JPS6148124B2 - - Google Patents

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JPS6148124B2
JPS6148124B2 JP53017528A JP1752878A JPS6148124B2 JP S6148124 B2 JPS6148124 B2 JP S6148124B2 JP 53017528 A JP53017528 A JP 53017528A JP 1752878 A JP1752878 A JP 1752878A JP S6148124 B2 JPS6148124 B2 JP S6148124B2
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reflectance
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Minnesota Mining and Manufacturing Co
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は反射を減じそして、もしも望むならば
透明性を増す被覆物をその上に有する物品に関す
るものである。本発明は特に物品の表面において
可変的傾斜屈折率を与えると信じられるような単
層被覆物に関するものである。
レンズおよび窓のような物品の反射能を減じそ
して透明性を改良し、そして太陽電池および太陽
吸収パネルの効率を改良するための種々の型の被
覆物はよく知られている。多分最もよく知られて
いるのは光学レンズ、フイルターおよび窓に使用
される抗反射フイルムとして使用される単層の、
または望ましくは多層の干渉被覆物である。その
ような被覆物は長持ちがすることおよび特殊の波
長において極度に低い反射能を与えることで知ら
れている点で望ましいが一方においてそれらは幾
多の制限を示す。例えば、そのような単層フイル
ムの光学的特性は波長に対して甚だ敏感であるた
め、多層被覆物を使わなければならない。しかし
ながら、もしもそのような多層被覆物を使用する
と、入射光線の方向に対する著しい敏感性を来す
ことになる。これまでのところ波長からの独立と
広角度対応を同時に達成することは可能ではなか
つた。その上、そのようなフイルムは造るのが高
価であり、被覆の厚さならびに多重被覆操作に注
意深い管理が必要である。
光学的干渉特性を有する被覆物によつてそれら
からの反射率を低減させるそのような物品に加え
て、全体に亘つて支持体から環境へと効果的な屈
折率が連続的に変化する微細構造を持つ表面を備
えることによつて反射率を低減させる物品を与え
ることがまた知られている。例えば、米国特許第
2432484号〔モウルトン(Moulton)〕を参照。蛾
のような夜行性昆虫の高感度視力は少なくとも部
分的には眼の表面上のそのような微細構造の存在
に因る眼の表面からの低反射能に基くものと信じ
られている。〔G.G.ベルンハルト(Bernhard)
等、アクタ フイジオロジカ スカンド.、63243
巻、1−75頁(1965)〕。最近、表面に感光材料の
層を施し、その後でその層を光により規則的模様
に露出しそしてその規則的光の模様を現像して規
則的突起に変化させることによる表面反射を減少
させる技法が開示された〔クラプハム
(Clapham)およびハトレイ(Hutley)、米国特
許第4013465号〕。
研究者等はこのように非反射的利用のためにそ
のような表面の形成が望ましいことを認めている
にもかゝわらず、これまでのところ拡がつた表面
を横切つて受容できる均質性を持つそのような表
面を如何にして提供するかまたは商業的に受容で
きる方法で如何にその表面を生産するかというこ
とは知られていない。
吸収能を増加させそして逆反射の輻射(可視ま
たは紫外線)に基づく輻射損失を最小にするため
の多孔性被覆物を利用する太陽集光器もまた知ら
れている。吸収率の増加をもたらすためにそのよ
うな装置に微小孔、溝またはその他の「組織上」
の効果の利用もまた知られている(J.Vac.Sci.
Tech.、12巻1号1月/2月(1975))。例えば、
米国特許第3490982号〔サウベニヤ
(Sauveniere)等〕は減少した反射能を示す微細
構造の表面を与えるためのガラス表面の処理方法
を開示している。そのような被覆物、表面処理お
よびこれに類するものは商業的に受容しうること
を証明しなかつたが、多分それは表面の不安定
性、値段または広い面積に亘つて均質な表面を備
えることができないためであろう。
従来望ましい光学的性質を有する物品の形成に
向けられてはいなかつたけれども、アルミニウム
のような金属表面を水で処理してそれによつて多
孔質酸化物または水酸物(ベーマイト)表面層を
形造ることは知られている。例えば米国特許第
3871881および3957197各号を参照。
本発明は改良された非反射性とそして、もしも
透明な支持体が与えられる場合にはこれまでに入
手できたものに勝る透過特性を示す物品に向けら
れ、その物品は非常に安定で、低価格であり、広
範囲の面積に亘つて与えることができ、そして複
雑な表面形状を持つことができる。
本発明の物品は実際に如何なる構造でもよい支
持体、即ち、平らな、曲面のまたは複雑な形状を
有し、そしてアルミニウム、マグネシウムまたは
亜鉛またはそれらの合金から成る群から選択され
る金属の酸化被覆物がそれらの上に形成されてい
る透明な、または不透明な絶縁体、半導体または
金属を含む。酸化被覆物は金属または合金の薄い
フイルムまたは皮膜の実質的に完全な酸化によつ
て形成され、その薄いフイルムの転化前の厚みは
少なくとも5ナノメーター(nm)であつた。本
発明においては、本質的に同一の抗反射性でそし
て透過性特性を有する物品は転化前に200nmほ
どの厚みを有する薄いフイルムから、およびその
厚みが表面全体に亘つてかなり変化する薄いフイ
ルムから形成することが可能であることが意外に
も見出された。従つて出発の薄いフイルムの慎重
な管理は必要ではない。本発明の物品は無作為に
位置し種々の高さと形状の分離した小葉であつ
て、その小葉は前記の支持体から20nmより少く
ない距離まで延び、そしてその基部は隣接の小葉
の各基部と実質的に接触した状態に在る多数の小
葉を含む表面によつて特徴づけられる。そのよう
に構成されると、普通に入射する輻射が少なくと
も380−700nmの間に拡がる波長範囲に亘つて変
化する場合にはその物品はむしろ1%よりも少な
い被覆表面からの全反射率示す。
本発明の一実施態様においては、この物品はガ
ラスまたは石英またはその他の無機透明物質また
はポリイミド、ポリエステル、ポリスチレン、ポ
リメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポ
リプロピレンまたはその他のポリマー物質の透明
支持体を含む。そのように入射する輻射の内部吸
収がかなり無視してもよいように構成される場合
には、その物品はむしろ同一範囲の波長に亘つて
普通に入射する光の少なくとも98%より少なくな
い全透過率を示す。
そのような物品は広い一般的用途を有するけれ
ども、本発明はさらに一つまたは一つ以上のその
ような物品およびそれらの非反射性/透過性表面
を利用する種々の特殊な装置に向けられる。その
ような装置の一般的型の一つは受動的装置、即ち
そこでは装置の支持体またはその他の構成部分が
入射輻射線と積極的に作用してこれを他の形のエ
ネルギーに変えることをしない装置として分類す
ることが可能である。それらの一例において、透
明な支持体をレンズまたはプリズム、または特に
フレネルレンズのような光学的素材を与えるよう
に形造られそこではもしも輻射透過性表面の全部
でない場合でも溝付(grooved)フレネル表面の
ような少なくとも一つの面に非反射性被覆が施さ
れる。
「能動的」装置、即ち、太陽集光器、熱パイ
プ、光電池、等のような入射輻射線を他の位置に
移送することが可能なように転換する装置に利用
する場合には、支持体は与えられる用途に対して
適するように透明かまたは不透明かの何れかでよ
い。例えば、本発明に従つて造られた異常な特性
を有する平板の太陽集光器は、非反射被覆物およ
び一つまたは一つ以上の輻射吸収表面を含んでい
る。別の装置においては、能動的構造物は熱パイ
プ、放熱器またはその他の熱移送部材を含むこと
が可能でそれらに非反射被覆が直接適用され、ま
たはそれらは非反射被覆を有する透明支持体と一
緒に使用される。さらに別の能動的構造物では、
非反射被覆を有するように処理される半導体を含
むことが可能である。
本発明の物品は極めて簡単でそして安い方法に
よつて造られる。この方法では金属(Al、Mg、
またはZn、またはそれらの合金)の薄いフイル
ムを選択した支持体上に付着させる。上述のよう
に、支持体は実質的に何れの物質でもよい。もし
も希望するならば、支持体に対する薄いフイルム
の接着または均質性を改良するために選択した支
持体に対して下塗剤または適当な前処理を適用し
てもよい。典型的には、そのような金属フイルム
は慣用の蒸発、吹付けまたは化学的蒸気沈積法に
よつて供給することが可能であるが;しかし他の
方法も同様に使用可能である。
付着した金属の薄いフイルムは次いで化学的ま
たは化学的/電気化学的方法によつて酸化物また
は水酸化物被覆物に転化されるがそれによつて被
覆物は必要な非反射性でそして透過性特性を有す
る粗くそして微細構造の表面形状を持つ。例え
ば、本発明においては、薄いフイルムをそれが実
質的に透明な酸化被覆物に転化するのに十分な時
間と温度で水に暴露させることによつて均質な転
化が達成され、望ましい実施態様においては、そ
れは1%よりも少ない反射能を有する。もしも被
覆物が内部吸収が無視できるような透明支持体上
にある場合には、その物品は望ましくは98%より
も少なくない透過率を示す。
望ましい一つの実施態様においては、金属の薄
いフイルムの完全な転化は湿潤剤を薄いフイルム
に適用しそしてその後0.5と60分の間の範囲の時
間に、85゜と98℃の間の範囲の温度でフイルムを
飽和水蒸気に暴露させることによつて達成され
る。望ましい実施態様の別法においては、薄いフ
イルムを25℃より低くない温度で0.5分より短か
くない時間水性酸化溶液中に浸漬して転化を達成
する。
第1図は本発明に従つた非反射被覆物をその上
に有する物品の断面の透過電子顕微鏡写真の復製
であり; 第2図および第3図はポリエステル シートの
未被覆状態と本発明の非反射被覆物を両面に被覆
した場合との%反射率と透過率のスペクトルであ
り; 第4図は本発明に従つた非反射被覆物を形成す
るために使つたAlの薄いフイルムの当初の厚み
の関数としての%透過率の増加の作図であり; 第5図は未被覆ガラス板および本発明に従つて
被覆した同様の板に対する入射角の関数としての
反射率の作図であり; 第6および第7図は石英ガラス シートの未被
覆状態と本発明に従つて被覆した状態における%
反射率および透過率のスペクトルであり;そして 第8および第9図は間隔をおいて平行に配置し
た4枚のポリメタクリレートのシートの未被覆状
態および本発明に従つて被覆した状態の%反射率
および透過率のスペクトルである。
第1図は本発明の物品の典型的断面の透過電子
顕微鏡写真の複製である。第1図中に示されるよ
うに、この物品は無作為に配置した種々の高さと
形状を有する多数の分離した小葉として一般に記
述できる表面組織を示し、各小葉の基部は隣接の
小葉の基部と実質的接触の状態にある。その小葉
は支持体から20ナノメーターより少なくない距離
まで延び、そして望ましくはほゞ100から150ナノ
メーターのように光の波長からその波長の1/10に
相当する様々の距離だけ支持体から延びる。その
ような物品では、反射率は同様の但し未処理の物
品より著しく減少し、そしてもしも物品が透明支
持体から成るときは、透過率は認めうる程増加す
る。これらの特性は物品の表面の外部媒質の屈折
率と物品の支持体の屈折率間の屈折率の傾斜に因
るものと信じられる。そのような小葉構造と光の
反射と透過に対するその影響の重要性のよりよい
理解は異つた屈折率を有する媒質を分離する境界
における入射光線の伝播の分析によつて得られ
る。そのような伝播を記載した方程式は、例え
ば、M.ボーン(Born)およびE.オルフ(Wolf)
による「光学の法則(Principles of Optics)」、
二次改訂版、ペルガモン出版社、ニユーヨーク、
N.Y.(1964)、23頁以下、中に述べられている。
そこに記載されるように、境界において反射しそ
して透過する光はマクスエウエル方程式の解式に
境界条件を適用することによつて接近させること
ができる。不連続がたとえ数学的に鮮明でなくて
も、屈折率の変化が使用する光と比べて極めて小
さい(光の波長の1/10よりも小さい)距離に亘つ
て起る限り、そのような理論的処理は実験結果と
密接に一致する。本発明においては、有効な屈折
率の変化は光の波長からその波長の1/10までの間
の範囲の距離に亘つて変化する。従つて、本発明
の物品を非反射性になしそして、ある条件下で
は、光の波長の延長範囲に亘つてより透過性なら
しめるのはこの距離に亘る屈折率の傾斜をもつた
変化の特性であると信じられる。
本発明の望ましい方法に従えば、第1図中に示
された顕微鏡写真に描写された物品は下記の段階
に従つて形成することが可能である: (a) アルミニウムのような金属の薄いフイルムを
まず適当に選んだ支持体上に望ましくは5ナノ
メーターより厚くそして少なくとも200ナノメ
ーター(nm)上方に亘つた厚みで付着させ
る。望ましくはフイルムの厚みは30と50nmの
間である。均質な厚みのフイルムが望ましいの
ではあるが、不均質厚みのフイルムは光学性質
の高い特性をもたらすことが判明した。一つの
例で、およそ30nmの厚みの薄いフイルムをポ
リエステル(二軸延伸のポリエチレン テレフ
タレート)シート上に真空蒸着した。別の実施
態様においてはマグネシウムおよび亜鉛の薄い
フイルムもまた付着可能である。他の物質の薄
いフイルムもまた付着可能でありそして同様の
微細構造被覆物を生じさせるために化学的に処
理される。薄いフイルムは電気鍍金、吹付け、
化学的蒸着、およびその他の技法によつて付着
させることが可能である。支持体はポリイミ
ド、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリカーボネート、ポリプロピレンのよう
な他のポリマー、ならびにガラス、石英、およ
び半導体のような無機物質を含めて何れの物質
も可能である。そのような支持体に対する唯一
の制限は金属フイルムが付着しそして引続き転
化する条件下において物質が安定であるべきこ
とと思われる。また表面が被覆可能である限り
支持体は如何なる形でもよい。
(b) このように付着した薄いフイルムは次いで金
属層が透明になりそして反射率の必要な低減を
示すようになるまで適当な時間と温度において
フイルムを水に暴露することによつて金属酸化
物または金属水酸化物の被覆物に転化させる。
転化は金属の薄いフイルムを飽和水蒸気に暴露
しまたはフイルムを水性酸化溶液中に浸漬する
ことによつて成し達げることが可能である。必
要な処理時間は使用する金属の薄いフイルムの
厚みと型によつて1/2分からそれ以上に亘る。
後文に示す特殊の実施例からより明瞭になるよ
うに、本発明の物品はレンズ、プリズム、ビーム
スプリツター、カプラーのような光学的素子およ
び機器の窓、太陽光線の透過および吸収板、等の
ような透過性装置を包含する。そのような物品は
すべて先行技術の物品よりも優れて非反射的性質
を示して以下のような利点を有する: (1) 単層の使用を通して、表面はUVから可視範
囲に至りそして少なくとも2.25マイクロメータ
ーまで拡がる極めて広範囲の波長に亘つて非反
射性にそしてより透過性になるであろう。即
ち、本発明の物品は入射光線の波長にはほとん
どまたは全く依存しない。
(2) さらに、そのような単層で処理された表面か
らの反射率は極めて広い入射角の範囲にわたり
垂直の入射光線に対するものと実質的に同一で
あつて付随する広がつた散乱の増加もなく、そ
れによつてその物品を彎曲した光学的表面での
利用に極めて望ましいものとなし、そして絵画
枠等に対する被覆ガラスにおけるような広い角
度から見た場合に平面を非反射性にする。
(3) 本発明の物品は著しく疎水性であり、従つて
望ましい不曇性を示しさらに多様な光学的利用
に有用なものとなる。
(4) この物品は非反射性スクリーンおよびこれに
類するものが「巻取り」用、貯蔵の容易なも
の、等に供されるように可撓性支持体で形成す
ることが可能である。
(5) この物品は同様の非反射性特性を有する模写
物品を与えるための原型としてさらに使用する
ことが可能である。
(6) 本発明の方法は極めて簡単でありそして安価
であつて、単に二つの基本的操作を必要とする
がなお極めて望ましい光学的物品を造りあげ
る。
(7) この方法はほとんど如何なる型の支持体、即
ち複雑な形状を含むような表面の支持体も使用
可能である。
(8) この方法は安定な、即ち、水に不溶でありそ
して多少高温度においてさえ有用であり、そし
て実際上何れの支持体にもよく付着する非反射
性被覆物を造り出すであろう。
(9) この方法は広い方法自由度を有し処理前の金
属フイルムの厚さならびに転化手段に対して広
範囲に変更しても好ましい結果を生じさせる。
実施例 1 第1図の複製した顕微鏡写真中に示した断面を
有する物品を次のようにして造つた: 0.05mmの厚みを有する二軸延伸したポリエチレ
ン テレフタレート(PET)シートに片側に33
ナノメーター(nm)のアルミニウムおよび反対
側に32nmのアルミニウムを蒸着させた。これら
のアルミニウム フイルムを次に約95℃の温度に
おいて3ないし4分間飽和水蒸気に暴露させた
が、その間にフイルムはベーマイト(AlO
(OH))の微細構造層、厚み約120nm、に完全に
転化した。得られたシートは同一厚みを有する
PEFの未被覆対照実験シートよりも目視的によ
り透明であつた。
このようにして造つたベーマイト構造の性質を
測定するために、シートの切片を透明なエポキシ
注封材料中に置き、そして、硬化させた後に、シ
ートの表面に垂直に延びる薄い断面に切つた。次
にこの薄い断面を第1図に複製したような電子顕
微鏡写真を造るために透過電子顕微鏡写真によつ
て分析した。
そのような物品に対する反射率のめざましい減
少および光の透過率における同様の目ざましい増
加は第2および第3図中にそれぞれ示される。こ
のように被覆した両側面からの寄与を含めるよう
にした物品を横断する光線の全反射率は350と
700nmの間に拡がる波長範囲に亘つておよそ2
%より少ないことが示される。単一表面からの反
射率は同一範囲の波長に亘つて1%より少ないで
あろう。これと比較して、第2図は未被覆の
PETのシートは両表面に対しては約12%の反射
率をまたはそのような表面の片面に対しては約6
%の反射率を示すであろうことを示す。第3図に
示すように本発明に従つて被覆したPETシート
は同一範囲の波長に亘つておよそ95%より多い光
透過率を示すのに対し、未被覆のPETシートは
85%より少なくない透過率を示した。全可視範囲
を通して約10%の透過率の増加はこのようにして
達成された。紫外線範囲の電磁線、即ち約2600n
mに延長した範囲に透過率の同様の増加が在る。
上述のように本発明の物品の透過率と反射率は
当初の金属の薄いフイルム層の厚みに対して明ら
かに無関係である。一組の試験においてPET支
持体上に10と100nmの間の当初厚みを有するア
ルミニウムの薄いフイルムを造りそして上記で検
討したように水蒸気処理によつて転化させた。第
4図中に示すように、その結果得られた%透過率
増加はこの厚み全体に亘つて約9%であることが
判つた。さらに、200nmのようなより厚いアル
ミニウムの薄いフイルムを造りそしてフイルム−
支持体組合わせを60℃に維持した水溶液中におよ
そ1時間半浸漬したところ、このフイルムは透明
化し従つて完全に転化したことが判明し、%透過
率の同様の増加が観測された。
本発明の物品は著しい反射率の減少および透過
率の増加を特徴とするばかりでなく、また転化層
の支持体に対する著しい付着も特徴とされる。例
えば、ポリエステル上へ典型的Alフイルムが完
全にベーマイト構造に転化され、そして感圧接着
透明テープをベーマイト被覆に適用し次いで180
゜の角度で後に剥がした場合、ベーマイト層は支
持体から外れない。むしろ、接着剤は裏打ち剤か
ら剥がれることが判明した。
またベーマイトのような転化された酸化物の層
は防曇性を有利と規定する光学的機素およびこれ
に類するものに使用することが望ましいようなか
なりの疎水性を示す。
第5図は入射角の関数として本発明の物品の反
射率が無関係であることのしるしをさらに与え
る。図中にAおよびBの名称を付した曲線を作る
際に、入射面に対して垂直に(曲線AおよびB)
および平行に(曲線A′およびB′)偏光させたHe
−Neレーザーによつて与えられる632.8nmの波
長を有する光束を見本の表面に発射しそして鏡の
ように反射する輻射を測定した。第5図中に示さ
れるように、未被覆ガラス表面をこのようにして
測定した場合、入射平面に対して垂直に偏光させ
た光の反射率は入射が表面に対して垂直である場
合は一つの表面からおよそ4%であり、そして垂
直に対して入射角90゜におけるおよそ100%まで
着実に増加することが判明した(曲線A)。それ
と対応的に、入射平面に対して平行に偏光させた
光の反射率は入射が表面に対して垂直である場合
には一つの表面からおよそ4%であり、垂直に対
して57゜においてブルースター(Brewster)効
果のためおよそ0.01%まで漸減しそして次いで90
°で100%まで漸増した(曲線A′)。ガラス板の
片面を本発明に従つた単層被覆で作つた場合に
は、垂直に対して0゜における反射率は垂直およ
び平行の両偏光に対して共におよそ0.1%であつ
た。垂直に偏光させた光によつて測定した反射率
は90゜においておよそ100%になるまで漸増した
が、しかしおよそ55゜までは1%より少なく留ま
ることが判明した(曲線B)。平行偏光によつて
測定した反射率はおよそ30゜までは僅かに減少
し、そしておよそ60゜までは再度1%より下に留
まることが判明した(曲線B′)。
実施例 2 無機支持体を結合させた本発明によつて得た望
ましい特性は石英の板に両面共32.5nmのアルミ
ニウムで通例のやり方で蒸着された実施例中に示
される。これらのアルミニウム フイルムは湿潤
剤を含む水性溶液で予め湿らせそして次に3ない
し4分間飽和水蒸気に暴露させておよそ120nm
の厚みのベーマイトの微細構造を形成させた。こ
の試料について作つた光反射および透過率測定の
結果は第6および第7図中にそれぞれ示される。
これらの図から観取できるように、再び400ない
し700nmの範囲の波長に亘つてめざましい反射
率における減少と透過率における増加が成しとげ
られた。反射率は一面について0.5%よりも少な
い。広い波長に亘る石英の低い吸収能のために、
低反射率と高透過率は350nmから2250nmまでは
実質的に変化しないことが観察された;従つて同
様の性質はさらにUVおよびIR範囲まで延びるこ
とが期待される。
実施例 3 複雑な形状を有する光学素子上に非反射性表面
を造り出する際の本発明の有用性はポリメチルメ
タクリレートで形成したフレネル レンズの部分
にフレネル レンズの溝のまたは微細構造をした
表面に約39.5nmのアルミニウムを被覆すること
によつて立証した。このような物質は上記の実施
例1および2で検討した飽和水蒸気処理中に典型
的に使用する温度(約96℃)の下では受容できな
い程ゆがむであろうから、この実施例においては
被覆したレンズ部分を約78℃に維持したNaClO2
の5%水溶液中に約5分間浸漬することによつて
アルミニウムをベーマイト被覆に転化させた。
上の方法によつて完成した溝付き表面の非反射
性質は目視観察に明瞭であつた。全反射率および
透過率の測定結果はその性質が実質的に波長と無
関係である点で第2および3および6および7図
に示されるものと極めて類似していた。フレネル
レンズの溝付き表面は垂直入射をかなり散乱させ
るので、無被覆の試料(両表面)の全反射率は典
型的には約8%である。これと対比して、フレネ
ル表面に被覆を有する試料からの反射率は典型的
には約6%である。従つて、本発明の被覆処理は
反射率の減少が2%余であつたけれども、平面試
料で観察された程著しい変化ではなかつた。
実施例 4 この実施例においては、0.05mmの厚みのポリエ
チレン テレフタレート シートを通例の真空蒸
発方法でポリエステル シートの片側に27nmの
マグネシウムを蒸着被覆した。次いでこの薄いフ
イルムを約90℃において3ないし4分間飽和水蒸
気に暴露させて完全に酸化物に転化させた。その
結果得られた転化された被覆物の反射率と透過率
はそれらが実際上波長に依存しないことを示した
ので再度第2および3および6および7図中に示
したものと実質的に似ていることが見出された。
この実施例において片面のみにこのように被覆し
たシートの全反射率(両表面)はおよそ12%から
およそ8%に減じたが透過率はおよそ85%からお
よそ90%以上に増加したことが判明した。
実施例 5 本発明の方法をさらに修正して0.05mmの厚みの
ポリエチレン テレフタレートのシートに上の実
施例のようにして120nmのアルミニウムを蒸着
させた。この蒸発させた薄いフイルムを7.0ボル
ト電源の陽極端子に接続しその後これを徐々に水
中に50%(容量で)のH2SO4を含む電解液に浸漬
させて電解転化させた。陰極は鉛の板を電解液中
に浸漬させて用意した。このようにして、アルミ
ニウムの薄いフイルムは実質的に酸化アルミニウ
ムに転化した。
電解的方法の後に残つた少量の残留アルミニウ
ムはその試料をNaClO2の稀薄水溶液中に80℃で
10分間浸して引続き転化させた。この処理の後、
試料の陽極酸化された範囲は透明になりそして表
面反射は著しく減じそして透過率はかなり増加を
示すことが判明した。この試料の電子顕微鏡写真
は得られた微細構造層が上記実施例に記載しそし
て第1図に示したものよりもずつと粗大であるこ
とを示した。
実施例 6 本発明の物品が多層組立部品を与えるように組
立てられた太陽エネルギー透過パネルにおいて、
厚さ1.6mmのポリメチルメタクリレートの四枚の
シートを清潔にして次に各シートの両面に32nm
のアルミニウムを蒸着させた。次いでこれらのア
ルミニウムの薄いフイルムを上記実施例1中に記
載した飽和水蒸気法によつて微細構造のベーマイ
ト層に転化させた。各シート間の間隙をおよそ1/
2インチで組立てた場合のこれら4枚のシート
(8表面)の積み重ねに対する反射率の減少と透
過率の増加の結果は第8および第9図中にそれぞ
れ示される。第8図中で、そのような4枚のメチ
ル メタクリレート シートの無被覆形の組立物
がおよそ25%の反射率を示したのに対して、被覆
形では反射率は1%よりも少なかつたことがこの
ように判るであろう。同様に、そのようなシート
の無被覆の組立物の透過率がおよそ75%であつた
のに、組立てた被覆されたシートの透過率はおよ
そ98%であつた。
実施例 7 本発明の有用性を立証するためにそこでは先駆
体として亜鉛の薄いフイルムを使用し、亜鉛の薄
いフイルムの引続く付着を助長するために一原子
層厚よりも薄い銀の層をポリエチレン テレフタ
レート シート上に最初に付着させた。次いでそ
のような亜鉛フイルムを銀核化表面に通常の蒸着
方法によつておよそ45nmの厚みに蒸着させた。
亜鉛の薄いフイルムを次いでおよそ96℃の温度で
30分間水蒸気に暴露させて転化し、その後でフイ
ルムは完全に転化しそして実質的に透明化され
た。引続いて被覆した試料の反射率は可視範囲を
横切つて表面につきおよそ3%であつたが、これ
に対して無被覆試料に対する反射率の表面当りお
よそ6.7%は著しい差である。
実施例 8 ポリイミド シートの支持体上に非反射性被覆
を与えることにつき本発明の適合性を一つの試験
で立証したが、その試験では45nmのアルミニウ
ムのフイルムをポリイミドのシート上に蒸着さ
せ、次いで60℃において20分間脱イオン水に被覆
させたシートを浸漬させてアルミニウム フイル
ムをベーマイト微細構造に転化させた。次いでア
ルミニウム フイルムを完全に転化させそして
700nmにおける全透過率がおよそ90%を示すこ
とを見出したが、しかるに無処理シートはその波
長においておよそ86%の透過率を有していた。透
過率の相応する増加がおよそ350nmから2200nm
に拡がつた波長範囲に亘つてもまた見出された。
実施例 9 セルローズ アセテート ブチレート
(CAB)の支持体上に非反射性表面を与える本発
明の適用性を一試料において立証するが、その際
そのような支持体の薄いシートに通例の蒸着方法
によつてアルミニウムの45nm厚みのフイルムを
施した。次いでこの被覆を60℃で20分間脱イオン
水中に浸漬させてベーマイト層に転化させた。
CAB支持体の片面をこのように処理すると、透
過率は可視範囲を通して未処理支持体に対するお
よそ91%から処理支持体に対するおよそ95%に増
加したことが判明した。
実施例 10 ポリカーボネート支持体を利用するときの本発
明の有用性をさらに見出したがこの場合そのよう
な支持体に45nm厚みのアルミニウムのフイルム
通例の蒸着方法によつて与えた。この薄いフイル
ムを次にまず湿潤剤の水溶液によつて湿らせ続い
て96℃においておよそ2分間水蒸気に暴露させて
ベーマイト層に転化させた。片面に被覆を有する
そのようなシートの透過率はおよそ500nmの波
長において未処理シートに対するおよそ80%から
およそ85%に増加したことが判つた。同様の透過
率の増加がおよそ420nm、ここでこのポリカー
ボネート試料は著しく吸収性であつた、からおよ
そ1000nmの波長を通して観察された。
実施例 11 ポリスチレン支持体上に非反射性表面を与える
のに本発明が有用であることを一実施例で立証し
たがその際そのような支持体の片面に45nmのア
ルミニウムのフイルムを通例の蒸着によつて与え
た。次いでこのフイルムを60℃で脱イオン水に20
分間浸漬してベーマイト構造に転化させた。ポリ
スチレンの未処理シートは500nmの波長におい
ておよそ85%の透過率を有することが観察され
た。転化させた被覆物/支持体の透過率は500n
mの波長においておよそ90%であつて、未処理支
持体に対する85%と著しく異なる。透過率におけ
る同様の増加がおよそ400から少なくとも1000n
mに延びる波長範囲に亘つて観測された。
実施例 12 さらに本発明の実施態様において、ガラス カ
バー板、アクリレート コポリマー、即ちミズリ
ー州、セントルイス、K−S−H社から入手した
タイプDR61、で形成された三つの線状
(linear)フレネル レンズ、およびローム ア
ンド ハース社から入手したポリメチルメタクリ
レート、タイプ147Fで形成された四番目の線状
フレネル レンズを含んだフレネル レンズ単位
に次のようにして総ての内部表面上に非反射被覆
を与えた:五つの素子をまず45nmアルミニウム
フイルムで通例の蒸着法によつて被覆した。ガ
ラス カバー板およびアクリレール147Fフレネ
ル レンズを脱イオン水中の1%のNaNO2
液、ローム アンド ハース社によつて製造され
る第四アンモニウム水酸化物界面活性剤タイプX
−100のような1につき1滴の湿潤剤および1
%の酢酸ナトリウム/酢酸のような緩衝液を含む
溶液中に80℃において5分間浸漬した。溶液のPH
は酢酸によつて6.65に調節した。ベーマイト微細
構造に転化した後これらの機素を80℃の脱イオン
水中に浸してゆすぎそして風乾させた。DR61ア
クリル レンズは水酸化ナトリウムによつてPHを
8.65に調節した70℃の脱イオン水中に6分間浸漬
させて転化させた。被覆をベーマイトに転化させ
たのに続いてこれらの機素を湿気のある環境で2
ないし3分間徐冷しそして次に乾燥窒素気流中で
乾かした。このように被覆したレンズ機素を次に
組合わせそして頭上投映機で試験しその際組合わ
せたレンズを通つて透過した光の強さを中心およ
び隅の部分の両方で測定した。同様のしかし未理
のレンズ組合わせに対する強さと対比して微細構
造区域の全体に亘つて光の強さの20%増加を観測
した。その上、まぶしさの著しい減少を達成し、
そして僅かに接触する機素ために以前観測されて
いた干渉模様が除去された。
上述の総ての実施例においては、付着金属の接
着性と均質性を改良するために金属の薄いフイル
ムを付着させる前に支持体表面を清浄にすること
が望ましい。表面の汚染は得られる転化した被覆
物の均質性に有害に作用し従つて光学的性能を減
じることがさらに見出された。個々の清浄手順は
選択する支持体に応じて修正することが望まし
い。
実施例 13 建物の窓のような大面積の表面に対する本発明
の適用性についてさらに示す実施態様実例におい
て、130cmの幅で1828mの巻いたポリエチレン
テレフタレート シートの0.05mm厚みのものを通
例の蒸着方法を使つて両面に約35nmのアルミニ
ウムを蒸着させた。この巻物の幅60cmの部分を次
に前述のようにして飽和蒸気に暴露させて転化さ
せた。これらの転化させた部分を0.3ミクロンか
ら外へ2.2ミクロンまでの太陽エネルギー範囲の
%透過について測定した。このフイルムは入射太
陽エネルギーを96.8%透過することが判明しこれ
は良質の窓ガラスのおよそ85%と対照的である。
実施例 14 本発明の物品は対応する微細構造表面を有する
原型の形成にさらに有用でありその原型は次いで
対応する微細構造で、非反射性表面を有する物品
を復製するのに使用される。そのような実施態様
において、0.05mmのPETシートをMgの30nmの薄
いフイルムで被覆し、次いでこのフイルムを湿潤
剤の水性溶液中で表面を予め湿らせ、引続きおよ
そ90℃で20秒間飽和水蒸気に暴露させてフイルム
を微細構造の表面に転化させた。次いでフイルム
を完全に透明化し、そして次いでイソプロピル
アルコール中で洗いそして乾かした。次いで微細
構造になつた表面を次いでセルローズアセテート
ブチレート(CAB)の0.025mmのシートと接触
させて置き、加圧機の中に置きそして120℃の温
度で60秒間加圧した。シートを次に別々に外し
た。CAB表面の光学的測定は相当する低反射率
と高透過性を示した。
別法として、複製を造るために使用する型押原
型を上記で検討したようにして造つたガラス上の
ベーマイド被覆物から造ることが可能であつてそ
の被覆物は80nmのCrのフイルム、40nmのNiの
フイルムおよび80nmのCuのフイルムを引続いて
重ねて被覆した。電導性の外側のCuフイルムは
電極として使用しそして500マイクロメータの厚
みのNi層をその上に電鍍した。次いでガラス支
持体を剥がし取りそして今や露出したCr表面に
付着した残部ベーマイトを溶蝕してしまつた。そ
の結果得られたこの打印型を次に使用して同様な
非反射性特性を有する微細構造表面を有する大量
のポリマー物品を熱的に型押した。
被覆表面は磨耗、引掻きおよびこれに類する事
柄に比較的敏感である点でそのような復製物品は
直接その上に被覆した微細構造をした表面を有す
る物品に対する望ましい改良である。そのような
被覆物は従つてレンズの内部表面、窓、および同
種のもののような被覆物が保護される用途での使
用に主として適している。これと比べて、復製し
た表面はより永続性がありそして脆さが少なくそ
してより暴露される場所に使用することが可能で
ある。
実施例 15 別の実施態様において、本発明の有用性を不透
明支持体について立証した。鋼板に光沢のある黒
色塗料を被覆しそして塗布層に引続き50nmの厚
さのアルミニウム フイルムを施した。次いでこ
のフイルムを96℃の温度で3分間水蒸気に暴露し
てベーマイトに転化させた。転化に引続いて、光
沢のある塗料層の反射率およびそれから得たベー
マイト層の反射率を黒色のベルベツト布から得た
ものと比較した。光沢のある黒色塗料は垂直入射
で500nmにおいて4.7%の反射率を示した。これ
と対比して、黒色ベルベツト布は同一波長におい
ておよそ0.2%の反射率を示した。光沢のある黒
色塗料上の転化したベーマイト層は黒色ベルベツ
トのよりも僅かに多い反射率、即ち、およそ0.25
%を示した。350から700nmに拡げた波長範囲に
亘る反射率は同一であつた。従つてある程度は塗
料層の反射率特性に左右されるが同様の反射率が
UVおよびIR範囲に延長されるであろうことが期
待される。
実施例 16 転化した被覆物の安定性を試験するためさらに
行つた試験において、多数のガラス板の片面に
35nmのアルミニウムの薄いフイルムを被覆しそ
して引続き96℃において2分間水蒸気に暴露させ
てベーマイトに転化させた。未処理のガラス板の
500nmにおける反射率は両面ともおよそ8%と
測定された。これと比較して被覆したスライドの
反射率は両表面に対しておよそ4.8%であること
が判つた。これらの板は次に次のように各種の高
温度で長時間の暴露に供した:一枚の板は210℃
で93時間の暴露後反射率は両面ともおよそ4.85%
に増加した。別の一枚の板は460℃に66時間熱し
たが、その後で反射率は両面ともおよそ4.5%と
測定された。もう一枚の板は560℃で22時間半処
理した後、反射率は両面ともおよそ4.4%と測定
された。上記のこれらの実施例は高温度において
さえ本発明の被覆物が例外的に安定であることを
立証するもので、この性質は太陽熱利用において
は著しく重要なことである。
【図面の簡単な説明】
添付図面は本発明の理解に資するものであつ
て、第1図は本発明に従つた非反射被覆物をその
上に有する物品の断面の透過電子顕微写真の複製
であり、第2図および第3図はポリエステル シ
ートの未被覆状態と本発明の非反射被覆物を両面
に施した場合との%反射率と透過率のスペクトル
であり、第4図は本発明に従つた非反射被覆物を
Alの薄いフイルムで造つた場合の当初の厚みの
関数としての%透過率の増加の作図であり、第5
図は未被覆ガラス板および本発明に従つて被覆し
たガラス板に対する入射角の関数としての反射率
の作図であり、第6図および第7図は石英ガラス
シートの未被覆状態と本発明に従つて被覆した
状態とにおける%反射率および透過率のスペクト
ルであり、そして第8図および第9図は間隔を置
いて平行に配置した4枚のポリメタクリレートの
シートの未被覆状態と本発明に従つて被覆した状
態との%反射率および透過率のスペクトルであ
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 アルミニウム、マグネシウムおよび亜鉛また
    はそれらの合金から成る群から選択される金属の
    酸化物の表面被覆物を有する支持体から成り、該
    被覆物は前記金属が実質的に完全に酸化物に転化
    されている薄膜状を呈しており、前記薄膜の厚さ
    は転化前には少くとも5ナノメーターであり、前
    記転化後の表面は、複数個の無作為に位置した
    種々の高さと形状を有する個々の小葉体の特性を
    有し、該小葉体は該表面から20ナノメーター以下
    ではなく、光の波長以上でもない距離まで延びて
    おり、その基部は実質的全ての隣接の小葉体基部
    と接触しており、かくして転化した薄膜被覆物に
    よつて可視光の鏡状の反射が顕著に低減され、実
    質的に非反射表面が形成されていることを特徴と
    する、非反射表面を有する物品。 2 前記被覆物の全反射率が、表面に垂直に入射
    する可視光線の1%以下である上記第1項記載の
    物品。 3 前記支持体が、ポリイミド、ポリスチレン、
    ポリエステル、ポリメチルメタクリレート、ポリ
    カーボネート、ポリプロピレン、石英またはガラ
    スを含む透明物質であり、通過する垂直入射光線
    の全透過率が被覆物の無い物質の全透過率よりも
    大である、上記第1項記載の物品。 4 前記支持体が絶縁用または半導体用無機物質
    である、上記第1項〜第3項のいずれか1項に記
    載の物品。 5 前記半導体物質が、光電池中に処置した場合
    に非反射性被覆が電池内への輻射エネルギーの増
    大効果をもたらし、それによつて電池の有効効率
    を増大させる望ましい光起電力性質を有するシリ
    コンなどの物質から選択されている、上記第4項
    記載の物品。 6 前記支持体が不透明であつて、その上の前記
    被覆物が輻射の反射率を減じて支持体による輻射
    の吸収を最大としている、上記第1項記載の物
    品。 7 前記支持体が光学的要素構成用に成形された
    透明物質から選ばれ、その上の前記被覆物によつ
    て該要素表面からの反射が低減され、未被覆要素
    と同等以上に透過率を改善している上記第1項〜
    第3項のいずれか1項に記載の物品。 8 前記光学的要素が溝付フレネル型レンズであ
    り、その少くとも溝付表面に前記被覆を有してい
    る上記第7項記載の物品。 9 前記光学的要素が複数個フレネル型レンズお
    よび少くとも1個の扁平のカバープレートを含
    み、少くとも若干のレンズとカバープレートとが
    間隔をおいて配置されて複合レンズ集合体を形成
    しており、レンズとカバープレートの全ての内面
    に前記被覆物が施こされている上記第7項または
    第8項記載の物品。 10 前記支持体が絶縁性の太陽エネルギー透過
    パネルであり、前記表面被覆物によつてかなりの
    量の入つて来る輻射エネルギーの反射を妨げる非
    反射的特性が与えられており、それによつてパネ
    ルを受動的太陽加熱系への利用に適応させてい
    る、上記第1項記載の物品。 11 前記物品が、98%以上の垂直入射光線の全
    透過率を示す上記第10項記載の物品。 12 前記被覆を有する少くとも1つの前記支持
    体が、光学的に透明な外側パネルの間に挾持され
    ている、上記第10項記載の物品。 13 (a) 支持体上に、アルミニウム、マグネシ
    ウムおよび亜鉛またはそれらの合金からなる群
    から選ばれる金属の少くとも厚さ5ナノメータ
    ーの金属薄膜を被覆し、 (b) 前記金属薄膜を、該金属薄膜が酸化物または
    水酸化物に転化されるのに十分な温度で、持続
    的に水で処理して、転化された被覆物に、該表
    面被覆に対する垂直入射可視光の1%以下の全
    反射率を示す特性を与える、諸工程を特徴とす
    る実質的に非反射表面を有する物品の製造方
    法。 14 前記薄膜の水処理によつて、前記被覆物が
    透明支持体上に在る場合でも1.0%以下の反射率
    を有する酸化物被覆を生じさせ、内部吸収が殆ど
    なく、その物品が98%以上の透過率を示す上記第
    13項記載の方法。 15 前記薄膜の処理工程を、該薄膜に湿潤剤の
    層を適用し、該薄膜を0.5〜60分の間、85℃〜98
    ℃の温度範囲で飽和水蒸気にさらすことによつて
    行なう、上記第13項または第14項記載の方
    法。 16 前記薄膜の処理工程を、前記薄膜/支持体
    の組合わせ物を25℃以下とならない温度で少くと
    も0.5分間、水性酸化剤溶液中に浸漬して行な
    う、上記第13項記載の方法。
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IT (1) IT1104102B (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006259711A (ja) * 2005-02-18 2006-09-28 Canon Inc 光学用透明部材及びそれを用いた光学系
US7771832B2 (en) 2007-02-20 2010-08-10 Canon Kabushiki Kaisha Optical member, optical system using the optical member, and method of manufacturing an optical member
JP2011081406A (ja) * 2007-02-20 2011-04-21 Canon Inc 光学用部材、それを用いた光学系
WO2012035716A1 (ja) * 2010-09-17 2012-03-22 富士フイルム株式会社 光電場増強デバイス
WO2012035717A1 (ja) * 2010-09-17 2012-03-22 富士フイルム株式会社 光電場増強デバイスを用いた光の測定方法および測定装置
WO2012127744A1 (ja) 2011-03-18 2012-09-27 富士フイルム株式会社 光学部材及びその製造方法
WO2012127841A1 (ja) * 2011-03-22 2012-09-27 富士フイルム株式会社 光電場増強デバイスおよび該デバイスを備えた測定装置
WO2012132385A1 (ja) * 2011-03-31 2012-10-04 富士フイルム株式会社 光電場増強デバイスの製造方法
WO2012160774A1 (ja) * 2011-05-20 2012-11-29 富士フイルム株式会社 ラマン分光測定装置、並びにラマン分光測定装置用光ファイバおよびその作製方法
US8778450B2 (en) 2007-01-22 2014-07-15 Canon Kabushiki Kaisha Optical member and method of manufacturing the same

Families Citing this family (85)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4263061A (en) * 1978-03-27 1981-04-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process for forming a high resolution X-ray intensifying screen with antireflecting substrate
GB1588370A (en) * 1978-05-11 1981-04-23 Standard Telephones Cables Ltd Infra-red transmitting elements
US4340276A (en) * 1978-11-01 1982-07-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of producing a microstructured surface and the article produced thereby
JPS5938581B2 (ja) * 1979-03-28 1984-09-18 日立金属株式会社 電子写真用磁性トナ−
US4375007A (en) * 1980-11-26 1983-02-22 E. I. Du Pont De Nemours & Co. Silicon solar cells with aluminum-magnesium alloy low resistance contacts
US4347262A (en) * 1980-11-26 1982-08-31 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aluminum-magnesium alloys in low resistance contacts to silicon
US4364995A (en) * 1981-02-04 1982-12-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Metal/metal oxide coatings
US4582111A (en) * 1981-06-29 1986-04-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Radiation absorbing surfaces
US4396643A (en) * 1981-06-29 1983-08-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Radiation absorbing surfaces
US4426437A (en) * 1981-06-29 1984-01-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Imageable material with radiation absorbing microstructured layers overcoated with photoresist layer
DE3311815C3 (de) * 1983-03-31 1997-12-04 Leybold Ag Verfahren zum Herstellen von Scheiben
IL69507A (en) * 1983-08-16 1986-11-30 Chromagen Metal Works Selective surfaces for collectors of solar and other radiation
NL8303183A (nl) * 1983-09-15 1985-04-01 Philips Nv Werkwijze voor het aanbrengen van een transparante laag op een substraat.
AU576594B2 (en) * 1984-06-15 1988-09-01 Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Heat-resistant thin film photoelectric converter
CA1275208C (en) * 1985-01-25 1990-10-16 Roger W. Lange Silica coating
JPS61170702A (ja) * 1985-01-25 1986-08-01 Kunio Yoshida 光学薄膜の製作方法
JPS62259480A (ja) * 1986-05-01 1987-11-11 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 光電変換装置作製方法
US5039561A (en) * 1986-08-25 1991-08-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for preparing an article having surface layer of uniformly oriented, crystalline, organic microstructures
US4812352A (en) * 1986-08-25 1989-03-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Article having surface layer of uniformly oriented, crystalline, organic microstructures
GB8914881D0 (en) * 1989-06-29 1989-08-23 Bowater Packaging Ltd Web materials coated with thin oxide films
US5121253A (en) * 1990-12-28 1992-06-09 Waintroob Stewart B Visor for a computer terminal display and method
US5214535A (en) * 1991-12-17 1993-05-25 Xerox Corporation Lens cover assembly for binary diffractive optic lenses
US5208700A (en) * 1991-12-23 1993-05-04 Xerox Corporation Lens cover assembly for binary diffractive optic lenses
US5873931A (en) * 1992-10-06 1999-02-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coating composition having anti-reflective and anti-fogging properties
US5563738A (en) * 1993-09-03 1996-10-08 Jenmar Visual Systems Light transmitting and dispersing filter having low reflectance
US5585186A (en) * 1994-12-12 1996-12-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coating composition having anti-reflective, and anti-fogging properties
US5945249A (en) * 1995-04-20 1999-08-31 Imation Corp. Laser absorbable photobleachable compositions
US5935758A (en) * 1995-04-20 1999-08-10 Imation Corp. Laser induced film transfer system
US5689372A (en) * 1995-12-22 1997-11-18 Eastman Kodak Company Integral imaging with anti-halation
US6270931B1 (en) 1995-12-22 2001-08-07 Eastman Kodak Company Integral imaging with element having anti-halation layer
US5639580A (en) * 1996-02-13 1997-06-17 Eastman Kodak Company Reflective integral image element
EP0790138B1 (en) 1996-02-15 1999-10-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Laser-induced thermal transfer imaging process
US5846650A (en) * 1996-05-10 1998-12-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Anti-reflective, abrasion resistant, anti-fogging coated articles and methods
US6040053A (en) * 1996-07-19 2000-03-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coating composition having anti-reflective and anti-fogging properties
US5763054A (en) * 1996-09-13 1998-06-09 Trw Inc. Anti-reflection treatment for optical elements
US6519087B2 (en) 1997-04-10 2003-02-11 3M Innovative Properties Company Rear projection screen incorporating diffuser
US5971556A (en) * 1997-09-24 1999-10-26 Chrysler Corporation Instrument panel having cover with reflection-reduction layer and method of making cover
US6407859B1 (en) 1999-01-13 2002-06-18 3M Innovative Properties Company Fresnel lens for projection screen
US7066234B2 (en) 2001-04-25 2006-06-27 Alcove Surfaces Gmbh Stamping tool, casting mold and methods for structuring a surface of a work piece
DE10020877C1 (de) * 2000-04-28 2001-10-25 Alcove Surfaces Gmbh Prägewerkzeug, Verfahren zum Herstellen desselben, Verfahren zur Strukturierung einer Oberfläche eines Werkstücks und Verwendung einer anodisch oxidierten Oberflächenschicht
ATE528117T1 (de) 2001-08-30 2011-10-15 Bayer Technology Services Gmbh Verfahren zur herstellung von abformkörpern, insbesondere optischen strukturen, und deren verwendung
US7040502B2 (en) * 2002-11-26 2006-05-09 Kinberly-Clark Worldwide, Inc. Dispenser for wet and dry interfolded sheets
US20040124202A1 (en) * 2002-12-26 2004-07-01 Joseph Mitchell Dispenser for wet and/or dry products
JP4414663B2 (ja) * 2003-03-03 2010-02-10 財団法人国際科学振興財団 液晶ディスプレイバックライトユニット用可視光反射部材と可視光反射部材の製造方法
US6997345B2 (en) * 2003-05-16 2006-02-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Dispenser for sheet material
US7207461B2 (en) * 2003-05-16 2007-04-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Dispenser for sheet material
US6997342B2 (en) * 2003-05-16 2006-02-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Dispenser for sheet material
US6899988B2 (en) * 2003-06-13 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc Laser thermal metallic donors
US20050041093A1 (en) * 2003-08-22 2005-02-24 Zwadlo Gregory L. Media construction for use in auto-focus laser
JP4349052B2 (ja) * 2003-09-29 2009-10-21 コニカミノルタホールディングス株式会社 ディスプレイ用フレネルレンズの製造方法
US7140513B2 (en) * 2003-12-22 2006-11-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Convertible dispenser for sheet material
US6855474B1 (en) 2004-05-03 2005-02-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Laser thermal color donors with improved aging characteristics
CN100414321C (zh) * 2005-02-18 2008-08-27 佳能株式会社 光学透明部件和使用该光学透明部件的光学系统
US8501270B2 (en) * 2005-02-18 2013-08-06 Canon Kabushiki Kaisha Optical transparent member and optical system using the same
US7663653B2 (en) * 2005-02-24 2010-02-16 Seiko Epson Corporation Optical head and image forming apparatus incorporating the same
JP4790396B2 (ja) * 2005-12-02 2011-10-12 学校法人東京理科大学 透明膜の製造方法
JP2009017305A (ja) * 2007-07-05 2009-01-22 Hoya Corp 防塵性光透過性部材の製造方法、その部材の用途、及びその部材を具備する撮像装置
JP2011515866A (ja) * 2008-03-25 2011-05-19 コーニング インコーポレイテッド 太陽光発電用基板
EP2189752A1 (en) 2008-11-19 2010-05-26 Stichting Dutch Polymer Institute Method of enhancing the contrast of surfaces and use thereof
CN102257631A (zh) * 2008-12-26 2011-11-23 周星工程股份有限公司 薄膜型太阳能电池及其制造方法
CN102301040B (zh) * 2009-01-30 2014-10-15 夏普株式会社 模具和模具的制造方法、以及使用模具的防反射膜的制造方法
JP5522955B2 (ja) * 2009-02-17 2014-06-18 キヤノン株式会社 光学素子の製造方法
US20100238665A1 (en) * 2009-03-20 2010-09-23 Eric William Hearn Teather Diffusive light reflectors with polymeric coating
US8361611B2 (en) * 2009-03-20 2013-01-29 Whiteoptics Llc Diffusively light reflective paint composition, method for making paint composition, and diffusively light reflective articles
EP2408867A4 (en) * 2009-03-20 2013-03-06 Eric William Hearn Teather COLOR COMPOSITION USING DIFFUSER LIGHT REFLECTION, PROCESS FOR PREPARING THE COLOR COMPOSITION, AND ARTICLES WITH DIFFUSER LIGHT REFLECTION
US20100259823A1 (en) * 2009-04-09 2010-10-14 General Electric Company Nanostructured anti-reflection coatings and associated methods and devices
EP2423714A4 (en) * 2009-04-24 2018-05-02 Sharp Kabushiki Kaisha Antireflection film, method for manufacturing antireflection film, and display apparatus
CN102292472B (zh) * 2009-04-30 2014-04-02 夏普株式会社 模具及其制造方法
WO2010143503A1 (ja) 2009-06-12 2010-12-16 シャープ株式会社 反射防止膜、表示装置及び透光部材
US10581020B2 (en) * 2011-02-08 2020-03-03 Vitro Flat Glass Llc Light extracting substrate for organic light emitting diode
US20140034112A1 (en) * 2011-05-26 2014-02-06 Scott Lerner Optical concentrators and splitters
CN102305484A (zh) * 2011-10-11 2012-01-04 李德杰 具有陷光结构的太阳能集热管
CN102434990A (zh) * 2011-12-27 2012-05-02 李德杰 具有散射表面的太阳能集热管
EP2725628B1 (en) * 2012-10-23 2020-04-08 LG Electronics, Inc. Solar cell module
JP6210451B2 (ja) * 2013-08-09 2017-10-11 学校法人東京理科大学 反射防止膜の製造方法及び積層膜
JP6362105B2 (ja) * 2014-08-27 2018-07-25 キヤノン株式会社 反射防止膜を有する光学素子、光学系、光学機器
JP6338503B2 (ja) * 2014-09-30 2018-06-06 富士フイルム株式会社 光学素子および光学素子の製造方法
DE102014220575A1 (de) * 2014-10-10 2015-10-29 Siemens Vai Metals Technologies Gmbh Feuerfestbauteil zum Auskleiden eines metallurgischen Gefäßes
US10840051B2 (en) * 2015-09-22 2020-11-17 Lightlab Sweden Ab Extraction structure for a UV lamp
JP6971587B2 (ja) * 2017-02-27 2021-11-24 キヤノン株式会社 光学素子及びその製造方法、光学機器
KR101898593B1 (ko) * 2017-04-06 2018-09-13 엘지전자 주식회사 태양전지 모듈
WO2019083451A1 (en) * 2017-10-24 2019-05-02 National University Of Singapore METHOD FOR REDUCING SURFACE REFLECTANCE IN A PHOTOVOLTAIC DEVICE
EP3584296A1 (en) 2018-06-19 2019-12-25 3M Innovative Properties Company Connecting element for the friction-increasing connection of components, process for making a connecting element and use of a connecting element
EP3584294B1 (en) 2018-06-19 2023-07-26 3M Innovative Properties Company Frictional connection of components and process for making a frictional connection
CN113527740A (zh) * 2021-07-15 2021-10-22 伊诺福科光学技术有限公司 一种具有表面周期性微纳结构的辐射制冷薄膜及制备方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2432484A (en) * 1943-03-12 1947-12-09 American Optical Corp Reflection reducing coating having a gradually increasing index of refraction
US2628921A (en) * 1949-04-18 1953-02-17 Libbey Owens Ford Glass Co Method of producing an intermediate metallic oxide film in a multiple layer articles
US4004851A (en) * 1965-08-24 1977-01-25 Hirokazu Negishi Optical device with means for reducing internal reflections
LU49381A1 (ja) * 1965-08-24 1968-08-01
US3871881A (en) * 1973-02-12 1975-03-18 Minnesota Mining & Mfg Coated aluminum substrates having a binder of aluminum hydroxyoxide
GB1462618A (en) * 1973-05-10 1977-01-26 Secretary Industry Brit Reducing the reflectance of surfaces to radiation
US3842306A (en) * 1973-06-21 1974-10-15 Gen Electric Alumina coatings for an electric lamp
US4005698A (en) * 1974-10-18 1977-02-01 International Business Machines Corporation Photon energy converter
US3957197A (en) * 1975-04-25 1976-05-18 The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration Centrifuge apparatus
DE2658418A1 (de) * 1976-12-23 1978-06-29 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Verfahren zur herstellung von antireflexschichten auf acrylglaesern, nach dem verfahren hergestellter optischer koerper und verwendung des optischen koerpers

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006259711A (ja) * 2005-02-18 2006-09-28 Canon Inc 光学用透明部材及びそれを用いた光学系
US8778450B2 (en) 2007-01-22 2014-07-15 Canon Kabushiki Kaisha Optical member and method of manufacturing the same
US8999488B2 (en) 2007-01-22 2015-04-07 Canon Kabushiki Kaisha Optical member and method of manufacturing the same
US8163333B2 (en) 2007-02-20 2012-04-24 Canon Kabushiki Kaisha Optical member, optical system using the optical member, and method of manufacturing an optical member
US8084082B2 (en) 2007-02-20 2011-12-27 Canon Kabushiki Kaisha Optical member, optical system using the optical member, and method of manufacturing an optical member
US8034437B2 (en) 2007-02-20 2011-10-11 Canon Kabushiki Kaisha Optical member, optical system using the optical member, and method of manufacturing an optical member
JP2011081406A (ja) * 2007-02-20 2011-04-21 Canon Inc 光学用部材、それを用いた光学系
US7771832B2 (en) 2007-02-20 2010-08-10 Canon Kabushiki Kaisha Optical member, optical system using the optical member, and method of manufacturing an optical member
US8541049B2 (en) 2007-02-20 2013-09-24 Canon Kabushiki Kaisha Optical member, optical system using the optical member, and method of manufacturing an optical member
WO2012035716A1 (ja) * 2010-09-17 2012-03-22 富士フイルム株式会社 光電場増強デバイス
WO2012035717A1 (ja) * 2010-09-17 2012-03-22 富士フイルム株式会社 光電場増強デバイスを用いた光の測定方法および測定装置
JP2012063294A (ja) * 2010-09-17 2012-03-29 Fujifilm Corp 光電場増強デバイスを用いた光の測定方法および測定装置
JP2012063293A (ja) * 2010-09-17 2012-03-29 Fujifilm Corp 光電場増強デバイス
CN103109179A (zh) * 2010-09-17 2013-05-15 富士胶片株式会社 光电场增强设备
WO2012127744A1 (ja) 2011-03-18 2012-09-27 富士フイルム株式会社 光学部材及びその製造方法
US9459379B2 (en) 2011-03-18 2016-10-04 Fujifilm Corporation Optical member and method for producing same
JP2012198090A (ja) * 2011-03-22 2012-10-18 Fujifilm Corp 光電場増強デバイスおよび該デバイスを備えた測定装置
CN103430012A (zh) * 2011-03-22 2013-12-04 富士胶片株式会社 光电场增强装置和配备有该装置的测量设备
WO2012127841A1 (ja) * 2011-03-22 2012-09-27 富士フイルム株式会社 光電場増強デバイスおよび該デバイスを備えた測定装置
CN103430012B (zh) * 2011-03-22 2016-06-22 富士胶片株式会社 光电场增强装置和配备有该装置的测量设备
JP2012211839A (ja) * 2011-03-31 2012-11-01 Fujifilm Corp 光電場増強デバイスの製造方法
WO2012132385A1 (ja) * 2011-03-31 2012-10-04 富士フイルム株式会社 光電場増強デバイスの製造方法
WO2012160774A1 (ja) * 2011-05-20 2012-11-29 富士フイルム株式会社 ラマン分光測定装置、並びにラマン分光測定装置用光ファイバおよびその作製方法

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Publication number Publication date
IT1104102B (it) 1985-10-14
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