JPS6147950A - 画像形成方法 - Google Patents
画像形成方法Info
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- JPS6147950A JPS6147950A JP17093484A JP17093484A JPS6147950A JP S6147950 A JPS6147950 A JP S6147950A JP 17093484 A JP17093484 A JP 17093484A JP 17093484 A JP17093484 A JP 17093484A JP S6147950 A JPS6147950 A JP S6147950A
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- JP
- Japan
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- group
- developer
- phenyl
- hydrazine
- silver
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/061—Hydrazine compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
- G03C5/29—Development processes or agents therefor
- G03C5/305—Additives other than developers
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(1)発明の目的
(腫業上の利用分野)
本発明は、画像形成方法に関し、特に高コントラスト写
真画像を安定して与える銀画像形成方法に関する。
真画像を安定して与える銀画像形成方法に関する。
(従来の技術)
一般に、写真製版工程では文字や網分解された写真像ま
た超精密写真製版工程では微細線画像の形成にコントラ
ストの高い写真画像が用いられている。このための成る
種のハロゲン化銀写真感光材料では、極めてコントラス
トの高い写真画像かく粒子の形も揃っていて、かつ塩化
銀の含有率の高い(少なくとも50モルチ以上)塩臭化
銀乳剤からなる感光材料を亜硫酸イオン製置が低いアル
カリ性ハイドロキノン現像液で処理することにより高い
コントラスト、高鮮鋭度、高解像力の画質、例えば、網
点画像あるいは微細線画像を得る方法が行なわれている
。
た超精密写真製版工程では微細線画像の形成にコントラ
ストの高い写真画像が用いられている。このための成る
種のハロゲン化銀写真感光材料では、極めてコントラス
トの高い写真画像かく粒子の形も揃っていて、かつ塩化
銀の含有率の高い(少なくとも50モルチ以上)塩臭化
銀乳剤からなる感光材料を亜硫酸イオン製置が低いアル
カリ性ハイドロキノン現像液で処理することにより高い
コントラスト、高鮮鋭度、高解像力の画質、例えば、網
点画像あるいは微細線画像を得る方法が行なわれている
。
この種のハロゲン化銀感光材料はリス型感光材料として
知られている。
知られている。
写真製版過程には連続階調の原稿?網点画像に変換する
工程、すなわち原稿の連続階調の濃度変化を、該濃度に
比例する面積を有する網点の集合に変換する過程が含ま
れている。
工程、すなわち原稿の連続階調の濃度変化を、該濃度に
比例する面積を有する網点の集合に変換する過程が含ま
れている。
このために上記リス型感光材料を使用して、交線スクリ
ーン又はコンタクトスクリーンを介して原稿の撮影を行
い、ついで現像処理を行うことによって、網点像を形成
させるのである。
ーン又はコンタクトスクリーンを介して原稿の撮影を行
い、ついで現像処理を行うことによって、網点像を形成
させるのである。
このために、微粒子でかつ粒子サイズおよび粒子の形の
そろったハロゲン化銀乳剤を含有するハロゲン化銀写真
感光材料が用いられるが、この種のハロゲン化銀感光材
料を用いた場合でも、一般白黒用現像液で処理した場合
には、網点品質等においてリス型現像液を用いた場合よ
る劣る。そのため、亜硫酸イオン濃度が極めて低く、現
像主薬としてハイドQ−?ノン単葉であるリス型現像液
と呼ばれる現像液で処理される。しかしながらリス凰現
像液は自1!ll酸化を受けやすいことがら保恒性が極
めて悪いため、連続使用の際においても、現像品質を一
定に保つ制御方法が極力求められており、この現像液の
保恒性を改良するために多大の努力がなされて来ている
。
そろったハロゲン化銀乳剤を含有するハロゲン化銀写真
感光材料が用いられるが、この種のハロゲン化銀感光材
料を用いた場合でも、一般白黒用現像液で処理した場合
には、網点品質等においてリス型現像液を用いた場合よ
る劣る。そのため、亜硫酸イオン濃度が極めて低く、現
像主薬としてハイドQ−?ノン単葉であるリス型現像液
と呼ばれる現像液で処理される。しかしながらリス凰現
像液は自1!ll酸化を受けやすいことがら保恒性が極
めて悪いため、連続使用の際においても、現像品質を一
定に保つ制御方法が極力求められており、この現像液の
保恒性を改良するために多大の努力がなされて来ている
。
その改良する方法として、上記リス型現像液の保恒性ゼ
維持するために現像処理による活性度の劣化分を補償す
る補充液(処理疲労補充)と経時による酸化劣化分を補
償する補充液(経時疲労補充)とを別々の補充液を使用
して補充する、いわゆる2液分離補充方式が、写真製版
用自動机像機等で一般的に広(採用されている。しかし
ながら、上記方法は2液の補充バランスのコントロール
を制御する必要があり、装置の点および操作の点で複雑
化するという欠点を有し【いる。
維持するために現像処理による活性度の劣化分を補償す
る補充液(処理疲労補充)と経時による酸化劣化分を補
償する補充液(経時疲労補充)とを別々の補充液を使用
して補充する、いわゆる2液分離補充方式が、写真製版
用自動机像機等で一般的に広(採用されている。しかし
ながら、上記方法は2液の補充バランスのコントロール
を制御する必要があり、装置の点および操作の点で複雑
化するという欠点を有し【いる。
一方、亜硫酸イオン濃度の高い現像液で処理して高コン
トラスト画像を得る方法が知られている。
トラスト画像を得る方法が知られている。
上記方法はハロゲン化銀写真感光材料中にヒドラジン化
合物を含有せしめるものである。
合物を含有せしめるものである。
この方法によれば、現像液中に亜硫酸イオン濃度を高く
保つことができ、保恒性を高めた状態で安定に処理する
ことができる。
保つことができ、保恒性を高めた状態で安定に処理する
ことができる。
しかしながらヒト2ジン化合物を含有するへログ/化銀
写真感光材料に用いる現像液は、良好な網点品質を得る
ためにはp)1値を比較的高くすることが必要なため、
カブリが発生し易く、このカブリを抑えるためにハロゲ
ン化銀乳剤に、カブリ抑制剤、安定剤等を含有させるた
め、網点特に欠点(網点面積が95チである付近の網点
)の7リンジ、揃い、ヌケの状態が悪くなり網点品質の
低下を招いていた。
写真感光材料に用いる現像液は、良好な網点品質を得る
ためにはp)1値を比較的高くすることが必要なため、
カブリが発生し易く、このカブリを抑えるためにハロゲ
ン化銀乳剤に、カブリ抑制剤、安定剤等を含有させるた
め、網点特に欠点(網点面積が95チである付近の網点
)の7リンジ、揃い、ヌケの状態が悪くなり網点品質の
低下を招いていた。
(発明の目的)
本発明の目的は保恒性の良い現像液で現像してカブリが
低く、かつ網点品質の優れた銀画像を形成しうる方法を
提供することであり、また他の目的は、ヒト2ジン化合
物を含有するハロゲン化銀写真感光材料を用いて、カブ
リが低く、かつ網点品質の優れた銀画像を保恒性の良い
現像液によって形成しうる方法を提供することである。
低く、かつ網点品質の優れた銀画像を形成しうる方法を
提供することであり、また他の目的は、ヒト2ジン化合
物を含有するハロゲン化銀写真感光材料を用いて、カブ
リが低く、かつ網点品質の優れた銀画像を保恒性の良い
現像液によって形成しうる方法を提供することである。
(2) 発明の構成
本発明者等は上記技術課題にかんがみて、現像液の処方
と鋭意検討した結果、高濃度の亜硫酸イオンを含む現像
液処方において、カリウムイオン濃度および全陽イオン
中に占めるカリウムイオン濃度の関係において極めて網
点品質の高(なる最適範囲を見い出し、本発明に至った
ものである。
と鋭意検討した結果、高濃度の亜硫酸イオンを含む現像
液処方において、カリウムイオン濃度および全陽イオン
中に占めるカリウムイオン濃度の関係において極めて網
点品質の高(なる最適範囲を見い出し、本発明に至った
ものである。
本発明の目的は、ヒドラジン化合物を含有するハロゲン
化銀写真感光材料を、亜硫酸イオン濃度が0.20グラ
ムイオン/J以上、カリウムイオンが全陽イオンの80
グラムイオンチ以上でかつpHが10〜13である現像
液で処理する画像形成方法によって達成される。
化銀写真感光材料を、亜硫酸イオン濃度が0.20グラ
ムイオン/J以上、カリウムイオンが全陽イオンの80
グラムイオンチ以上でかつpHが10〜13である現像
液で処理する画像形成方法によって達成される。
なお、上記陽イオンはナトリウムイオン、カリウムイオ
ンおよびリテクムイオンをいう(但し、これらの3′M
Mのイオンをすべて含有する必要はない)。
ンおよびリテクムイオンをいう(但し、これらの3′M
Mのイオンをすべて含有する必要はない)。
本発明に用いられるハロゲン化銀写真感光材料(1以下
感光材料とい5)K含まれるヒドラジン化合物は、好ま
しくは下記一般式CI)で表わされる化合物である。
感光材料とい5)K含まれるヒドラジン化合物は、好ま
しくは下記一般式CI)で表わされる化合物である。
一般式 〔1〕
8 □
几−NH−甜−C−B
式中、几は1価の有機残基を表わし、九は水素原子また
は1価の有機残基な表わし、Xは酸素原子またはイオク
原子を表わす。一般式〔1〕で表わされる化合物のうち
、Xが酸素原子であり、かっ几が水素原子である化合物
が更に好ましい。
は1価の有機残基な表わし、Xは酸素原子またはイオク
原子を表わす。一般式〔1〕で表わされる化合物のうち
、Xが酸素原子であり、かっ几が水素原子である化合物
が更に好ましい。
上記Rおよび凡の1価の有機残基としては、芳香族残基
、複索環残基および脂肪族残基が包含される。
、複索環残基および脂肪族残基が包含される。
芳香族残基としては、フェニル基、ナフチル基及びこれ
らに置換基な有するものを含で。該置換基としては例え
ばアルキル基、アルコキシ基、アシルヒドラジノ基、ジ
アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基
、カルボキシル基、ニトロ基、アルキルチオ基、ヒドロ
キ7基、スルホニル基、カルバモイ/’ & 、ハロゲ
ン原子、アシルアミ7基、アルキルアミド基、スルホン
アミド基、チオウレド基など)のついたものを含む。置
換基のついたものの具体例として、例えば、4−メチル
フェニル基、4−エチルフェニル&、4−メトキシフェ
ニル基、4−ドデシルフェニル基、4−ブロモフェニル
基、4−カルボキシフェニル基、4−ジエチルアミノフ
ェニル基、4−ブテルアミドフエニ/I/基、4−オク
チルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基
、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4−(3
−エテルチオウレイド)フェニル基、4−(2−(2,
4’−ジーter t−ブチルフェノキ7)ブチルアミ
ド〕フェニル基、4−(2−(2,4−ジーtert−
ブチ/I/フェノキシ)ブチルアミド〕フエニ/I/基
などを挙げることができる。
らに置換基な有するものを含で。該置換基としては例え
ばアルキル基、アルコキシ基、アシルヒドラジノ基、ジ
アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基
、カルボキシル基、ニトロ基、アルキルチオ基、ヒドロ
キ7基、スルホニル基、カルバモイ/’ & 、ハロゲ
ン原子、アシルアミ7基、アルキルアミド基、スルホン
アミド基、チオウレド基など)のついたものを含む。置
換基のついたものの具体例として、例えば、4−メチル
フェニル基、4−エチルフェニル&、4−メトキシフェ
ニル基、4−ドデシルフェニル基、4−ブロモフェニル
基、4−カルボキシフェニル基、4−ジエチルアミノフ
ェニル基、4−ブテルアミドフエニ/I/基、4−オク
チルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基
、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4−(3
−エテルチオウレイド)フェニル基、4−(2−(2,
4’−ジーter t−ブチルフェノキ7)ブチルアミ
ド〕フェニル基、4−(2−(2,4−ジーtert−
ブチ/I/フェノキシ)ブチルアミド〕フエニ/I/基
などを挙げることができる。
複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、又はセレン原
子のうち少なくとも一つ?有する工員もしくは六員の単
環または縮合環で、これらに置換基がついてもよい。具
体的には例えば、ビロリン環、ピリジン環、キノリン環
、インド−/I/環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾ
ール環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベン
ゾイミダゾール環、チアゾリン環、チアン°−ル璋、ペ
ンン°チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾー
ル環、ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環な
どの残基な挙げることが出来る。
子のうち少なくとも一つ?有する工員もしくは六員の単
環または縮合環で、これらに置換基がついてもよい。具
体的には例えば、ビロリン環、ピリジン環、キノリン環
、インド−/I/環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾ
ール環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベン
ゾイミダゾール環、チアゾリン環、チアン°−ル璋、ペ
ンン°チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾー
ル環、ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環な
どの残基な挙げることが出来る。
これらの複素環は、メチル基、エチル基台炭素数1〜4
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基部炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム尋ツバC1クン原子、アルコ
キシカルボニル基、シアノ基、アミド基等で置換され曵
いてもよい。脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアル
キル基、シクロアルキル基及びこれらに置換基のついた
もの、並びにアルケニル基及びアルキル基を含む。
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基部炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム尋ツバC1クン原子、アルコ
キシカルボニル基、シアノ基、アミド基等で置換され曵
いてもよい。脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアル
キル基、シクロアルキル基及びこれらに置換基のついた
もの、並びにアルケニル基及びアルキル基を含む。
直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1〜
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、l−オ
クチル基等である。lの直鎖及び分岐のアルキル基とし
ては、例えば炭素数1〜10のものであり、具体的には
メチル基、エチル基、プロピル基等である。
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、l−オ
クチル基等である。lの直鎖及び分岐のアルキル基とし
ては、例えば炭素数1〜10のものであり、具体的には
メチル基、エチル基、プロピル基等である。
シクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜10のも
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバセイル基、ヒド
ロキ7基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、り素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換フェニル基
)等であり、結局、置換されたものの具体例としては例
えば3−メトキシグロピル豚エトキ7カルポニルメチル
基、4−クロロシクロヘキシル基、べ、ンジルa、p−
1チルベニyジル豚p−クロロベンジル基などを挙げる
ことができる。
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバセイル基、ヒド
ロキ7基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、り素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換フェニル基
)等であり、結局、置換されたものの具体例としては例
えば3−メトキシグロピル豚エトキ7カルポニルメチル
基、4−クロロシクロヘキシル基、べ、ンジルa、p−
1チルベニyジル豚p−クロロベンジル基などを挙げる
ことができる。
また、アルケニル基としては例えばアリル基、アルキニ
ル基としてはプロパルギル基な挙げることができる。
ル基としてはプロパルギル基な挙げることができる。
本発明に用いられる特に好ましい化合物の例を以下に挙
げる。
げる。
(1) 1−ホルミル−2−7エニルヒトラジン(2)
l−ホルミル−2−(4−メトキシフェニル)ヒドラジ
ン (3)l−ホルタ、/I/−2−(4−プロモフェニ/
L/)ヒドラジン (4)l−ホルミル−2−(4−エチルフェニル)ヒト
2ジン (5)l−ホルミル−2−(4−メトキシフェニル)ヒ
ドラジン (6) l−ホルミル−2−(4−アセトアミドフエ二
/I/)ヒドラジン (7)l−ホルミル−2−(4−ブチルアミドフェニル
)ヒドラジン (8) l−ホルミル−2−(4−フェニルアセトアミ
ドフェニル)ヒト2ジン (9)l−ホルミル−2−(4−ジメチルアミノ−フェ
ニル)ヒドラジン (10) l−ホルミル−2−(4−アセトアミド−2
−メチル−フェニル)ヒドラジン (11) l−ホルミル−2−(4−(3−フェニル−
チオウレイド)フェニル〕ヒドラジン (12) 1−ホルミル−2−(4−(3−エテル−チ
オウレイド)フェニル〕ヒドラジン (13) l−ホルミル−2−(4−[”4−(3−7
エ二、IVfオウレイド)フェニルカルバミルフェニル
)ヒドラジン (14) l−ホルミル−2−(4−(3−(4,5−
ジメチルチアゾール−2−イル)チオクレイレンツフェ
ニル)ヒドラジン (15) 1−ホルミル−2−(:4−(フェニルチオ
カルバミル)フェニル〕ヒドラジン (16) 1−ホルミル−2−(4−(N−メチルベン
ゾチアゾール−2−イル)チオウレイレンフェニル〕ヒ
ドラジ/ (17) 1−ホルミル−2−([:4−(1,3−ジ
メチルベンツイミダゾール−2−イルーチオウレイレン
〕フェニル)ヒドラジン (18) 1−ホルミ/’−2−((4−(5−メチル
−2−チオ−イミダシリン−3−イル−)フェニル〕)
ヒドラジン (19) 1−ホルミ”−2−([4−(3−n−ブチ
ルウレイド)フェニル)ヒト2ジン (20) 1−ホルミル−2−(4−(3−(I)−ク
ロロフェニル)ウレイド〕フェニル)ヒドラジン (21) 1−ホルミル−2−(4(3−(p−(2−
メルカプト−テトラゾール−3−イル)フェニルコチオ
ウレイレン)フェニル)とドラジン (22) 1−ホルミル−2(4−(W−(N−スルホ
プロピルベンゾチアゾール−2−イル?−)プロピルア
ミノコフェニル)ヒドラジン (23) 1−ホルミル−2−(413−(”p〜(フ
ェニルスルホアミ)フエニ/l<)−ウレイレン)フェ
ニル)ヒドラジン (24) l−ホルミル−2−(4−(2,4−ジーt
ert−ペンチルフェノキシメチルアミド)フェニル〕
ヒドラジン (25) l−ホルミル−2−(4−(3−(p−エテ
ルフェニル)ウレイド〕フェニル)ヒト2’)ン (26) l−ホルミル−2−(4−[3−(2−メト
キンノエニルンレ1ド]ノエニル)ヒドラジン (Z/) l −*ル::h−2−(4−(3−−t−
チルウレイド)フェニル〕ヒドラジン (路)l−ホルミル−2−[4−(3−プロビルウレ・
イドフェニル〕ヒドラジン (29) 1−ホルミル−2−(4−(3−(p−メト
キシフェニ/L/)ウレイド〕フェニル)ヒドラジン (30) 1−ホルミル−2−(4−[3−(p−メト
キシフエニN)ウレイドツー2−メトキシフェニル)ヒ
ドラジン (3Z) l−ホルミル−2−(3−(:3−(p−ク
ロロ7エ二ル)ウレイド〕フェニル)ヒドラジン (32) 1−ホルミ# −2−(4−(3−nブチ
ルウレイド)フェニル〕ヒドラジン (33) 1−ホルミル−2−1:4−(3−ドデシル
ウレイド)フェニル〕ヒドラジン (3/i) l−ホルミル−2−(4−(3−オクタデ
シルウレイド)フェニル〕ヒドラジン (よ))l−ホルミル−2−(4−(3−(ヘキサノイ
ル)ウレイド〕フェニルJヒドラジン(あ)l−ホルミ
ル−2−(4−(3−(ベンジ/L/)ウレイド〕フェ
ニル)ヒト2ジン (37) 1−ホルミル−2−(4−[3−(ピリジン
−2−イル)ウレイド〕フェニル)ヒドラジ(38)
1−ホルミル−2−(4−(3−(チオフェニル−2−
イル)ウレイド〕7−エニル)ヒドラジン (39) 1−ホルミ/’−2−(4−(3−(4−メ
チルテアシー/l/ −2−イル)ウレイド〕フェニル
)ヒドラジン (40) 1−ホルミル−2−(4−1:3−(5−ニ
トロフエニ/L/)ウレイド〕フェニル)ヒドラジン (41) l −n−ヘキシルアセチルアミノ−4−(
2−アセチルヒド2ジノ)ベンゼン (42) 1−((p−クロロベンゾイル)−2−フェ
ニルヒドラジン (43) 1− (p−シアノベンシイ、/I/) −
2−フェニルヒドラジン (44) 1− (p−カルボキシベンゾイル)−2−
フェニルヒドラジン (45) 1− (3,5−ジクロロベンゾイル)−2
−7’エールヒドラジン (46) l −(2−ホルミルしドラジノ)−4−(
N−ジメチルアミノ)ベンゼン (47) l −(2−ホルミルヒドラジノ)−4−(
2−ホルミルヒト2ジノ)ベンジルベンゼン本発明に用
いられるヒドラジン化合物はノ・ロゲン化銀乳剤層中、
乳剤層に隣接する層及びその他の支持体上乳剤層側に塗
設されるいずれの層中にも含有させることができるか、
好ましくはノ・ロゲン化銀乳剤層中であり、支持体上乳
剤層側に投げる塗設層に含有せしめて、710グ/化録
乳剤層中に拡、散せしめる方法でもよい。吸着基をもつ
ヒドラジン化合物は吸着基をもたないヒドラジン化合物
よりその添加量な少くして効果を上げることができる。
l−ホルミル−2−(4−メトキシフェニル)ヒドラジ
ン (3)l−ホルタ、/I/−2−(4−プロモフェニ/
L/)ヒドラジン (4)l−ホルミル−2−(4−エチルフェニル)ヒト
2ジン (5)l−ホルミル−2−(4−メトキシフェニル)ヒ
ドラジン (6) l−ホルミル−2−(4−アセトアミドフエ二
/I/)ヒドラジン (7)l−ホルミル−2−(4−ブチルアミドフェニル
)ヒドラジン (8) l−ホルミル−2−(4−フェニルアセトアミ
ドフェニル)ヒト2ジン (9)l−ホルミル−2−(4−ジメチルアミノ−フェ
ニル)ヒドラジン (10) l−ホルミル−2−(4−アセトアミド−2
−メチル−フェニル)ヒドラジン (11) l−ホルミル−2−(4−(3−フェニル−
チオウレイド)フェニル〕ヒドラジン (12) 1−ホルミル−2−(4−(3−エテル−チ
オウレイド)フェニル〕ヒドラジン (13) l−ホルミル−2−(4−[”4−(3−7
エ二、IVfオウレイド)フェニルカルバミルフェニル
)ヒドラジン (14) l−ホルミル−2−(4−(3−(4,5−
ジメチルチアゾール−2−イル)チオクレイレンツフェ
ニル)ヒドラジン (15) 1−ホルミル−2−(:4−(フェニルチオ
カルバミル)フェニル〕ヒドラジン (16) 1−ホルミル−2−(4−(N−メチルベン
ゾチアゾール−2−イル)チオウレイレンフェニル〕ヒ
ドラジ/ (17) 1−ホルミル−2−([:4−(1,3−ジ
メチルベンツイミダゾール−2−イルーチオウレイレン
〕フェニル)ヒドラジン (18) 1−ホルミ/’−2−((4−(5−メチル
−2−チオ−イミダシリン−3−イル−)フェニル〕)
ヒドラジン (19) 1−ホルミ”−2−([4−(3−n−ブチ
ルウレイド)フェニル)ヒト2ジン (20) 1−ホルミル−2−(4−(3−(I)−ク
ロロフェニル)ウレイド〕フェニル)ヒドラジン (21) 1−ホルミル−2−(4(3−(p−(2−
メルカプト−テトラゾール−3−イル)フェニルコチオ
ウレイレン)フェニル)とドラジン (22) 1−ホルミル−2(4−(W−(N−スルホ
プロピルベンゾチアゾール−2−イル?−)プロピルア
ミノコフェニル)ヒドラジン (23) 1−ホルミル−2−(413−(”p〜(フ
ェニルスルホアミ)フエニ/l<)−ウレイレン)フェ
ニル)ヒドラジン (24) l−ホルミル−2−(4−(2,4−ジーt
ert−ペンチルフェノキシメチルアミド)フェニル〕
ヒドラジン (25) l−ホルミル−2−(4−(3−(p−エテ
ルフェニル)ウレイド〕フェニル)ヒト2’)ン (26) l−ホルミル−2−(4−[3−(2−メト
キンノエニルンレ1ド]ノエニル)ヒドラジン (Z/) l −*ル::h−2−(4−(3−−t−
チルウレイド)フェニル〕ヒドラジン (路)l−ホルミル−2−[4−(3−プロビルウレ・
イドフェニル〕ヒドラジン (29) 1−ホルミル−2−(4−(3−(p−メト
キシフェニ/L/)ウレイド〕フェニル)ヒドラジン (30) 1−ホルミル−2−(4−[3−(p−メト
キシフエニN)ウレイドツー2−メトキシフェニル)ヒ
ドラジン (3Z) l−ホルミル−2−(3−(:3−(p−ク
ロロ7エ二ル)ウレイド〕フェニル)ヒドラジン (32) 1−ホルミ# −2−(4−(3−nブチ
ルウレイド)フェニル〕ヒドラジン (33) 1−ホルミル−2−1:4−(3−ドデシル
ウレイド)フェニル〕ヒドラジン (3/i) l−ホルミル−2−(4−(3−オクタデ
シルウレイド)フェニル〕ヒドラジン (よ))l−ホルミル−2−(4−(3−(ヘキサノイ
ル)ウレイド〕フェニルJヒドラジン(あ)l−ホルミ
ル−2−(4−(3−(ベンジ/L/)ウレイド〕フェ
ニル)ヒト2ジン (37) 1−ホルミル−2−(4−[3−(ピリジン
−2−イル)ウレイド〕フェニル)ヒドラジ(38)
1−ホルミル−2−(4−(3−(チオフェニル−2−
イル)ウレイド〕7−エニル)ヒドラジン (39) 1−ホルミ/’−2−(4−(3−(4−メ
チルテアシー/l/ −2−イル)ウレイド〕フェニル
)ヒドラジン (40) 1−ホルミル−2−(4−1:3−(5−ニ
トロフエニ/L/)ウレイド〕フェニル)ヒドラジン (41) l −n−ヘキシルアセチルアミノ−4−(
2−アセチルヒド2ジノ)ベンゼン (42) 1−((p−クロロベンゾイル)−2−フェ
ニルヒドラジン (43) 1− (p−シアノベンシイ、/I/) −
2−フェニルヒドラジン (44) 1− (p−カルボキシベンゾイル)−2−
フェニルヒドラジン (45) 1− (3,5−ジクロロベンゾイル)−2
−7’エールヒドラジン (46) l −(2−ホルミルしドラジノ)−4−(
N−ジメチルアミノ)ベンゼン (47) l −(2−ホルミルヒドラジノ)−4−(
2−ホルミルヒト2ジノ)ベンジルベンゼン本発明に用
いられるヒドラジン化合物はノ・ロゲン化銀乳剤層中、
乳剤層に隣接する層及びその他の支持体上乳剤層側に塗
設されるいずれの層中にも含有させることができるか、
好ましくはノ・ロゲン化銀乳剤層中であり、支持体上乳
剤層側に投げる塗設層に含有せしめて、710グ/化録
乳剤層中に拡、散せしめる方法でもよい。吸着基をもつ
ヒドラジン化合物は吸着基をもたないヒドラジン化合物
よりその添加量な少くして効果を上げることができる。
本発明に用いられるヒドラジン化合物は、あらかじめヒ
ドラジ/化合物とギ酸、酢酸等の如き酸類と反応せしめ
て合成したヒドラジン化合物を用いるのが好ましいが、
塗布液調製時に親水性コロイドマトリックス中で反応を
させながら乳剤層に含有せしめる方法でもよい。ヒドラ
ジン化合物の囲が適当であり、好ましくはハロゲン化銀
1モル当り10 〜10 −eルの範囲である。その適
量はハロゲン化銀の組成、粒径、化学熟成度、バインダ
ーである親水性コロイドの量、安定剤、抑制剤、促進剤
等の添加剤とのバランスを考慮して任意に決めることが
できる。
ドラジ/化合物とギ酸、酢酸等の如き酸類と反応せしめ
て合成したヒドラジン化合物を用いるのが好ましいが、
塗布液調製時に親水性コロイドマトリックス中で反応を
させながら乳剤層に含有せしめる方法でもよい。ヒドラ
ジン化合物の囲が適当であり、好ましくはハロゲン化銀
1モル当り10 〜10 −eルの範囲である。その適
量はハロゲン化銀の組成、粒径、化学熟成度、バインダ
ーである親水性コロイドの量、安定剤、抑制剤、促進剤
等の添加剤とのバランスを考慮して任意に決めることが
できる。
本発明に用いられる感光材料のハロゲン化銀乳剤には、
各種のハロゲン化銀を用いることができる。例えば塩化
銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀あるいは塩沃臭化銀な
どである。特に臭化銀および沃臭化銀に対して本発明の
効果は顕著であり、沃化銀の少い(〜工5モルチ以下)
高感度ハロゲン化銀写真感光材料に対して特に効果的で
ある。
各種のハロゲン化銀を用いることができる。例えば塩化
銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀あるいは塩沃臭化銀な
どである。特に臭化銀および沃臭化銀に対して本発明の
効果は顕著であり、沃化銀の少い(〜工5モルチ以下)
高感度ハロゲン化銀写真感光材料に対して特に効果的で
ある。
本発明の方法に用いられる感光材料のハロゲン化銀乳剤
の調製方法は公知の方法により親水性コロイド中に懸濁
させたハロゲン化銀乳剤でよく、例えば中性法、アンモ
ニア法でのシングルジェット法、ダブルジェット法など
による乳剤調製法が用いられる。
の調製方法は公知の方法により親水性コロイド中に懸濁
させたハロゲン化銀乳剤でよく、例えば中性法、アンモ
ニア法でのシングルジェット法、ダブルジェット法など
による乳剤調製法が用いられる。
本発明に用いられる感光材料のハロゲン化銀乳剤層中に
含有せしめるハロゲン化銀は、好ましくは平均粒子サイ
ズ0.1〜1.0μm、i$pに好ましくは0、1〜0
.7岡で、か?全粒子数の少くとも75飴、特に好まし
くは80%以上が平均粒径の0.7〜1.3倍の粒子サ
イズを有するハロゲン化銀を含むことが好ましい。
含有せしめるハロゲン化銀は、好ましくは平均粒子サイ
ズ0.1〜1.0μm、i$pに好ましくは0、1〜0
.7岡で、か?全粒子数の少くとも75飴、特に好まし
くは80%以上が平均粒径の0.7〜1.3倍の粒子サ
イズを有するハロゲン化銀を含むことが好ましい。
更k1価金属イオン(例えばイリジウム、ロジウム等)
が吸蔵されているハロゲン化銀乳剤として米国特許第3
,271,157号、同3,447.927号、同3.
531,291号などによる乳剤も使用できる。ハロゲ
ン化銀乳剤は、通常行われるイオウ化合物、塩化金酸塩
、三塩化金、などのような金化合物等の化学増感によっ
て増感することができる。
が吸蔵されているハロゲン化銀乳剤として米国特許第3
,271,157号、同3,447.927号、同3.
531,291号などによる乳剤も使用できる。ハロゲ
ン化銀乳剤は、通常行われるイオウ化合物、塩化金酸塩
、三塩化金、などのような金化合物等の化学増感によっ
て増感することができる。
本発明に用いられる感光材料のハロゲン化銀乳剤は増感
色素な用いて/7r望の感光波長域に感色性を付与する
ことができる。増感色素としてはシアニン、ヘミシアニ
ン、ログシアニン、メロシアニン、オキサノール、ヘミ
オキサノールなどのメチ/色素及びスチリール色素など
通常用いられるものな用いることができる。
色素な用いて/7r望の感光波長域に感色性を付与する
ことができる。増感色素としてはシアニン、ヘミシアニ
ン、ログシアニン、メロシアニン、オキサノール、ヘミ
オキサノールなどのメチ/色素及びスチリール色素など
通常用いられるものな用いることができる。
上記色素は米国特許第2,742,833号、同2.7
56゜148号、同3,567.458号、同3,61
5,519号、同3.632,340号、同3,155
,519号、同3,384.485号、同4,232,
115号、同3,796,580号、同4,028,1
10号、同3,752,673号、特開昭55−450
15号等の記載を参考にすることができる。
56゜148号、同3,567.458号、同3,61
5,519号、同3.632,340号、同3,155
,519号、同3,384.485号、同4,232,
115号、同3,796,580号、同4,028,1
10号、同3,752,673号、特開昭55−450
15号等の記載を参考にすることができる。
へログ/化銀乳剤層およ・びその他の支持体上に塗設さ
れる層にアルキルアクリレート、アルキルメタアクリレ
ート、アクリル酸、グリシジルアクリレート等のホモ又
はコポリマーからなるポリ!−ラテックスを、写真材料
の寸度安定性の向上、膜物性の改良などの目的で含有せ
しめてよい。
れる層にアルキルアクリレート、アルキルメタアクリレ
ート、アクリル酸、グリシジルアクリレート等のホモ又
はコポリマーからなるポリ!−ラテックスを、写真材料
の寸度安定性の向上、膜物性の改良などの目的で含有せ
しめてよい。
ハロゲン化銀乳剤中VC5定剤またはカプリ防止剤とし
て4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,33t7−チ
トラザインデン、■−フ二二A/−5−メルカプトテト
ラゾール、ハイドロ“キノン、レゾルシノールオキシム
、ハイドロキノンアルキドキシムをはじめ多くの化合物
をノ・−ゲン化銀1モル当り10 〜10 モルの量
で添加することができる。
て4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,33t7−チ
トラザインデン、■−フ二二A/−5−メルカプトテト
ラゾール、ハイドロ“キノン、レゾルシノールオキシム
、ハイドロキノンアルキドキシムをはじめ多くの化合物
をノ・−ゲン化銀1モル当り10 〜10 モルの量
で添加することができる。
本発明に用いられる感光材料のノ・ログ/化銀乳剤はそ
の塗布液に通常用いられる硬膜剤として例えばアルデヒ
ド類、(ホルムアルデヒド類、グリオキザール類、グル
タルアルデヒド類、ムコクcIル酸等)、ヘーメテロー
ル化合物(ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダ
ントイン等)、ジオキサン訪導体(2,3−ジヒドロキ
7ジオキサン等)活性ビニル化合物(1,3,5−)リ
アクロイル−へキサヒドロ−3−トリアジン、ビス(ビ
ニルスルホニAI)メチルエーテル等)、活性ノ・ログ
ン化物(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリ
アジン等)等を単独又は組合わせて用いることができ、
また場粘剤、マット剤、塗布助剤等として通常用いられ
るものが使用できる。また、結合剤としては通常用いら
れる保護コロイド性を有する親水性結合剤を使用できる
。
の塗布液に通常用いられる硬膜剤として例えばアルデヒ
ド類、(ホルムアルデヒド類、グリオキザール類、グル
タルアルデヒド類、ムコクcIル酸等)、ヘーメテロー
ル化合物(ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダ
ントイン等)、ジオキサン訪導体(2,3−ジヒドロキ
7ジオキサン等)活性ビニル化合物(1,3,5−)リ
アクロイル−へキサヒドロ−3−トリアジン、ビス(ビ
ニルスルホニAI)メチルエーテル等)、活性ノ・ログ
ン化物(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリ
アジン等)等を単独又は組合わせて用いることができ、
また場粘剤、マット剤、塗布助剤等として通常用いられ
るものが使用できる。また、結合剤としては通常用いら
れる保護コロイド性を有する親水性結合剤を使用できる
。
更に本発明において、目的に応じて感光材料中にカプラ
ー、紫外線吸収剤、螢光増白剤、画像安定剤、酸化防止
剤、潤滑剤、金属イオン封鎖剤、乳化分散剤等として通
常用いられるものを含有させることができる。
ー、紫外線吸収剤、螢光増白剤、画像安定剤、酸化防止
剤、潤滑剤、金属イオン封鎖剤、乳化分散剤等として通
常用いられるものを含有させることができる。
本発明に用いられる感光材料にはハロゲン化銀乳剤層以
外の漕として保護層、中間層、フィルター一層、アンチ
ハレーション層、下引層、補助層、イラジェーション防
止層、裏引層などを有してよく、使用される支持体とし
てはバライタ紙、ポリエチレン被覆紙、セルロースアセ
テート、セルロースナイトレート、ポリエチレンテレフ
タレートなどがそれぞれ感光材料の使用目的に応じて適
宜選択できる。
外の漕として保護層、中間層、フィルター一層、アンチ
ハレーション層、下引層、補助層、イラジェーション防
止層、裏引層などを有してよく、使用される支持体とし
てはバライタ紙、ポリエチレン被覆紙、セルロースアセ
テート、セルロースナイトレート、ポリエチレンテレフ
タレートなどがそれぞれ感光材料の使用目的に応じて適
宜選択できる。
本発明に用いられる現像液の現像主薬としては、HO−
(C)1=C)1′)n−0)l fi i l 剤、
HO−(CH=C)i″)n−N鴇型現像剤、)i2N
−(C==C)nJif−12型現像剤等が含まれる。
(C)1=C)1′)n−0)l fi i l 剤、
HO−(CH=C)i″)n−N鴇型現像剤、)i2N
−(C==C)nJif−12型現像剤等が含まれる。
)10−(C)i=c)14−0)1型現像剤としては
、下記一般式(n)で示される化合物が有用である。
、下記一般式(n)で示される化合物が有用である。
式中、几3.八および瓜は各々水素原子、ノ・ロゲン原
子(例えばCJ、Br >、置換もしくは無置換のアル
キル!i:(例えばメチル、エテル、フェネチル等)、
置換もしくは無置換のアリール基(例えばフェニル)、
置換もしくは無置換のへテロ環基、−0−R’または−
8−R’を表わし、R6は置換もしくは無置換のアルキ
ル基(例えばメチル、エチル)、置換もしくは無置換の
アリール基(例えばフェニル)、置換もしくは無置換の
へテロ環基を表わす。
子(例えばCJ、Br >、置換もしくは無置換のアル
キル!i:(例えばメチル、エテル、フェネチル等)、
置換もしくは無置換のアリール基(例えばフェニル)、
置換もしくは無置換のへテロ環基、−0−R’または−
8−R’を表わし、R6は置換もしくは無置換のアルキ
ル基(例えばメチル、エチル)、置換もしくは無置換の
アリール基(例えばフェニル)、置換もしくは無置換の
へテロ環基を表わす。
nlは0又はlを表わし、H1=:Qのときは水素原子
を表わす。
を表わす。
この型の現像剤の代衣的具体例としてはノ・イドロキ゛
ノン、クロロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン、
インプロピルハイドロキノン、トルノ・イドロキノン、
メチルハイドロキノン、2,3−7クロロハイドロキノ
7.2.5−ジメチルハイドロキノン、2.3− シ
フ゛ロモハイドロキノ/、2.5−ジハイドロキシアセ
トフエノン、2.5−ジエチルハイドロキノン、2.5
−ジ−p−7エネテルハイドロキノン、2.5−ジベン
ゾイルアミノハイドロキノン、カテコール、4−クロロ
カテコール、3−フェニルカテコール、4−フェニルカ
テコール、3−メトキシ−カテコール、4−アセテルー
ヒo lj o−ル、ハイドロキノンモノスルホネート
、メチル−ハイドロキノンモノスルホネート、クロロハ
イドロキノンモノスh−示ネート、、i、s−ジメチル
ハイドロキノンモノスルホネート、3−ジプロモハイト
ロキノンモノスルホネ−)、4(2’−ヒドロキシベン
ゾイル)ピロガロール、アスコルビン酸ソーダ等が挙げ
られる。
ノン、クロロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン、
インプロピルハイドロキノン、トルノ・イドロキノン、
メチルハイドロキノン、2,3−7クロロハイドロキノ
7.2.5−ジメチルハイドロキノン、2.3− シ
フ゛ロモハイドロキノ/、2.5−ジハイドロキシアセ
トフエノン、2.5−ジエチルハイドロキノン、2.5
−ジ−p−7エネテルハイドロキノン、2.5−ジベン
ゾイルアミノハイドロキノン、カテコール、4−クロロ
カテコール、3−フェニルカテコール、4−フェニルカ
テコール、3−メトキシ−カテコール、4−アセテルー
ヒo lj o−ル、ハイドロキノンモノスルホネート
、メチル−ハイドロキノンモノスルホネート、クロロハ
イドロキノンモノスh−示ネート、、i、s−ジメチル
ハイドロキノンモノスルホネート、3−ジプロモハイト
ロキノンモノスルホネ−)、4(2’−ヒドロキシベン
ゾイル)ピロガロール、アスコルビン酸ソーダ等が挙げ
られる。
)10−(C)i−C)14八B2型現像剤としてはオ
ルト及びパラのアミノフェノール又はアミノピラゾロン
が代表的なもので、例えば4−アミノフェノール、2−
アミノ−6−フェニルフェノール、2−アミノ−4−ク
ロロ−6−フェニルフェノール、4−アミノ−2−フェ
ニルフェノール、3.4−ジアミノフェノール、3−メ
チル−4,6−ジアミノフェノール、2,4−シアミル
ゾルシノール、2.4.6−トリアミノフェノール、ヘ
ーメチルーp−アミノフェノール、N−β−ヒドロキシ
エチル−p−アミノフェノール、p−ヒドロキシフェニ
ルアミノ酢酸、2−アミノナフトール等が挙げられる。
ルト及びパラのアミノフェノール又はアミノピラゾロン
が代表的なもので、例えば4−アミノフェノール、2−
アミノ−6−フェニルフェノール、2−アミノ−4−ク
ロロ−6−フェニルフェノール、4−アミノ−2−フェ
ニルフェノール、3.4−ジアミノフェノール、3−メ
チル−4,6−ジアミノフェノール、2,4−シアミル
ゾルシノール、2.4.6−トリアミノフェノール、ヘ
ーメチルーp−アミノフェノール、N−β−ヒドロキシ
エチル−p−アミノフェノール、p−ヒドロキシフェニ
ルアミノ酢酸、2−アミノナフトール等が挙げられる。
H2ヘー(C=C)n→H2゛型現像剤としては、例え
ば4−アミノ−2−メチル−へ、ヘージェチルアニリン
、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチルアニリン、Δ−
(4−アミノ−3−メチ/l/フェニル)−モルホリン
、p−フ二二レンジアミン、4−アミノ−N、N−ジメ
チル−3−ヒドロキシアニリン、N、N、N’、N’−
ナト2メチルパラフエニレンジアミン、4−アミノ−へ
−エチルーへ−(β−ヒドロキシエチル)−アニリン、
4−7ミノー3−メテルーヘーエチルーへ−(β−ヒド
ロキシェテ#)−7ニリン、4−アミノ−N−エテル−
(β−メトキシエチル)−3−メチル−アニリン、4−
アミノ−3−メチルーヘーエチル−N−(β−メチルス
ルホンアミドエチル)−アニリン、4−アミノ−へ−ブ
チル−へ−r−スルホブチルアニリン、1−(4−7ミ
ノブエ二ル)−ヒロリジン、6−アミノ−1−エチル、
1.2.3.4−テトラハイドロキノリン等が挙げられ
る。
ば4−アミノ−2−メチル−へ、ヘージェチルアニリン
、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチルアニリン、Δ−
(4−アミノ−3−メチ/l/フェニル)−モルホリン
、p−フ二二レンジアミン、4−アミノ−N、N−ジメ
チル−3−ヒドロキシアニリン、N、N、N’、N’−
ナト2メチルパラフエニレンジアミン、4−アミノ−へ
−エチルーへ−(β−ヒドロキシエチル)−アニリン、
4−7ミノー3−メテルーヘーエチルーへ−(β−ヒド
ロキシェテ#)−7ニリン、4−アミノ−N−エテル−
(β−メトキシエチル)−3−メチル−アニリン、4−
アミノ−3−メチルーヘーエチル−N−(β−メチルス
ルホンアミドエチル)−アニリン、4−アミノ−へ−ブ
チル−へ−r−スルホブチルアニリン、1−(4−7ミ
ノブエ二ル)−ヒロリジン、6−アミノ−1−エチル、
1.2.3.4−テトラハイドロキノリン等が挙げられ
る。
ペテロ現像剤としては下記一般式l〕で示される化合物
が本発明に有用である。
が本発明に有用である。
一般式国〕
上も8
上式において、K7はフェニル基またはメチル基、クロ
ロ基、アミノ基、メチルアミノ基、アセチルアミノ基及
びメトキシ基のような基で置換されたフェニル基な表わ
し、凡、、鳥およびkLloは各々メチル基、エチル基
、プロピル基専のアルキル基あるいはヒドロキシ基、カ
ルボキシ基及びスルホ基のよ5な置換基で置換されたア
ルキル基(例えばメチル、エチル、プロピル、とドロキ
シメチル等)を表わす。具体的には下記の化合物が挙げ
られる。
ロ基、アミノ基、メチルアミノ基、アセチルアミノ基及
びメトキシ基のような基で置換されたフェニル基な表わ
し、凡、、鳥およびkLloは各々メチル基、エチル基
、プロピル基専のアルキル基あるいはヒドロキシ基、カ
ルボキシ基及びスルホ基のよ5な置換基で置換されたア
ルキル基(例えばメチル、エチル、プロピル、とドロキ
シメチル等)を表わす。具体的には下記の化合物が挙げ
られる。
1−7mモル−3−ヒ9ソ°リドン(フェニドン)1−
フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン1−(p−アミ
ノフェニル)−3−アミノ−ビラゾーン 1−フェニル−3−メチル−4−アミノ−5−ピラゾロ
/ 1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン(
ジメゾン) l−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3
−ピラゾリドン、(ジメゾンー5)1−フェニル−4,
4−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、 ■−フェニルー5−メチルー3−ビラソリトン1−1)
−7ミノフエニルー4−メチル−4−プロピル−3−ピ
ラゾリドン 1−p−クロロフェニル−4−メチル−4−エチル−3
−ピラゾリドン 1−p−7セトアミ・ドンエニルー4.4−ジエチル−
3−ピラゾリドン 1−p−べ〜タヒトロキシェテルフェニ/L/−4,4
−ジメチル−3−ピラゾリドン 1−p−メトキシフェニル−4,4−ジエチル−3−ビ
ラゾリドン 1−p−)ツルー4.4−ジメチルー3−ピラゾリドン
等。 − その他、T、)i、ジェームス著、ザ命セオリイ・オプ
・ザ・ホトグラフィック・プロセス第4版(’I’he
Theory of the Photograph
ic Process 。
フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン1−(p−アミ
ノフェニル)−3−アミノ−ビラゾーン 1−フェニル−3−メチル−4−アミノ−5−ピラゾロ
/ 1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン(
ジメゾン) l−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3
−ピラゾリドン、(ジメゾンー5)1−フェニル−4,
4−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、 ■−フェニルー5−メチルー3−ビラソリトン1−1)
−7ミノフエニルー4−メチル−4−プロピル−3−ピ
ラゾリドン 1−p−クロロフェニル−4−メチル−4−エチル−3
−ピラゾリドン 1−p−7セトアミ・ドンエニルー4.4−ジエチル−
3−ピラゾリドン 1−p−べ〜タヒトロキシェテルフェニ/L/−4,4
−ジメチル−3−ピラゾリドン 1−p−メトキシフェニル−4,4−ジエチル−3−ビ
ラゾリドン 1−p−)ツルー4.4−ジメチルー3−ピラゾリドン
等。 − その他、T、)i、ジェームス著、ザ命セオリイ・オプ
・ザ・ホトグラフィック・プロセス第4版(’I’he
Theory of the Photograph
ic Process 。
Fourth Edition )第291〜334頁
及びジャーナルーオブ・ザ・アメリカン・ケミカル−ソ
サエティ(Journal of the Ameri
can Chemical 5ociety)第73巻
、第3100頁(1951)K記載されているごとき現
像剤が本発明に有効に使用し得るものである。これらの
現像剤は単独で使用しても2種以上組合せてもよいが、
2種以上を組合せて用いる方が好ましい。好ましい組み
合わせはハイドロキノン及びフェニドン又はハイドロキ
ノン及びジメゾン又はハイドロキノン及びジメゾン−8
の組み合わせであり、ハイドロキノンは5I〜50.9
/ノ、又フェニドンあるいはジメゾンあるいはジメゾ
ンーSは0.05.9〜59/43の範囲で用いるのが
好適である。
及びジャーナルーオブ・ザ・アメリカン・ケミカル−ソ
サエティ(Journal of the Ameri
can Chemical 5ociety)第73巻
、第3100頁(1951)K記載されているごとき現
像剤が本発明に有効に使用し得るものである。これらの
現像剤は単独で使用しても2種以上組合せてもよいが、
2種以上を組合せて用いる方が好ましい。好ましい組み
合わせはハイドロキノン及びフェニドン又はハイドロキ
ノン及びジメゾン又はハイドロキノン及びジメゾン−8
の組み合わせであり、ハイドロキノンは5I〜50.9
/ノ、又フェニドンあるいはジメゾンあるいはジメゾ
ンーSは0.05.9〜59/43の範囲で用いるのが
好適である。
本発明に使用する現像液の亜硫酸イオンの供給源として
例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ等の亜硫酸塩を用いる
ことかできる。
例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ等の亜硫酸塩を用いる
ことかできる。
又、保恒剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジン、ヒ
ドラジド化合物を用いてもよい。カリウムイオンの供給
体と4しては感光材料の現像液に通常用いられる亜硫酸
カリウム、炭酸カリウム、臭化カリウム等を用いること
ができる。その他一般白黒現像液で用いられるような苛
性アルカリ、炭酸アルカリまたはアミンなどによるpH
の調整とバッファー機能をもたせること及びブロムカリ
など無機現像抑制剤、エチレンジアミン四酢酸等の金属
イオン捕捉剤、メタノール、エタノール、ベンジルアル
コール、ポリアルキレ/オキシド等の現像促進剤、アル
キルアリールスルホン酸ナトリウム、天然のサポニン、
糖類または前記化合物のアルキルエステル物等の界面活
性剤、グルタルアルデヒド、ホルマリン、グリオキザー
ル等の硬膜剤、硫酸ナトリウム等のイオン強度調整剤等
の添加を行5ことは任意である。pHは10〜13の任
意に設定できるが保恒性及び写真性能上からは特に11
〜12の範囲で用いるのが好ましい。
ドラジド化合物を用いてもよい。カリウムイオンの供給
体と4しては感光材料の現像液に通常用いられる亜硫酸
カリウム、炭酸カリウム、臭化カリウム等を用いること
ができる。その他一般白黒現像液で用いられるような苛
性アルカリ、炭酸アルカリまたはアミンなどによるpH
の調整とバッファー機能をもたせること及びブロムカリ
など無機現像抑制剤、エチレンジアミン四酢酸等の金属
イオン捕捉剤、メタノール、エタノール、ベンジルアル
コール、ポリアルキレ/オキシド等の現像促進剤、アル
キルアリールスルホン酸ナトリウム、天然のサポニン、
糖類または前記化合物のアルキルエステル物等の界面活
性剤、グルタルアルデヒド、ホルマリン、グリオキザー
ル等の硬膜剤、硫酸ナトリウム等のイオン強度調整剤等
の添加を行5ことは任意である。pHは10〜13の任
意に設定できるが保恒性及び写真性能上からは特に11
〜12の範囲で用いるのが好ましい。
本発明に用いられる現像液はアルカノールアミンを含有
することが好ましく、アルカノールアミンとしては、例
えばモノエタノールアミン、ジェタノールアミン、トリ
エタノールアミン等が挙げられ、好ましくはトリエタノ
ールアミンである。
することが好ましく、アルカノールアミンとしては、例
えばモノエタノールアミン、ジェタノールアミン、トリ
エタノールアミン等が挙げられ、好ましくはトリエタノ
ールアミンである。
これらのアルカノールアミンの好ましい含有量は現像液
l−eあたり2〜50011であり、特に現像液l−e
あたり5〜100gが好ましい。
l−eあたり2〜50011であり、特に現像液l−e
あたり5〜100gが好ましい。
本発明に用いられる現像液にはグリコール類を含有させ
ることが好ましく、グリコール類として゛は、例えばエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレン
グリコール、トリエチレングリコール、1,4−ブタン
ジオール、1.5−ペンタンジオ−ノン、2−メトキ7
エタノール等が挙げられ、好ましくはジエチレングリコ
ールでアル。これらのグリコール類の好ましい使用量は
現像液l!あたり10〜500gであり、特に現像液1
石あたり20〜500Iであり、特に現像液IJあたり
20〜100.pが好ましい。
ることが好ましく、グリコール類として゛は、例えばエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレン
グリコール、トリエチレングリコール、1,4−ブタン
ジオール、1.5−ペンタンジオ−ノン、2−メトキ7
エタノール等が挙げられ、好ましくはジエチレングリコ
ールでアル。これらのグリコール類の好ましい使用量は
現像液l!あたり10〜500gであり、特に現像液1
石あたり20〜500Iであり、特に現像液IJあたり
20〜100.pが好ましい。
上記アルカノールアミン及びグリコール類は単独で用い
てもあるいは2種以上併用してもよい。
てもあるいは2種以上併用してもよい。
本発明に用いる現像液には有機カプリ抑制剤を含有・さ
せることができる。好ましい有機カブリ抑制剤としては
下記一般式(5)、〔V〕又は□□□〕で示される化合
物が挙げられ、これらの化合物の少(とも一種を含有す
ることが好ましく、上記化合物を任意に少くとも2種以
上組み合わせて用いても良い。
せることができる。好ましい有機カブリ抑制剤としては
下記一般式(5)、〔V〕又は□□□〕で示される化合
物が挙げられ、これらの化合物の少(とも一種を含有す
ることが好ましく、上記化合物を任意に少くとも2種以
上組み合わせて用いても良い。
一般式QV)
式中、Gは窒素原子またはメチン基を表わし、Hは窒素
原子または炭素原子を表わし、Jは硫黄原子、酸累原子
またはイミノ基を表わし、FはHが炭素原子のとき水素
原子又はアルキル基を弐ゎす。ただし、GとHの少なく
とも一方は窒素原子であり、Gがメチン基を表わすとき
Jはイミノ基である。nは0またはlを表わし、hが窒
素原子のときnは0であり、Rが炭素原子のときnは1
である。R1□は水素原子、ハロゲン原子、炭素数3以
下の低級アルキル基、炭素原子3以下の低級アルコキシ
基、ヒドロキ7基、カルボキシ基、スルホン酸基または
ニトロ基な表わす。
原子または炭素原子を表わし、Jは硫黄原子、酸累原子
またはイミノ基を表わし、FはHが炭素原子のとき水素
原子又はアルキル基を弐ゎす。ただし、GとHの少なく
とも一方は窒素原子であり、Gがメチン基を表わすとき
Jはイミノ基である。nは0またはlを表わし、hが窒
素原子のときnは0であり、Rが炭素原子のときnは1
である。R1□は水素原子、ハロゲン原子、炭素数3以
下の低級アルキル基、炭素原子3以下の低級アルコキシ
基、ヒドロキ7基、カルボキシ基、スルホン酸基または
ニトロ基な表わす。
一般式 (’V〕
式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ニト
ロ基、−COOM 、 −8OaM 、 −0)i 又
バーCO鵬の各基を表わし、Mlは水素原子又は炭素数
3以下の低級アルキル基を表わし、nはl又は2.であ
り、w+は硫黄原子、酸素原子又はイミノ基を宍わし、
Mlは水素原子、アルカリ金属原子又はアンモニウム基
を表わし、几、□は水素原子、炭素数3以下の低級アル
キル基、炭素原子数3以下の低級アルコキシ基、ヒドロ
キシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子又はスルホン酸基
を表わす。
ロ基、−COOM 、 −8OaM 、 −0)i 又
バーCO鵬の各基を表わし、Mlは水素原子又は炭素数
3以下の低級アルキル基を表わし、nはl又は2.であ
り、w+は硫黄原子、酸素原子又はイミノ基を宍わし、
Mlは水素原子、アルカリ金属原子又はアンモニウム基
を表わし、几、□は水素原子、炭素数3以下の低級アル
キル基、炭素原子数3以下の低級アルコキシ基、ヒドロ
キシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子又はスルホン酸基
を表わす。
一般式 α1〕
→H4基を衣わし、Xは司α歴’ 、 −a03M”
、べ屈又は−com 2の各基を表わし、M“は水素原
子、アルカリ金属原子又は=N)14基を表わし、几1
3は水素原子又は炭素数3以下の低級アルキル基を表わ
し、nはO,l又は2である。
、べ屈又は−com 2の各基を表わし、M“は水素原
子、アルカリ金属原子又は=N)14基を表わし、几1
3は水素原子又は炭素数3以下の低級アルキル基を表わ
し、nはO,l又は2である。
上記一般式QV)で示される化合物として好ましい例示
化合物として下記を挙げることができる。
化合物として下記を挙げることができる。
(1)5−ニトロインダゾール
(2)6−ニトロインダゾール
(3) 5−メチ・ルベンゾトリアゾール(4)6−メ
チルベンゾトリアゾール (5)5−ニトロベンツイミダゾール (6)6−ニトロベンツイミダゾール 次に一般式(V)で宍わされる化合物の例を以下に挙げ
る。
チルベンゾトリアゾール (5)5−ニトロベンツイミダゾール (6)6−ニトロベンツイミダゾール 次に一般式(V)で宍わされる化合物の例を以下に挙げ
る。
(1) 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−ス
ルホン酸 (2)2−メルカプトベンツイミダゾール(3)2−メ
ルカプト−7−メチルベンツトリアシー /l/ −5
−スルホン酸 (4) 2−メルカプト−7−アセチル−ベンライ・
ミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム塩(5)2−メ
ルカプト−5−メチルベンツイミダゾール (6)2−メルカプト−5−二トロベンツイミダゾール (力 2−メルカプト−6−アセチルベンツイミダゾー
ル−5−スルホン酸アンモニウム塩(8)2−メルカプ
ト−7−クロロベンツイミダゾール−5−スルホン酸 (9)2−メルカプト−7−プロモベンツイミダゾール
ー5−スルホ/酸ナトリウム 0(]]2−メルカプトー5−スルホン酸7−カルボン
酸ベンツイミダゾール (112−メルカプト−7−ヒトロキシベンツイミダゾ
ールー5−スルホン酸 (L2 2−メルカプト−7−エチルベンツイミダゾー
ル−5−スルホン酸 次に一般式(至)で示される化合物の具体例を以下に示
す。
ルホン酸 (2)2−メルカプトベンツイミダゾール(3)2−メ
ルカプト−7−メチルベンツトリアシー /l/ −5
−スルホン酸 (4) 2−メルカプト−7−アセチル−ベンライ・
ミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム塩(5)2−メ
ルカプト−5−メチルベンツイミダゾール (6)2−メルカプト−5−二トロベンツイミダゾール (力 2−メルカプト−6−アセチルベンツイミダゾー
ル−5−スルホン酸アンモニウム塩(8)2−メルカプ
ト−7−クロロベンツイミダゾール−5−スルホン酸 (9)2−メルカプト−7−プロモベンツイミダゾール
ー5−スルホ/酸ナトリウム 0(]]2−メルカプトー5−スルホン酸7−カルボン
酸ベンツイミダゾール (112−メルカプト−7−ヒトロキシベンツイミダゾ
ールー5−スルホン酸 (L2 2−メルカプト−7−エチルベンツイミダゾー
ル−5−スルホン酸 次に一般式(至)で示される化合物の具体例を以下に示
す。
(1) l−7二二ルー5−メルカフトテト2ゾール(
2)1−(3−スルホン酸−4−メチル)7エ二ルー5
−メルカプトテトラゾールナトリウム塩 (3)1−(3−スルホン酸−7−り一一)7エ二ルー
5−メルカプトテトラゾールナトリウム塩 (4)l−(p−スルホン酸)フェニル−5−メルカプ
トテトラゾールアンモニウム塩 <5)t−(x−クロ゛ロー4−スルホン酸)フェニル
−5−メルカプトテトラゾールナトリウム塩 (6)l−(3−スルホン酸−4−メチル)フェニル−
5−メルカプトテトラゾールカリウム塩(7)l−(p
−スルホン酸)フェニル−5−メルカプトテトラゾール
カリウム塩 (8) 1−(p−メトキシ)フェニル−5−メルカ
プトテトラゾール (9)l−(p−ヒドロキシ)フェニル−5−メルカプ
トテトラゾール (Lol−(p−ヒドロキシエトキシ)フェニル−5−
メルカプトテトラゾール L])1−(3,5−ジカルバミル)フェニル−5−メ
ルカプトテトラゾール (Lat−up−カルバミル)フェニル−5−メルカプ
トテトラゾール 前記一般式(IV)で示される化合物は現像液l!当り
10 〜10 モル、より好ましくは10 〜10モ
ル、前記〔■〕又は(8)で示される化合−は現像液1
,13当り10 〜1モル、より好ましくは10 〜1
0 モルであり、総計としてこれらの現像抑制剤の好
ましい含有量は現像液1ノあたり10 〜10七ルであ
り、特に現像液1ぷあたり10 〜10 モルが好ま
しい。又、上記現像抑制剤はアルカノールアミン及び/
又はグリコール類に溶かしてから現像液中に添加するこ
とが好ましい。
2)1−(3−スルホン酸−4−メチル)7エ二ルー5
−メルカプトテトラゾールナトリウム塩 (3)1−(3−スルホン酸−7−り一一)7エ二ルー
5−メルカプトテトラゾールナトリウム塩 (4)l−(p−スルホン酸)フェニル−5−メルカプ
トテトラゾールアンモニウム塩 <5)t−(x−クロ゛ロー4−スルホン酸)フェニル
−5−メルカプトテトラゾールナトリウム塩 (6)l−(3−スルホン酸−4−メチル)フェニル−
5−メルカプトテトラゾールカリウム塩(7)l−(p
−スルホン酸)フェニル−5−メルカプトテトラゾール
カリウム塩 (8) 1−(p−メトキシ)フェニル−5−メルカ
プトテトラゾール (9)l−(p−ヒドロキシ)フェニル−5−メルカプ
トテトラゾール (Lol−(p−ヒドロキシエトキシ)フェニル−5−
メルカプトテトラゾール L])1−(3,5−ジカルバミル)フェニル−5−メ
ルカプトテトラゾール (Lat−up−カルバミル)フェニル−5−メルカプ
トテトラゾール 前記一般式(IV)で示される化合物は現像液l!当り
10 〜10 モル、より好ましくは10 〜10モ
ル、前記〔■〕又は(8)で示される化合−は現像液1
,13当り10 〜1モル、より好ましくは10 〜1
0 モルであり、総計としてこれらの現像抑制剤の好
ましい含有量は現像液1ノあたり10 〜10七ルであ
り、特に現像液1ぷあたり10 〜10 モルが好ま
しい。又、上記現像抑制剤はアルカノールアミン及び/
又はグリコール類に溶かしてから現像液中に添加するこ
とが好ましい。
本発明における現像液による処理は種々の条件で行うこ
とができるが、現像温度は50℃以下が好ましく、%1
(40℃前後が好ましく、また現像時間は3分以内に終
了することが一般的であるが、特に好ましくは2分以内
が好結果をもたらすことが多い。現像以外の処理工程例
えば水洗、停止、安定、定着さらに必要に応じて前硬膜
、中和等の工程を採用することは任意であり、これらは
適宜省略することもできる。さらにまたこれらの処理は
、皿偉才、枠現像などいわゆる手現像処理でもよいし、
ローラー現像、)1ンガー現像など機械現像であっても
よい。
とができるが、現像温度は50℃以下が好ましく、%1
(40℃前後が好ましく、また現像時間は3分以内に終
了することが一般的であるが、特に好ましくは2分以内
が好結果をもたらすことが多い。現像以外の処理工程例
えば水洗、停止、安定、定着さらに必要に応じて前硬膜
、中和等の工程を採用することは任意であり、これらは
適宜省略することもできる。さらにまたこれらの処理は
、皿偉才、枠現像などいわゆる手現像処理でもよいし、
ローラー現像、)1ンガー現像など機械現像であっても
よい。
(実施例)
以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
。本発明の技術的範囲は以下の実施例に。
。本発明の技術的範囲は以下の実施例に。
よって何等制限されるものではなく、種々多様の実施態
様が可能なものである。
様が可能なものである。
特に本発明の実施態様は、高感度ノ・ロゲン化銀写真感
光材料、いわゆる暗室タイプのノ・ログン化銀写真感光
材料にて説明するが、本発明はこれによって何ら制限さ
れるものではない。
光材料、いわゆる暗室タイプのノ・ログン化銀写真感光
材料にて説明するが、本発明はこれによって何ら制限さ
れるものではない。
実施例 l
同時混合法を用いて沃臭化銀乳剤(銀1七ル当り沃化銀
2モル%)を調製した。平均粒径は0.28μmでこの
乳剤を常法に従って水洗および脱塩後、イオウ増感し、
増感後安定剤としてノ為イドロキノンをI11レゾルシ
ンアルド中シムを2gおよび4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a、7一テト2ザインデン化合物を1.
51それぞれ銀1モル当り加え、更にオルン増感色素と
して前記した1−(ヒドロキシエトキシエチル)−3−
(?”リジン−2−イル)−5−((3−スルホブチル
−5−へロローペンゾオキサゾリニデン)エテリテンー
2−チオヒダントイン化・合物を銀1モル当り2.11
添加し、カプリ抑制剤としてl−フェニル−5−メルカ
プトテト2ゾールを銀1モル当り0.1!1、現像調節
剤としてエチレンオキサイド鎖30のポリエチレングリ
コール(末端基の一方はドデシルベンゼン)を銀1モル
当り0.05!I添加し、更に塗布助剤としてサポニン
、増粘剤としてスチレン−マレイン酸の共重合体ポリマ
ーを加えて乳剤を調製した。この乳剤をIO分割して各
々表−2に示すヒドラジン化合物を銀1モル当り10
モルそれぞれ添加して乳剤塗布液とした。
2モル%)を調製した。平均粒径は0.28μmでこの
乳剤を常法に従って水洗および脱塩後、イオウ増感し、
増感後安定剤としてノ為イドロキノンをI11レゾルシ
ンアルド中シムを2gおよび4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a、7一テト2ザインデン化合物を1.
51それぞれ銀1モル当り加え、更にオルン増感色素と
して前記した1−(ヒドロキシエトキシエチル)−3−
(?”リジン−2−イル)−5−((3−スルホブチル
−5−へロローペンゾオキサゾリニデン)エテリテンー
2−チオヒダントイン化・合物を銀1モル当り2.11
添加し、カプリ抑制剤としてl−フェニル−5−メルカ
プトテト2ゾールを銀1モル当り0.1!1、現像調節
剤としてエチレンオキサイド鎖30のポリエチレングリ
コール(末端基の一方はドデシルベンゼン)を銀1モル
当り0.05!I添加し、更に塗布助剤としてサポニン
、増粘剤としてスチレン−マレイン酸の共重合体ポリマ
ーを加えて乳剤を調製した。この乳剤をIO分割して各
々表−2に示すヒドラジン化合物を銀1モル当り10
モルそれぞれ添加して乳剤塗布液とした。
次いで保護脱甲塗布液を次のようにしてmRした。即ち
、ゼラチン1kg中に純水104を加え、膨潤後40℃
に加温し、マット剤として不定形の平均粒子3μmのシ
リカゲル30gをゼラチン中に分散し、20ぷに仕上げ
【保護膜用塗布液を調製した。
、ゼラチン1kg中に純水104を加え、膨潤後40℃
に加温し、マット剤として不定形の平均粒子3μmのシ
リカゲル30gをゼラチン中に分散し、20ぷに仕上げ
【保護膜用塗布液を調製した。
ハロゲン化銀感光材料の調製
下引加工済の厚さ100μmのポリエチレンテレフタレ
ート支持体上に上記により調製された乳剤塗布液および
保護脱甲塗布液を組み合わせ、銀量が3.5J7/”r
n:’A刑層のゼラチン11重か1.5.7 /ゴ、保
m層のゼラチン付量が0.8 (1/ m”になるよう
に同時重層塗布し、表−2に示す感光材料試料屋1〜/
1610を作成した。重層塗布時に保護膜用塗布液14
1cホルムアルデヒド、ムコクロル酸およびエチレンイ
ミンの3種類の硬膜剤を添加して硬膜し島前記作成した
感光材料試料を市販の通常のコンタクトスクリーン(グ
レーネガl 50 、L )を介してタングステン光に
よる階段露光を与えた後、表−IK示す現像液試料9種
類で現像処理した。用いた定着液は市販の迅速用定着液
であった。現像処理条件は現像が40℃で四秒、定着が
35”Cで9秒、上記処理済みの試料の網点面積10%
、50%、95%の各々の網点品質を100倍のルーペ
による目視観察にて5段階評価をした。評価点は「1」
が最も品位が低(、順次品位が向上し、ランク「旧は最
もよいレベルを示す。測定結果を衣−2に示すO 表 −2 表−2から明らかなようにハロゲン化銀写真感光材料が
一般式III)で示されるヒドラジン化合物を含有し、
現像液のカリウムイオン釦り亜硫酸イオン濃度及びpH
が本発明の範囲にあるとき好ましい結果が得られること
か分かる。
ート支持体上に上記により調製された乳剤塗布液および
保護脱甲塗布液を組み合わせ、銀量が3.5J7/”r
n:’A刑層のゼラチン11重か1.5.7 /ゴ、保
m層のゼラチン付量が0.8 (1/ m”になるよう
に同時重層塗布し、表−2に示す感光材料試料屋1〜/
1610を作成した。重層塗布時に保護膜用塗布液14
1cホルムアルデヒド、ムコクロル酸およびエチレンイ
ミンの3種類の硬膜剤を添加して硬膜し島前記作成した
感光材料試料を市販の通常のコンタクトスクリーン(グ
レーネガl 50 、L )を介してタングステン光に
よる階段露光を与えた後、表−IK示す現像液試料9種
類で現像処理した。用いた定着液は市販の迅速用定着液
であった。現像処理条件は現像が40℃で四秒、定着が
35”Cで9秒、上記処理済みの試料の網点面積10%
、50%、95%の各々の網点品質を100倍のルーペ
による目視観察にて5段階評価をした。評価点は「1」
が最も品位が低(、順次品位が向上し、ランク「旧は最
もよいレベルを示す。測定結果を衣−2に示すO 表 −2 表−2から明らかなようにハロゲン化銀写真感光材料が
一般式III)で示されるヒドラジン化合物を含有し、
現像液のカリウムイオン釦り亜硫酸イオン濃度及びpH
が本発明の範囲にあるとき好ましい結果が得られること
か分かる。
(3)発明の効果
本発明によれば、保恒性が良好な現像液を用いて優れた
品質の網点画像を形成することができる。
品質の網点画像を形成することができる。
また、ヒドラジンを含有するハロゲン化銀写真感光材料
を用いて画像を形成する場合の欠点であるカプリの発生
及び網点(4!に欠点)のフリンジ、揃い及びヌケが改
41される。
を用いて画像を形成する場合の欠点であるカプリの発生
及び網点(4!に欠点)のフリンジ、揃い及びヌケが改
41される。
Claims (1)
- ヒドラジン化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材料
を、亜硫酸イオン濃度が0.20グラムイオン/l以上
、カリウムイオン濃度が0.35グラムイオン/l以上
、カリウムイオンが全陽イオンの80グラムイオン%以
上でかつpHが10〜13である現像液で処理すること
を特徴とする画像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17093484A JPS6147950A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17093484A JPS6147950A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6147950A true JPS6147950A (ja) | 1986-03-08 |
Family
ID=15914072
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17093484A Pending JPS6147950A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6147950A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62212651A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 高コントラストネガ画像形成方法 |
JPS62275247A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-11-30 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 画像形成方法 |
JPS63103232A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-05-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた画像形成方法 |
JPS63104048A (ja) * | 1986-10-21 | 1988-05-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
JPH01220973A (ja) * | 1987-10-13 | 1989-09-04 | Konica Corp | 高コントラストな画像形成方法 |
JPH0258691A (ja) * | 1988-08-23 | 1990-02-27 | Kansai Electric Power Co Inc:The | 深礎拡底掘削機械および工法 |
-
1984
- 1984-08-14 JP JP17093484A patent/JPS6147950A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62275247A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-11-30 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 画像形成方法 |
JPH0375850B2 (ja) * | 1986-02-28 | 1991-12-03 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | |
JPS62212651A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 高コントラストネガ画像形成方法 |
JPH0579976B2 (ja) * | 1986-03-14 | 1993-11-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | |
JPS63103232A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-05-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた画像形成方法 |
JPS63104048A (ja) * | 1986-10-21 | 1988-05-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
JPH01220973A (ja) * | 1987-10-13 | 1989-09-04 | Konica Corp | 高コントラストな画像形成方法 |
JPH0258691A (ja) * | 1988-08-23 | 1990-02-27 | Kansai Electric Power Co Inc:The | 深礎拡底掘削機械および工法 |
JPH0515877B2 (ja) * | 1988-08-23 | 1993-03-02 | Kansai Denryoku Kk |
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