との合計１
中６５〜８５重量％、好ましくは７５〜８２Ｍｆ１％の
範囲に規定しなければならない。このことは金属磁性粉
の耐食性付与の観点から重要であるというだけでな（、
さらに磁気特性の観点からも理由つけられるものである
。すなわち、この量が６５重量％に満だないときは磁性
塗膜の残留磁束密度を一定値以上に設定しにく（、また
８５重量％を超えてしまうと磁性塗膜の摩擦係数が高く
なってディスクドライブによる走行性能の低下をきたし
、いずれもＳＮ比の向上を図れなくなる。

このような使用量からなる金属磁性粉を含む磁性塗膜は
、上記磁性粉の比表面積ひいてはその保磁力とさらに飽
和磁化量および上記使用量が前記範囲内で相互的に規定
されることによって、塗膜としての保磁力が１，３５０
〜２．０００エルステッド、好適にはｉ、４００〜１，
７００エルステッド、残留磁束密度が１，３５０〜２，
０００ガウス、好適には１，４００〜１，８００ガウス
の範囲となるように設定される。

上記範囲外となると、ＳＮ比、周波数特性および耐食性
の少なくともいずれかを満足させにくい。

すなわち、保磁力が１．３５０工ルステツド未満では周
波数特性が悪くなり、また残留磁束密度が１，３５０ガ
ウス未満ではＳＮ比が低下し、逆に２．０００ガウスを
超えてしまうと耐食性の低下をきたす。また、保磁力が
２，０００エルステッドを超えてしまうと記録再生およ
び消去が難しくなるため、結果的に周波数特性やＳＮ比
の向上を望めない。

また、上記の磁性塗膜は、塗膜強度の観点や磁性粉を磁
気ディスクとして要求される実質的無配向の状態とする
必要などから、その厚みを０．５　Ｐ以上、通常１．０
〜５．０／”程度にしなければならないが、この塗膜厚
みにおいてその表面粗さを０．０２５−以下に抑えるこ
とが重要である。すなわち、表面粗さが上記値を超えて
しまうと、金属磁性粉の比表面積およびこれにより決め
られる磁性塗膜の保磁力の下限を前述の如く規定したと
しても、すくれた周波数特性を邊ることは難しくなるか
らである。

なお、上記表面粗さは、磁性塗料を非磁性支持体に塗布
乾燥したのちのカレンダリング処理の条件を選定するこ
とにより、また上記塗料の均一分散性を良くすることな
どにより、容易に調整できるものである。なおまた、こ
の塗膜における磁性粉を実質的無配向の状態とするため
には、磁気テープにおけるような塗布後乾燥する前の配
向処理を省くだけでよいか、特に望むなら適当な無配向
処理を付加してもよい。

上記実質的無配向状態とは、円板状磁気ディスクの一方
向の出力に対する垂直方向の出力の比が、磁気ディスク
のどの方向をとっても約０．９〜１１のｉ′ｉｌ！囲に
入ることを意味するものである。このような無配向状態
にされることは磁気ディスクとして当然要求される特性
のひとつである。

この発明の磁気ディスクは以上の如き構成とされたもの
であり、前記磁性塗膜の形成にあたって使用する結合剤
については特に固定されない。ポリ塩化ビニル系共重合
体、繊維素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアセター
ル系樹脂、ポリエステル系樹脂、インシアネート化合物
など従来公知のものを広（使用できる。また、磁性塗料
中には、各種の添加剤、たとえば潤滑剤、研摩剤、界面
活性剤、帯電防止剤などを添加できることはいうまでも
ない。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明においては、一定厚み以上の磁
性塗膜を有する磁気ディスクにおける金ｒ１４磁性粉の
比表面積と飽和磁化量とざらに磁性塗膜中での含率を特
定範囲に設定するとともに、磁性塗膜の保磁力、残留磁
束密度および表面粗さを特定範囲に設定したことにより
、高ＳＮ比の如き出力の向上とさらに周波数特性の向上
を図れるとともに耐食性の問題が実用上許容できる範囲
に低減された高性能の磁気ディスクを提供することがで
きる。

［実施例］ 以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説明
する。なお、以下において部とあるは重量部を、比表面
積とあるは窒素吸着法による比表面積を、σＳとあるは
飽和磁化量を、Ｈｃとあるは保磁力を、Ｂｒとあるは残
留磁束密度を、Ｏｅとあるはエルステッドを、Ｇとある
′まガウスを、それぞれ意味する。

実施例１ 金属鉄粉（比表面積５０ｒｄ／ｆ！、　Ｈｃ　１，６３
０　１５０部Ｏｅ、σｓ　１２０　ｅｍｕ／？　） 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール　　２０部
共重合体 ポリウレタン樹脂　　　　　　　　　　２０部α−Ａ　
１２０．粉　　　　　　　　　　９部オレイン酸２−エ
チルヘキシル　　　　　　１５部カーボンブラック　　
　　　　　　１２部ト　　　ル　　　エ　　　ン　　　
　　　　　　　　　　　　２２０部シクロへキサノン　
　　　　　　２２０部上記の組成物をボールミルに入れ
て、７２時間混練して均一に分散させ、ついでインシア
ネート化合物１０部を加えて、さらに１時間混練するこ
とにより、磁性塗料をＴＡ！ｌＩ！シた。この塗料を厚
さ７５／ａのポリエチレンテレフタレートフィルムから
なる非磁性支持体の両面に乾燥後の厚みが両面共に２．
５Ｐとなるように塗布乾燥したのち、カレンダリング処
理を施し、さらに直径２０．０２ｃ＋＋＋の円板状に打
抜き加工処理して、この発明の磁気ディスクを得た。

この磁気ディスクの磁性塗膜における金属鉄粉からなる
磁性粉の量（塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体、ポリウレタン樹脂およびインシアネート化
合物からなる結合剤と上記磁性粉との合計量中に占める
磁性粉の割合；以下単に磁性粉の量という）は７５重量
％であった。

また、この塗膜のＨｃは１，５１００ｅ、Ｂｒは１．５
２０Ｇ１表面粗さく触針式表面粗度計によるセンターラ
インアベレツジで表わされるカットオフ０．０８餌での
測定値；以下同じ）は０．０１８−であった。

実施例２〜４ 後記の表に示される比表面積、！気持性を有する金属鉄
粉を使用し、またこの鉄粉からなる磁性粉の量を同表に
示される値とし、さらに磁性塗膜の表面粗さをカレンダ
リング処理の条件の選定などによって同表に示される値
とした以外は、実施例１と同様にして同表記載のＨｅ、
Ｂｒを有するこの発明の三種の磁気ディスクを作製した
。

比較例１−６ 後記の表に示される比表面積、ＷＬ磁気特性有する金属
鉄粉を使用し、またこの鉄粉からなる磁性粉の量を同表
に示される値とし、さらに磁性塗膜の表面粗さをカレン
ダリング処理の条件の選定などによって同表に示される
値とした以外は、実施例１と同様にして同表記載のＨｃ
、Ｂｒを有する比較用としての六穏の磁気ディスクを作
製した。

比較例７ 金属鉄粉の代わりにＣＯ含有Ｔ−Ｆｅ２０３粉（比表面
！　２４　ｒｒ？／り、　Ｈｃ　６７００ｅ　、σｓ　
７８　ｅｍｕ／９　）を同１使用した以外は、実施例１
と同様にして、磁性塗膜の表面粗さが０．０１８Ｊ”、
Ｈｃが６５００ｅ。

Ｂｒが８００Ｇの比較用の磁気ディスクを作製した。

上記の実施例および比較例に係る各磁気ディスクにつき
、その性能としてＳＮ比、Ｄｓｏ（周波数特性；この値
が大きいほど良好）、モジュレーション（磁性粉の無配
向性に関係し、この値が小さいほど良好）、耐食性を調
べた結果（戴下記の表に示されるとおりであった。ｒｌ
お、耐食性は６０°Ｃ９９０％ＲＨ下で１週間保存した
ときのＢｒの低下率（この値が１０９６以下であれば実
用上の問題は生じない）で表わした。また、他の性能試
験はへラドギャップが０３Ｐのセンダストヘッドで測定
し、ＳＮ比については比較例７をＯｄＢとしたときの相
対値で示した。

なお、同表には、上記モジュレーションと相関する磁性
粉の配向化（磁性塗膜の一方向の出力に対する垂直方向
の出力の比）を併記し、さらに参考のために既述した実
施例１および比較例７で用いた磁性粉の比表面積、磁気
特性並びに磁性塗膜の表面粗さ、磁気特性についても併
記した。

上表から明らかなように、この発明に係る磁気ディスク
はディスクとして要求される低モジュレーションを有し
ていることはもちろん、高ＳＮ比でかつ周波数特性（Ｄ
ｓｏ）にすぐれ、しかも実用上問題のない良好な耐食性
を有していることが判る。

特許ａＨ人　　日立マクセル株式会社 手続補正書 昭和５９年１２月２２日 １、事件の表示 特願昭５９−１９６１５０号 ２、発明の名称 磁気ディスク ３、補正をする者 １１４との関係　特許出願人 住　　所　　大阪府茨木市丑寅−丁目１番８８号名　　
１＄　　　（５８１）日立マクセル株式会社代表者　永
　井　　厚 ４、代理人 ＠Ｉ！番号　　５３０ ８、補正の内容 Ａ：明細書 鳳１）別紙のとおり訂正明細書を提出しまたします。

Ｂ：図面 （１）別紙のとおり第１図を提出いたします。

訂正明細書 １、発明の名称 磁気ディスク ２、特許請求の範囲 ｉｌｌ金属磁性粉と結合剤とを含む磁性塗膜が非磁性支
持体上に設けられた磁気ディスクにおいて、前記磁性塗
膜の厚さを０．５μｍ以上、残留磁束密度を１，３５０
ガウス以上、表面粗さを０．０２５μｍ以下としたこと
を特徴とする磁気ディスク。

（２）磁性塗膜の厚さを１〜５μｍとした特許請求の範
囲第（１１項記載の磁気ディスク。

（３）磁性塗膜の厚さを２．５〜５μｍとした特許請求
の範囲第（１１項記載の磁気ディスク。

（４）磁性塗膜中の金属磁性粉の窒素吸着法による比表
面積が６Ｏｎ？／ｇ以下である特許請求の範囲第（１）
〜（３）項のいずれかに記載の磁気ディスク。

（５）金属磁性粉と結合剤とを含む磁性塗膜が非磁性支
持体上に設けられた磁気ディスクにおいて、前記磁性塗
膜の厚さを０．５μｍ以上、残留磁束密度を１．３５０
〜２，０００ガウス、表面粗さを０．０２５μｍ以下と
するとともに、前記磁性塗膜中の金属磁性粉と結合剤と
の合計量中に占める金属磁性粉の割合が６５〜８５重量
％の範囲にあることを特徴とする磁気ディスク。

（６）磁性塗膜の厚さを１〜５μｍとした特許請求の範
囲第（５）項記載の磁気ディスク。

（７）磁性塗膜の厚さを２．５〜５μｍとした特許請求
の範囲第（５）項記載の磁気ディスク。

ｆ８）　［性塗膜中の金属磁性粉の窒素吸着法による゛
比表面積が６０ｍ／ｇ以下である特許請求の範囲第（５
）〜（７）項のいずれかに記載の磁気ディスク。

３、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 この発明は非磁性支持体上に磁性＝ａが設けられたフロ
ッピーディスクの如き磁気ディスクに関する。

（従来の技術〕 この種の磁気ディスクは、磁気ヘッドが高速でかつ高パ
ッド圧で摺接するため磁性塗膜が高度の耐摩耗性を有し
ている必要があり、また円周方向に沿う記録再生のため
塗膜中での磁性粉が実質的に無配向であることが要求さ
れるなど、磁気テープなどの他の磁気記録媒体とは異な
った特有の作用１機能が求められる。この観点から、磁
性粉やバインダなどの塗膜構成成分などにつき今日迄多
岐にわたる研究検討がなされ、その結果によってすでに
多方面で実用化され、近年その需要はますます増大しつ
つある。

このような状況下にあって、磁気ディスクの性能向上が
さらに一段と要求され、特に周波数特性にすぐれまた高
出力、高ＳＮ比の磁気ディスクの出現が強く望まれてい
る。しかるに、磁性粉として、磁気テープなどに汎用さ
れている酸化クロムや酸化鉄の如き磁性酸化物系のもの
を用いたものでは、上記特性に劣り、特に飽和磁化量に
限界があるためＳＮ比の高い磁気ディスクを得ることは
本質的に難しい。

そこで、磁性粉として保磁力および飽和磁化量の大きい
金属るｎ性扮を用いる試みがなされているカイ、所期の
目的とするＳＮ比を満足する磁気デイスフはほとんど見
出されていない。

〔発明が解決しようとする問題点〕

この発明は、上記観点から磁気ディスクの磁性粉として
金属磁性粉を用いて、高ＳＮ比の如き出力の向上を図っ
た高性能の磁気ディスクを提供することを目的とする。

この発明は、さらに、磁気ディスクの磁性粉として金Ｉ
ＸＭｉ性扮を用いる場合の耐食性に付随した問題点を解
決して、高ＳＮ比の如き出力の向上を図れるとともに耐
食性の問題が実用上許容できる範囲に低減された高性能
の磁気ディスクを提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明者らは、金属磁性粉と結合剤とを含む磁性塗膜
が非磁性支持体上に設けられた磁気ディスクのＳＮ比の
向上を図るべく種々検討中、磁性塗膜の塗膜厚とＳＮ比
の関係において一般に考えられている場合と相違して、
磁性塗膜の表面粗さとの関係で塗膜厚に影響されること
を究明した。

すなわち、磁性塗膜厚を厚（するにしたがいカレンダリ
ング処理が有効に作用して、表面粗さが小さくなりＳＮ
比が向上することを解明した。

このような作用効果は、上記金ａＭｉ性粉を用いた磁気
ディスクにおいて、磁性塗膜の塗膜厚を０゜５μｍ以上
としたとき、特に１μｍ以上としたとき顕著となり、表
面粗さを０．０２５μｍ以下とすることが可能となって
ＳＮ比が改善されることが判った。

この発明者らは、上記究明にもとづきさらに検討の結果
、上記磁性塗膜における残留磁束密度を特定範囲に設定
することがＳＮ比向上に好結果をもたらすものであるこ
とを知り、この発明を完成するに至った。

すなわち、この発明は、金属磁性粉と結合剤とを含む磁
性塗膜が非磁性支持体上に設けられた磁気ディスクにお
いて、前記磁性塗膜の厚さを０．５μｍ以上、残留磁束
密度を１．３５０ガウス以上、表面粗さが０．０２５μ
ｍ以下としたことを特徴とする磁気ディスクに係るもの
である。

また、一般に、金属磁性粉の耐食性を同上させるために
は、この粉末の表面に特定の酸化防止膜などを形成する
ことが行われるが、このような防止膜の形成は通常金属
磁性粉を酸化する工程を含むので、この粉末の飽和磁化
量が低下しすぎて結果として磁気記録媒体としたとき好
適な残留磁束３度のものを得ることは実際上困難であっ
た。

そこで、この発明者らは、金属磁性粉にこのような酸化
防止膜を付与するということよりもむしろ磁性塗膜内で
の金属磁性粉の結合剤との合計量中に占める割合を量的
に規制することによって、耐食性の問題を回避しうると
ともに、ｆｆｆｉ気持性も良好なものが得られるという
知見を得た。

そして、この知見をもとに、さらに検討を加えた結果、
磁性塗膜の残留磁束密度を２．０００ガウス以下に抑え
ると、上記耐食性の向上により良好な結果が得られるこ
とを知り、第２の発明を完成するに至った。

すなわち、この発明は、金属磁性粉と結合剤とを含む厚
みが０．５μｍ以上の磁性但膜が非磁性支持体上に設け
られた磁気ディスクにおいて、結合剤との合計量中に占
める割合が６５〜８５重量％の範囲にあり、かつ上記塗
膜の残Ｗ［束密度が１゜３５０〜２．０００ガウス、表
面粗さが０．０２５μｍ以下であることを特徴とする磁
気ディスクに係るものである。

〔発明の構成・作用〕

この発明において使用する金属磁性粉としては、Ｆｅ、
Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｒなどの磁性金属ないし磁性合金が挙げ
られる。この磁性粉の粒子径としては一船に０．１〜１
．０μｍ程度であり、その窒素吸着法による比表面積が
６０ｒｒｒ／ｇ以下のものを使用するのが好ましい、上
記の比表面積が６０ｄ／ｇを超えてしまうと粒子径が小
さくなりすぎる結果として磁気ディスクの耐食性が悪く
なる傾向がある。

この金属磁性粉の飽和磁化量は１００〜１３０ｅｍｕ／
ｇ、好ましくは１１０〜ｌ　２５　ｅａ＋ｕ／ｇの範囲
に設定される。この磁化量が１００　ｅｎ＋ｕ／　ｇ未
満となると磁性塗膜の残留磁束密度を一定値以上に設定
しに（く、ＳＮ比の向上を望めない、−方この磁化量が
１３０　ｅｍｕ／　ｇを超えてしまうと磁性塗膜の残留
磁束密度を一定値以下に設定しにくく、その結果磁気デ
ィスクの耐食性が悪くなり、実用性に欠けたものとなり
易い。

この発明においては上記の金属磁性粉を適宜の結合剤と
混練して磁性塗料を調製し、これをポリエステルフィル
ムの如き非磁性支持体の片面ないし両面に塗布乾燥して
磁性塗膜を形成し、その後カレンダリング処理および円
板状の打抜き加工処理などを施して磁気ディスクとする
。

ここで、上記金属磁性粉の使用量は、結合剤との合計量
中６５〜８５重量％、好ましくは７５〜８２重量％の範
囲に規定しなければならない、このことは金属磁性粉の
耐食性付与の観点から重要であるというだけでなく、さ
らに磁気特性の観点からも理由づけられるものである。

すなわち、この量が６５重量％に満たないときは磁性塗
膜の残留磁束密度を一定値以上に設定しにくく、また８
５ｉ量％を超えてしまうと磁性塗膜の摩擦係数が高くな
ってディスクドライブによる走行性能の低下をきたし、
いずれもＳＮ比の向上を図れなくなる。

また、上記の磁性塗膜はＳＮ比を向上させる観点からそ
の厚さを特定範囲の厚さ、すなわち０．５μｍ以上、好
ましくは１〜５μｍとする必要がある。

すなわち、０．５μｍ未満の塗膜厚とする場合には、塗
膜表面の表面粗さも粗くなって良好なＳＮ比が得られに
くい、また、０．５μｍ未満となると塗膜強震が弱くな
って充分な耐久性が得られにくいという問題もある。

これに対し、塗膜厚を０．５μｍ以上、特に１μｍ以上
ではカレンダリング処理が有効に作用して表面粗さが小
さくなってＳＮ比が塗膜厚の増加とともに向上し、しか
も塗膜強度が強くなって充分な耐久性を得ることが可能
となる。

しかしながら、５μｍを超す塗膜厚とするとカレンダリ
ング処理により磁性塗膜の塗膜強度が低下する傾向にあ
り、そのため１〜５μｍの塗膜厚とすることが好ましい
、特に２．５〜５μｍの範囲が良好な耐久性、ＳＮ比の
ために推奨される。

また、充分なＳＮ比を得るには、磁性塗膜の表面粗さを
０．０２５μｍ以下とすることが肝要であり、このよう
な表面粗さは前述のように磁性塗膜厚と非磁性支持体に
塗布乾燥したのちのカレンダリング処理の条件を選定す
ることなどにより容易に調製できる。

なおまた、磁気ディスクとしてはこの塗膜における磁性
粉を実賞的無配向の状態とすることが要求されるが、そ
のためには磁気テープにおけるような塗布後乾燥する前
の配向処理を省くだけでよいが、特に望むなら適当な無
配向処理を付加してもよい。

上記実質的無配向状態とは、円板状磁気ディスクの一方
向の出力に対する垂直方向の出力の比が、磁気ディスク
のどの方向をとっても約０．９〜１．１の範囲に入るこ
とを意味するものである。このような無配向状態にされ
ることは磁気ディスクとして当然要求される特性のひと
つである。

さらに、このような磁性塗膜はその残留磁束回度が１．
３５０ガウス以上であることが必要で、これ未満となる
とＳＮ比の向上を望めない、残留磁束密度が大きくなれ
ばなるほどＳＮ比は向上するが、２．０００ガウスを超
えてしまうと耐食性の低下をきたす、よって耐食性の観
点からは１．３５０〜２．　ＯＯＯガウス、好適には１
．４００〜１，８００ガウスの範囲とするのがよい。

この発明の磁気ディスクは以上の如き構成とされたもの
であり、前記磁性塗膜の形成にあたって使用する結合剤
については特に限定されない、ポリ塩化ビニル系共重合
体、繊維素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアセター
ル系樹脂、ポリエステル系樹脂、イソシアネート化合物
など従来公知のものを広く使用できる。また、磁性塗料
中には、各種の添加剤、たとえば潤滑剤、研摩剤、界面
活性剤、帯電防止剤などを添加できることはいうまでも
ない。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明においては、非磁性支持体上に
金属磁性粉を含む磁性塗膜を有する磁気ディスクにおい
てその磁性塗膜の厚さ、残留磁束密度、表面粗さを特定
範囲とすることにより高ＳＮ比を有する磁気ディスクを
得ることができる。

また、この発明においては、磁性塗膜の厚さ、残留磁束
密度および表面粗さを特定範囲に設定するとともに、磁
性塗膜中での金属磁性粉の含率を特定範囲に設定したこ
とにより、高ＳＮ比の如き出力の向上を図れるとともに
耐食性の問題が実用上許容できる範囲に低減された高性
能の磁気ディスクを提供することができる。

〔実施例〕

以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説明
する。なお、以下において部とあるは重量部を、比表面
積とあるは窒素吸着法による比表面積を、σＳとあるは
飽和磁化量を、Ｈｃとあるは保磁力を、Ｂｒとあるは残
留磁束密度を、Ｏｅとあるはエルステッドを、Ｇとある
はガウスを、それぞれ意味する。

実施例１ ａｓ　　ｌ　　２０　　ｅ＋＋＋ｕ／　ｇ）ポリウレタ
ン樹脂　　　　　　　　　２０部α−ＡｌｘＯｓ粉　　
　　　　　　９部オレイン酸２−エチルヘキシル　　　
１５部カーボンブラック　　　　　　　　　　１２部ト
ルエン　　　　　　　　　　　　２２０部シクロへキサ
ノン　　　　　　　　　２２０部上記の組成物をボール
ミルに入れて、７２時間混練して均一に分散させ、つい
でイソシアネート化合物１０部を加えて、さらに１時間
混練することにより、磁性塗料を調製した。この塗料を
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムか
らなる非磁性支持体の両面に乾燥後の厚みが両面共に２
．５μｍとなるように塗布乾燥したのち、カレンダリン
グ処理を施し、さらに直径２０．０２１の円板状に打抜
き加工処理して、この発明の磁気ディスクを得た。

この磁気ディスクの磁性塗膜における金属鉄粉からなる
磁性粉の量（塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体、ポリウレタン樹脂およびイソシアネート化
合物からなる結合剤と上記磁性粉との合計量中に占める
磁性粉の割合；以下単に磁性粉の量という）は７５重量
％であった。

また、この塗膜のＨｃは１，５１００ｅ、Ｂｒは１゜５
２０Ｇ、表面粗さく触針式表面粗度計によるセンターラ
イ自ンアベレツジで表わされるカットオフ０．０８ｆｌ
での測定値；以下同じ）は０．０１８μｍであった。

実施例２〜６ 後記の表に示される比表面積、磁気特性を有する金属鉄
粉を使用し、またこの鉄粉からなる磁性粉の量を同表に
示される値とし、さらに磁性塗膜の表面粗さをカレンダ
リング処理の条件の選定などによって同表に示される値
とした以外は、実施例１と同様にして同表記載のＨｃ、
Ｂｒを有するこの発明の三種の磁気ディスクを作製した
。

比較例１〜３ 後記の表に示される比表面積、磁気特性を有する金属鉄
粉を使用し、またこの鉄粉からなる磁性粉の量を同表に
示される値とし、さらに磁性塗膜の表面粗さをカレンダ
リング処理の条件の選定などによって同表に示される値
とした以外は、実施例１と同様にして同表記載のＨｃ、
Ｂｒを有する比較用としての三種の磁気ディスクを作製
した。

比較例４ 金属鉄粉の代わりにＣｏ含有ｒ−Ｆｅ、Ｏ，粉（比表面
積２４ｎ？／ｇ、Ｈｃ６７００ｅ、ａｓ　７８ｅ■ｕ／
ｇ）を同量使用した以外は、実施例１と同様にして、磁
性塗膜の表面粗さが０．０１８μｍ。

Ｈｅが６５００ｅ、Ｂｒが８００Ｇの比較用の磁気ディ
スクを作製した。

上記の実施例および比較例に係る各磁気ディスクにつき
、その性能としてＳＮ比、Ｄｓ・（周波数特性；この値
が大きいほど良好）、モジュレーション（モｎ性粉の無
配向性に関係し、この値が小さいほど良好）、耐食性を
調べた結果は、下記の表に示されるとおりであった。な
お、耐食性は６０’Ｃ，９０％ＲＨ下で１週間保存した
ときのＢｒの低下率（この値が１０％以下であれば実用
上の問題は生じない）で表わした。また、他の性能試験
はへラドギャップが０．３μｍのセンダストヘッドで測
定し、ＳＮ比については比較例４をＯｄＢとしたときの
相対値で示した。

なお、同表には、上記モジュレーションと相関する磁性
粉の配向比（磁性塗膜の一方向の出力に対する垂直方向
の出力の比）を併記し、さらに参考のために既述した実
施例および比較例で用いた磁性粉の比表面積、磁気特性
並びに磁性塗膜の表面粗さ、磁気特性についても併記し
た。

上表から明らかなように、比較例１．２で示されるよう
にＢｒが１．３５０未満のものではＳＮ比が一；ｔ、３
ｄｓ、＋ｔ、ｏａｓと小さく、また従来に相当する比較
例３で示すようにＢｒが１，３５０以上であっても表面
粗さが０．０２５μｍ以上のものでは＋４．０　ｄ　Ｂ
程度の向上しか得られない、これに対し、この発明に係
る磁気ディスクは、すべてＳＮ比が＋４．５　ｄ　Ｂ以
上の特性を示し良好な結果を示していることが明らかで
あり、特に実施例１゜２、　３．５．　６で示されるよ
うにＢｒが１．５００ガウス以上と大きく表面粗さが０
．０２０μｍ以下と小さいものでは＋５．２　ｄ　Ｂ以
上の良好な特性を示す、また磁性塗膜中の金１磁性粉の
量が６５〜８５重量％の範囲にある実施例１〜５の磁気
ディスクでは、耐食性が１０％未満の範囲内にあり、実
用上問題のない良好な耐食性を有している。

実施例７ 磁性塗膜の厚さを変える以外は、実施例１と同様にして
磁気ディスクを作製した。

この実施例７に係る磁気ディスクについてＳＮＮ比表表
面さ、耐久性を測定した結果を、第１図に示した。

この図から塗膜厚を１μｍ以上とすると、カレンダリン
グ処理が有効に作用して塗膜の表面粗さが小さくなり、
ＳＮ比が向上し、また耐久性も向上することが明らかで
ある。しかしながら、耐久性は５μｍを超す塗膜厚とす
ると低下する傾向にある。

なお、耐久性は磁気ディスクを磁気記録再生装置に装填
し、磁気ディスクを磁気ヘッドに摺接させながら磁気デ
ィスクの磁性塗膜の摩耗によろ再生出力レベルの低下を
観測し、再生出力が当初の７０％まで低下するまでの走
行時間を測定することにより行った。

【図面の簡単な説明】

第１図は磁性塗膜厚とＳＮＮ比表表面さ、耐久性の関係
を示す図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）金属磁性粉と結合剤とを含む厚みが０．５μｍ以
   上の磁性塗膜が非磁性支持体上に設けられた磁気ディス
   クにおいて、上記磁性粉はその窒素吸着法による比表面
   積が２０〜６０ｍ＾２／ｇ、飽和磁化量が１００〜１３
   ０ｅｍｕ／ｇであるとともに、結合剤との合計量中に占
   める割合が６５〜８５重量％の範囲にあり、かつ上記塗
   膜の保磁力が１，３５０〜２，０００エルステッド、残
   留磁束密度が１，３５０〜２，０００ガウス、表面粗さ
   が０．０２５μｍ以下であることを特徴とする磁気ディ
   スク。