JPS588766A - 紫外線吸収剤を含むコ−テイング組成物 - Google Patents
紫外線吸収剤を含むコ−テイング組成物Info
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-
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K15/00—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change
- C09K15/04—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds
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- C09K15/08—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing oxygen containing a phenol or quinone moiety
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
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-
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- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、特にプラスチックに対して光及び引かき抵抗
性コーティングを付与するのに有用な有機シランエステ
ル基を含有する新規な紫外線吸収剤、新規なコーティン
グ溶液及びそれから製造されるコーティング、及びコー
ティングされた製品、特に該コーティングにより得られ
るポリカーボネートから製造された成形品に関する。
性コーティングを付与するのに有用な有機シランエステ
ル基を含有する新規な紫外線吸収剤、新規なコーティン
グ溶液及びそれから製造されるコーティング、及びコー
ティングされた製品、特に該コーティングにより得られ
るポリカーボネートから製造された成形品に関する。
多くの重合体、特にポリカーボネートは、黄変、及び表
面分解及び耐摩耗性の欠如を誘起する紫外線(UV)の
悪影響による気候適応性に欠陥がある。米国特許第3.
429.84.5号に記載されている如きポリ珪酸?含
有する対比しつるコーティングは、特に露呈時の引かき
に対する折抗性?増加させるのに有用であるが、ある種
の樹脂への接着性に欠けていることがわかった。また紫
外線吸収剤の混入は、コーティングの硬化及び/又は露
呈中におけるマイグレーション(mi grat 1o
n)、蒸発及び浸出しによる損失のために効果的でなか
った。
面分解及び耐摩耗性の欠如を誘起する紫外線(UV)の
悪影響による気候適応性に欠陥がある。米国特許第3.
429.84.5号に記載されている如きポリ珪酸?含
有する対比しつるコーティングは、特に露呈時の引かき
に対する折抗性?増加させるのに有用であるが、ある種
の樹脂への接着性に欠けていることがわかった。また紫
外線吸収剤の混入は、コーティングの硬化及び/又は露
呈中におけるマイグレーション(mi grat 1o
n)、蒸発及び浸出しによる損失のために効果的でなか
った。
重合体票外、線吸収剤は、米国特許第3.340.23
L号及び第3.341.493号に提案されている。
L号及び第3.341.493号に提案されている。
これらによると、不飽和グリシジルエステルの如きエポ
キシ串−゛体を2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンと
反応させ、得られた単賃体をハロゲン化ビニルとの共重
合に使用することにより光に対する抵抗性が改良される
。しかしながら、これは一般に有用な溶媒及び重合体表
面と非相容性である。
キシ串−゛体を2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンと
反応させ、得られた単賃体をハロゲン化ビニルとの共重
合に使用することにより光に対する抵抗性が改良される
。しかしながら、これは一般に有用な溶媒及び重合体表
面と非相容性である。
ポリカーボネート又はアクリレート表面は、米国幣W−
f第3.451,838号に示されている如く2−ヒド
ロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン全脂肪族及び芳
香族シランの混合物と共に用いることによって改良しう
ることも知られている。1−か(、なから、耐摩耗性、
相客1生、人手可能性、安定性及び適用の容易さに関し
て更に改良することが期待されている。
f第3.451,838号に示されている如く2−ヒド
ロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン全脂肪族及び芳
香族シランの混合物と共に用いることによって改良しう
ることも知られている。1−か(、なから、耐摩耗性、
相客1生、人手可能性、安定性及び適用の容易さに関し
て更に改良することが期待されている。
今1畑、本発明によれば、UV吸収剤として有用である
新規な珪素含有化合物及びその製造法;該新規な珪素含
有化合物全米t3il特許第3,429.845号のも
のの如き公知の溶液に添加した時に形成される新規なコ
ーティング溶液及びこれケ用いるコーティング法;並び
に新規なコーティング及び予備成形した対象物を該溶液
からコーティングしたと攻に製造されるコーティング製
品、特にポリカーボネートから製造きれた製品が提供さ
れる。
新規な珪素含有化合物及びその製造法;該新規な珪素含
有化合物全米t3il特許第3,429.845号のも
のの如き公知の溶液に添加した時に形成される新規なコ
ーティング溶液及びこれケ用いるコーティング法;並び
に新規なコーティング及び予備成形した対象物を該溶液
からコーティングしたと攻に製造されるコーティング製
品、特にポリカーボネートから製造きれた製品が提供さ
れる。
本発明の基本となるU V吸収剤として有用な新現珪素
含治化合物は、式 〔式中、[jエーテル結合ケ含有し7ていてもよい2倫
の炭化水素基であり; R1け低級炭化水紫基又は+cEr、cH2o)zであ
り、ここでnは1〜8の整数であり且つ乙は低級アルキ
ルであり; R”ri芳香族炭紫ケ介して酸素に結合し月つ2500
〜400OAの領切の光分吸収する安定な芳香基であり
;そして aばO又は1である〕 の1つを有する。
含治化合物は、式 〔式中、[jエーテル結合ケ含有し7ていてもよい2倫
の炭化水素基であり; R1け低級炭化水紫基又は+cEr、cH2o)zであ
り、ここでnは1〜8の整数であり且つ乙は低級アルキ
ルであり; R”ri芳香族炭紫ケ介して酸素に結合し月つ2500
〜400OAの領切の光分吸収する安定な芳香基であり
;そして aばO又は1である〕 の1つを有する。
これらの新油な化合物の詳細並びに本発明の他の特9I
は以下の記述から明らかになるであろう。
は以下の記述から明らかになるであろう。
十Hピ式で表わされる紫外線吸収残基を有する絣親な珪
素含有化合物は、エボキシシランケヒドロキシ芳香族L
JV吸収剤のヒドロキシル基と反応ざ6− せることによって製造でき、本明細誓では゛′付加物(
adduc t )”と称することとする。
素含有化合物は、エボキシシランケヒドロキシ芳香族L
JV吸収剤のヒドロキシル基と反応ざ6− せることによって製造でき、本明細誓では゛′付加物(
adduc t )”と称することとする。
ヒドロキシ芳香族[JV吸収剤との反応に用いられるエ
ポキシ珪素化合物又はエポキシシランは、米国特許第2
.945.701号に記載されている。
ポキシ珪素化合物又はエポキシシランは、米国特許第2
.945.701号に記載されている。
それらは式
〔式中、Rは炭素原子数10個未満の2価の炭化水素基
、又はC,H及び0原子からなる炭素原子数10個未満
の2価の基、即ちエーテル結合の形の基であり(そして
好ましくはRは−CHtO(J(t CH2CH2−で
ある);R1は炭素原子数5個未満の脂肪族炭化水は式
(CH2CH,O) 7.の基であり、ここでnは少く
とも1の整数であり且つZは炭素原子数5111!i1
未満の脂肪族炭化水穿基であり:・そして aは0又は1である〕 を有する。上記化合物の製造法は上述の米国特許第2.
946.701号に示されている。特に好適な化合−は
、ユニオン・カーバイド(Union Ca−rbid
e)A−187及びA−186として市販されているR
1がメチルのもの、即ちγ−グリシドキシープロピルト
リメトキシシラン及びα−(3゜4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシランである。
、又はC,H及び0原子からなる炭素原子数10個未満
の2価の基、即ちエーテル結合の形の基であり(そして
好ましくはRは−CHtO(J(t CH2CH2−で
ある);R1は炭素原子数5個未満の脂肪族炭化水は式
(CH2CH,O) 7.の基であり、ここでnは少く
とも1の整数であり且つZは炭素原子数5111!i1
未満の脂肪族炭化水穿基であり:・そして aは0又は1である〕 を有する。上記化合物の製造法は上述の米国特許第2.
946.701号に示されている。特に好適な化合−は
、ユニオン・カーバイド(Union Ca−rbid
e)A−187及びA−186として市販されているR
1がメチルのもの、即ちγ−グリシドキシープロピルト
リメトキシシラン及びα−(3゜4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシランである。
前駆体ヒドロキシ芳香族IJ V吸収剤には、基本的な
種類の市販の紫外線スクリーニング剤(LIV−79c
reening agents)、即ちベンゾフェノン
類、ベンゾトリアゾール類、サクシレート類、置換キナ
プリン類及びフェニルトリアジン類が含まれる。これら
のすべては一般に2500〜4000Aの領域の光分吸
収し且つUV放射分無害なエネルギーに消散せしめる。
種類の市販の紫外線スクリーニング剤(LIV−79c
reening agents)、即ちベンゾフェノン
類、ベンゾトリアゾール類、サクシレート類、置換キナ
プリン類及びフェニルトリアジン類が含まれる。これら
のすべては一般に2500〜4000Aの領域の光分吸
収し且つUV放射分無害なエネルギーに消散せしめる。
効果的な吸収に対する必要条件は、ワシントン特別区の
米国化学会編、Advances in Chemi
stry 、 5eries 85 。
米国化学会編、Advances in Chemi
stry 、 5eries 85 。
第284頁(1968)の” 5tabil 1zat
1onof Polymer and 5tab目1
zer Processes”及び英国ペルガモン(P
ergamon)@行1’i;uropeanPoly
mer Journal−8LIpp、1969年、第
105〜132頁のエッチ・ジエー・ヘラ−fH。
1onof Polymer and 5tab目1
zer Processes”及び英国ペルガモン(P
ergamon)@行1’i;uropeanPoly
mer Journal−8LIpp、1969年、第
105〜132頁のエッチ・ジエー・ヘラ−fH。
J、 )Teller)、 −Protection
of Polymersagainst Light
Radiation”に示されている。
of Polymersagainst Light
Radiation”に示されている。
上記前駆体の分子式は
R”(OH)、。
9−
〔式中、bは反応したヒドロキシルの数に応じて1又は
2であり、そしてR2は前述の光分吸収し且つ2〜4個
の芳香族環全官有するヒドロキシ芳香族基である〕 とR7て書くことができる。これは一般に少くとも15
1の分子量(下記構造式2、p=1)を有し且つ普通3
25未満の分子−゛(#換されていない;構造式13)
分有する。参考例2及び3隼鶴寞に示す下記構造式8に
おいて、R”は2個のシラン基に結合するものとして(
即ちb=2の1(”(OH)。
2であり、そしてR2は前述の光分吸収し且つ2〜4個
の芳香族環全官有するヒドロキシ芳香族基である〕 とR7て書くことができる。これは一般に少くとも15
1の分子量(下記構造式2、p=1)を有し且つ普通3
25未満の分子−゛(#換されていない;構造式13)
分有する。参考例2及び3隼鶴寞に示す下記構造式8に
おいて、R”は2個のシラン基に結合するものとして(
即ちb=2の1(”(OH)。
とL〜て)示される。環上に存在するtW換基は約40
0まで分子ti増加せしめてもよい、特に有用なR1の
に表例としてのLJV吸収構造は下式で示すことができ
る。
0まで分子ti増加せしめてもよい、特に有用なR1の
に表例としてのLJV吸収構造は下式で示すことができ
る。
10−
これらの構造のいずれも、杉炭素上に随時2個捷での不
活註な置換基、例えばノ・ロゲン、アルキル、フェニル
、アルコキシを有していてもよい。上式の基は結合がパ
ラ位に存在することが一般に好適である。
活註な置換基、例えばノ・ロゲン、アルキル、フェニル
、アルコキシを有していてもよい。上式の基は結合がパ
ラ位に存在することが一般に好適である。
特に有用な前駆体ヒドロキシ化合物は上に記載した第1
のm造に相当するもの、即ち2,4−ヒドロキシベンゾ
フェノンである。優配参考例1及び2のものに加えて特
に有用なヒドロキシ芳香族化合物は、2,4−ジヒドロ
キシベンゾエート、2−(2’−ヒドロキシフェニル)
−4−フェニル−6−ヒドロキシキナゾリン及び2−(
2’。
のm造に相当するもの、即ち2,4−ヒドロキシベンゾ
フェノンである。優配参考例1及び2のものに加えて特
に有用なヒドロキシ芳香族化合物は、2,4−ジヒドロ
キシベンゾエート、2−(2’−ヒドロキシフェニル)
−4−フェニル−6−ヒドロキシキナゾリン及び2−(
2’。
4′−ジヒドロキシフェニル)ベンゾトリアシー13−
ルである。
前駆体シラン及びヒドロキシ化合物間の反応条件は単純
である。これらの化合物は、単に無水の巣作下でアルカ
リ第四級アンモニウム塩の存在下に、一般に50〜15
0℃tこて4〜IO時間接触せしめればよい。稀釈溶媒
は必要でないが、所望により使用することができる。
である。これらの化合物は、単に無水の巣作下でアルカ
リ第四級アンモニウム塩の存在下に、一般に50〜15
0℃tこて4〜IO時間接触せしめればよい。稀釈溶媒
は必要でないが、所望により使用することができる。
製造される新規な付加物は、一般に極性有機溶媒、例え
ば低級脂肪族アルコール、低級脂肪族クトン、アセトニ
トリル、低級脂肪族エステル、例えば酢酸エチル、ジオ
キサン、フラン、ジメチルスルホキシド及びジメチルホ
ルムアミドに可溶な粘稠な液体である。
ば低級脂肪族アルコール、低級脂肪族クトン、アセトニ
トリル、低級脂肪族エステル、例えば酢酸エチル、ジオ
キサン、フラン、ジメチルスルホキシド及びジメチルホ
ルムアミドに可溶な粘稠な液体である。
この付加物は、米国特許第3,429,845号に教示
されている如きポリ珪酸及び共重合体と混合されるコー
ティング溶液及びコーティングに使用するのに特に適し
ている。この目的に際して、存14− 在する珪酸は、各場合シリカとして計算した百分率で組
成物の重量を基準にして約20〜約50係、好壕しくに
約20〜約50係の範囲であることができる。このポリ
珪酸ケよ、エチルアルコール及び水の混合物、父は好1
しくけ0.IN塩酸中において約5:1〜2:】、好ま
しくは約3〜4:1の比でテトラエチルシリケートヲ加
水分解することにより製造される。
されている如きポリ珪酸及び共重合体と混合されるコー
ティング溶液及びコーティングに使用するのに特に適し
ている。この目的に際して、存14− 在する珪酸は、各場合シリカとして計算した百分率で組
成物の重量を基準にして約20〜約50係、好壕しくに
約20〜約50係の範囲であることができる。このポリ
珪酸ケよ、エチルアルコール及び水の混合物、父は好1
しくけ0.IN塩酸中において約5:1〜2:】、好ま
しくは約3〜4:1の比でテトラエチルシリケートヲ加
水分解することにより製造される。
コーティング溶液に用いる共重合体は、ヒドロキシル化
されたフルオル重合体、好−ましくにヒドロキシルが第
1級であり且つアルキルが炭素数2〜6個であるテトラ
フルオルエチレンと63−ヒドロキシアルキルビニルエ
ーテルの共重合体である。
されたフルオル重合体、好−ましくにヒドロキシルが第
1級であり且つアルキルが炭素数2〜6個であるテトラ
フルオルエチレンと63−ヒドロキシアルキルビニルエ
ーテルの共重合体である。
これらの共重合体は、交互単位からなり、従って1:1
のモル比を有する。テトラフルオルエチレンの少くとも
いくらかがクロルトリフルオルエチレンでtd換えられ
ている共重合体又はヒドロキシルがフルオルオレフィン
とビニルエステルとの加水分解された共重合体における
如く第2級である共重合体は、上述のものより好適では
ない。これらCユ、枦に米国特許第3,429,845
号及び第3、429.846号に記述されている。
のモル比を有する。テトラフルオルエチレンの少くとも
いくらかがクロルトリフルオルエチレンでtd換えられ
ている共重合体又はヒドロキシルがフルオルオレフィン
とビニルエステルとの加水分解された共重合体における
如く第2級である共重合体は、上述のものより好適では
ない。これらCユ、枦に米国特許第3,429,845
号及び第3、429.846号に記述されている。
本発明の上記珪酸因子は良好な耐引かき性を伺与するも
のとして好適であるが、ヒドロキシル化されたフルオル
重合体及び米国特許第3,651,0()3号に教示さ
れている種類のへキサ(アルコキシアルキル)メラミン
(但し11アルコキシ゛′は8個までの炭素数分有する
)、例えばヘギサ(メトキシメチル)メラミンのコーテ
ィング混合物も用いることができる。この変形において
、4575吋%tでのフルオル重合体がメラミンで1θ
換えることができる。勿論米国特許第3,651,00
3号に教示されている如くシリカ自体をこれらの成分と
共に使用してもよい。
のとして好適であるが、ヒドロキシル化されたフルオル
重合体及び米国特許第3,651,0()3号に教示さ
れている種類のへキサ(アルコキシアルキル)メラミン
(但し11アルコキシ゛′は8個までの炭素数分有する
)、例えばヘギサ(メトキシメチル)メラミンのコーテ
ィング混合物も用いることができる。この変形において
、4575吋%tでのフルオル重合体がメラミンで1θ
換えることができる。勿論米国特許第3,651,00
3号に教示されている如くシリカ自体をこれらの成分と
共に使用してもよい。
本発明によって得られるコーティングの改良を効果的に
するためには、ポリ珪酸(シリカとして計■)及び/又
はへキサ(アルコキシアルキル)メラミン並びに共重合
体の合計itを基準にして約0.5〜35重量係の上述
の新規な付加物の1種を拳にコーティング溶液中に含有
せしめる。勿論2種以上の付加物も使用でき、これは時
に有利である。
するためには、ポリ珪酸(シリカとして計■)及び/又
はへキサ(アルコキシアルキル)メラミン並びに共重合
体の合計itを基準にして約0.5〜35重量係の上述
の新規な付加物の1種を拳にコーティング溶液中に含有
せしめる。勿論2種以上の付加物も使用でき、これは時
に有利である。
上述の成分及び可能ならば他の少量成分に対する溶媒は
、広範囲の割合で混和しそして一般に約100℃で認め
つる蒸気圧がある場合には用いられる。有用なものσ、
低級アルカノール、アルカノールと低級アルカン酸との
混合物及び/又は低級脂肪族ケトンである。少量のエー
テルアルコール〔セ。帰ブ■ice I I o s
o I ve’l”)玉エステル、芳香族炭化水素及び
水が存在していてもよい。一般には望ましい溶液粘度(
下記参照)を与えるの17− (で十分な溶媒を用いるが、七〇′験は臨界的でd:な
い。
、広範囲の割合で混和しそして一般に約100℃で認め
つる蒸気圧がある場合には用いられる。有用なものσ、
低級アルカノール、アルカノールと低級アルカン酸との
混合物及び/又は低級脂肪族ケトンである。少量のエー
テルアルコール〔セ。帰ブ■ice I I o s
o I ve’l”)玉エステル、芳香族炭化水素及び
水が存在していてもよい。一般には望ましい溶液粘度(
下記参照)を与えるの17− (で十分な溶媒を用いるが、七〇′験は臨界的でd:な
い。
コーティング溶袖の長期貯蔵寿命が達成される。
いずれか残存しているエポキシ基と反応する化合物1・
、例えばn−ブタノールの如きアルコール全エポキシ宮
有シラン/紫外its収剤混合物に添力[1する場合V
こは、先に後者の成分間のル応會実質的に完結せしめて
(下記喫&fl13B参照)存在するエポキシ浩とコー
ティング浴液の重合体との故旧全防止する。これらの化
合物は団好な溶媒であるから、そのま捷で容易に用いる
ことができ且つ同時に溶液ケ安定化せしめつる。
、例えばn−ブタノールの如きアルコール全エポキシ宮
有シラン/紫外its収剤混合物に添力[1する場合V
こは、先に後者の成分間のル応會実質的に完結せしめて
(下記喫&fl13B参照)存在するエポキシ浩とコー
ティング浴液の重合体との故旧全防止する。これらの化
合物は団好な溶媒であるから、そのま捷で容易に用いる
ことができ且つ同時に溶液ケ安定化せしめつる。
に述のものに加えて下記の物l貿は随時t」つ少量で浴
液中に官有せしめることができる;(1) 存在するポ
リ珪飽(S + 02と(2て計′J4)の重歌會基準
にして0.05〜5係の情で使用される有機珪素化合物
!、即ら低級アルキレン(炭禦原 18− 手数2〜4 ++a )オキシドと低級ジアルキルシロ
キサンとのブロック共重合体。これらは更に米国特許第
3.476.827号に記述されている;(2) ポリ
珪酸(Sin、として)及び共重合体(例えばテトラフ
ルオルエチレン及びヒドロキンアルキルビニルエーテル
の共重合体)を基準にし。
液中に官有せしめることができる;(1) 存在するポ
リ珪飽(S + 02と(2て計′J4)の重歌會基準
にして0.05〜5係の情で使用される有機珪素化合物
!、即ら低級アルキレン(炭禦原 18− 手数2〜4 ++a )オキシドと低級ジアルキルシロ
キサンとのブロック共重合体。これらは更に米国特許第
3.476.827号に記述されている;(2) ポリ
珪酸(Sin、として)及び共重合体(例えばテトラフ
ルオルエチレン及びヒドロキンアルキルビニルエーテル
の共重合体)を基準にし。
て0.025〜2%の量で用いられるカリウムチオシア
ネート及びナトリウムチオシアネート並びにナトリウム
又はカリウムカルボキシレートの如き塩。これらは更に
米国特許第3.390.203号に記述されている;及
び (3) 米1M1特許第3.546,318号に記述さ
れている如き少くとも4個の環酸素を含む原子数少くと
も14個の大環状34−1&有するポリエーテル。
ネート及びナトリウムチオシアネート並びにナトリウム
又はカリウムカルボキシレートの如き塩。これらは更に
米国特許第3.390.203号に記述されている;及
び (3) 米1M1特許第3.546,318号に記述さ
れている如き少くとも4個の環酸素を含む原子数少くと
も14個の大環状34−1&有するポリエーテル。
これらはポリ珪#1Si02として)及び共重合体の全
4鎗を基準にして0.01〜5係の酸で用いることがで
きる。
4鎗を基準にして0.01〜5係の酸で用いることがで
きる。
コーティング溶液は2〜25俤の固体金t(ポリ珪酸又
は同等物及びフルオル重合体及び可能ならば9皺の上記
(]3、(2)及び(3)の実質的に不揮発1生の成分
)を有する。ヒドロキシル及び弗素含有重合体のポリ珪
酸(Sin、として)に対する割合は10〜90 :
90〜10であることがでへるが、普通80〜50:2
0〜50で存在する。
は同等物及びフルオル重合体及び可能ならば9皺の上記
(]3、(2)及び(3)の実質的に不揮発1生の成分
)を有する。ヒドロキシル及び弗素含有重合体のポリ珪
酸(Sin、として)に対する割合は10〜90 :
90〜10であることがでへるが、普通80〜50:2
0〜50で存在する。
コーティング溶液は、一般に約】O〜5 Q cps(
室温)又は史に300 cpsまでの粘度分有している
。この場合低粘度物は薄いコーティングを与えるために
、また高(30又はそれ以上)粘度物は1撃いコーティ
ングを与えるために用いられる。
室温)又は史に300 cpsまでの粘度分有している
。この場合低粘度物は薄いコーティングを与えるために
、また高(30又はそれ以上)粘度物は1撃いコーティ
ングを与えるために用いられる。
貯蔵又は輸送に対しては、高粘度、例えば100〜30
0 cpsが好適である。
0 cpsが好適である。
本発明において有用なコーティング溶液の全組成割合を
下表に重量係で示す: コーティング溶液の組成 及び/又はメラミン 共重合体 10〜9050〜80本発
明の付加物 0.5〜355〜15有機珪素
0〜4.5 0.05〜2.5アルカ
リ金属塩 O〜2 0.025〜2多環式
ポリエーテル θ〜5 0.01〜5溶媒 10〜300 cps (使用に好適には10〜50c
ps)の溶液粘1tJf:与える蓋 本コーティング溶液は、金蔵、重合体、木材な21− どの表面に耐光性及び耐ひつかき性のコーティング分与
えるのに有用であり、流し塗り(flowing)、噴
霧、浸漬などの如き通常の溶液コーティング法によって
基質に適用することができる。コーティング溶液と基質
との接触時間、例えば浴からの引き出し速#は、勿論得
られるコーティングの厚さに影響する因子である。次い
で最後に組成物を乾燥しそして好1しくはベーキングす
る。この場合′j&高ベ高上−キング温度200℃以下
に維持される。一般にこの時間及び温度に相互に関係し
、即ら】70〜180℃で1時間であり、120〜13
0℃で5〜16時間が用いられる。このベーキング又は
硬化は硬い表面及び接着力の強いコーティングケ4える
。
下表に重量係で示す: コーティング溶液の組成 及び/又はメラミン 共重合体 10〜9050〜80本発
明の付加物 0.5〜355〜15有機珪素
0〜4.5 0.05〜2.5アルカ
リ金属塩 O〜2 0.025〜2多環式
ポリエーテル θ〜5 0.01〜5溶媒 10〜300 cps (使用に好適には10〜50c
ps)の溶液粘1tJf:与える蓋 本コーティング溶液は、金蔵、重合体、木材な21− どの表面に耐光性及び耐ひつかき性のコーティング分与
えるのに有用であり、流し塗り(flowing)、噴
霧、浸漬などの如き通常の溶液コーティング法によって
基質に適用することができる。コーティング溶液と基質
との接触時間、例えば浴からの引き出し速#は、勿論得
られるコーティングの厚さに影響する因子である。次い
で最後に組成物を乾燥しそして好1しくはベーキングす
る。この場合′j&高ベ高上−キング温度200℃以下
に維持される。一般にこの時間及び温度に相互に関係し
、即ら】70〜180℃で1時間であり、120〜13
0℃で5〜16時間が用いられる。このベーキング又は
硬化は硬い表面及び接着力の強いコーティングケ4える
。
本発明の非常に薄いコーティング(0,1μ)も用いつ
るが、一般に3〜20μ(普通好適には3〜7a)のコ
ーティングが基質に優秀な皺外線保22− −を与える。特に優秀な接着性は、重合体ケボリ珪酸と
共に用いて耐摩耗1生コーテイングを与える場合に得ら
れる。更に、紫外線吸収性は一般に蒸発又は蒸散によっ
て低分子量の保神剤を除去する傾向を有するベーキング
操作中において保持される。本発明の固体物*(溶媒の
蒸発によって生成)が自己支持性であり且つ単独で、例
えば成形製品f製造するために使用しうることは特記す
べきである。
るが、一般に3〜20μ(普通好適には3〜7a)のコ
ーティングが基質に優秀な皺外線保22− −を与える。特に優秀な接着性は、重合体ケボリ珪酸と
共に用いて耐摩耗1生コーテイングを与える場合に得ら
れる。更に、紫外線吸収性は一般に蒸発又は蒸散によっ
て低分子量の保神剤を除去する傾向を有するベーキング
操作中において保持される。本発明の固体物*(溶媒の
蒸発によって生成)が自己支持性であり且つ単独で、例
えば成形製品f製造するために使用しうることは特記す
べきである。
本付加物のトリアルコキシシランM −S i (OR
’)。
’)。
けおそらく適用中コーティング溶油中で加水分解し、縮
合してポリ珪酸及び/又はヒドロキシル含有重合体基質
例えば’r’ F’ E / HB V E共重合体と
共に重合体物質又は錯体を形成する。この加水分解、熟
成及び硬化王権中、紫外線スクリーニング(scree
n ing) 残基は後で不揮発性及びマイグレーシ
ョンに対する能力の欠如により優れた性質ケ有する耐摩
耗性コーティング物質の一体的部分となる。これらの重
合体コーティング又は錯体の究極的構造は、おそらくシ
ラノール基がいくらが残存している峻い3次元 ■ −0−8i−0− 網状構造と化学的に結合し、水素結合し及び/又は機械
的にからみ合った強靭な線状重合体の同一空間に広がっ
たfcoextensive)鏑合しうる構造からなっ
ている。
合してポリ珪酸及び/又はヒドロキシル含有重合体基質
例えば’r’ F’ E / HB V E共重合体と
共に重合体物質又は錯体を形成する。この加水分解、熟
成及び硬化王権中、紫外線スクリーニング(scree
n ing) 残基は後で不揮発性及びマイグレーシ
ョンに対する能力の欠如により優れた性質ケ有する耐摩
耗性コーティング物質の一体的部分となる。これらの重
合体コーティング又は錯体の究極的構造は、おそらくシ
ラノール基がいくらが残存している峻い3次元 ■ −0−8i−0− 網状構造と化学的に結合し、水素結合し及び/又は機械
的にからみ合った強靭な線状重合体の同一空間に広がっ
たfcoextensive)鏑合しうる構造からなっ
ている。
次の実施例は本発明の柚々の態様f説明するものであり
、本発明の範囲を限定するものではない。
、本発明の範囲を限定するものではない。
参考例1〜3醇實施歎*は新規な付加物を示し、臭能例
1及び2はそれぞれ石英及びポリ(メチルメタクリレー
ト)上のコーティングを示す。少洸例3は好適なポリカ
ーボネートをコーティングするために用いるコーティン
グ溶液中の付加物を示す。これらの実施例及び参考例に
おいて物質の部及びパーセントは断らない限り型針によ
るものとする。用いる略記号は次の通りである:テトラ
フルオルエチVンに対してTF’E;4−ヒドロキシブ
チルビニルエーテルに対してHBVE;及びポリ(メチ
ルメタクリレート)に対してPMMA0参考例1 加物 0−CH,−CH−c■t −o (CH,)fi−8
i (OCH,)3上記化合物(付加物1)Vi、窒素
下及びテトラ25− メチルアンモニウムクロリド0.1tの存在下ic2.
4ジヒドロキシベンゾフエノン10.7r+(1,05
モル)及びγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン12.04r(0,051モル)の混合物を加熱する
ことによって製造した。この混合物を攪拌し、徐々に7
5〜80℃まで加熱し、次いで8時間この温度に維持し
た。この期間中混合物は均一で粘稠な油に変化した。反
応物(l−80℃で4時間加熱した時にも同等な生成物
を得た。
1及び2はそれぞれ石英及びポリ(メチルメタクリレー
ト)上のコーティングを示す。少洸例3は好適なポリカ
ーボネートをコーティングするために用いるコーティン
グ溶液中の付加物を示す。これらの実施例及び参考例に
おいて物質の部及びパーセントは断らない限り型針によ
るものとする。用いる略記号は次の通りである:テトラ
フルオルエチVンに対してTF’E;4−ヒドロキシブ
チルビニルエーテルに対してHBVE;及びポリ(メチ
ルメタクリレート)に対してPMMA0参考例1 加物 0−CH,−CH−c■t −o (CH,)fi−8
i (OCH,)3上記化合物(付加物1)Vi、窒素
下及びテトラ25− メチルアンモニウムクロリド0.1tの存在下ic2.
4ジヒドロキシベンゾフエノン10.7r+(1,05
モル)及びγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン12.04r(0,051モル)の混合物を加熱する
ことによって製造した。この混合物を攪拌し、徐々に7
5〜80℃まで加熱し、次いで8時間この温度に維持し
た。この期間中混合物は均一で粘稠な油に変化した。反
応物(l−80℃で4時間加熱した時にも同等な生成物
を得た。
喫施例1における如くして製造したがポリカーめたコー
ティングは、接着テープ引張試験によってこの基質から
はがすことができなかった。
ティングは、接着テープ引張試験によってこの基質から
はがすことができなかった。
ンl:2付加物
26一
H
1
CHt CHCHt O(cH2)s S i (OC
f(s)参考例1の一般的な方法を用いて、2 、2’
、 4 。
f(s)参考例1の一般的な方法を用いて、2 、2’
、 4 。
4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン4.29f(0
,02モル)を参考例1のエポキシシラン9.44 f
(0,04モル)と反応させることにより上記付加物
11ヲ製造した。テトラメチルアンモニウムクロリド0
.11を添加した後、混合物音75〜80℃で6時間加
熱した。この結果、透明で僅かに赤味を帯びた黄色前を
得た。これケ切に精製せずにPMMA上の27 / 7
3−8 iO,/ TFI!E−)(BVl、:中で評
価した。
,02モル)を参考例1のエポキシシラン9.44 f
(0,04モル)と反応させることにより上記付加物
11ヲ製造した。テトラメチルアンモニウムクロリド0
.11を添加した後、混合物音75〜80℃で6時間加
熱した。この結果、透明で僅かに赤味を帯びた黄色前を
得た。これケ切に精製せずにPMMA上の27 / 7
3−8 iO,/ TFI!E−)(BVl、:中で評
価した。
ポリカーボネートに適用し且つ130℃で60分間峻化
せしめたコーティングは、接着テープ引張り試験によっ
てこの基Tjからはがすことはできなかった。
せしめたコーティングは、接着テープ引張り試験によっ
てこの基Tjからはがすことはできなかった。
烏−湛−;!j 3
IH,co)、5iH2CH2CCH2HC,、Si
fOcH3)。
fOcH3)。
上記付加物nlは、2.2’、4.4’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノンf4.92r、0.02モル)會β
−(3,4−エポキシシクロ・\キシル)エチルトリメ
トキシシラン9.84f(0,04モル)及びテトラメ
チルアンモニウムクロリド0.12と共に80’Cに加
熱することによって製造した。この結果、青白い帯赤褐
色の油を得た。
キシベンゾフェノンf4.92r、0.02モル)會β
−(3,4−エポキシシクロ・\キシル)エチルトリメ
トキシシラン9.84f(0,04モル)及びテトラメ
チルアンモニウムクロリド0.12と共に80’Cに加
熱することによって製造した。この結果、青白い帯赤褐
色の油を得た。
溶媒としてのn−ブタノール/l−ブタノール中5in
2/共市合体の小量比27/73の約10係ポリ珪In
(Si02)TFE−Hl:IVE ト共VC参M例
1〜.3勝富枢桝歌のWr規なシラン約10重量係(固
体基準)を官有するコーティング溶液を石英(UV放射
に対し透頃白上にコーティングし、溶媒を蒸発によって
除去した。この層上にPMMAシートを直接置き、17
0℃に60分間加熱した。
2/共市合体の小量比27/73の約10係ポリ珪In
(Si02)TFE−Hl:IVE ト共VC参M例
1〜.3勝富枢桝歌のWr規なシラン約10重量係(固
体基準)を官有するコーティング溶液を石英(UV放射
に対し透頃白上にコーティングし、溶媒を蒸発によって
除去した。この層上にPMMAシートを直接置き、17
0℃に60分間加熱した。
次の表は、蒸発及びF M M Aシートへのマイグレ
ーションによる石英上コーティングの2800〜350
0Aにおける光学的密度の損失パーセントを示す。
ーションによる石英上コーティングの2800〜350
0Aにおける光学的密度の損失パーセントを示す。
29−
表 1
1J V吸収剤 蒸発 移動付加物 1
37 0例加物 ■
25 2付加物 II+
13 232.4−ジヒドロキシペン
90 i+nwせずシフエノン* 7* * 10qbの代りに5係で適用 喫施例2 n−及びtert−ブチルアルコール混合浴媒中ポ+)
31m/TFE−HBVID約]0%rt7)ft4液
に化合→・υ11及び1IelO及び15車媚°%(コ
ーチイン−30= グ浴准中の全固体基準)含有するコーティングを米国特
許第3,429,845号及び前記実施例に記載の91
」〈シてfJ M M A表面に適用し、170℃で1
時間11史化せしめた。次の表は、紫外線吸収剤全含捷
ない共重合体のコーティングに比較して得らねだ結果台
−示す。l踵に恢′7f在1呆持にお・ける改良に注目
すべきである。
37 0例加物 ■
25 2付加物 II+
13 232.4−ジヒドロキシペン
90 i+nwせずシフエノン* 7* * 10qbの代りに5係で適用 喫施例2 n−及びtert−ブチルアルコール混合浴媒中ポ+)
31m/TFE−HBVID約]0%rt7)ft4液
に化合→・υ11及び1IelO及び15車媚°%(コ
ーチイン−30= グ浴准中の全固体基準)含有するコーティングを米国特
許第3,429,845号及び前記実施例に記載の91
」〈シてfJ M M A表面に適用し、170℃で1
時間11史化せしめた。次の表は、紫外線吸収剤全含捷
ない共重合体のコーティングに比較して得らねだ結果台
−示す。l踵に恢′7f在1呆持にお・ける改良に注目
すべきである。
31−
表 2
匍゛、 重量係 10
15コーティング厚さく B )5.0
4.8光学的密度、A 3210 0.8 1.2288
0 1.2 1.82420
0.9 −*接着性fqb)
100 1002537A
へ放射1時間) 100f6j 100
f6)後の接着性 9(N241 98(54) 10 +27)60 (40) * 測定せず 一、a、q3− 付加物III 比 較 例 10 0 5、2 6.9 1.113520) −” * 0.9− 一*−* 100 ] 00 90 (30) 99 (:N 70 (42) O(6) 0 (45) 32− 2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン及びγ−グリシド
キシプロビルトリメトキシシラン1:1付加物とそれ?
含むポリカーボネート士コーティング 部A 本質的に参考例1の方法に従い、攪拌機、温度計、還流
凝縮器及び窒素導入口分備えた121の3ツロで丸底の
乾燥フラスコにγ−グリシドキシプロビルトリメトキシ
シラン1796f(7,6モル)、214 7ヒドロキ
シベンゾフエノン16289(7,6モル)及びテトラ
メチルアンモニウムクロリド15Pi仕込んだ。加熱及
び猾拌(7ながI−+2.4−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン60〜80℃の釜温度で溶解させた。次いで加熱及
び攪拌全初期温度110〜116℃で継続した。1時間
後混合物は粘稠となり、徐々に還流が始まつた。加熱ケ
全体で5時間継続したが、その終了時の釡温度は]】0
℃であった。n−ブタノール(5136f)及びテトラ
メチルアンモニウムクロリド(15f)f添加11、こ
の混合物をψに2時間I#流下に加熱した。夜通し冷却
した後透明な褐色俗液會窒素下に乾燥容器中へ入れ、密
閉した。
15コーティング厚さく B )5.0
4.8光学的密度、A 3210 0.8 1.2288
0 1.2 1.82420
0.9 −*接着性fqb)
100 1002537A
へ放射1時間) 100f6j 100
f6)後の接着性 9(N241 98(54) 10 +27)60 (40) * 測定せず 一、a、q3− 付加物III 比 較 例 10 0 5、2 6.9 1.113520) −” * 0.9− 一*−* 100 ] 00 90 (30) 99 (:N 70 (42) O(6) 0 (45) 32− 2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン及びγ−グリシド
キシプロビルトリメトキシシラン1:1付加物とそれ?
含むポリカーボネート士コーティング 部A 本質的に参考例1の方法に従い、攪拌機、温度計、還流
凝縮器及び窒素導入口分備えた121の3ツロで丸底の
乾燥フラスコにγ−グリシドキシプロビルトリメトキシ
シラン1796f(7,6モル)、214 7ヒドロキ
シベンゾフエノン16289(7,6モル)及びテトラ
メチルアンモニウムクロリド15Pi仕込んだ。加熱及
び猾拌(7ながI−+2.4−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン60〜80℃の釜温度で溶解させた。次いで加熱及
び攪拌全初期温度110〜116℃で継続した。1時間
後混合物は粘稠となり、徐々に還流が始まつた。加熱ケ
全体で5時間継続したが、その終了時の釡温度は]】0
℃であった。n−ブタノール(5136f)及びテトラ
メチルアンモニウムクロリド(15f)f添加11、こ
の混合物をψに2時間I#流下に加熱した。夜通し冷却
した後透明な褐色俗液會窒素下に乾燥容器中へ入れ、密
閉した。
この溶液+8538F)は凡そ40φの付加物1?含有
していた。
していた。
部B
1、第1のコーティング溶液會次のように製造し7’!
l:: エタノール中ポリ珪酸溶液(エタノール中テトラエチル
オルトシリケートの約7os浴s65部及び0.1 N
*F4J4tli 20部を混合することによって製造
。この混合物は残りの成分を添加するに先立って17時
間熟成させた。)85部’T’FE/HHVB共重合体
〔混合tert−ブタ7−ル/n−ブタノール中約1:
1の溶液(固体約11係):]3315 部酢酸 100部 ”L−520”有機珪素〔低級アルキレンオキシシトと
ジメチルシロキサンの共重合体、ユニオン・カーバイド
社製(IJnion (:arbideCOl)〕
)25f メタノール中KSCN 10チ 溶液1.6部n−ブ
タノール中2.5.8.18.lt−ヘキサオキサトリ
シクロC20、4、0、0”、”]へキサコサンの40
係溶液 1.6部 n−ブタノール 65部 このコーティング溶液のブルックフィールド粘度は25
′cで30.8 cpsテ6ツ*。
l:: エタノール中ポリ珪酸溶液(エタノール中テトラエチル
オルトシリケートの約7os浴s65部及び0.1 N
*F4J4tli 20部を混合することによって製造
。この混合物は残りの成分を添加するに先立って17時
間熟成させた。)85部’T’FE/HHVB共重合体
〔混合tert−ブタ7−ル/n−ブタノール中約1:
1の溶液(固体約11係):]3315 部酢酸 100部 ”L−520”有機珪素〔低級アルキレンオキシシトと
ジメチルシロキサンの共重合体、ユニオン・カーバイド
社製(IJnion (:arbideCOl)〕
)25f メタノール中KSCN 10チ 溶液1.6部n−ブ
タノール中2.5.8.18.lt−ヘキサオキサトリ
シクロC20、4、0、0”、”]へキサコサンの40
係溶液 1.6部 n−ブタノール 65部 このコーティング溶液のブルックフィールド粘度は25
′cで30.8 cpsテ6ツ*。
部Aで製造し+0.口色付加物の4部%n−ブタ/−ル
溶赦3B、7f全曾を一ヒに製造したコーティング溶液
1957fと併せた。室温で24時間後こ35− の混合物は25℃で31.45 cps のブルック
フィールド粘度ケ有していた。この最初の調製から2週
11Jf後、この混合物は依然Ek休であり、25cで
41.5cps のブルックフィールド粘朋ヲ有して
いた。
溶赦3B、7f全曾を一ヒに製造したコーティング溶液
1957fと併せた。室温で24時間後こ35− の混合物は25℃で31.45 cps のブルック
フィールド粘度ケ有していた。この最初の調製から2週
11Jf後、この混合物は依然Ek休であり、25cで
41.5cps のブルックフィールド粘朋ヲ有して
いた。
2、過剰のn−ブタノール會含櫓しないいくらか安定性
を欠く第2のコーティング溶液會次の如く製造した: エタノール中ポリ珪酸の溶液[テトラエチルオルトシリ
ケート9部、エチルアルコール4部及び0.1N水注鳴
晰4部を混合することによって製造(上述の通り)]
460t ブタノール中TF’E/H13VB共重合体溶液(上述
の通り) t?Or 氷酢酸 540f ’L−520”珪素(上述の辿り)1.6Fメタノール
1001に溶解せしめたKSCN36− 1(1,2fの溶#8.5m1 n−ブタノール中ヘキサオキサトリシクロヘキサコサン
(上述の〕…す)の40 ’1溶液 8.64fこのコ
ーティング溶液約20ofを次の付加生成物22に添加
(7た: 2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン10.7f10.
05モル)、γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシ
ラン10.7y(0,0453モル)及びテトラエチル
アンモニウムクロリド0.1 ? f ’fF燥し7’
c、 200 TRIの丸底フラスコ中へ入れ、浴温度
90〜100℃及び乾燥窒素下に6部時間指拌した。孜
通し冷却(−た時すぐに使用しうる粘稠で褐色のr由が
イ尋られた。ξのコーティング溶液しv4日間放IIT
シフ′il:場合ゲル化したが、部r((1>で示した
如くアルコールで処理したものは残存エポキシ隻力玉存
托しないから安定であった。
を欠く第2のコーティング溶液會次の如く製造した: エタノール中ポリ珪酸の溶液[テトラエチルオルトシリ
ケート9部、エチルアルコール4部及び0.1N水注鳴
晰4部を混合することによって製造(上述の通り)]
460t ブタノール中TF’E/H13VB共重合体溶液(上述
の通り) t?Or 氷酢酸 540f ’L−520”珪素(上述の辿り)1.6Fメタノール
1001に溶解せしめたKSCN36− 1(1,2fの溶#8.5m1 n−ブタノール中ヘキサオキサトリシクロヘキサコサン
(上述の〕…す)の40 ’1溶液 8.64fこのコ
ーティング溶液約20ofを次の付加生成物22に添加
(7た: 2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン10.7f10.
05モル)、γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシ
ラン10.7y(0,0453モル)及びテトラエチル
アンモニウムクロリド0.1 ? f ’fF燥し7’
c、 200 TRIの丸底フラスコ中へ入れ、浴温度
90〜100℃及び乾燥窒素下に6部時間指拌した。孜
通し冷却(−た時すぐに使用しうる粘稠で褐色のr由が
イ尋られた。ξのコーティング溶液しv4日間放IIT
シフ′il:場合ゲル化したが、部r((1>で示した
如くアルコールで処理したものは残存エポキシ隻力玉存
托しないから安定であった。
部 C
部1づ(1)のコーティング溶液中に2 // ×1
//×1“石英@を浸り、た。2分後石英板ケ15イン
チ/分の速用″で引鳶出(7た。この板を♀1下で乾燥
1−、コーティングをカミソリの刃で一面から除去し、
そして次いでカリ−fcary)14スベクトロフオト
メーターケ用いて一面しかコーティングされてない石英
板の紫外線スペクトル?2500〜40 (10Aに佳
って掃引し7な。この板ケ循環炉中135Cで16時間
硬化させ、円ひLJ Vスペクトルを測定しf。表3は
1関化−II抜における2880Aでの最高吸光t9’
(Amax)ケ努約するものである。
//×1“石英@を浸り、た。2分後石英板ケ15イン
チ/分の速用″で引鳶出(7た。この板を♀1下で乾燥
1−、コーティングをカミソリの刃で一面から除去し、
そして次いでカリ−fcary)14スベクトロフオト
メーターケ用いて一面しかコーティングされてない石英
板の紫外線スペクトル?2500〜40 (10Aに佳
って掃引し7な。この板ケ循環炉中135Cで16時間
硬化させ、円ひLJ Vスペクトルを測定しf。表3は
1関化−II抜における2880Aでの最高吸光t9’
(Amax)ケ努約するものである。
比較の実験においては、R’Bhの付加4+Jy−宮ゼ
してないN+H111のコーティング躍ff12009
に2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン2f?硲加しf
r。石英叛ヲコーディングし、LIVスペクトル金上記
の9口(l−で硬化前槽に測定した。ジヒドロキ・ンベ
ンゾフエノン宮有コーティングの硬化の前後VCおける
1°Amaに” 伊表3に示す。ΔAmaxのパーセン
トは硬化時の光学的密度における損失パーセンIf直接
与えるものである。
してないN+H111のコーティング躍ff12009
に2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン2f?硲加しf
r。石英叛ヲコーディングし、LIVスペクトル金上記
の9口(l−で硬化前槽に測定した。ジヒドロキ・ンベ
ンゾフエノン宮有コーティングの硬化の前後VCおける
1°Amaに” 伊表3に示す。ΔAmaxのパーセン
トは硬化時の光学的密度における損失パーセンIf直接
与えるものである。
第 3
紫外線安定化コーティングの酸化時の光学的密度の損失
Amax
付加物I O,780,670,1114,1部
D 剖、Aに引シ述した如く2,4−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン42.8(0,4モル)、γ−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシラン47.2 f (0,4モ39
− ル)、テトラメチルアンモニウムクロリド0.49の各
2部分、及びn−ブタノール1352から伺力[1物1
のn−ブタノール中40憾俗沿會製造した。
D 剖、Aに引シ述した如く2,4−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン42.8(0,4モル)、γ−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシラン47.2 f (0,4モ39
− ル)、テトラメチルアンモニウムクロリド0.49の各
2部分、及びn−ブタノール1352から伺力[1物1
のn−ブタノール中40憾俗沿會製造した。
イ辞られ介付カロ生成物の40%溶液67.59全鮭を
部H+ 2 )vc記叙の妬くして製造したコーティン
グ溶液2719fVC添加した。この溶液中に16”
XI 2” Xイ“の押出しポリカーボネートシート4
2分間浸し、15インチ/分の遠回で引へ出した045
分間#燥酔コーティングプれたポリカーボネートシー)
e135cで16時間硬化させた。コーティングの厚さ
は、J、Qpt、 Soc。
部H+ 2 )vc記叙の妬くして製造したコーティン
グ溶液2719fVC添加した。この溶液中に16”
XI 2” Xイ“の押出しポリカーボネートシート4
2分間浸し、15インチ/分の遠回で引へ出した045
分間#燥酔コーティングプれたポリカーボネートシー)
e135cで16時間硬化させた。コーティングの厚さ
は、J、Qpt、 Soc。
Am、37,873(1947)の方法に従って決定し
fcl寺5.6μであった。
fcl寺5.6μであった。
同様に付加物ケ添加(mい1トのコーティング溶液力・
らUvに対し7て安定化されてないコーティングケボリ
カーボネートを適用した。このコーティングの哩さは4
.5μであった。このシートヶ続40− 〈加速ウェザリング(2CC:eIeratPd We
alll’−ring) +i@身1にλ−↑する比
較汐11と12で1月いた。
らUvに対し7て安定化されてないコーティングケボリ
カーボネートを適用した。このコーティングの哩さは4
.5μであった。このシートヶ続40− 〈加速ウェザリング(2CC:eIeratPd We
alll’−ring) +i@身1にλ−↑する比
較汐11と12で1月いた。
tJVK対して安炸−化これたコーティング分有するポ
リカーボネート板及び安定化ゾれてない比軒物1の両省
ケアトラス・ウエザー−アメ−ターfAtlasL〜e
ather−Ame+er槁xw型中に1・・いてII
Ll>’)i:ウェザリングに曝した。次いで露出面に
おけるコーティングのポリカーボネートに対する接僧小
用ケ米国特許第3,546,318号に記載の接着テー
プ引張り試Mil?:よって測定した。す1に亀裂又は
水泡が岐υに見られる時点ケ油、剛的に親、測し、これ
ケ!−4に1゛ピーリング(ρeeling>”として
示す。
リカーボネート板及び安定化ゾれてない比軒物1の両省
ケアトラス・ウエザー−アメ−ターfAtlasL〜e
ather−Ame+er槁xw型中に1・・いてII
Ll>’)i:ウェザリングに曝した。次いで露出面に
おけるコーティングのポリカーボネートに対する接僧小
用ケ米国特許第3,546,318号に記載の接着テー
プ引張り試Mil?:よって測定した。す1に亀裂又は
水泡が岐υに見られる時点ケ油、剛的に親、測し、これ
ケ!−4に1゛ピーリング(ρeeling>”として
示す。
表 4
コーティングきれたポリカーボネートの加速ウニプリン
グ付加物■含有物 fi20 1fi70比
較物 187 486IJ V安
定化したコーティングされたポリカーボネート及び比較
物金アリシナfArizona)における戸外加速ウェ
ザリングK Illした。E〜IMAは腓全有する赤−
IM銭柳の太陽ケ1@ ’5照射棚(equato−r
ial follow−the−sun expo
sure rack)である。この太陽の照射は、雨へ
45°傾いた靜置台↓り殆んど】0のファクターだけ増
加する。
グ付加物■含有物 fi20 1fi70比
較物 187 486IJ V安
定化したコーティングされたポリカーボネート及び比較
物金アリシナfArizona)における戸外加速ウェ
ザリングK Illした。E〜IMAは腓全有する赤−
IM銭柳の太陽ケ1@ ’5照射棚(equato−r
ial follow−the−sun expo
sure rack)である。この太陽の照射は、雨へ
45°傾いた靜置台↓り殆んど】0のファクターだけ増
加する。
EMMAQUAはBE IVI M A照射と日中毎時
8分間の水噴霧とを糾合せたものである。
8分間の水噴霧とを糾合せたものである。
E M M A及びE M M A、 Q tJ A照
射の12時1…の結尿を表5にヅ約して示す。接着テー
プ引張り試験&U“ピーリング″に対する肉眼参1.祭
にカロえ、AS11’t4法1)−1925に従いハン
ター(Hunter)色差計で黄変の程度(黄色指数、
Yl)i測定した。
射の12時1…の結尿を表5にヅ約して示す。接着テー
プ引張り試験&U“ピーリング″に対する肉眼参1.祭
にカロえ、AS11’t4法1)−1925に従いハン
ター(Hunter)色差計で黄変の程度(黄色指数、
Yl)i測定した。
43−
なお、本発明の態様及び開連事珀奮要約すれけ以下の通
りである: 1、無水液体状態下でアルキル川4級アンモニウム塩の
存在下において、式 〔式中、Rは炭素原子数10個までの2価の炭化水素又
は酸素が介在した炭化水1基であり: R1は炭素原子a5個未満の脂肪族炭化水素基、炭素1
東子数5個未満のアシル基又は式(CH2CH20)Z
の基でp)す、こコTnは少くとも1の整数でおり且
つZは炭素原子数5個未満の脂肪族層化水素基であり;
45− 44− イ〒 し7て aけ0−またけ1である〕 のエポキシシラン少くとも1種ヲ式 %式% 〔式中、R2は芳香族炭非を介1〜で酸素に結合し且つ
2500〜4000Aの領域の光音吸収する安定な芳香
族基であり;そしてbは1又は2である〕 の化合物と反応させることを特徴とする式%式%) 〔式中、R,R’ 、R2及びaは上記の慧味全有する
〕 iの化合物の製造方法。
りである: 1、無水液体状態下でアルキル川4級アンモニウム塩の
存在下において、式 〔式中、Rは炭素原子数10個までの2価の炭化水素又
は酸素が介在した炭化水1基であり: R1は炭素原子a5個未満の脂肪族炭化水素基、炭素1
東子数5個未満のアシル基又は式(CH2CH20)Z
の基でp)す、こコTnは少くとも1の整数でおり且
つZは炭素原子数5個未満の脂肪族層化水素基であり;
45− 44− イ〒 し7て aけ0−またけ1である〕 のエポキシシラン少くとも1種ヲ式 %式% 〔式中、R2は芳香族炭非を介1〜で酸素に結合し且つ
2500〜4000Aの領域の光音吸収する安定な芳香
族基であり;そしてbは1又は2である〕 の化合物と反応させることを特徴とする式%式%) 〔式中、R,R’ 、R2及びaは上記の慧味全有する
〕 iの化合物の製造方法。
46一
2、ポリ珪酸及び/又はへキサ(アルコキシアルキル)
メラミン並びにクロルトリフルオルエチレン又はテトラ
フルオルエチレンとω−ヒドロキシアルキルビニルエー
テルの共重合体から製造されるコーティング組成物にお
いて、シリカとして計算したポリ珪酸及び/又はへキサ
(アルコキシアルキル)メラミン並びに共重合体の合計
重音を基準にして0.5〜35重址チの式 %式% 〔式中、Rは炭素原子数101’+61までの2価の炭
化水素又は酪゛索が介在した炭化水素基であり; R1け炭素原子数5個未満の脂肪族炭化水素基、炭素原
子数5個未満のアシル基又は式f C’H2CH,O)
Zの基であり、こコテnは少くとも1の整数であり
且つZは炭素原子数5個未満の脂肪族炭化水素基であゆ
;tt”は芳香族炭素を介して酸素に結合し且つ250
0〜4000Aの領域の光を吸収する安定な芳香族基で
あり;そして aは0又はlである〕 の化合物が該組成物に添加混入されていることを特徴と
する紫外線に対する抵抗性が増加せしめられたコーティ
ング組成物。
メラミン並びにクロルトリフルオルエチレン又はテトラ
フルオルエチレンとω−ヒドロキシアルキルビニルエー
テルの共重合体から製造されるコーティング組成物にお
いて、シリカとして計算したポリ珪酸及び/又はへキサ
(アルコキシアルキル)メラミン並びに共重合体の合計
重音を基準にして0.5〜35重址チの式 %式% 〔式中、Rは炭素原子数101’+61までの2価の炭
化水素又は酪゛索が介在した炭化水素基であり; R1け炭素原子数5個未満の脂肪族炭化水素基、炭素原
子数5個未満のアシル基又は式f C’H2CH,O)
Zの基であり、こコテnは少くとも1の整数であり
且つZは炭素原子数5個未満の脂肪族炭化水素基であゆ
;tt”は芳香族炭素を介して酸素に結合し且つ250
0〜4000Aの領域の光を吸収する安定な芳香族基で
あり;そして aは0又はlである〕 の化合物が該組成物に添加混入されていることを特徴と
する紫外線に対する抵抗性が増加せしめられたコーティ
ング組成物。
3、上記2のコーティング組成物を有する合成プラスチ
ックから#造された製品。
ックから#造された製品。
卆「許出願人 イー・アイ・デュポン・デ・ニモアス・
アンド・カンパニー
アンド・カンパニー
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ホリ珪酸及び/又はへキサ(アルコキシアルキル)メラ
ミン並びにクロルトリフルオルエチレン又はテトラフル
オルエチレンとω−ヒドロキシアルキルビニルエーテル
との共重合体から製造されるコーティング組成物であっ
て、シリカとして計算したs’i4 IJ珪酸及び/又
はヘキサ(アルコキシアルキル)メラミン並びに共重合
体の合計重Rk基準にして0.5〜351洲饅の式 %式%) 〔式中、Rは炭素原子数10個までの2価の炭化水素又
は酸素が介在した炭化水素基であり; R1は炭素原子数5個未満の脂肪族炭化水素基、炭素原
子数5個未満のアシル基又は式(CH,CD、 0 )
71 Zの基であり、ここでnは少くとも1の整数であ
り且つZは炭素原子数10個満の脂肪族炭化水素基であ
り;R2け芳香族炭素を介して酸素に結合し且つ250
0〜4000Aの領威の光を吸収する安定な芳香族基で
あり;そして αは0または1である〕 の化合物が該組成物に添加混入されていることを特徴と
する紫外線に対する抵抗性が増力口せしめられたコーテ
ィング組成物。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US28945972A | 1972-09-15 | 1972-09-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS588766A true JPS588766A (ja) | 1983-01-18 |
JPS5856588B2 JPS5856588B2 (ja) | 1983-12-15 |
Family
ID=23111630
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP48102750A Expired JPS5944320B2 (ja) | 1972-09-15 | 1973-09-13 | 紫外線吸収剤の製造方法 |
JP57114098A Granted JPS5810591A (ja) | 1972-09-15 | 1982-07-02 | 紫外線吸収剤の製造方法 |
JP57114099A Expired JPS5856588B2 (ja) | 1972-09-15 | 1982-07-02 | 紫外線吸収剤を含むコ−テイング組成物 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP48102750A Expired JPS5944320B2 (ja) | 1972-09-15 | 1973-09-13 | 紫外線吸収剤の製造方法 |
JP57114098A Granted JPS5810591A (ja) | 1972-09-15 | 1982-07-02 | 紫外線吸収剤の製造方法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
JP (3) | JPS5944320B2 (ja) |
AT (1) | AT323857B (ja) |
AU (1) | AU6027473A (ja) |
BE (1) | BE804860A (ja) |
BR (1) | BR7307158D0 (ja) |
CA (1) | CA980349A (ja) |
DE (2) | DE2346419C2 (ja) |
FR (1) | FR2200275B1 (ja) |
GB (1) | GB1393488A (ja) |
IT (1) | IT998616B (ja) |
NL (1) | NL179208C (ja) |
ZA (1) | ZA737311B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1801176A1 (en) | 1999-07-22 | 2007-06-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Coating compositions and method for the surface protection of plastic substrate |
JP2013190542A (ja) * | 2012-03-13 | 2013-09-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | コーティング用組成物及びプラスチックレンズ |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4275118A (en) | 1979-01-15 | 1981-06-23 | Dow Corning Corporation | Pigment-free coatings with improved resistance to weathering |
US4482204A (en) * | 1980-02-25 | 1984-11-13 | At&T Bell Laboratories | Ultraviolet absorbers in optical fiber coatings |
US4278804A (en) * | 1980-05-30 | 1981-07-14 | General Electric Company | Ultraviolet light absorbing agents and compositions and articles containing same |
US4321400A (en) * | 1980-05-30 | 1982-03-23 | General Electric Company | Ultraviolet light absorbing agents and compositions and articles containing same |
JPS58136441A (ja) * | 1982-02-10 | 1983-08-13 | 旭硝子株式会社 | 被覆層を有する合成樹脂成形体 |
DE3308622C2 (de) * | 1983-03-11 | 1994-02-03 | Syntec Ges Fuer Chemieprodukte | Verfahren zur Herstellung einer lagerfähigen, einsatzbereiten Reaktionsharz-Härter-Zubereitung und nach diesem Verfahren hergestellte Zubereitung |
JPH0290799U (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-18 | ||
JP2527093B2 (ja) * | 1990-09-25 | 1996-08-21 | 信越化学工業株式会社 | 有機珪素化合物及び化粧料 |
JPH0717117U (ja) * | 1993-09-06 | 1995-03-28 | 鐘紡株式会社 | バッグ |
JP2000501775A (ja) * | 1996-09-24 | 2000-02-15 | フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ | パーソナルケア用器具 |
KR19980070792A (ko) * | 1997-01-23 | 1998-10-26 | 오오자와 히데지로오 | 일렉트로크로믹 장치 |
US6852417B2 (en) * | 2002-05-09 | 2005-02-08 | Dupont Dow Elastomers, Llc | Composition for improving adhesion of base-resistant fluoroelastomers to metal, ceramic or glass substrates |
ATE375213T1 (de) * | 2002-07-30 | 2007-10-15 | Koninkl Philips Electronics Nv | Hygiene utensil und verwendung einer sol-gel- beschichtung auf solch einem utensil |
CN102421862B (zh) | 2009-05-15 | 2014-11-12 | 旭硝子株式会社 | 紫外线吸收膜形成用涂布液及紫外线吸收用玻璃物品 |
WO2012128332A1 (ja) | 2011-03-24 | 2012-09-27 | 旭硝子株式会社 | 液状組成物およびその製造方法、並びにガラス物品 |
EP2697295B1 (en) | 2011-04-14 | 2018-12-19 | Exatec, LLC. | Organic resin laminate |
IN2015DN02947A (ja) | 2012-09-24 | 2015-09-18 | Asahi Glass Co Ltd | |
WO2017115819A1 (ja) | 2015-12-28 | 2017-07-06 | 信越化学工業株式会社 | 積層体の製造方法 |
CN110804126B (zh) * | 2019-10-29 | 2021-06-11 | 广州化工研究设计院有限公司 | 一种有机凝胶聚合物及其制备方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA721243A (en) * | 1957-08-01 | 1965-11-09 | E. Amborski Leonard | Organic polymeric structures |
US3341493A (en) * | 1962-09-17 | 1967-09-12 | Nat Starch Chem Corp | Ethylenically unsaturated derivatives of 2, 4-dihydroxybenzophenone |
US3258477A (en) * | 1963-07-19 | 1966-06-28 | Dow Corning | Acryloxyalkylsilanes and compositions thereof |
US3340231A (en) * | 1964-10-28 | 1967-09-05 | Nat Starch Chem Corp | Polymeric compositions resistant to ultraviolet light |
US3429845A (en) | 1965-06-15 | 1969-02-25 | Du Pont | Compositions comprising polysilicic acid and copolymers of fluorinated monomers with omega-hydroxyalkyl vinyl ethers |
US3451838A (en) * | 1965-12-03 | 1969-06-24 | Owens Illinois Inc | Process of coating plastics with organopolysiloxanes and articles made thereby |
US3651003A (en) * | 1968-12-18 | 1972-03-21 | Du Pont | Hexa(alkoxymethyl)melamine-modified hydroxylated fluoropolymer coating compositions and processes |
-
1973
- 1973-09-13 FR FR7332920A patent/FR2200275B1/fr not_active Expired
- 1973-09-13 AU AU60274/73A patent/AU6027473A/en not_active Expired
- 1973-09-13 CA CA181,041A patent/CA980349A/en not_active Expired
- 1973-09-13 JP JP48102750A patent/JPS5944320B2/ja not_active Expired
- 1973-09-13 ZA ZA737311A patent/ZA737311B/xx unknown
- 1973-09-14 BR BR7158/73A patent/BR7307158D0/pt unknown
- 1973-09-14 DE DE2346419A patent/DE2346419C2/de not_active Expired
- 1973-09-14 GB GB4323173A patent/GB1393488A/en not_active Expired
- 1973-09-14 BE BE135652A patent/BE804860A/xx not_active IP Right Cessation
- 1973-09-14 DE DE2366537A patent/DE2366537C2/de not_active Expired
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Cited By (2)
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