JP2008076726A - 多孔性薄膜の製造方法、多孔性薄膜を備えた光学部材及びその製造方法 - Google Patents
多孔性薄膜の製造方法、多孔性薄膜を備えた光学部材及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008076726A JP2008076726A JP2006255527A JP2006255527A JP2008076726A JP 2008076726 A JP2008076726 A JP 2008076726A JP 2006255527 A JP2006255527 A JP 2006255527A JP 2006255527 A JP2006255527 A JP 2006255527A JP 2008076726 A JP2008076726 A JP 2008076726A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- porous thin
- optical member
- manufacturing
- porous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
【解決手段】多孔性薄膜の製造方法は、ガラス基材の表面に設けられた多孔性薄膜の製造方法であって、ガラス基材の表面に蒸着によって薄膜を形成するステップと、ガラス基材の表面に形成した薄膜に空孔を形成するステップと、を備える。
【選択図】図3
Description
性薄膜の両表面に形成してもよい。
次に、本発明の実施形態に係る多孔性薄膜を備えた光学部材について、反射防止膜を例にして、図面を用いて詳細に説明する。
図1は、多孔性薄膜10を備えた反射防止膜20の断面図を示す。
次に、多孔性薄膜10及び反射防止膜20の製造方法を図面を用いて詳細に説明する。
てもよい。
多孔性薄膜の分光特性を調べるための評価試験を、実施形態に示したのと同一構成の多孔性薄膜を備えた光学部材を用いて行った。
まず、実施例として以下に示すように作製した光学部材Aを準備した。
上述のように作製した、沸騰水中の浸漬時間の異なる3種類の実施例に係る光学部材A(1)〜(3)、及び、比較例に係る光学部材B,C、さらに、沸騰水処理を施す前の実施例に係る光学部材A(0)、温水処理を施した光学部材A(4),(5)について、図5に示す実験装置によって、それらの入射光の波長と薄膜の反射率との関係を調べた。
上述の実験結果を図6〜8に示す。
を270分間施した光学部材A(3)に至っては、波長が1064nmにおける反射率が約0.27%(屈折率約1.27)まで低下している。このため、沸騰水処理が薄膜中に空孔を形成して多孔性にする手段として効果的であることがわかる。さらに、最も反射率が低下した光学部材A(3)において、反射率が0.5017%のときの屈折率は1.293であり、反射率が0.4956%のときの屈折率は1.292であった。このため、反射率が0.5%以下である光学部材A(3)の多孔性薄膜の屈折率は1.292以下であることがわかる。
本発明の実施形態に係る多孔性薄膜10の製造方法は、ガラス基材30の表面に設けられた多孔性薄膜の製造方法であって、ガラス基材30の表面に蒸着によって薄膜を形成するステップと、ガラス基材30の表面に形成した薄膜に空孔を形成するステップと、を備えたことを特徴とする。
成するため、薄膜への空孔の形成が容易となる。
10の剥離を抑制することができる。
20 反射防止膜
30 ガラス基材
40 補助部材
50 バリア部材
Claims (16)
- 基材の表面に設けられた多孔性薄膜の製造方法であって、
上記基材の表面に蒸着によって薄膜を形成するステップと、
上記基材の表面に形成した薄膜に空孔を形成するステップと、
を備えた多孔性薄膜の製造方法。 - 請求項1に記載された多孔性薄膜の製造方法において、
上記蒸着が真空蒸着である多孔性薄膜の製造方法。 - 請求項1に記載された多孔性薄膜の製造方法において、
上記空孔は、上記薄膜を80℃以上の温水中に所定時間浸漬することにより形成する多孔性薄膜の製造方法。 - 請求項3に記載された多孔性薄膜の製造方法において、
上記温水中に浸漬した薄膜に対し、該温水中でその表面に気泡を所定時間供給する多孔性薄膜の製造方法。 - 請求項4に記載された多孔性薄膜の製造方法において、
上記空孔は、上記薄膜を沸騰水中に所定時間浸漬することにより形成する多孔性薄膜の製造方法。 - 請求項1に記載された多孔性薄膜の製造方法において、
上記薄膜を、SiO2、MgF2、CaF2又はAl2O3で形成する多孔性薄膜の製造方法。 - 基材を準備するステップと、
上記基材の表面に蒸着によって薄膜を形成するステップと、
上記基材の表面に形成した薄膜に空孔を形成して多孔性薄膜を形成するステップと、
を有する多孔性薄膜を備えた光学部材の製造方法。 - 請求項7に記載された多孔性薄膜を備えた光学部材の製造方法において、
上記多孔性薄膜の少なくとも一方の表面に、該多孔性薄膜への水分の侵入を規制するバリア部材をさらに形成する多孔性薄膜を備えた光学部材の製造方法。 - 請求項8に記載された多孔性薄膜を備えた光学部材の製造方法において、
上記バリア部材を、上記多孔性薄膜の両表面に形成する多孔性薄膜を備えた光学部材の製造方法。 - 請求項7に記載された多孔性薄膜を備えた光学部材の製造方法において、
上記基材と多孔性薄膜との間に、さらに該基材と多孔性薄膜との密着力を高める補助部材を形成する多孔性薄膜を備えた光学部材の製造方法。 - 請求項10に記載された多孔性薄膜を備えた光学部材の製造方法において、
上記補助部材を、上記多孔性薄膜と同一材料で形成する多孔性薄膜を備えた光学部材の製造方法。 - 基材と、該基材の表面に形成された多孔性薄膜と、で構成された多孔性薄膜を備えた光学部材であって、
上記多孔性薄膜の屈折率が約1.292以下である多孔性薄膜を備えた光学部材。 - 請求項12に記載された多孔性薄膜を備えた光学部材において、
上記多孔性薄膜の少なくとも一方の表面に、該多孔性薄膜への水分の侵入を規制するバリア部材が形成されている多孔性薄膜を備えた光学部材。 - 請求項13に記載された多孔性薄膜を備えた光学部材において、
上記バリア部材は、上記多孔性薄膜の両表面に形成されている多孔性薄膜を備えた光学部材。 - 請求項12に記載された多孔性薄膜を備えた光学部材において、
上記基材と多孔性薄膜との間に、さらに該基材と多孔性薄膜との密着力を高める補助部材が形成されている多孔性薄膜を備えた光学部材。 - 請求項15に記載された多孔性薄膜を備えた光学部材において、
上記補助部材は、上記多孔性薄膜と同一材料で形成されている多孔性薄膜を備えた光学部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006255527A JP5060091B2 (ja) | 2006-09-21 | 2006-09-21 | 多孔性薄膜の製造方法、及び多孔性薄膜を備えた光学部材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006255527A JP5060091B2 (ja) | 2006-09-21 | 2006-09-21 | 多孔性薄膜の製造方法、及び多孔性薄膜を備えた光学部材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008076726A true JP2008076726A (ja) | 2008-04-03 |
JP5060091B2 JP5060091B2 (ja) | 2012-10-31 |
Family
ID=39348847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006255527A Expired - Fee Related JP5060091B2 (ja) | 2006-09-21 | 2006-09-21 | 多孔性薄膜の製造方法、及び多孔性薄膜を備えた光学部材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5060091B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102081172A (zh) * | 2009-12-01 | 2011-06-01 | 佳能株式会社 | 光学器件的制备方法 |
KR101088403B1 (ko) | 2009-05-22 | 2011-12-01 | 인하대학교 산학협력단 | 변형 경사 입사각 증착 장치 및 이를 이용한 무반사 광학 박막의 제조 방법, 그리고 무반사 광학 박막 |
CN102928894A (zh) * | 2012-11-26 | 2013-02-13 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 193nmP光大角度减反射薄膜元件的制备方法 |
JP2017010735A (ja) * | 2015-06-19 | 2017-01-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 照明装置 |
JPWO2019225518A1 (ja) * | 2018-05-22 | 2021-04-22 | 富士フイルム株式会社 | 凹凸構造付き基体の製造方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61170702A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-01 | Kunio Yoshida | 光学薄膜の製作方法 |
JPH06167601A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-06-14 | Canon Inc | 多孔質反射防止膜の製造方法 |
JPH09202649A (ja) * | 1996-01-24 | 1997-08-05 | Central Glass Co Ltd | 花弁状透明アルミナ膜及びその形成法 |
JP2002040210A (ja) * | 1995-07-27 | 2002-02-06 | Canon Inc | 反射防止膜及び該反射防止膜を備えた表示装置 |
JP2005022365A (ja) * | 2003-07-02 | 2005-01-27 | Mitsubishi Plastics Ind Ltd | ディスプレイ用光学フィルタ及びディスプレイ表面構造。 |
JP2005195625A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-21 | Pentax Corp | 反射防止膜及び反射防止膜を有する光学素子 |
JP2005243319A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 照明装置 |
JP2005275372A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-10-06 | Canon Inc | 表面に微細な凹凸を有する膜、反射防止膜、それらの製造方法および光学部材 |
JP2006030548A (ja) * | 2004-07-15 | 2006-02-02 | Nec Corp | 光学基板、発光素子、表示装置およびそれらの製造方法 |
JP3122481U (ja) * | 2006-03-30 | 2006-06-15 | 外男 林 | バリアー被膜を備えた金属蒸着加工レンズ |
-
2006
- 2006-09-21 JP JP2006255527A patent/JP5060091B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61170702A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-01 | Kunio Yoshida | 光学薄膜の製作方法 |
JPH06167601A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-06-14 | Canon Inc | 多孔質反射防止膜の製造方法 |
JP2002040210A (ja) * | 1995-07-27 | 2002-02-06 | Canon Inc | 反射防止膜及び該反射防止膜を備えた表示装置 |
JPH09202649A (ja) * | 1996-01-24 | 1997-08-05 | Central Glass Co Ltd | 花弁状透明アルミナ膜及びその形成法 |
JP2005022365A (ja) * | 2003-07-02 | 2005-01-27 | Mitsubishi Plastics Ind Ltd | ディスプレイ用光学フィルタ及びディスプレイ表面構造。 |
JP2005195625A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-21 | Pentax Corp | 反射防止膜及び反射防止膜を有する光学素子 |
JP2005275372A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-10-06 | Canon Inc | 表面に微細な凹凸を有する膜、反射防止膜、それらの製造方法および光学部材 |
JP2005243319A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 照明装置 |
JP2006030548A (ja) * | 2004-07-15 | 2006-02-02 | Nec Corp | 光学基板、発光素子、表示装置およびそれらの製造方法 |
JP3122481U (ja) * | 2006-03-30 | 2006-06-15 | 外男 林 | バリアー被膜を備えた金属蒸着加工レンズ |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101088403B1 (ko) | 2009-05-22 | 2011-12-01 | 인하대학교 산학협력단 | 변형 경사 입사각 증착 장치 및 이를 이용한 무반사 광학 박막의 제조 방법, 그리고 무반사 광학 박막 |
CN102081172A (zh) * | 2009-12-01 | 2011-06-01 | 佳能株式会社 | 光学器件的制备方法 |
JP2011118043A (ja) * | 2009-12-01 | 2011-06-16 | Canon Inc | 光学素子の製造方法 |
CN102081172B (zh) * | 2009-12-01 | 2014-07-09 | 佳能株式会社 | 光学器件的制备方法 |
CN102928894A (zh) * | 2012-11-26 | 2013-02-13 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 193nmP光大角度减反射薄膜元件的制备方法 |
CN102928894B (zh) * | 2012-11-26 | 2015-02-18 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 193nmP光大角度减反射薄膜元件的制备方法 |
JP2017010735A (ja) * | 2015-06-19 | 2017-01-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 照明装置 |
JPWO2019225518A1 (ja) * | 2018-05-22 | 2021-04-22 | 富士フイルム株式会社 | 凹凸構造付き基体の製造方法 |
JP7074849B2 (ja) | 2018-05-22 | 2022-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 凹凸構造付き基体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5060091B2 (ja) | 2012-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5060091B2 (ja) | 多孔性薄膜の製造方法、及び多孔性薄膜を備えた光学部材の製造方法 | |
US8059337B2 (en) | Wave plate with birefringent regions and its manufacturing method | |
JP3905035B2 (ja) | 光学薄膜の形成方法 | |
KR20060104938A (ko) | 레이저 표면 처리 방법 | |
Qi et al. | Development of high-power laser coatings | |
WO2012113787A1 (de) | Verfahren zum fügen von substraten | |
US20110032613A1 (en) | Optical element and method of producing same | |
JP2020098355A (ja) | 光学基板の平坦化 | |
Grinevičiūtė et al. | Highly Resistant Zero‐Order Waveplates Based on All‐Silica Multilayer Coatings | |
US20110129659A1 (en) | Method of producing an optical device | |
JP7227473B2 (ja) | 光学薄膜の製造方法、薄膜形成材料、光学薄膜、及び光学部材 | |
Cosar et al. | Improving the laser damage resistance of oxide thin films and multilayers via tailoring ion beam sputtering parameters | |
JP3608504B2 (ja) | 赤外線レーザ用光学部品の製造方法 | |
JP2015025207A (ja) | 酸化ハフニウム又は酸化ジルコニウム−コーティング | |
Škoda et al. | A study of metal-dielectric mirrors technology with regard to the laser-induced damage threshold | |
Wang et al. | A comparative study of the influence of different post-treatment methods on the properties of HfO2 single layers | |
JP2003114303A (ja) | 光学薄膜の製造方法及び光学薄膜 | |
Tilsch et al. | Effects of thermal annealing on ion-beam-sputtered SiO2 and TiO2 optical thin films | |
JP7410431B2 (ja) | 薄膜形成材料、光学薄膜、及び光学部材 | |
JP5943960B2 (ja) | 偏光ビームスプリッタ、位相板およびバンドパスフィルター | |
DeBell | Ion beam sputtered coatings for high fluence applications | |
JP4454389B2 (ja) | Ndフィルター及びその製造方法 | |
Grinevičiūtė et al. | Anizotropic Optical Coatings for Polarization Control in High-power Lasers | |
Škoda et al. | A comparison of LIDT behavior of metal-dielectric mirrors in ns and ps pulse regime at 1030 nm with regard to the coating technology | |
Temple et al. | 2.8 OPTICAL PROPERTIES OF MIRRORS PREPARED BY ULTRACLEAN dc SPUTTER DEPOSITION |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090831 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110713 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110726 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110901 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120703 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120803 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150810 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |