JPS6156343A - 光重合性組成物 - Google Patents
光重合性組成物Info
- Publication number
- JPS6156343A JPS6156343A JP17909184A JP17909184A JPS6156343A JP S6156343 A JPS6156343 A JP S6156343A JP 17909184 A JP17909184 A JP 17909184A JP 17909184 A JP17909184 A JP 17909184A JP S6156343 A JPS6156343 A JP S6156343A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- component
- polymer
- triallylisocyanurate
- composition
- monomer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な光重合性組成物に関し、特に。
永久保護マスク用光重合性組成物に関する。更に詳しく
は、プリント配線板製造の際のソルダーレジスト用また
は無電解メッキレジスト用として優れた特性を有する永
久法論マスク用光定合性組成物に関するものである。
は、プリント配線板製造の際のソルダーレジスト用また
は無電解メッキレジスト用として優れた特性を有する永
久法論マスク用光定合性組成物に関するものである。
従来より、プリント配線板の製造方法として、はサブト
ラクト法、セミアディティブ法、フルアディティブ法等
様々な手法が用いられておシ。
ラクト法、セミアディティブ法、フルアディティブ法等
様々な手法が用いられておシ。
各々の方法に応じて多種多様の有機レジストが開発され
てきた。これらのレジストの内、エツチング用レジスト
および電解メッキ用レジストは１通常、一時的保賎マス
クとして用−られ。
てきた。これらのレジストの内、エツチング用レジスト
および電解メッキ用レジストは１通常、一時的保賎マス
クとして用−られ。
従って最終のプリント配線板には残留し々込。
一方、ンルクー用レジストおよびフルアディティブ法の
無電、解メッキレジストは１通常、剥離することなく永
久保護マスクとしてプリント配線板の最終構成部材とな
る為に様々な特性が要求される。これらの諸性能として
はンルクー用レジストの場合、例えば、溶融ハンダ温度
に耐える耐熱性、トリクロロエチレン、トルエン等に対
する耐有機溶剤性、電気絶縁性等の電気特性、その他１
機械的強度、貯蔵安定性等が挙げられる。フルアディテ
ィブ用無電解メッキレジストの場合、前記諸性能に加え
耐熱ｉＭメッキ浴性能、特に高耐アルカリ性が非常に重
要である。
無電、解メッキレジストは１通常、剥離することなく永
久保護マスクとしてプリント配線板の最終構成部材とな
る為に様々な特性が要求される。これらの諸性能として
はンルクー用レジストの場合、例えば、溶融ハンダ温度
に耐える耐熱性、トリクロロエチレン、トルエン等に対
する耐有機溶剤性、電気絶縁性等の電気特性、その他１
機械的強度、貯蔵安定性等が挙げられる。フルアディテ
ィブ用無電解メッキレジストの場合、前記諸性能に加え
耐熱ｉＭメッキ浴性能、特に高耐アルカリ性が非常に重
要である。
従来、フルアディティブ法プロセスに用い得る光硬化型
レジスト、とシわけドライフィルム状フォトレジストは
充分な性能を有しておらず。
レジスト、とシわけドライフィルム状フォトレジストは
充分な性能を有しておらず。
その為に解像性１位置ズレ等問題を抱えながらも熱硬化
型のスクリーン印刷方式が採用されている。
型のスクリーン印刷方式が採用されている。
最近、プリント配線板の高密度化が次ＭＫ要オドレジス
トの開発が強く望まれていた。
トの開発が強く望まれていた。
これらの事情に鑑み、本発明者らは鋭意検討を重ねた結
果本発明に到達した。
果本発明に到達した。
本発明の主な目的は耐アルカリ性、耐有機浴剤性、耐熱
性、電気絶縁性１機械的強度等に優れた永久保護マスク
を形成する為の光重合性組成物を提供することに６る。
性、電気絶縁性１機械的強度等に優れた永久保護マスク
を形成する為の光重合性組成物を提供することに６る。
本発明は、少なくとも（Ａ）トリアリルイソシアヌレー
トを重合単位として含有する重合体、（Ｂ）二個以上の
末端エチレン基を有する重合性単量体および（０）光重
合開始剤よυ成ることを特徴とする光重合性組成物に存
する。
トを重合単位として含有する重合体、（Ｂ）二個以上の
末端エチレン基を有する重合性単量体および（０）光重
合開始剤よυ成ることを特徴とする光重合性組成物に存
する。
次に１本発明の光重合性組成物を構成する各成分忙つい
て具体的かつ詳細に説明する。
て具体的かつ詳細に説明する。
本発明の光重合性組成物に含まれる第１の成分である（
Ａ）トリアリルイソシアヌレートをル°合単位として含
有する重合体は、トリアリルイソシアヌレートモノマー
を、必要とあらば他の共重合性モノマーと共に、常法に
従って少量の溶媒と熱ラジカル重合開始剤の存在下、加
熱して得ることができる。共重合体の場合、他の共重合
性モノマーとしては、ジアリルフタレート。
Ａ）トリアリルイソシアヌレートをル°合単位として含
有する重合体は、トリアリルイソシアヌレートモノマー
を、必要とあらば他の共重合性モノマーと共に、常法に
従って少量の溶媒と熱ラジカル重合開始剤の存在下、加
熱して得ることができる。共重合体の場合、他の共重合
性モノマーとしては、ジアリルフタレート。
ジアリルイソフタレート、ジアリルアジペート。
ジアリルサクシネートなどのジアリル化合物。
トリアリルシアヌレート、トリアリルトリメリテートな
どのトリアリル化合物、酢酸ビニルなどのビニル化合物
が拳げられる、 後述の方法によ）形成された永久保腰マスクの塗膜がよ
り強靭な特性をもつためには、上記共富合性七ツマ−と
の共重合体が好ましい。
どのトリアリル化合物、酢酸ビニルなどのビニル化合物
が拳げられる、 後述の方法によ）形成された永久保腰マスクの塗膜がよ
り強靭な特性をもつためには、上記共富合性七ツマ−と
の共重合体が好ましい。
共重合体とする場合にはトリアリルイソシアＦ、レート
ヲ／Ｊ〜？Ｑモル％、好’！Ｉ、＜ハ２０〜！！モルチ
とするのが良い。特に好適にはジアリル（イソ）フタレ
ートとの共重合体である。
ヲ／Ｊ〜？Ｑモル％、好’！Ｉ、＜ハ２０〜！！モルチ
とするのが良い。特に好適にはジアリル（イソ）フタレ
ートとの共重合体である。
また本発明の重合体はジアリル（イソ）フタレート単独
重合体に比べて塗膜の耐熱性に優れている。本発明の前
記重合体の重量平均分子量は２．０００から♂ｏ、ｏｏ
ｏの範囲が好ましい。これ以下では塗膜性に劣り、これ
以上の重合体はゲル化を生じ易く合成が困難である。
重合体に比べて塗膜の耐熱性に優れている。本発明の前
記重合体の重量平均分子量は２．０００から♂ｏ、ｏｏ
ｏの範囲が好ましい。これ以下では塗膜性に劣り、これ
以上の重合体はゲル化を生じ易く合成が困難である。
本発明組成物に用いられる第２の成分はＣＢ） 、２個
以上の末端エチレン基を有する重合性単量体である。こ
れらを具体的に例示するに、ジオール類１例えば、エチ
レングリコール、ポリエチレングリコール、グロビレン
グリコール、フタンジオール、ヘキテメチレングリコー
ル、ビスフェノールＡのジヒドロキシエチルエーテル。
以上の末端エチレン基を有する重合性単量体である。こ
れらを具体的に例示するに、ジオール類１例えば、エチ
レングリコール、ポリエチレングリコール、グロビレン
グリコール、フタンジオール、ヘキテメチレングリコー
ル、ビスフェノールＡのジヒドロキシエチルエーテル。
四臭化ビスフェノールＡ、それのジヒドロキシエチルエ
ーテル、シクロヘキサンジメタツール等のアクリル酸ジ
エステルまたはメタクリル藪ジエステル：トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリ
トールまたはその誘導体、グリセロール等二価以上のポ
リオール類のアクリル酸またはメタクリル酸多価エステ
ル；前述のポリオール化合物のイタコン酸、クロトン酸
、マレイソ酸各エステル類；多価アリルエーテル類；多
価エポキシ化合物とアヒ クリル酸またはメタクリル酸その反応生成物；ジイソシ
アネート化合物とジオールモノアクリレートまたはメタ
クリレートとの反応生成物等いずれも使用し得る。これ
らの内、アクリル酸またはメタクリル酸の多官能エステ
ル類の単量体が好適である。
ーテル、シクロヘキサンジメタツール等のアクリル酸ジ
エステルまたはメタクリル藪ジエステル：トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリ
トールまたはその誘導体、グリセロール等二価以上のポ
リオール類のアクリル酸またはメタクリル酸多価エステ
ル；前述のポリオール化合物のイタコン酸、クロトン酸
、マレイソ酸各エステル類；多価アリルエーテル類；多
価エポキシ化合物とアヒ クリル酸またはメタクリル酸その反応生成物；ジイソシ
アネート化合物とジオールモノアクリレートまたはメタ
クリレートとの反応生成物等いずれも使用し得る。これ
らの内、アクリル酸またはメタクリル酸の多官能エステ
ル類の単量体が好適である。
本発明の組成物に用いられる第３の成分は（０）光重合
開始剤である。具体的にはベンゾイソ。
開始剤である。具体的にはベンゾイソ。
ベンゾイソアルキルエーテル類、エチルアントラキノ：
／、２．２−シメトキシーコーフェニルアセトフエノン
、ベンジル、ベンゾフェノン、り。
／、２．２−シメトキシーコーフェニルアセトフエノン
、ベンジル、ベンゾフェノン、り。
Ｚ′−ビス−ジメチルアミノベンゾフェノン、キサント
ン、チオキサントン、ビイミダゾール／色素、トリクロ
ルメチル−８−）！、１７ジン類／色素等公知のものを
いずれも好適に使用し得る。
ン、チオキサントン、ビイミダゾール／色素、トリクロ
ルメチル−８−）！、１７ジン類／色素等公知のものを
いずれも好適に使用し得る。
以上述べた本発明の光重合性組成物を構成する各成分の
使用割合は使用目的により異なるが。
使用割合は使用目的により異なるが。
好ましくは３成分の総重量忙対し、成分（Ａ） ｊ Ｏ
〜？！重量％、成分（Ｅ）り〜グ０重ｉｔ％、成分（０
）０、Ｏ／〜１０重ｉ％の範囲である。
〜？！重量％、成分（Ｅ）り〜グ０重ｉｔ％、成分（０
）０、Ｏ／〜１０重ｉ％の範囲である。
？ その他６本発明の組成物には、必要に応じ。
熱重合禁止剤１着色剤、可塑剤、露光可視画剤。
稀釈用有機溶剤等を配合しても良い。
次に本発明の組成物を周込ての使用態様に関して説明す
る。本組成物は破塗＆物品の表面に塗布し１次いで活性
光線の全面照射により光硬化させることができる。まな
光照射の際１画像マスクフィルムを用いて像状露光を行
ない次いで未露光部を現像液で洗去して像状の永久保護
被膜を形成しても良い。最も好ましい態様の一つは１本
組成物を透明な仮支持体フィルム上に塗布してドライフ
イルムフォトレジストヲ形成した後、 ｐａ触媒を表
面に付与したアディティブ用基板上に積層し、像露光、
現像、全面後露光を経て像状の永久保護マスクを形成し
、次込で無電解銅メッキ液に浸漬して基板上の未被覆部
に銅を析出させプリント配線板を炸裂する事例が羊げら
れる。史に前記配線板表面に得度前記ドライフィルムフ
ォトレジストを用いて同様な手順によりソルクー用永久
保護マスクを形成した後溶融ハンダ浴に浸漬すれば所望
部分の半田付与を施すこともできる。
る。本組成物は破塗＆物品の表面に塗布し１次いで活性
光線の全面照射により光硬化させることができる。まな
光照射の際１画像マスクフィルムを用いて像状露光を行
ない次いで未露光部を現像液で洗去して像状の永久保護
被膜を形成しても良い。最も好ましい態様の一つは１本
組成物を透明な仮支持体フィルム上に塗布してドライフ
イルムフォトレジストヲ形成した後、 ｐａ触媒を表
面に付与したアディティブ用基板上に積層し、像露光、
現像、全面後露光を経て像状の永久保護マスクを形成し
、次込で無電解銅メッキ液に浸漬して基板上の未被覆部
に銅を析出させプリント配線板を炸裂する事例が羊げら
れる。史に前記配線板表面に得度前記ドライフィルムフ
ォトレジストを用いて同様な手順によりソルクー用永久
保護マスクを形成した後溶融ハンダ浴に浸漬すれば所望
部分の半田付与を施すこともできる。
本発明組成物の他の応用例としては電子部品や導線の永
久保護被後、集積回路用の絶縁保護膜、その他恒久的な
保護コートや精密画像レジストとしても好適に用い得る
。また種々のレジスト類や印８１１板等にも応用するこ
とができる。
久保護被後、集積回路用の絶縁保護膜、その他恒久的な
保護コートや精密画像レジストとしても好適に用い得る
。また種々のレジスト類や印８１１板等にも応用するこ
とができる。
次に、不発明を参考例、実施例を用いて具体的に１ｔ５
２ＢＡするが、不発明はその要旨を越えない限）それら
に限定されるものではない。
２ＢＡするが、不発明はその要旨を越えない限）それら
に限定されるものではない。
参考例
トリアリルイソシアヌレート（以下ＴＡ工Ｃと略記）７
００９％イソプロパツール３０２゜四塩化炭素３０２．
過酸化ベンゾイルＱ、！２を混合し７００℃で７時間Ｆ
Ｊｔ？！ｆ、した。室温に冷却彼イソグロバノールを加
えてポリマーを析出させ戸数、乾燥し、ポリマー〔ａ〕
を得た。前述のＴＡＡＣ３１０θ２にかえてＴＡ工０７
０１とジアリルイソフタレート３０２を用いて同様にポ
リマー〔ｂ〕を得た。以下同様にしてＴＡ４０７０２と
ジアリルアジペート３０２よ）ポリマー〔Ｃ〕を、ＴＡ
ＡＣ３７０９と酢酸ビニル３０２よりボリマー〔ｄ〕を
、ＴＡ工Ｃ３！２とジアリルイソ７タレート≦！２より
ボリマー〔ｅ〕を得た。
００９％イソプロパツール３０２゜四塩化炭素３０２．
過酸化ベンゾイルＱ、！２を混合し７００℃で７時間Ｆ
Ｊｔ？！ｆ、した。室温に冷却彼イソグロバノールを加
えてポリマーを析出させ戸数、乾燥し、ポリマー〔ａ〕
を得た。前述のＴＡＡＣ３１０θ２にかえてＴＡ工０７
０１とジアリルイソフタレート３０２を用いて同様にポ
リマー〔ｂ〕を得た。以下同様にしてＴＡ４０７０２と
ジアリルアジペート３０２よ）ポリマー〔Ｃ〕を、ＴＡ
ＡＣ３７０９と酢酸ビニル３０２よりボリマー〔ｄ〕を
、ＴＡ工Ｃ３！２とジアリルイソ７タレート≦！２より
ボリマー〔ｅ〕を得た。
実施例／
ポリマー［ａ：ｌ ２ Ｊ′り、アクリレートモノマー
ＤＰＣＡ−６０（日不化築社製） ７．ｊ ？ 、ベン
ゾフェノン／、ｊｆ、ミヒラーケトンｇ１Ｌおよびビク
トリアピュアーブルー７７■をメチルエチルケトン３！
りに溶解して得られた感光液を、２！μｍ ｍｓのポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に乾煉膜厚３ｊμγ
ｎとなる様に塗布し乾燥した。次いで常法に従って粗面
化、触妨付与を施した無′ｒＵ、解メッキ用の紙−フェ
ノール積層板上に感光層面が接する様に槓増しｆｃ、、
。
ＤＰＣＡ−６０（日不化築社製） ７．ｊ ？ 、ベン
ゾフェノン／、ｊｆ、ミヒラーケトンｇ１Ｌおよびビク
トリアピュアーブルー７７■をメチルエチルケトン３！
りに溶解して得られた感光液を、２！μｍ ｍｓのポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に乾煉膜厚３ｊμγ
ｎとなる様に塗布し乾燥した。次いで常法に従って粗面
化、触妨付与を施した無′ｒＵ、解メッキ用の紙−フェ
ノール積層板上に感光層面が接する様に槓増しｆｃ、、
。
次に３謂の高圧水銀燈により／ｍの距離にて画像マスク
フィルムを通して！θ秒間１λ光した後７ｊ℃に７０分
間保持した。室温に冷却後ポリエチレンテレフタレート
のフィルムを剥離し／、／、／−トリクロロエタン現像
液で、２！秒間スプレー現像して高Ｍ像のレジスト画像
を有するプリント積層板を得た。続いて前記光源を用い
ＩＯＩＭの距離で／ｊ秒間後露光した後／！Ｏ℃にて３
０分間加熱処理し評価用試料を作製した。
フィルムを通して！θ秒間１λ光した後７ｊ℃に７０分
間保持した。室温に冷却後ポリエチレンテレフタレート
のフィルムを剥離し／、／、／−トリクロロエタン現像
液で、２！秒間スプレー現像して高Ｍ像のレジスト画像
を有するプリント積層板を得た。続いて前記光源を用い
ＩＯＩＭの距離で／ｊ秒間後露光した後／！Ｏ℃にて３
０分間加熱処理し評価用試料を作製した。
これを２！℃のトリクレン中に１０分間浸漬したが実質
的な変化は見られなかった。また２ｇθ℃の溶融半田浴
に３０秒間浸漬したがフクレ、ハガレは全く生じなかっ
た。また硫酸鋼、ホルマリン、水酸化ナトリウムを含む
ｐＨ／２．ｊ。
的な変化は見られなかった。また２ｇθ℃の溶融半田浴
に３０秒間浸漬したがフクレ、ハガレは全く生じなかっ
た。また硫酸鋼、ホルマリン、水酸化ナトリウムを含む
ｐＨ／２．ｊ。
温度７０℃の無電解メッキ浴に／！時間浸漬する事によ
り優れた銅回路基板を形成した。前記メッキ池にグθ時
間浸演した場合もレジスト部に白化、ハガレ等の変化は
生じなかった６まだ７０重′に％の塩酸溶液中／時間の
浸漬テスト。
り優れた銅回路基板を形成した。前記メッキ池にグθ時
間浸演した場合もレジスト部に白化、ハガレ等の変化は
生じなかった６まだ７０重′に％の塩酸溶液中／時間の
浸漬テスト。
空気中での一７０℃−７２６℃６３０分の！Ｑプサイル
における熱Ｓ撃テストにおいてもクラック、ハガレ等の
異状は認められなかった。
における熱Ｓ撃テストにおいてもクラック、ハガレ等の
異状は認められなかった。
レジスト表面の鉛ｉ硬度はよＨ以上であシ、常態におけ
る絶縁抵抗は／Ｘ／Ｑ１２Ω以上を示した。
る絶縁抵抗は／Ｘ／Ｑ１２Ω以上を示した。
ポリマー〔ａ〕に代えてポリマー（１）Ｌ ［：Ｃ）
。
。
［４〕、 （”ｅ） 、 Ｔ Ａ工Ｏとジアリルイ
ソフタレート共重合ポリマーｘ−２（日本化成社ｆＲ）
を用すでもほぼ同様の結果が得られた。
ソフタレート共重合ポリマーｘ−２（日本化成社ｆＲ）
を用すでもほぼ同様の結果が得られた。
実施例＝
Ｘ−，２ｆ２Ｊ−？、アクリレートモノマーＤＰＯＡ−
／、２θ（日本化薬社製）ｇ、ｊ′ｒ、テトラブロモビ
スフェノールＡジアクリロキシエトキシエーテル３１．
ベンゾフェノンｉ、３ｔ、ミヒラーケトンｔｔｒｎｙ、
およびビクトリアピュアーブルー／ ７７Ｍ７をメチル
エチルケトン３！２に溶解して得られた感光欣を用すて
実施例／と同様に評価用試料を作製した。これは、トリ
クレン中に７０分浸漬、２ｇθ℃の半田に３０秒浸漬、
無電％Ａ銅メッキ浴に２０時１０］浸演テストにおいて
レジスト画像に共状は認められなかった。
／、２θ（日本化薬社製）ｇ、ｊ′ｒ、テトラブロモビ
スフェノールＡジアクリロキシエトキシエーテル３１．
ベンゾフェノンｉ、３ｔ、ミヒラーケトンｔｔｒｎｙ、
およびビクトリアピュアーブルー／ ７７Ｍ７をメチル
エチルケトン３！２に溶解して得られた感光欣を用すて
実施例／と同様に評価用試料を作製した。これは、トリ
クレン中に７０分浸漬、２ｇθ℃の半田に３０秒浸漬、
無電％Ａ銅メッキ浴に２０時１０］浸演テストにおいて
レジスト画像に共状は認められなかった。
−ケトンｇ！■、およびビクトリアピュアーブルー７７
岬をメチルエトンケトン３！２に心解して得られた感光
液を用いて実施例／と同様に基板上に積層した。ポリエ
チレンテレフタレートのフィルムを剥離した後、３ＫＩ
ｉＶの高圧水銀燈によｐ／ｍの距離から画像マスクフィ
ルムを通して真空中にて３分間露光した後、／、／、／
−）リクロロエタンで２０秒間スプレー現像した。
岬をメチルエトンケトン３！２に心解して得られた感光
液を用いて実施例／と同様に基板上に積層した。ポリエ
チレンテレフタレートのフィルムを剥離した後、３ＫＩ
ｉＶの高圧水銀燈によｐ／ｍの距離から画像マスクフィ
ルムを通して真空中にて３分間露光した後、／、／、／
−）リクロロエタンで２０秒間スプレー現像した。
続いて前記光源を用いて７０口の距離から７１秒間後露
光をし、／−ｔ０℃で３θ分間加熱処理して評価用試料
を作製した。これを実施例／と同様に評価したところ永
久保検マスクとしての充分な性能を有していた。
光をし、／−ｔ０℃で３θ分間加熱処理して評価用試料
を作製した。これを実施例／と同様に評価したところ永
久保検マスクとしての充分な性能を有していた。
本発明の組成物は、耐熱性、耐有機溶剤性、電気絶縁性
１機械的強度、貯蔵安定性等の諸物性に優れた光１゛合
性組成物であ）、特にプリント配線基板等のようなｔ子
部品の永久保護マスク用として用いてＶπ好適なもので
ある。
１機械的強度、貯蔵安定性等の諸物性に優れた光１゛合
性組成物であ）、特にプリント配線基板等のようなｔ子
部品の永久保護マスク用として用いてＶπ好適なもので
ある。
出 願 人 三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士 長谷用 −
（ほか７名）
Claims (3)
- （１）少なくとも（Ａ）トリアリルイソシアヌレートを
重合単位として含有する重合体、（Ｂ）二個以上の末端
エチレン基を有する重合性単量体および（Ｃ）光重合開
始剤より成ることを特徴とする光重合性組成物。 - （２）トリアリルイソシアヌレートを重合単位として含
有する重合体がトリアリルイソシアヌレートとジアリル
（イソ）フタレートとの共重合体であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の組成物。 - （３）光重合性組成物がプリント配線板の無電解メッキ
レジストまたはソルダーレジスト用である特許請求の範
囲第１項記載の組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17909184A JPS6156343A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17909184A JPS6156343A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6156343A true JPS6156343A (ja) | 1986-03-22 |
Family
ID=16059903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17909184A Pending JPS6156343A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6156343A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01298257A (ja) * | 1988-02-02 | 1989-12-01 | E I Du Pont De Nemours & Co | 編組構造物のイン‐ライン圧密化 |
| JPH04174749A (ja) * | 1990-11-01 | 1992-06-22 | Murata Mach Ltd | 多層構造筒状組紐の組成方法 |
| JPH05117948A (ja) * | 1991-10-18 | 1993-05-14 | Murata Mach Ltd | 多層構造組紐の組成装置 |
| JP2001282082A (ja) * | 2000-01-25 | 2001-10-12 | Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti | ホログラム記録材料組成物、ホログラム記録媒体およびその製法 |
-
1984
- 1984-08-28 JP JP17909184A patent/JPS6156343A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01298257A (ja) * | 1988-02-02 | 1989-12-01 | E I Du Pont De Nemours & Co | 編組構造物のイン‐ライン圧密化 |
| JPH04174749A (ja) * | 1990-11-01 | 1992-06-22 | Murata Mach Ltd | 多層構造筒状組紐の組成方法 |
| JPH05117948A (ja) * | 1991-10-18 | 1993-05-14 | Murata Mach Ltd | 多層構造組紐の組成装置 |
| JP2001282082A (ja) * | 2000-01-25 | 2001-10-12 | Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti | ホログラム記録材料組成物、ホログラム記録媒体およびその製法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS61148444A (ja) | 光重合性組成物 | |
| US5928839A (en) | Method of forming a multilayer printed circuit board and product thereof | |
| US6399277B1 (en) | Photopolymerizable thermosetting resin composition | |
| JP2852038B2 (ja) | 被膜プリント回路用フレキシブル難燃性光画像形成可能組成物 | |
| US7476489B2 (en) | Low-temperature curable photosensitive compositions | |
| US4544625A (en) | Photosensitive resin composition and photosensitive element | |
| JPH05339356A (ja) | 光重合性不飽和化合物及びアルカリ現像型感光性樹脂組成物 | |
| JP3585644B2 (ja) | 印刷回路用の水系処理可能で光画像化可能な耐久性多層被覆材 | |
| JP2862313B2 (ja) | ソルダーレジストインキ組成物及びその硬化物 | |
| JP3904166B2 (ja) | プリント回路を被覆する可撓性、難燃性、および光画像形成性組成物 | |
| US4920037A (en) | Photopolymerizable composition | |
| JPS6156343A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPS63205650A (ja) | アルカリ現像型感光性樹脂組成物 | |
| US4988605A (en) | Light-sensitive resin composition and light-sensitive element | |
| JP2021140004A (ja) | レーザー直描露光用感光性樹脂組成物、それを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法 | |
| JPH04356051A (ja) | 感光性熱硬化性樹脂組成物およびパターン形成方法 | |
| JPH11305430A (ja) | アルカリ現像型感光性樹脂組成物 | |
| JPS6156344A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JP5835416B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性フィルム及びレジストパターンの形成方法 | |
| JPS58199341A (ja) | 耐熱性感光性樹脂組成物 | |
| JPS6238449A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JP2004302204A (ja) | 感光性樹脂組成物、ソルダーレジスト組成物およびプリント配線板 | |
| JPH01296241A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JP2003149807A (ja) | フレキシブル性を有する難燃型感光性樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JPS6193450A (ja) | 光重合性組成物 |