JPS61170702A - 光学薄膜の製作方法 - Google Patents
光学薄膜の製作方法Info
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- JPS61170702A JPS61170702A JP60011070A JP1107085A JPS61170702A JP S61170702 A JPS61170702 A JP S61170702A JP 60011070 A JP60011070 A JP 60011070A JP 1107085 A JP1107085 A JP 1107085A JP S61170702 A JPS61170702 A JP S61170702A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G02B1/105—
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、紫夕１から赤句域で動作する高出力レーザー
・システム用光学素子の反りｊ防止膜、高出力レーザー
用偏光子や反射鏡のレーザー耐力を向上させるための薄
膜、薄形テレビの石英画面に製作する反射防止膜、ワー
プロや電子計算侵等のディスプレイ画面の輝やきを暖和
するための目の保護用フィルター上に製作する反射防止
膜および反射増加膜などに用いる光学薄膜の製作方法１
て関するものである。
・システム用光学素子の反りｊ防止膜、高出力レーザー
用偏光子や反射鏡のレーザー耐力を向上させるための薄
膜、薄形テレビの石英画面に製作する反射防止膜、ワー
プロや電子計算侵等のディスプレイ画面の輝やきを暖和
するための目の保護用フィルター上に製作する反射防止
膜および反射増加膜などに用いる光学薄膜の製作方法１
て関するものである。
従来の技術
従来、反射防止膜を製作する方法を大別すると。
真空蒸着法と化学的方法とがある。真空蒸着法による反
射防止膜は、蒸着基板上に基板の屈折率より低い膜厚λ
／４（λ：入射尤の波長）の蒸着物質を付着させて製作
する単層膜、或いは低屈折率と高屈折率の蒸着物質を２
層以上蒸着して製作する多層膜が用いられている〜この
反射防止膜に・ ′−ザー耐力が低い、広帯域の反射防
止膜を製作ス６（′Ｃ“３層以上０蒸着力；北・妄であ
る等の欠７へをイ■する。
射防止膜は、蒸着基板上に基板の屈折率より低い膜厚λ
／４（λ：入射尤の波長）の蒸着物質を付着させて製作
する単層膜、或いは低屈折率と高屈折率の蒸着物質を２
層以上蒸着して製作する多層膜が用いられている〜この
反射防止膜に・ ′−ザー耐力が低い、広帯域の反射防
止膜を製作ス６（′Ｃ“３層以上０蒸着力；北・妄であ
る等の欠７へをイ■する。
例ｔ ケ、ｒｌｉ長１．０６ ｔｔｍ 、 ０．５３
ａｍ 、 ０．３５μｍ（パルス幅；１ｎｓ）に対する
多層の反射防止膜のレーザー耐力は、それぞれ４〜６
Ｊ／ｃＡ 、 ３〜４ Ｊ／ｃｒＩ。
ａｍ 、 ０．３５μｍ（パルス幅；１ｎｓ）に対する
多層の反射防止膜のレーザー耐力は、それぞれ４〜６
Ｊ／ｃＡ 、 ３〜４ Ｊ／ｃｒＩ。
１〜２Ｊ／ｃａ程度であり、高出力紫ダレーザーに対し
て損傷を受けやすい。
て損傷を受けやすい。
化学的方法は、米国ショット社のコックに：ｏ ｏｋ
）らが開発した方法で、硼珪クラウンガラス（通称ＢＫ
−７）を準中注溶液で表面を処理することによしてガラ
ス表面に多孔性薄膜を形成して、反射防止膜を製作する
方法である。この薄膜の詳細は、Ｌ、Ｍ、Ｃｏｏｋ ｅ
ｔ ａｊ、 Ｊ、Ａｍｅｒｉｃａｎ （：ｅｒａｍｉｃ
ＳＯＣ，、Ｖｏｄ。
）らが開発した方法で、硼珪クラウンガラス（通称ＢＫ
−７）を準中注溶液で表面を処理することによしてガラ
ス表面に多孔性薄膜を形成して、反射防止膜を製作する
方法である。この薄膜の詳細は、Ｌ、Ｍ、Ｃｏｏｋ ｅ
ｔ ａｊ、 Ｊ、Ａｍｅｒｉｃａｎ （：ｅｒａｍｉｃ
ＳＯＣ，、Ｖｏｄ。
６５ 、Ａ９ ｃ １５２ Ｃ１５５頁（１７８２）
を参照して見ることができ、不方法で製作された反射防
止膜は、広帯域でちり指定された波長における表面での
最小反射率は０．１チ以下とすることが可能であり、レ
ーザー耐力も波長１．０６μｍと０．５３μｍに討して
それぞれｌＯＪ／濯以上の値を示し良好な性能？有して
いるが、０．４５μｍ以下の波長のレーザー＋で灼して
使用が困難、表面が機械的に弱り等の問題点がちる。
を参照して見ることができ、不方法で製作された反射防
止膜は、広帯域でちり指定された波長における表面での
最小反射率は０．１チ以下とすることが可能であり、レ
ーザー耐力も波長１．０６μｍと０．５３μｍに討して
それぞれｌＯＪ／濯以上の値を示し良好な性能？有して
いるが、０．４５μｍ以下の波長のレーザー＋で灼して
使用が困難、表面が機械的に弱り等の問題点がちる。
一方、米国ローレンス・リバモア国立研究所のミラム（
Ｍｉｌａｍ）らは、高出力紫りｉレーザー用の高面）力
反ｆ防止ｚ１として、ゾルケ゛ル法を甲いて石英基板上
に多孔性／リカ膜を製作した。この多孔性シリカ膜は、
指定された波長での反射率は０．５壬以下であり、波長
０．３５μｍ、パルス幅０．６ｎｓ に対するレーザ
ー耐力は６〜９Ｊ／ｌｔｌであり、真空蒸着膜の３倍以
上の耐力を有するが、表面が機械的１て弱いという問題
点があ６゜この多孔性シリカ膜の′詳細（・了、Ｄ、Ｍ
ｉｌａｍ ｅｔ ａｄ 、 ＣＬＥＯ’８−１ Ｔｅｃ
ｈｎｉｃａｌＤｉｇｅｓｔ 、ＴＨＢ ２ （１９８４
）で見ることができる。
Ｍｉｌａｍ）らは、高出力紫りｉレーザー用の高面）力
反ｆ防止ｚ１として、ゾルケ゛ル法を甲いて石英基板上
に多孔性／リカ膜を製作した。この多孔性シリカ膜は、
指定された波長での反射率は０．５壬以下であり、波長
０．３５μｍ、パルス幅０．６ｎｓ に対するレーザ
ー耐力は６〜９Ｊ／ｌｔｌであり、真空蒸着膜の３倍以
上の耐力を有するが、表面が機械的１て弱いという問題
点があ６゜この多孔性シリカ膜の′詳細（・了、Ｄ、Ｍ
ｉｌａｍ ｅｔ ａｄ 、 ＣＬＥＯ’８−１ Ｔｅｃ
ｈｎｉｃａｌＤｉｇｅｓｔ 、ＴＨＢ ２ （１９８４
）で見ることができる。
発明が解決しようとする問題点
本発明の目的（１、このような問題点全解決しようとす
るもので、レーザー耐力が高い、表面が機械的に強い、
広帯域、紫対かも１ＩＡｔでの高出力レーザーと言むレ
ーザー・／ステム用元学素子や九学機器用元学素子等の
表面に製作できる、などｔ特徴とする多孔性薄膜の製作
方法である。
るもので、レーザー耐力が高い、表面が機械的に強い、
広帯域、紫対かも１ＩＡｔでの高出力レーザーと言むレ
ーザー・／ステム用元学素子や九学機器用元学素子等の
表面に製作できる、などｔ特徴とする多孔性薄膜の製作
方法である。
本発明の他の目的は、小さな物から大きなχ」象物に対
して多孔性薄膜を製作することにある。
して多孔性薄膜を製作することにある。
本発明のさらに他の目的は、形成した多孔性薄膜が損傷
したときに基板表面を傷めることなくその膜を除去する
方法を提供することにある。
したときに基板表面を傷めることなくその膜を除去する
方法を提供することにある。
問題点を解決するための手段
本発明は、屈折率の異なる２種類以上の蒸着物質を基板
２上に同時に蒸着して混合膜を形成し、この混合膜を水
または水溶液で処理することによって蒸着物質の一部を
除去し、多孔性Ｖｆ膜１を製作する。混合膜を製作する
ための蒸着としては、真空蒸着法、スパッタリング蒸着
法、化学的蒸着法等の方法を用いることができる。蒸着
物質としては、Ａｌ２Ｏ３、ｃｅｏ２＋ ＨｆＯ２、５
ｉ０２ 、 Ｔａ２０５ 、 ＴｈＣ１２。
２上に同時に蒸着して混合膜を形成し、この混合膜を水
または水溶液で処理することによって蒸着物質の一部を
除去し、多孔性Ｖｆ膜１を製作する。混合膜を製作する
ための蒸着としては、真空蒸着法、スパッタリング蒸着
法、化学的蒸着法等の方法を用いることができる。蒸着
物質としては、Ａｌ２Ｏ３、ｃｅｏ２＋ ＨｆＯ２、５
ｉ０２ 、 Ｔａ２０５ 、 ＴｈＣ１２。
ＴｉＯ２＋ ＺｒＯ２，ＡｌＦ３． ＣａＦ２． Ｌｉ
Ｆ 、 ＭｇＦ２． ＮａＦ 。
Ｆ 、 ＭｇＦ２． ＮａＦ 。
Ｎａ３１？Ｆ２． ＬａＦ３ 、５ｃ２ｏ３． ＳｒＦ
２ 、 ＳｉＯ、ＢａＦ２ ＊ Ｙ２Ｏ３゜ＺｎＳ 、
Ｚｎ５ｅ 、 Ｇｅ 、 Ｓｉ等の各種物質が可能テ
ある。
２ 、 ＳｉＯ、ＢａＦ２ ＊ Ｙ２Ｏ３゜ＺｎＳ 、
Ｚｎ５ｅ 、 Ｇｅ 、 Ｓｉ等の各種物質が可能テ
ある。
蒸着用基板２としてｉ’ｊ：三に、プラス、その他生導
体、プラスチック、金属も使用できる。
体、プラスチック、金属も使用できる。
製作されｆ−ｃ混合膜を処理液を使って多孔性の薄膜１
を製作するが、処理液の種類は除去する物質によって異
なり、水溶性の物質を除去するには純水や超純水等を用
いる。また、物質によっては０．０１〜１％程度のＨＦ
やＨＣ１溶液、或いは０．０１〜１チ程度のＮａＯＨ溶
液、さらＫはこれらの水溶液に多価カチオンを１×ｌＯ
〜１×ｌＯモル混入した処理液を用いる。
を製作するが、処理液の種類は除去する物質によって異
なり、水溶性の物質を除去するには純水や超純水等を用
いる。また、物質によっては０．０１〜１％程度のＨＦ
やＨＣ１溶液、或いは０．０１〜１チ程度のＮａＯＨ溶
液、さらＫはこれらの水溶液に多価カチオンを１×ｌＯ
〜１×ｌＯモル混入した処理液を用いる。
処理時間は、除去する物質に大きく依存し、１０秒〜１
５時間、処理温度は０〜９５°Ｃで行なう。
５時間、処理温度は０〜９５°Ｃで行なう。
製作された多孔性薄膜ｌの屈折率はミ蒸着物質の混合比
に応じて第１〜３図のようになる。第１〜３図でｎａは
空気と多孔性薄膜ｌの境界における薄膜の屈折率、［は
薄膜ｌと基板２の境界における薄膜の屈折率、ｎｓは基
板２の屈折率である。第１〜３図（ｂ）に第１〜３図（
ａ）の屈折率変化に対応した反射特性を示す。第３図（
ωのような不均質膜が製作できると、紫外〜赤乞域にか
けて使用できる非常に広帯域の理想的な反射防止膜が得
られる。
に応じて第１〜３図のようになる。第１〜３図でｎａは
空気と多孔性薄膜ｌの境界における薄膜の屈折率、［は
薄膜ｌと基板２の境界における薄膜の屈折率、ｎｓは基
板２の屈折率である。第１〜３図（ｂ）に第１〜３図（
ａ）の屈折率変化に対応した反射特性を示す。第３図（
ωのような不均質膜が製作できると、紫外〜赤乞域にか
けて使用できる非常に広帯域の理想的な反射防止膜が得
られる。
混合膜の膜厚は、λ／４（λ：指定された人！１尤の波
長）Ｇ′こすｔ′Ｌば、指定の波長で１゛ｄ小の反射率
となり、反射防止膜として＠１１ヒする。
長）Ｇ′こすｔ′Ｌば、指定の波長で１゛ｄ小の反射率
となり、反射防止膜として＠１１ヒする。
基板２上（て製作した多孔性薄膜１が！−ａ械的番て或
いは高出力レーザー元等で損傷した場合は、ＰＨ６，０
〜９６０、温度２０〜３０℃の酸性またはアルカリ水溶
液で後処理することによって、基板２を傷めることなく
除去できる。
いは高出力レーザー元等で損傷した場合は、ＰＨ６，０
〜９６０、温度２０〜３０℃の酸性またはアルカリ水溶
液で後処理することによって、基板２を傷めることなく
除去できる。
作 用
本発明の方法で製作された多孔性薄膜の反射率は以下の
ような式で記述できる。ｉｔ図（ａ）のように屈折率が
一定である場合の垂直入射における反射率Ｒｓ は古
典的な式（１）により与えられる〇第２．３図（ωのよ
うに屈折率勾配を持つ場合の反射：＄Ｒｒ はシュロ
ーダ−（５ｃｈｒｏ’ｄｅｒ ） ＶＣより旬告され
ており、（２）式で与えられる。
ような式で記述できる。ｉｔ図（ａ）のように屈折率が
一定である場合の垂直入射における反射率Ｒｓ は古
典的な式（１）により与えられる〇第２．３図（ωのよ
うに屈折率勾配を持つ場合の反射：＄Ｒｒ はシュロ
ーダ−（５ｃｈｒｏ’ｄｅｒ ） ＶＣより旬告され
ており、（２）式で与えられる。
〜２π
ここに、δ、） −−（ｎａ＋ｎ２）ｄであり、ｄＶｉ
薄膜薄 膜厚さを示す。
薄膜薄 膜厚さを示す。
本発明は、ガラス、プラスチック、半導体、金属等あら
ゆる基板２に前記のような方法で多孔性薄膜ｌを製作で
き、この膜があらゆる波長範囲にわたって反射防止膜と
して機能するため、紫列から赤劉域において使用される
レンズ、窓などのような光学素子に適用可能である。応
用分野としては、レーザー、光通信、写真、情報機器が
考えられる。
ゆる基板２に前記のような方法で多孔性薄膜ｌを製作で
き、この膜があらゆる波長範囲にわたって反射防止膜と
して機能するため、紫列から赤劉域において使用される
レンズ、窓などのような光学素子に適用可能である。応
用分野としては、レーザー、光通信、写真、情報機器が
考えられる。
つぎに、実施例を示すが、これらは本発明の説明のため
１て記すのであシ、−何ら本発明゛を限定するものでは
ない。
１て記すのであシ、−何ら本発明゛を限定するものでは
ない。
実施例１
蒸着物質として８１０２とＮａＦを用いて混合膜ｔＳ作
し、この混合膜を３０℃の超純水を用いた処理によって
ＮａＦを除去し、多孔性のシリカ薄膜を石英基板の片面
に製作した場合の透過率変化特注を第４図に示す。この
膜は、０．３５μｍの高出力紫タル−ザー用の反射防止
膜を目的として製作したもので、０．３５μｍの元に対
して反射率ｉｉ０．３％以下であり、単層膜であるにも
かかわらず３００ＯＡの範囲にわたって反射率は１壬以
下という広帯域特性を示し、レーザー耐力は波長０．３
５１１ｍ、パルスｊ喝０．４ｎｓのパルスに灯して６〜
８Ｊ／ｃＪであり、真空蒸着膜の３〜４倍となった。表
面の機械的強度に、レンズクリーニングペーパーによる
クリーニングに対して傷つくことがなく真空蒸着膜と間
程度の強度を持ち、既述の化学的処理法或いはゾルグル
法で製作された反射防止膜より格段に強い。
し、この混合膜を３０℃の超純水を用いた処理によって
ＮａＦを除去し、多孔性のシリカ薄膜を石英基板の片面
に製作した場合の透過率変化特注を第４図に示す。この
膜は、０．３５μｍの高出力紫タル−ザー用の反射防止
膜を目的として製作したもので、０．３５μｍの元に対
して反射率ｉｉ０．３％以下であり、単層膜であるにも
かかわらず３００ＯＡの範囲にわたって反射率は１壬以
下という広帯域特性を示し、レーザー耐力は波長０．３
５１１ｍ、パルスｊ喝０．４ｎｓのパルスに灯して６〜
８Ｊ／ｃＪであり、真空蒸着膜の３〜４倍となった。表
面の機械的強度に、レンズクリーニングペーパーによる
クリーニングに対して傷つくことがなく真空蒸着膜と間
程度の強度を持ち、既述の化学的処理法或いはゾルグル
法で製作された反射防止膜より格段に強い。
不発明で製作された多孔性ｉ？膜は、各方法で製作され
た膜の全ての利点を備えていることが証明された。
た膜の全ての利点を備えていることが証明された。
実施例２
実施例１と同じ方法で、大阪大学の高出力レーザー「激
Ｘム１０号」で使用する阪長帆３５μｍ用反射防止膜を
石英ウィンドーガラス（直径’１．４ ｃｒｔ、 ）２
枚、真空シール石英ガラス（直径’１３ ｃｍ ） ２
枚、非球面石英レンズ（ｆ／３、直径２２ Ｃｆｆ１
） ２枚、ブラストシールドガラス（直径２２１ｍ）２
枚に製作したところ、反射率１−１０．５へ・１ｑ６、
し〜デー耐力は６〜８Ｊ／ｃｒｌ ｆ示し、膜表面の
機械的強度も賜く、充分に高出力紫外レーザー用反射防
止膜として実用できる見通しを得た。
Ｘム１０号」で使用する阪長帆３５μｍ用反射防止膜を
石英ウィンドーガラス（直径’１．４ ｃｒｔ、 ）２
枚、真空シール石英ガラス（直径’１３ ｃｍ ） ２
枚、非球面石英レンズ（ｆ／３、直径２２ Ｃｆｆ１
） ２枚、ブラストシールドガラス（直径２２１ｍ）２
枚に製作したところ、反射率１−１０．５へ・１ｑ６、
し〜デー耐力は６〜８Ｊ／ｃｒｌ ｆ示し、膜表面の
機械的強度も賜く、充分に高出力紫外レーザー用反射防
止膜として実用できる見通しを得た。
実施例３
ｅ長１．０６μｍ用の反射防止膜として、ＢＫ−７基板
上に５ＩＯ２とＮａＦ’の混合膜を蒸着し、この混合膜
を２５℃の超純水で処理することＫよってＮａＦｋ除去
し、多孔性のシリカ薄膜を製作したところ、１．０６μ
ｍでの反射率は帆１％、レーザー耐力は波長１．０６μ
ｍ、パルス福１ｎｓのレーザーパルスに対して１３Ｊ／
ｃＪであり、この値は真空蒸着法で製作した高出力レー
ザー用反射防止膜の３倍以上となる。この結果、本発明
で表作された多孔性薄膜は赤め域の高出力レーザー用反
射防止膜として使用可ｎヒであることが証明された。
上に５ＩＯ２とＮａＦ’の混合膜を蒸着し、この混合膜
を２５℃の超純水で処理することＫよってＮａＦｋ除去
し、多孔性のシリカ薄膜を製作したところ、１．０６μ
ｍでの反射率は帆１％、レーザー耐力は波長１．０６μ
ｍ、パルス福１ｎｓのレーザーパルスに対して１３Ｊ／
ｃＪであり、この値は真空蒸着法で製作した高出力レー
ザー用反射防止膜の３倍以上となる。この結果、本発明
で表作された多孔性薄膜は赤め域の高出力レーザー用反
射防止膜として使用可ｎヒであることが証明された。
実施例４１
波長０．５μｍ用の反射防止膜として、ＢＫ−７基板上
トてＳｉＯ２とＮａＦの混合膜を蒸着し、この混合膜を
２５°′Ｃの超純水で処理することによって多孔性Ｉ）
’ｉ ｌＪ力薄膜を製作したところ・ Ｑ、５ｔ１ｍ
′ｃ″）反ＨｍＨ０，３％ レーザー耐カ１グ０・
５３“・７２７幅ｔｎｓ （７）Ｌ／−ｆ−ｚ＜、ｖ
ｘｉｃ［ｌ、て１２Ｊ／７であり、充分例高い値を示し
た。
トてＳｉＯ２とＮａＦの混合膜を蒸着し、この混合膜を
２５°′Ｃの超純水で処理することによって多孔性Ｉ）
’ｉ ｌＪ力薄膜を製作したところ・ Ｑ、５ｔ１ｍ
′ｃ″）反ＨｍＨ０，３％ レーザー耐カ１グ０・
５３“・７２７幅ｔｎｓ （７）Ｌ／−ｆ−ｚ＜、ｖ
ｘｉｃ［ｌ、て１２Ｊ／７であり、充分例高い値を示し
た。
実施例５
温度２５℃・濃度０・Ｏ１壬のＨＦ水啓液をイ吏クチ実
施例１で製作した多孔性シリカ膜を後処理したところ、
石英基板に何ら損傷を与えることなく多孔性シリカ膜を
除去でき、除去した基板に多孔性シリカ薄膜を再び製作
でき、元学的注能に全く変化がなかった。
施例１で製作した多孔性シリカ膜を後処理したところ、
石英基板に何ら損傷を与えることなく多孔性シリカ膜を
除去でき、除去した基板に多孔性シリカ薄膜を再び製作
でき、元学的注能に全く変化がなかった。
発明の効果
この発明の効果として番は、本発明の多孔性薄膜１・１
、レーザー耐力が高く、表面が機械的に強い広帯域です
ぐれた反射防止効果をもつ特徴を有し、紫外から赤ＩＡ
までの高出力レーザーを宮むレーザーシステムや各種光
学機器において、ガラスその他生導体、プラスチック、
金属を基板材料とする光学素子表面に各種蒸着物質を選
択的に適用可能ならしめると共に、前記形成した多孔性
薄膜が損傷したとき、基板表面を傷めることなく、該薄
膜の除去処理を可能とする等の各種の特徴を発揮するも
のである。
、レーザー耐力が高く、表面が機械的に強い広帯域です
ぐれた反射防止効果をもつ特徴を有し、紫外から赤ＩＡ
までの高出力レーザーを宮むレーザーシステムや各種光
学機器において、ガラスその他生導体、プラスチック、
金属を基板材料とする光学素子表面に各種蒸着物質を選
択的に適用可能ならしめると共に、前記形成した多孔性
薄膜が損傷したとき、基板表面を傷めることなく、該薄
膜の除去処理を可能とする等の各種の特徴を発揮するも
のである。
第１〜３図（ａ＞は、基板上に表作された多孔性薄膜の
屈折率変化を示す概略説明図、第１〜３図（ｂ）は、第
１〜３図（ａ＞のような屈折率を持っ薄膜の波長に対す
る反射率の変化を示すグラフ、第４図は石英基板の片面
に多孔性シリカ薄膜が製作された場合の波長に対する石
英基板の透過率の変化を示すグラフである。 特許出願人 吉 １） 国 雄 四 山 中 千代 循回
昭和元機製造株式会社 第 １図 （σ） （ｂノ ン皮＆（）ｔｍノ 図面の浄書（内容に変更なし） 第２図 （Ｃ） １叛 （ｂノ ブ−Ｗｃ ｒｐｍ） 第３図 （σ） （ｂノ シ堵 長 （ｐｍ〕 第４８！！ ０．２ ０，３ ０，４ ０．５
０．６ ０．７沫＋ｔＣ１ｍ） 手続ネ甫正書（方式） ％式％ １、事件の表示 特願昭６０−１１０７０号２、発明
の名称 多孔性薄膜の製作方法３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 ほか２名 ５、補正命令の日付 昭和６０年４月３０日（発送日）
）ヤー ７、補正の内容 １９本願明細書第１３頁の図面の簡単な説明の記載を、
以下のとおり補正します。 ［図面は本発明の実施態様を示すもので、第１図（ａ
）は基板による多孔性薄膜の屈折率変化を示す説明図、
同図（ｂ ）はその反射率のグラフ図、第２図（ａ ）
は基板に対し多孔性薄膜が直線的に減少するような場合
の屈折率変化を示す説明図、同図（ｂ ）はその反射率
のグラフ図、第３図（ａ ）は多孔性薄膜が基板の屈折
率と均等である場合の屈折率変化を示す説明図、同図（
ｂ ）はその反射率のグラフ図、第４図は石英基板に製
作された多孔性シリカ薄膜の透過率のグラフ図である。 」２、代理権を証明する書面および図面（第２図）は別
紙のとおり 手 続 補 正 書 昭和６０年１０月１ 日
屈折率変化を示す概略説明図、第１〜３図（ｂ）は、第
１〜３図（ａ＞のような屈折率を持っ薄膜の波長に対す
る反射率の変化を示すグラフ、第４図は石英基板の片面
に多孔性シリカ薄膜が製作された場合の波長に対する石
英基板の透過率の変化を示すグラフである。 特許出願人 吉 １） 国 雄 四 山 中 千代 循回
昭和元機製造株式会社 第 １図 （σ） （ｂノ ン皮＆（）ｔｍノ 図面の浄書（内容に変更なし） 第２図 （Ｃ） １叛 （ｂノ ブ−Ｗｃ ｒｐｍ） 第３図 （σ） （ｂノ シ堵 長 （ｐｍ〕 第４８！！ ０．２ ０，３ ０，４ ０．５
０．６ ０．７沫＋ｔＣ１ｍ） 手続ネ甫正書（方式） ％式％ １、事件の表示 特願昭６０−１１０７０号２、発明
の名称 多孔性薄膜の製作方法３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 ほか２名 ５、補正命令の日付 昭和６０年４月３０日（発送日）
）ヤー ７、補正の内容 １９本願明細書第１３頁の図面の簡単な説明の記載を、
以下のとおり補正します。 ［図面は本発明の実施態様を示すもので、第１図（ａ
）は基板による多孔性薄膜の屈折率変化を示す説明図、
同図（ｂ ）はその反射率のグラフ図、第２図（ａ ）
は基板に対し多孔性薄膜が直線的に減少するような場合
の屈折率変化を示す説明図、同図（ｂ ）はその反射率
のグラフ図、第３図（ａ ）は多孔性薄膜が基板の屈折
率と均等である場合の屈折率変化を示す説明図、同図（
ｂ ）はその反射率のグラフ図、第４図は石英基板に製
作された多孔性シリカ薄膜の透過率のグラフ図である。 」２、代理権を証明する書面および図面（第２図）は別
紙のとおり 手 続 補 正 書 昭和６０年１０月１ 日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光学薄膜の製作において、２種類以上の物質を基板
上に同時に蒸着して混合膜を作成し、この混合膜を水ま
たは水溶液で処理することによって蒸着物質の一部を除
去し、薄膜を多孔性とすることを特徴とする多孔性薄膜
の製作方法。 ２、屈折率の異なる２種類以上の蒸着物質を、真空蒸着
法、スパッタリング蒸着法、化学的蒸着法等により同時
に蒸着することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の多孔性薄膜の製作方法。 ３、混合膜の蒸着は、ガラス、金属、プラスチック、半
導体材料等の基板に対して行うことを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の多孔性薄膜の製作方法。 ４、レーザー・システムの光学素子表面に蒸着処理して
使用されることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の多孔性薄膜の製作方法。 ５、光学機器要素表面の薄膜として使用する特許請求の
範囲第１項記載の多孔性薄膜の製作方法。 ６、ワードプロセッサーや電子計算機のフィルター表面
の薄膜である特許請求の範囲第１項記載の多孔性薄膜の
製作方法。 ７、薄形テレビジョンの石英画面の薄膜である特許請求
の範囲第１項記載の多孔性薄膜の製作方法。 ８、光学薄膜の製作において、２種類以上の物質を同時
に蒸着した基板上の薄膜を、水またはｐＨ５．０〜９．
０の水溶液で処理することを特徴とする多孔性薄膜の製
作方法。 ９、処理温度が０〜９５℃、処理時間が１０秒〜１５時
間である特許請求の範囲第８項の多孔性薄膜の製作方法
。 １０、多孔性薄膜製作の後に、ｐＨ６．０〜９．０の水
溶液で製作された薄膜を後処理して膜を除去することを
特徴とする特許請求の範囲第８項記載の多孔性薄膜の製
作方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60011070A JPS61170702A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 光学薄膜の製作方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60011070A JPS61170702A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 光学薄膜の製作方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61170702A true JPS61170702A (ja) | 1986-08-01 |
| JPH0552923B2 JPH0552923B2 (ja) | 1993-08-06 |
Family
ID=11767717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60011070A Granted JPS61170702A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 光学薄膜の製作方法 |
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