JPS6169813A - 被膜形成組成物 - Google Patents

被膜形成組成物

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JPS6169813A
JPS6169813A JP19050784A JP19050784A JPS6169813A JP S6169813 A JPS6169813 A JP S6169813A JP 19050784 A JP19050784 A JP 19050784A JP 19050784 A JP19050784 A JP 19050784A JP S6169813 A JPS6169813 A JP S6169813A
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Yutaka Hashimoto
豊 橋本
Masayuki Kamei
亀井 政之
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、平滑性、減摩性、防錆性、耐擦傷性均質性、
耐久性に優れた被膜を形成しうる被膜形成組成物並びに
被膜形成の方法に関するものであり、さらに詳しくは金
属、磁器、ガラス、′fグラスチックの固体表面K、上
記特性に優れた塗膜を形成する含フツ素被覆組成物並び
に該組成物を用いた被覆形成の方法に関するものである
〈従来の技術〉 従来より、金属、磁器、ガラス、グラスチック等を保護
被覆する目的で各種の塗料やコーテイング材が用いられ
ているが1%に表面の平滑性が要求される場合には、コ
ーテイング材として高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、
パラフィン系炭化水素、シリコーンオイル例えばジメチ
ルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン等の添加
剤を含有せしめる事によシ成されている。
又、最近、ノー−フロロアルキル基の集合体から形成さ
れる表面が低い表面エネルギーを有することが着目され
1種々の方法により含フツ素重合体が表面被覆剤として
利用されている。例えば■ 含フツ素重合体をコーテイ
ング材に添加し。
加熱硬化により被膜を形成する方法(特開昭51−12
6220号公報)。
■ ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂を分散
させた。溶液状のフッ素系重合体を塗布し、常温硬化に
よって被膜を形成する方法(特公昭58−49580号
公報)。
■ ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂溶液分
散体を塗、布し、熱処理(300℃以上)により、被膜
を形成する方法(特公昭47−37261号公報、特公
昭58−33266号公報。
特公昭58−33267号公報)。
■ Langmulr−Blodgett法にょシ1分
子鎖中に不飽和結合を有する。構造的に特異な含フツ素
オレフィンからなる単分子膜を形成し、紫外線硬化によ
り被膜を形成する方法(特公昭54−36172号公報
)。
■ ・母−70ロアルキル基含有樹脂の有機溶剤溶液を
塗布、脱溶剤し被膜を形成する方法。
■ パー70ロアルキル基含有m 脂のエマルノ。
ンを塗布し、加熱造膜して被膜を形成する方法。
等でめり、■、■は通常接離の椀水溌油処理に便用され
ており、架橋剤等を共存せしめて常温硬化又は加熱硬化
させるタイプもある。これらの方法において■、■、■
の方法は加熱処理が必須であるため、熱に弱い素材に対
しては適用できないという致命的な欠陥がある。又■や
■の方法では加熱処理の必要はないが、塗膜硬度が■、
■、■の場合と同様に、鉛源硬度にして2H以下でおり
高度な擦傷や摩擦等に耐えない。■の方法では。
超薄膜が形成されるが、本発明者らの知見によれば、単
分子膜を形成する際に水分が付着し易く。
又充分に水分を除いた後に紫外線硬化しても、金属を素
材とした場合には防錆性が不十分であるという欠点が有
る。
一方、最近の記録材料の進歩は著しく、特に磁気テープ
や磁気ディスク分野Kj?いては、記録の高密度化が進
み、記録波長はより短く2μm以下となり、特にノイズ
レベルの低下や信号出力の増大が要求されており、磁性
層の特性向上化は勿論のこと、磁性層表面の平滑化並び
に摩擦低減化が特に要求されている。
又、テープの走行性を高めたり、ビデオテープにおいて
は静止画像を鮮明にかつ長時間再現する為に、磁性層の
保護用の被覆膜に関しても、平滑化、摩擦低減化、そし
て耐久性が要求されているが、また一方では磁気特性を
より鋭敏に発現させる必要性から被覆膜の薄膜化が望ま
れている。さらに、一般に強磁性体金属は高湿度中で腐
食を生じ易い為、防錆性をも有する被覆膜の形成が要求
されている。
〈発明が解決しようとする問題点〉 しかしながら、先に示した種々の平滑性改良剤を添加し
た各種塗料やコーティング材、さらに■〜■の含フツ素
重合体から成る塗膜は、高湿度中での基材金属の耐食性
に関してほとんど防錆効果を示さず、又、耐擦傷性が十
分でない為塗膜表面に傷がつき易く、そして塗膜を薄く
すると(例えば1μm以下)、均質性、平滑性並びに耐
久性が著しく低下するという欠点を有している。また、
含フツ素アクリレートを含有した放射線硬化性塗膜に関
する技術が特開昭57−16067号公報において開示
され、かかる技術によれば耐溶剤性接着被覆材が提供さ
れるとしている。しかしながら本発明者等の知見による
と、かかる公知技術に基づいた場合金フッ素アクリレー
トが非フツ素系成分との相溶性に十分でなく、放射線硬
化させて得られた硬化塗膜の均質性、平滑性などの機能
に著しい欠陥をもたらすことが見出された。又硬化前の
前記混合物が相溶している状態であっても、放射線硬化
させることKよシ含フッ素アクリレートを主体とする含
フツ素セグメント部分がバルクの樹脂層からブリードし
、硬化塗膜の均質性、平滑性。
耐久性、耐擦傷性などの機能を十分に発現せしめないこ
とが認められた。
また一方、特公昭59−30170号公報においては、
ノニオン系フッ素界面活性剤又は含フツ素ビニルモノマ
ーを含有した放射線硬化塗膜に関する技術が開示されて
おり、斯かる技術によれば耐擦耗性に優れた被膜が形成
されるとある。しかしながら本発明者等の知見によれば
、該公報に開示されている如き、低級フロロアルキル基
含有ビニルモノマー、またはノニオン系フッ素界面活性
剤の添加では、被膜に本願発明に示す如き高度な表面平
滑性、接触角、摩擦低減効果は発現しないものであった
〈問題点を解決するための手段、その1〉本発明者らは
、従来の保護被覆膜の問題点を解決すべく鋭意研究を行
った結果、従来のように含フツ素重合体を塗布するので
はなく、含フツ素アクリレート(4)と炭化水素アクリ
レート(B)に油浴性含フツ素界面活性剤(C)の特定
割合からなる組成物を基材に塗布し、溶剤を蒸散させた
後に紫外線または電子線照射によって重合することによ
り、従来の方法よりも平滑性、摩擦低減性、防錆性、耐
擦傷性、均質性、耐久性に優れた保護被覆膜を形成でき
ることを見い出した。さらに、従来の含フツ素重合体を
塗布する方法に比べ1本方法によれば、炭化水素系アク
リレートに対して比較的高価な含フツ素アクリレートの
使用量を低減しても。
十分な性能を得ることができるという経済的有利性をも
見い出し本発明を完成するに至った。
また先に示した如く、特公昭54−36172号公報に
、含フツ素オレフィンの単分子膜を形成し。
しかる後に紫外線により硬化させ被膜を形成する方法が
開示されているが、その場合の含フツ素オレフィンは、
単分子膜形成の必要性カーら分子鎖の片末端がそれぞれ
疎水性のパー70ロアルキル基と親水性のカルゲキシル
基から成り、その間に重合性の不飽和結合基が組み込ま
れた所謂インナーオレフィンの構造を有している。また
その製造工程は複雑である為工業的に汎用性に乏しい。
これに対し、本発明に係るフッ素系の重合性モノマーは
親水性基を有しない汎用性のめる含フツ素アクリレート
であり1両者は化学上明確に区別される。
一方被膜形成の方法に話を転じれば、特公昭54−36
172号公報に記載のように単分子膜を形成することに
よって均質な塗布層を得るだめKはLangmuir−
Blodgett法(新実験化学講座、18゜界面とコ
ロイド、439〜476頁、丸善、 1977)か、他
には1本発明者等の知見によれば真空蒸着によるしかな
い。しかしこれらの方法は、一旦形成した単分子膜を目
的とする基材に移しとり、又単分子膜の形成に大損りな
装置を委する等、工程が煩雑になる為工業的又経済的に
は好ましくない。
これに対し1本発明の方法によれば、被膜形成組成物は
当業界公知の方法1例えば、刷毛塗り。
アプリケーター、パーコーター、ローラーブラシ。
又はロールコータ−等による塗布法、エアースプレー又
はエアーレススプレー塗装機等によるスプレー塗布法、
シャワーコーター又はカーテン70−コーター等による
流し塗り法(フローコート)、浸漬法、キャスティング
法、そしてスピンナーコーティング法等の汎用の方法に
よって基材に塗布され、均質な塗布層を得ることができ
る。
本発明は一般式(I)゛ Rf+A片Q−OCOC(R1) = CH2(1)〔
式中、Rfは炭素数4〜20個のパーフロロアルキル基
であり。
RR または−CH2CH2CH2N−(但し、Rは水素原子
または炭素数1〜12の、アルキル基もしくはエーテル
酸素を含有したアルキル基である。)であシ。
aはOまたは1であシ、好ましくは1であり。
Qは+CH2+n(但し、nは2〜4の整数である。)
であり。
R1は水素原子、メチル基、またはハロゲン原子である
。〕で表わされる含フツ素アクリレート(4)と、炭化
水素系アクリレート(B)と、油溶性含フツ素界面活性
剤(C)とからなる組成物であり、(4)成分と(B)
成分の重量割合が1:4〜1 : 10000であり、
 (C’)成分の該組成物中の量がQ、 OO5〜5重
量%である平滑性、均質性、そして耐擦傷性に優れた重
合体被膜を与える紫外線または電子線によって重合可能
な被膜形成組成物、及び該組成物を被塗布面に塗布し、
溶剤を蒸散させた後に塗布層に紫外線または電子線を照
射することによって重合体被膜を形成する方法を提供す
るものである。
本発明の含フツ素アクリレート(4)は、前記一般式(
1)で示される化合物である。
Rf基は炭素数4〜20のノ4−70ロアルキル基もし
くはパー70ロアルケニル基であり、直鎖状。
分岐状、!状またはそれらを組み合わせたもののいずれ
でも良く、さらに主鎖中に酸素原子が介入したもの1例
えば(CFρ2CFOCF2CF2−等でも良い。
含フツ素アクリレート(4)の具体例としては次の如き
ものが挙げられるが1本発明が下記化合物によって何ら
限定、されるものでないことは勿論でろる。
A−I C8F、、CH=CH2QC−CH=CH2A
−2C4F、C)12QC−CH=CH2A−3H(−
CF20F2−)5C1(20C−CH=CH2A−4
08F、 、802NcH2CH20Y−CH=CH2
A−8C8F、7CH2CH2SO2NCH2CH20
C−CH=CH2H11 A−10C,F、、OQso2Hca2aH2cH2o
c−cH=CH2A−12(CF5)2CF(CF2)
8CH2晶N+CH2−)、QC−CH=CH2H11 A−14F+cF2CF2輻CH2CH2QC−CH−
CH2(mは2〜6)A−15H(CF2)2CH20
CC(0M3)=CH2A−16CF3CHFCH20
CC(CH3)=CH2A−17C8F、、CH2CH
20CC(CH3)−CH2A−18F(−CF2CF
2)mCH2CH20CC(CH3)=CH2(mは2
〜6)A−23C1□F25CH2CH20CC(CH
3)=CH2本発明に係る炭化水素系アクリレート(B
)としては、当業界で公知のもの(例えば加藤清視1中
原  ′正二著「Uv硬化技術入門」高分子刊行会、以
下1984、[以下成書という〕の中の、 34.35
頁の表10.46〜48頁の表16.57頁の表20.
170〜172頁の表60等に記載の化合物)から適宜
選択することができ1例えば以下の■)及び(E)の如
きものでおる。
アクリロイル基を1個含有する化合物の)D−I CH
2=C(R2)COOR,(R,は炭素数1〜2Cjf
)lk−’rk基)D−2CH2=C(R2)COOC
H2CH20HD−7CH2=C(R2)COOCH2
CH20P(OH)2D−8CH2=C(R2)CH2
CH2CH−CH2N2 (但し、R,、−H又は−CH3である。)等である。
アクリロイル基を2個以上含有する化合物[有])E−
I CH2=C(R2)CH2CH2−3−nOOCC
(R2)=CH2(nは1〜10の整数) E−2CI(2−C(R2)C00+cH2CH20−
)nCOC(R2)=CH2(nは1〜10の整数) OH E−40H2=C(R2)C00CH2CHCH20C
OC(R2)=CH2(n、mは1〜10の整数) E−6CH2=C(Ft2)COOCH2CH20CH
2CH♂H ゾ5 0H H H H H (CH2i0cOc (R2) = CH2(n、Xは
1〜10の整数) 0M3 (n、Xは1〜10の整数) E−12(CH2=C(R2)COOCI(2CH20
iP−OHE−13(CH2=C(R2)COOCH2
ヤCCH20HE−14(CH2=C(R2)COOC
H2カー〇 〇M2CH。
E−15(CH2=C(R2)COOCH2CH20オ
p=。
E−17(C)(2=C(R2)COOCH2升−C(
但し、R2は−H又は−CH,である、)等である。
また、光重合開始剤(ト)としては、当業界で公知のも
の(例えば前記底置、62頁の表22.71頁の表27
等に記載の化合物)から適宜選択することができ、例を
挙げれば、F−1:ベンゾフェノン、F−2:アセトフ
ェノン、F−3:ベンゾイン、F−4:ベンゾインエチ
ルエーテル、F−5:ペンソインイソプチルエーテル、
F−6:ペンジルメチルケタール、F−7:アゾビスイ
ソブチロニトリル、F−8:t−ヒドロキシシクロへキ
シルフェニルケトン、F−9:2−ヒドロキシ−2−メ
チル−1−フェニル−1−オン等である。
本発明の油溶性含フ、素界面活性剤(C)とは、アルコ
ール系、ケトン系、エステル系、等の脂肪族、又は芳香
族炭化水素系溶剤、又はハロゲン系有機溶剤に可溶なも
ので界面活性効果を示すものであればいずれでも浪いが
、好ましくは前記一般式(1)で示される(4)成分の
含フ、素アクリレートと炭化水素系ビニルモノマーを重
合して得られる分子量3000−100000の重合体
である。
炭化水素系ビニルモノマーとは、例えばCH2=C(R
4)C00R5、CH2=C(R4)CO+0CH2C
H2+10R5、塩素原子、又は炭素数1〜3のアルキ
ル基であり、R5は炭素数1〜20のアルキル基、また
は芳香族基、ベンジル基のような芳香族基を含む基、n
は1〜30の整数である。)、スチレン、ヒドロキシエ
チルメタクリレート等である。これらの具体例としては
、CH2= C(CH3)COOCH3、CH2=C(
CH3)COO18t (ISt ニイソステアリル)
、C)(2= C(CH,)Co(OCH2CH2j、
OCH,、油溶性含フツ素界面活性剤(C)は、これら
のモノマーをラノカル重合、アニオン重合機構等に基づ
き、ランダム共重合またはマクロモノマー法に基づくブ
ロック共重合によって得られる。
その他に容易に入手可能な例えばフロリナートFC−4
30(スリーエム社製品)、アロンQF−150゜CF
−300(東亜合成社製品)、モディパーF−100、
F−110,F−200、F−210(日本油脂社製品
)等の市販品を用いることができる。
本発明の被覆形成組成物において、含フツ素アクリレー
ト(ト)と炭化水素系アクリレート中)との混合割合は
、相溶性、経済性、そして得られた被膜の性能の点から
、重量比で1:4〜1 : 10000が好ましく、よ
シ好ましくは1:10〜1:5000である。
含フツ素アクリレート(A)、炭化水素系アクリレート
ω)及び油溶性含フツ素界面活性剤(C)とを含有する
ことを特徴とする組成物中における(Chi分の割合は
、囚+(B) + (C)に対して0.005〜5重量
%である。(C)成分がこの範囲より少ないか又は多過
ぎる場合、硬化被膜の表面特性向上効果が十分に発現さ
れない。
また本発明の組成物に対して、当業界公知の所謂光重合
開始剤及び光増感剤(例えば前記底置、72頁の表28
.73頁の表29に記載の化合物)、溶剤、そして各種
添加剤を加えることができる。
溶剤としては、アクリレートモノマーの反応性に悪影響
を及はさなければ特に制限はないが、メタノール、エタ
ノール、イソグロビルアルコール、アセトン、メチルエ
チルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、クロロホルム、
ノクロルエタン、四塩化炭素、1−70ロー1−ジクロ
ロ−2−ソフロロー2−クロロエタン系の低沸点溶剤が
好ましい。
添加剤としては、レベリング剤、消泡剤等が挙げられる
本発明に係る被膜形成を紫外線によって実施する場合、
含フツ素アクリレート(4)及び炭化水素系アクリレー
ト中)としてはα炭素非置換(即ち、前記一般式及び具
体的化合物においてR1+ R2共水素原子のもの)の
ものが好ましい。
本発明に係る被膜形成組成物を基材に塗布する方法とし
ては、前記の如き当業界公知の種々の方法を用いること
ができ、基材の材質、形状又は用途等に応じて適宜使い
分けることが望ましい。該組成物の適用形態としては、
該組成物をそのまま塗布に供することもでき、又粘度が
高過ぎる場合や膜厚の制御の場合等においては、該組成
物を溶剤に溶解させた溶液として適用することができる
この溶液の場合には、紫外線又は電子線の照射の前に、
常温、又は必要に応じて加熱や減圧によシ脱溶剤させる
工程が必要となる。溶剤を加熱除去する場合、七ツマー
等の加熱重合を来たさないために80℃以下で実施する
のが好ましい。
本発明に係る含フツ素保護被膜は、上記方法によって基
材上に形成された塗布層に、当業界公知の、殺菌灯、紫
外用螢光灯、カーボンアーク、キセノンランプ、複写用
高圧水銀灯、中圧又は高圧水銀灯、超高圧水銀灯、無電
極ラング、メタル7〜ライドラング、自然光等を光源と
する紫外線、又は走査型、カーテン型電子線加速路によ
る電子線を照射することによって形成される。厚みが5
μm以下の塗布層の紫外線硬化の場合、重合の効率化の
点で、窒素がス等の不活性ガス雰囲気下で照射すること
が好ましい。
く作 用〉 本発明者等の知見によれば、含フツ素アクリレート(4
)の割谷が上記範囲を超えて多$に存在する場合、(0
成分に基づく相溶性向上作用が十分機能し得す囚成分と
中)成分の相溶性不良から相分離が惹起され、塗膜の均
質性が著しく損われ、基材との密着性不良のみならず減
摩性、防錆性、耐擦傷性等の表面物性が著しく劣化する
ことが見い出され友。又、含フツ素アクリレート(A)
の割合が上記範囲の下限よりもさらに低い場合、・2−
70ロアルキル基による平滑性、減摩性、防錆性、耐擦
傷性、均質性、耐久性などの被膜機能向上効果が十分で
なく、本発明の目的を達し得ないことも見出された。
また本発明者等の検討によれば、本発明に係る含フツ素
アクリレ−)(A)(一般式■)については、aが0の
ものよシ1の方が(B)成分との相溶性により優れ、こ
の意味において息が1の含フツ素アクリレートがより好
ましい。
油溶性含フツ素界面活性剤をUV硬化被膜の耐摩耗性改
良剤として添加する技術は当業界公知である。しかしな
がら含7.素アクリレートを含有しない公知のUll化
可能な炭化水素アクリレートに油溶性含フツ素界面活性
剤を添加しUV硬化せしめて得られた被膜の表面特性は
確かに平滑性、摩擦低減性に若干の向上効果は見られる
ものの、ユーザーが要求するレベルに尚達し得すさらに
防錆性、耐擦傷性の向上効果は殆ど認められないのが実
状である。
これに対し本発明の組成物を放射線照射して硬化せしめ
た被膜の表面特性は単に平滑性、摩擦低減性の機能を格
段に向上せしめているだけでなく、特に防錆性、耐擦傷
性の向上効果は予想をはるかに超、tたレベルに達して
いる。このよう−な機能を発現せしめる機構は定かでな
いが、(4)、 (B) 、 (C)三成分の相乗作用
に基づくものと推定される。
〈発明の効果〉 本発明に係る被膜形成組成物は、前述の如く各種の固体
表面の保護被覆層として例えば防湿防錆剤、防汚剤、潤
滑剤、減摩剤、剥離剤、離型剤等として使用できるが被
膜の薄さと平滑性を生かして特に、記録材料分野におけ
る磁気記録製品の磁性層の被覆に好適に用いられる。
例えば、銅、アルミニウム、亜鉛などの非磁性金属やポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナ
フタレート等のIジエステル類、ポIJ フロピレン等
の?リオレフィン類、セルロースアセテート等のセルロ
ース誘導体ポリカーゴネート等のプラスチックや、更に
、場合によりガラス、紙、木材、繊維、磁器及び陶器の
ようなセラミックス上に蒸着された強磁性合金(鉄、コ
バルト及び/又はニッケルを主成分とし、少量のアルミ
ニウム、シリコン、クロム、マンガン、モリブデン、チ
タン、各種重金属類、希土類金属等を含むもの)または
微量酸素存在下で、鉄、コバルト、クロム等の磁性材料
をポリエステル等のプラスチ、クフィルムに蒸着した磁
気チーブ、または$気ディスクの磁性層等の保護被覆や
、減摩性が特に要求される、磁気チーブの背面処理剤と
しても好適である。
一方、本発明の被膜形成組成物は、ガラス表面上にも透
明で平滑な薄い被膜を形成できるので、各種光学機器の
油汚れ防止剤々どとして耐油性と耐抜き取シ性を必要と
する用途にも使用することができる。
更に又、防湿性等が特に要求される光ファイバー及び光
フアイバーケーブルの保護被覆剤としても好適である。
次に、本発明の具体的な実施例について説明するが、斯
かる説明によって本発明が何ら限定されるものでないこ
とは勿論である。文中「部」「チ」は重量基準であるも
のとする。
〈実施例〉 実施例1〜11 鋼板(JIS G3141 )またはアルミ板(JIS
)14000)に本発明の被膜形成組成物を塗布し、溶
剤を室温で蒸散させた後、塗布層を紫外線または電子線
によって下記の条件下で硬化させ、被覆膜の緒特性につ
いて検討した。結果を表−1に示す。
装 置;紫外線による硬化は、高圧水銀灯(80w/c
m )を使用し、照射距離10cPr1、照射時間60
秒、窒素雰囲気下、33℃で実施した。また電子線によ
る硬化は、カーテン型電子線加速器(200kV )を
使用し、線量10 Mradで行った〇塗装方法;含フ
、素アクリレート(A)、炭化水素系アクリレート(B
)、油溶性含フ、素活性剤(C)、そして光重合開始剤
(F)から成る組成物を酢酸エチルによって5%に希釈
し、パーコーターにて塗布し、不揮発分が0.5μmの
塗布層を形成した。
表面平滑性;表面塗膜の平滑性は、倍率160倍の光学
顕微鏡で塗膜表面のプツ等の有無を観察し、5段階(5
:全くブツがない、4:縁にほんの僅かプツあシ、3:
表面にほんの僅かブツあり、2:表面に僅かにプツがあ
る、1:全てにプツがある数値が大きい程良好)で評価
した。
表面乾燥性; 指触による ◎印 ベタ付きが全くない ○印−ペタ付きが若干感じられる Δ印 ベタ付きが少しある ×印 ベタ付きがある 表面硬度: JIS 5400の方法に基づいて実施し
たO 接触角;接触角は、n−ドデカンを6μを測定表面に滴
下し、エルゴ製デュオメータ一式接触角測定器を用い、
25℃にて測定した。
防錆性;試験片を20%塩化ナトリウム水溶液に浸漬し
、塗膜に錆が発生するまでの時間を観察し、5段階(5
:200時間以上、4:150〜200時間、3:10
0〜150時間、2:50〜100時間、1:0〜50
時間)で評価した。
基盤目テスト 11M角を1−間かくで縦と横に力、ターで切り100
個のマス目をつくυ、セロテープ(覆水化学S−832
)を密着させて、−気にはがし、残りたマス目の数を表
わした。
尚実施例及び比較例扁の欄のrUVJUV上紫外線硬化
忙よる重合体被膜の形成を示し、rEBJ表示は電子線
硬化のそれを示す。又比較例Aの欄のr8J表示は組成
欄に示したアクリレートモノマーを酢酸エチル中で、ア
ゾビスインブチロニトリルを開始剤として共重合しく平
均重合度30)、しかる後に油溶性含フ、素界面活性剤
と共に素材に塗布し、膜厚な0.5μmにしたことを示
している。また表中のA* Q p J) 1.E −
F * Gは本文中に記載した化合物の記号を示してい
る。
さらに、油溶性含7.素界面活性剤(C)は、前記した
A−1〜33の中から選択された含フ、素アクリレート
(A)と下記の炭化水素系ビニルモノマーG−1〜G−
5をラジカル共重合して得たものである。尚、表中()
内の値は仕込み重量比である。
G −I   CH2=C(CH,) C00CH3G
−2CH2じC(CH,) cootstG −3CH
2=C(CH,)Co+0CH2CH2−)−230C
H3H3 G −4CH2=C(CH3)C0(−OCRCH2−
)、oO−C4)T。
CH。
G −5CH2=CI(Co−(−OCI(CH2−)
1oO−C4H7比較例7 A−31、E−16(R2=H)、そしてメチルメタア
クリレ−トルエチルアクリレート−アクリル酸の共重合
体「カーゲセ、ト」■525(fit割合: 1/4/
4 )のテトラヒドロフラン溶液(10チ)を調整し、
前記と同様の方法(EB硬化〕にて鋼板上に膜厚工μm
の塗膜を得た。塗膜の緒特性は表−2の如くであシ、こ
の結果から、特開紹57−16067号に開示された方
法では、本願発明にて目的とする平滑性、耐擦傷性等に
優れた塗膜は得られないことが判明した。
表−2 次にIリエステルフィルムに、実施例1〜11と同じ条
件で被膜全形成し、その表面平滑性、表面乾燥性、接触
角、そして摩擦低減性を検討し次。
その結果を表−3に示す。
尚、動摩擦係数の測定は、米国材料試験協会規格D−1
894に単じた方法により、東洋プールドウィン社製摩
擦試験治具を使用して行った(@重量: 2361.引
張強度: 10011V/mln )。
/′ 比較例11〜16 表−4に配合を示した含フッ素重合体を添加した熱硬化
性塗料“アクローゼナ600G=(商品名:大日本造料
社製白色塗料、 TiQ2含有)t−使用し、鋼板(J
I8G3141)を念はアルミ板(JIS H4000
)に、硬化条件150℃、30分間で膜厚0.5trr
nの塗膜を形成し次6表−4)’C1塗膜の緒特性につ
いて示す。
/′ 表−4から明らかなよりに、含フ、素重合体を添加した
組成物による塗膜は本発明の組成物によって得られる塗
膜よシ、硬度(耐擦傷性)、防錆性の点で劣ったもので
あり次。
比較例17〜24 実施例1〜11(試料/161〜11)の炭化水素系ア
クリレ−1f)t−使用し、本願発明の含フ、素アクリ
レートQと油溶性室フッ素界面活性剤(C)に代えて各
々表−5に示した低級フロロアルキル基含有ビニルモノ
マー及びノニオン系含フツ素界面活性剤を用いて被膜を
形成しその表面平滑性、接触角、摩擦低減性について検
討した。
表−4から明らかなように低級フロロアルキル基含有ビ
ニルモノマー及びノニオン系含フ、素界面活性剤を用い
た被膜は、本願発明の4のより摩擦低減性、接触角、表
面平滑性、の点で劣ったものであった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 R_f−(A)−_aQ−OCOC(R_1)=CH_
    2〔式中、R_fは炭素数4〜20のパーフロロアルキ
    ル基であり、 Aは2価の連結基で、▲数式、化学式、表等があります
    ▼、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、 または▲数式、化学式、表等があります▼(但し、Rは
    水素原子また は炭素数1〜12の、アルキル基もしくはエーテル酸素
    を含有したアルキル基である。)であり、aは0または
    1であり、 Qは−(CH_2)−_n(但し、nは2〜4の整数で
    ある。)であり、 R_1は水素原子、メチル基、またはハロゲン原子であ
    る。〕で表わされる含フッ素アクリレート(A)と、炭
    化水素系アクリレート(B)と、 油溶性含フッ素界面活性剤(C) とからなる組成物であり、(A)成分と(B)成分の重
    量割合が1:4〜1:10000であり、(C)成分の
    該組成物中の量が0.005〜5重量%である紫外線ま
    たは電子線によって重合可能な被膜形成組成物。 2、含フッ素アクリレート(A)のaが1であることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の被膜形成組成物
    。 3、一般式 R_f−(A)−_aQ−OCOC(R_1)=CH_
    2〔式中、R_fは炭素数4〜20個のパーフロロアル
    キル基であり、 Aは2価の連結基で、▲数式、化学式、表等があります
    ▼、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、または▲数式、化
    学式、表等があります▼(但し、R は水素原子または炭素数1〜12の、アルキル基もしく
    はエーテル酸素を含有したアルキル基である。)であり
    、 aは0または1であり、 Qは−(CH_2)−_n(但し、nは2〜4の整数で
    ある。)であり、 R_1は水素原子、メチル基、またはハロゲン原子であ
    る。〕で表わされる含フッ素アクリレート(A)と、炭
    化水素アクリレート(B)と、 油溶性含フッ素界面活性剤(C) とからなる組成物であり、(A)成分と(B)成分の重
    量割合が1:4〜1:10000であり、(C)成分の
    該組成物中の量が0.005〜5重量%である組成物を
    被塗布面に塗布し、溶剤を蒸散させた後に紫外線または
    電子線を照射することを特徴とした重合体被膜を形成す
    る方法。
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