JPS6154800B2 - - Google Patents

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JPS6154800B2
JPS6154800B2 JP57114098A JP11409882A JPS6154800B2 JP S6154800 B2 JPS6154800 B2 JP S6154800B2 JP 57114098 A JP57114098 A JP 57114098A JP 11409882 A JP11409882 A JP 11409882A JP S6154800 B2 JPS6154800 B2 JP S6154800B2
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solution
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adduct
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JP57114098A
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Purosuko Sutefuen
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EIDP Inc
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EI Du Pont de Nemours and Co
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Publication date
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Publication of JPS6154800B2 publication Critical patent/JPS6154800B2/ja
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    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K15/00Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change
    • C09K15/04Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds
    • C09K15/06Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing oxygen
    • C09K15/08Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing oxygen containing a phenol or quinone moiety
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/0427Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/043Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/046Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds

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  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、特にプラスチツクに対して光及び引
掻抵抗性コーテイングを付与するのに有用な有機
シランエステル基を含有する新規な紫外線吸収性
の化合物の製造方法に関する。 多くの重合体、特許にポリカーボネートは、黄
変、表面分解及び耐摩耗性の低下を生じさせる紫
外線(UV)の悪影響による耐候性に欠陥があ
る。米国特許第3429845号に記載されているポリ
珪酸を含有する相容性のコーテイングは、引掻に
対する抵抗性を増加させるのに有利であるが、あ
る種の樹脂に対して、特に曝露時において接着性
に欠けていることがわかつた。また、紫外線吸収
剤の混入は、コーテイングの硬化及び/又は曝露
中におけるマイグレーシヨン(migration)、蒸発
及び滲出による損失のために効果的でなかつた。 重合体紫外線吸収剤は、米国特許第3340231号
及び第3341493号に提案されている。これらによ
ると、不飽和グリシジルエステルの如きエポキシ
単量体を2・4−ジヒドロキシベンゾフエノンと
反応させ、得られた単量体をハロゲン化ビニルと
の共重合に使用することにより光に対する抵抗性
が改良される。しかしながら、これは一般に有用
な溶媒及び重合体表面と非相容性である。 ポリカーボネート又はアクリレート表面は、米
国特許第3451838号に示されている如く2−ヒド
ロキシ−4−メトキシ−ベンゾフエノンを脂肪族
及び芳香族シランと混合して用いることによつて
改良しうることも知られている。しかしながら、
耐摩耗性、相容性、入手可能性、安定性及び適用
の容易さに関して更に改良することが期待されて
いる。 今回、本発明によれば、UV吸収剤として有用
である新規な珪素含有化合物の製造方法が提供さ
れる。 本発明におけるUV吸収剤として有用な新規珪
素含有化合物は、式 〔式中、 R1は炭素原子数5個未満の脂肪族炭化水素
基、炭素原子数5個未満のアシル基又は式 (CH2CH2O)oZの基であり、ここでnは少くとも
1の整数であり且つZは炭素原子数5個未満の脂
肪族炭化水素基であり; R2は芳香族炭素を介して酸素に結合し且つ
2500〜4000Åの領域の光を吸収する安定な芳香基
であり;そして bは1又は2である〕 の1つを有する。 これらの新規な化合物の詳細並びに本発明の他
の特徴は以下の記述から明らかになるであろう。 上記式で表わされる紫外線吸収残基を有する新
規な珪素含有化合物は、エポキシシランをヒドロ
キシ芳香族UV吸収剤のヒドロキシル基と反応さ
せることによつて製造でき、本明細書では“付加
物(adduct)”と称することがある。 ヒドロキシ芳香族UV吸収剤との反応に用いら
れるエポキシ珪素化合物又はエポキシシランは、
米国特許第2945701号に記載されている。 それらは式 〔式中、R1は前記の意味を有する〕 を有する。上記化合物の製造法は上述の米国特許
第2946701号に示されている。特に好適な化合物
は、ユニオン・カーバイド(Union Carbide)A
−186として市販されているR1がメチルもの、即
ちα−(3・4−エポキシシクロヘキシル)エチ
ルトリメトキシシランである。 出発原料のヒドロキシ芳香族UV吸収剤には、
大部分の市販の紫外線スクリーニング剤(UV−
Sereening agents)、即ちベンゾフエノン類、ベ
ンゾトリアゾール類、サリシレート類、置換キナ
ゾリン類及びフエニルトリアジン類が含まれる。
これらはいずれも一般に2500〜4000Åの領域の光
を吸収し且つUV放射を無害なエネルギーに消散
せしめる。効果的な吸収に対する必要条件は、ワ
シントン特別区の米国化学会編、Advances in
Chemistry、Series 85、第284頁(1968)の
“Stabilization of Polymer and Stabilizer
Processes”及び英国ペルガモン(Pergamon)
発行European Polymer Journal−Supp、1969
年、第105〜132頁のエツチ・ジエー・ヘラー
(H.J.Heller)、“Protection of Polymers against
Light Radiation”に示されている。 上記の出発原料は、式 R2(OH)b 〔式中、bは反応したヒドロキシルの数に応じて
1又は2であり、そしてR2は前記の意味を有す
る。〕 として書くことができる。これは一般に少くとも
151の分子量(下記構造式2、p=1)を有し且
つ普通325未満の分子量(置換されていない;構
造式13)を有する。参考例2及び実施例1に示す
下記構造式8において、R2は2個のシラン基に
結合するものとして(即ちb=2のR2(OH)b
して)示される。環上に存在する置換差は約400
まで分子量を増加せしめてもよい。 特に有用なR2の代表例としてのUV吸収構造は
下式で示すことができる。 これらの構造のいずれも、核炭素上に随時2個
までの不活性な置換基、例えばハロゲン、アルキ
ル、フエニル、アルコキシを有していてもよい。
上式の基は結合がパラ位に存在することが一般に
好適である。 特に有用な出発原料としてのヒドロキシ化合物
は上に記載した第1の構造に相当するもの、即ち
2・4−ヒドロキシベンゾフエノンである。後記
参考例1及び2のものに加えて特に有用なヒドロ
キシ芳香族化合物は、2・4−ジヒドロキシベン
ゾエート、2−(2′−ヒドロキシフエニル)−4−
フエニル−6−ヒドロキシキナゾリン及び2−
(2′・4′−ジヒドロキシフエニル)ベンゾトリア
ゾールである。 前記のシラン及びヒドロキシ化合物間の反応条
件は単純である。これらの化合物は、単に無水の
条件下でアルカリ第四級アンモニウム塩の存在下
に、一般に50〜150℃にて4〜10時間接触せしめ
ればよい。稀釈溶媒は必要でないが、所望により
使用することができる。 製造される新規な付加物は、一般に極性有機溶
媒、例えば低級脂肪族アルコール、低級脂肪族ケ
トン、アセトニトリル、低級脂肪族エステル、例
えば酢酸エチル、ジオキサン、フラン、ジメチル
スルホキシド及びジメチルホルムアミドに可溶な
粘稠な液体である。 本発明により提供される新規な付加物は、米国
特許第3429845号に教示されている如きポリ珪酸
及び共重合体を含有するコーテイング溶液中に使
用するのに特に適している。 しかして、以下、本発明の方法に従つて製造さ
れる新規な付加物を用いてかかるコーテイング溶
液を調製する場合についてさらに詳しく説明す
る。 該コーテイング溶液中に含ませうるポリ珪酸
は、各場合シリカとして計算した百分率で組成物
の重量を基準にして約10〜約90%、好ましくは約
20〜約50%の範囲であることができる。このポリ
珪酸は、エチルアルコール及び水の混合物、又は
好ましくは0.1N塩酸中において約5:1〜2:
1、好ましくは約3〜4:1の比でテトラエチル
シリケートを加水分解することにより製造され
る。 コーテイング溶液に用いる共重合体は、ヒドロ
キシル化されたフルオル重合体、好ましくはヒド
ロキシルが第1級であり且つアルキルが炭素数2
〜6個であるテトラフルオルエチレンとω−ヒド
ロキシアルキルビニルエーテルの共重合体であ
る。これらの共重合体は、交互単位からなり、従
つて1:1のモル比を有する。また、テトラフル
オルエチレンの少くとも一部がクロルトリフルオ
ルエチレンで代替されている共重合体、又はフル
オルオレフインとビニルエステルとの共重合体の
加水分解物のようなヒドロキシル基が第2級であ
る共重合体も、上記の共重合体ほど好適ではない
が、上記コーテイング組成物に使用することがで
きる。これらの共重合体については米国特許第
3429845号及び第3429846号に詳細に記述されてい
る。 上記のポリ珪酸はコーテイングに良好な耐引掻
性を付与する成分として好適であるが、上記のコ
ーテイング溶液の代りに、ヒドロキシル化された
フルオル重合体及び米国特許第3651003号に教示
されている種類のヘキサ(アルコキシアルキル)
メラミン(但し“アルコキシ”は8個までの炭素
数を有する)、例えばヘキサ(メトキシメチル)
メラミンを含むコーテイング溶液も用いることが
できる。この変形において、45重量%までのフル
オル重合体がメラミンで置換えることができる。
勿論米国特許第3651003号に教示されている如く
シリカ自体をこれらの成分と共に使用してもよ
い。 本発明により提供される新規な付加物を含むコ
ーテイング溶液は、ポリ珪酸(シリカとして計
算)及び/又はヘキサ(アルコキシアルキル)メ
ラミンと上記共重合体の合計重量に基づいて約
0.5〜35重量%の前記の付加物を含有することが
できる。該付加物としては勿論2種以上使用して
もよく、それが時には有利である。 上記の成分及び他の任意の少量成分に対する溶
媒は、広範囲の割合で混和することができそして
一般に約100℃でかなりの蒸気圧があるものが用
いられる。有用な溶媒は、低級アルカノール、ア
ルカノールと低級アルカン酸及び/又は低級脂肪
族ケトンとの混合物である。また、少量のエーテ
ルアルコール〔セロソルブ(Cellosolve)〕、
エステル、芳香族炭化水素及び水が存在していて
もよい。一般には望ましい溶液粘度(下記参照)
を与えるのに十分な溶媒を用いるが、その量は臨
界的ではない。 コーテイング溶液の長期貯蔵寿命が達成され
る。いずれか残存しているエポキシ基と反応する
化合物、例えばn−ブタノールの如きアルコール
をエポキシ含有シラン/紫外線吸収剤混合物に添
加する場合には、先に後者の成分間の反応を実質
的に完結せしめて(下記参考例5B参照)存在す
るエポキシ基とコーテイング溶液の重合体との反
応を防止する。これらの化合物は良好な溶媒であ
るから、そのままで容易に用いることができ且つ
同時に溶液を安定化せしめうる。 上述のものに加えて下記の物質は随時且つ少量
で溶液中に含有せしめることができる; (1) 存在するポリ珪酸(SiO2として計算)の重
量を基準にして0.05〜5%の量で使用される有
機珪素化合物、即ち低級アルキレン(炭素原子
数2〜4個)オキシドと低級ジアルキルシロキ
サンとのブロツク共重合体。これらは更に米国
特許第3476827号に記述されている; (2) ポリ珪酸(SiO2として)及び共重合体(例
えばテトラフルオルエチレン及びヒドロキシア
ルキルビニルエーテルの共重合体)を基準にし
て0.025〜2%の量で用いられるカリウムチオ
シアネート及びナトリウムチオシアネート並び
にナトリウム又はカリウムカルボキシレートの
如き塩。これらは更に米国特許第3390203号に
記述されている;及び (3) 米国特許第3546318号に記述されている如き
少くとも4個の環酸素を含む原子数少くとも14
個の大環状環を有するポリエーテル。これらは
ポリ珪酸(SiO2として)及び共重合体の全重
量を基準にして0.01〜5%の量で用いることが
できる。 コーテイング溶液は2〜25%の固体含量(ポリ
珪酸又は同等物及びフルオル重合体及び可能なら
ば少量の上記(1)、(2)及び(3)の実質的に不揮発性の
成分)を有する。ヒドロキシル及び弗素含有重合
体のポリ珪酸(SiO2として)に対する割合は10
〜90:90〜10であることができるが、普通80〜
50:20〜50で存在する。コーテイング溶液は、一
般に約10〜50cps(室温)又は更に300cpsまでの
粘度を有している。この場合低粘度物は薄いコー
テイングを与えるために、また高(30又はそれ以
上)粘度物は厚いコーテイングを与えるために用
いられる。貯蔵又は輸送に対しては、高粘度、例
えば100〜300cpsが好適である。 本発明により提供される付加物を用いて調製さ
れる有用なコーテイング溶液の全組成割合を下表
に重量%で示す:
【表】 溶 媒 10〜300cps(使用に好適には10〜50cps)の溶
液粘度を与える量 本コーテイング溶液は、金属、重合体、木材な
どの表面に耐光性及び耐ひつかき性のコーテイン
グを与えるのに有用であり、流し塗り
(flowing)、噴霧、浸漬などの如き通常の溶液コ
ーテイング法によつて基質に適用することができ
る。コーテイング溶液と基質との接触時間、例え
ば浴からの引き出し速度は、勿論得られるコーテ
イングの厚さに影響する因子である。次いで最後
に組成物を乾燥しそして好ましくはベーキングす
る。この場合最高ベーキング温度は約200℃以下
に維持される。一般にこの時間及び温度は相互に
関係し、即ち170〜180℃で1時間であり、120〜
130℃で5〜16時間が用いられる。このベーキン
グ又は硬化は硬い表面及び接着力の強いコーテイ
ングを与える。 コーテイングの厚さとして、非常に薄いコーテ
イング(0.1μ)も用いるうるが、一般に3〜20
μ(普通好適には3〜7μ)のコーテイングが基
質に優秀な紫外線保護を与えるのに有効である。
特に優秀な接着性は、重合体をポリ珪酸と共に用
いて耐摩耗性コーテイングを与える場合に得られ
る。更に、紫外線吸収性は一般に蒸発又は蒸散に
よつて低分子量の保護剤を除去する傾向を有する
ベーキング操作中において保持される。 本発明により提供される付加物のトリアルコキ
シシラン基−Si(OR13はおそらく適用中コーテ
イング溶液中で加水分解され、縮合してポリ珪酸
及び/又はヒドロキシル含有重合体基質例えば
TFE/HBVE共重合体と共に重合体物質又は錯
体を形成する。この加水分解、熟成及び硬化工程
中、紫外線スクリーニング(screening)残基は
後で不揮発性となり且つマイグレーシヨンを失な
つて優れた性質を有する耐摩耗性コーテイング物
質の一体的部分となる。これらの重合体コーテイ
ング又は錯体の究極的構造は、おそらくシラノー
ル基がいくらか残存している硬い3次元 網状構造と化学的に結合し、水素結合し及び/又
は機械的にからみ合つた強靭な線状重合体の同一
空間に広がつた(coextensive)適合しうる構造
からなつていると考えられる。 次の実施例は本発明の種々の態様を説明するも
のであり、本発明の範囲を限定するものではな
い。参考例1〜2及び実施例1は新規な付加物を
示し、参考例3及び4はそれぞれ石英及びポリ
(メチルメタクリレート)上のコーテイングを示
す。参考例5は好適なポリカーボネートをコーテ
イングするために用いるコーテイング溶液中の付
加物を示す。これらの実施例及び参考例において
物質の部及びパーセントは断らない限り重量によ
るものとする。用いる略記号は次の通りである:
テトラフルオルエチレンに対してTFE;4−ヒ
ドロキシブチルビニルエーテルに対してHBVE;
及びポリ(メチルメタクリレート)に対して
PMMA。 参考例 1 2・4−ジヒドロキシベンゾフエノン/γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランの1:
1付加物 上記化合物(付加物1)は、窒素下及びテトラ
メチルアンモニウムクロリド0.1gの存在下に
2・4ジヒドロキシベンゾフエノン10.7g(0.05
モル)及びγ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン12.04g(0.051モル)の混合物を加熱す
ることによつて製造した。この混合物を撹拌し、
徐々に75〜80℃まで加熱し、次いで8時間この温
度に維持した。この期間中混合物は均一で粘稠な
油に変化した。反応物を80℃で4時間加熱した時
にも同等な生成物を得た。 参考例3における如くして製造したがポリカー
ボネートに適用し且つ130℃で60分間硬化せしめ
たコーテイングは、接着テープ引張試験によつて
この基質からはがすことができなかつた。 参考例 2 2・2′・4・4′−テトラヒドロキシベンゾフエ
ノン/γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン1:2付加物 参考例1の一般的な方法を用いて、2・2′・
4・4′−テトラヒドロキシベンゾフエノン4.29g
(0.02モル)を参考例1のエポキシシラン9.44g
(0.04モル)と反応させることにより上記付加物
を製造した。テトラメチルアンモニウムクロリ
ド0.1gを添加した後、混合物を75〜80℃で6時
間加熱した。この結果、透明で僅かに赤味を帯び
た黄色油を得た。これを更に精製せずにPMMA
上の27/73−SiO2/TFE−HBVE中で評価し
た。 ポリカーポネートに適用し且つ130℃で60分間
硬化せしめたコーテイングは、接着テープ引張り
試験によつてこの基質からはがすことはできなか
つた。 実施例 1 2・2′・4・4′−テトラヒドロキシベンゾフエ
ノン/β−(3・4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン1:2付加物 上記付加物は、2・2′・4・4′−テトラヒド
ロキシベンゾフエノン(4.92g、0.02モル)をβ
−(3・4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン9.84g(0.04モル)及びテトラ
メチルアンモニウムクロリド0.1gと共に80℃に
加熱することによつて製造した。この結果、青白
い帯赤褐色の油を得た。 参考例 3 石英上のコーテイングの光学的密度 溶媒としてのn−ブタノール/t−ブタノール
中SiO2/共重合体の重量比27/73の約10%ポリ
珪酸(SiO2)TFE−HBVEと共に参考例1〜2
及び実施例1の新規なシラン約10重量%(固体基
準)を含有するコーテイング溶液を石英(UV放
射に対し透明)上にコーテイングし、溶媒を蒸発
によつて除去した。この層上にPMMAシートを
直接置き、170℃に60分間加熱した。次の表は、
蒸発及びPMMAシートへのマイグレーシヨンに
よる石英上コーテイングの2800〜3500Åにおける
光学的密度の損失パーセントを示す。
【表】
【表】 参考例 4 ポリ(メチルメタクリレート)上のコーテイン
グ n−及びtert−ブチルアルコール混合溶媒中ポ
リ珪酸/TFE−HBVE約10%の溶液に化合物
及びを10及び15重量%(コーテイング溶液中の
全固体基準)含有するコーテイングを米国特許第
3429845号及び前記実施例に記載の如くして
PMMA表面に適用し、170℃で1時間硬化せしめ
た。次の表は、紫外線吸収剤を含まない共重合体
のコーテイングに比較して得られた結果を示す。
特に接着性保持における改良に注目すべきであ
る。
【表】
【表】 参考例 5 2・4−ジヒドロキシベンゾフエノン及びγ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン1:
1付加物とそれを含むポリカーボネート上コー
テイング 部 A 本質的に参考例1の方法に従い、撹拌機、温度
計、還流疑縮器及び窒素導入口を備えた12の3
ツ口で外底の乾燥フラスコにγ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン1796g(7.6モル)、
2・4−ジヒドロキシベンゾフエノン1628g
(7.6モル)及びテトラメチルアンモニウムクロリ
ド15gを仕込んだ。加熱及び撹拌しながら2・4
−ジヒドロキシベンゾフエノン60〜80℃の釜温度
で溶解させた。次いで加熱及び撹拌を初期温度
110〜116℃で継続した。1時間後混合物は粘稠と
なり、徐々に還流が始まつた。加熱を全体で5時
間継続したが、その終了時の釜温度は110℃であ
つた。n−ブタノール(5136g)及びテトラメチ
ルアンモニウムクロリド(15g)を添加し、この
混合物を更に2時間還流下に加熱した。夜通し冷
却した後透明な褐色溶液を窒素下に乾燥容器中へ
入れ、密閉した。この溶液(8538g)は凡そ40%
の付加物を含有していた。 部 B 1 第1のコーテイング溶液を次のように製造し
た: エタノール中ポリ珪酸溶液(エタノール中テ
トラエチルオルトシリケートの約70%溶液65部
及び0.1N水性塩酸20部を混合することによつ
て製造。この混合物は残りの成分を添加するに
先立つて17時間熟成させた。) 85部 TFE/HBVE共重合体〔混合tert−ブタノー
ル/n−ブタノール中約1:1の溶液(固体約
11%)〕 315部 氷酢酸 100部 “L−520”有機珪素〔低級アルキレンオキ
シシドとジメチルシロキサンの共重合体、ユニ
オン・カーバイド社製(Union Carbide Co.
)〕 125g メタノール中KSCN 10%溶液 1.6部 n−ブタノール中2・5・8・18・21−ヘキ
サオキサトリシクロ〔20・4・0・09

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 〔式中、R1は低級アルキル基である〕 のエポキシシランの少くとも1種を式 R2(OH)b 〔式中、R2は芳香族炭素を介して酸素に結合し且
    つ2500〜4000Åの領域の光を吸収する安定な芳香
    族ヒドロキシ−置換ベンゾフエノン基であり;そ
    して bは1又は2である〕 の化合物と無水液体条件下でアルキル第4級アン
    モニウム塩の存在下に反応させることを特徴とす
    る式 〔式中、R1、R2及びbは上記の意味を有する〕 の化合物の製造方法。
JP57114098A 1972-09-15 1982-07-02 紫外線吸収剤の製造方法 Granted JPS5810591A (ja)

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