JPH04251251A - 高コントラスト現像用現像剤液 - Google Patents
高コントラスト現像用現像剤液Info
- Publication number
- JPH04251251A JPH04251251A JP3099398A JP9939891A JPH04251251A JP H04251251 A JPH04251251 A JP H04251251A JP 3099398 A JP3099398 A JP 3099398A JP 9939891 A JP9939891 A JP 9939891A JP H04251251 A JPH04251251 A JP H04251251A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developing agent
- hydroquinone
- developer solution
- developer
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000011161 development Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 12
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims abstract description 76
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 55
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 51
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 51
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 43
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 15
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 34
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 17
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical compound [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 10
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical group NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000002609 medium Substances 0.000 claims description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 7
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical group CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 6
- UFPKLWVNKAMAPE-UHFFFAOYSA-N (4-aminophenyl)azanium;hydrogen sulfate Chemical compound OS(O)(=O)=O.NC1=CC=C(N)C=C1 UFPKLWVNKAMAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XTBFKMDOQMQYPP-UHFFFAOYSA-N 4-n,4-n-diethylbenzene-1,4-diamine;hydron;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)C1=CC=C(N)C=C1 XTBFKMDOQMQYPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RZSMYBKVQYILRO-UHFFFAOYSA-N 4-(4,4-dimethyl-3-oxopyrazolidin-1-yl)benzoic acid Chemical group N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 RZSMYBKVQYILRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 2
- WBZKQQHYRPRKNJ-UHFFFAOYSA-L disulfite Chemical compound [O-]S(=O)S([O-])(=O)=O WBZKQQHYRPRKNJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 238000001739 density measurement Methods 0.000 claims 2
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical compound O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 claims 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 3
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 8
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 7
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 7
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 7
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 7
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 7
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 5
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 5
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 4
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- OWIRCRREDNEXTA-UHFFFAOYSA-N 3-nitro-1h-indazole Chemical compound C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=NNC2=C1 OWIRCRREDNEXTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=CC2=C1 WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 3
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Chemical class 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 150000002473 indoazoles Chemical class 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 2
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N (e)-2,3-dichloro-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\Cl)=C(/Cl)C=O LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGALEZGQSYLWSN-UHFFFAOYSA-N 1-(3-aminophenyl)-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound NC1=CC=CC(N2C(N=NN2)=S)=C1 RGALEZGQSYLWSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMJNTFXCTXAXTC-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoro-1,3-benzodioxole-5-carbonitrile Chemical group C1=C(C#N)C=C2OC(F)(F)OC2=C1 VMJNTFXCTXAXTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIWRQEFBSZWJTH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibromobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Br)=C1Br XIWRQEFBSZWJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCKMJVEAUXWJJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichlorobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1Cl DBCKMJVEAUXWJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPASWZHHWPVSRG-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylbenzene-1,4-diol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C)C=C1O GPASWZHHWPVSRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBDVWXAVKPRHCU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OCCOC(=O)C(C)=C IBDVWXAVKPRHCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIGSPBFIOSHWQG-UHFFFAOYSA-N 2-Isopropyl-1,4-benzenediol Chemical compound CC(C)C1=CC(O)=CC=C1O HIGSPBFIOSHWQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 2-bromobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Br)=C1 REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYYSPVRERVXMLJ-UHFFFAOYSA-N 4,4-difluorocyclohexan-1-one Chemical compound FC1(F)CCC(=O)CC1 NYYSPVRERVXMLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYYXDZDBXNUPOG-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrahydro-1,3-benzothiazole-2,6-diamine;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.C1C(N)CCC2=C1SC(N)=N2 RYYXDZDBXNUPOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDGIIHVZBRAWAS-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-2h-triazin-5-one Chemical compound OC1=CN=NN=C1Cl GDGIIHVZBRAWAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVNCILPDWNBPLK-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1h-indazole Chemical class ClC1=CC=C2NN=CC2=C1 FVNCILPDWNBPLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 6-(4-aminophenyl)sulfonylpyridin-3-amine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=N1 XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003803 Gold(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- MGJKQDOBUOMPEZ-UHFFFAOYSA-N N,N'-dimethylurea Chemical compound CNC(=O)NC MGJKQDOBUOMPEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- QPFYXYFORQJZEC-FOCLMDBBSA-N Phenazopyridine Chemical compound NC1=NC(N)=CC=C1\N=N\C1=CC=CC=C1 QPFYXYFORQJZEC-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- OKRCXSCDWKJWSW-UHFFFAOYSA-N [4-(chloromethyl)phenyl] acetate Chemical compound CC(=O)OC1=CC=C(CCl)C=C1 OKRCXSCDWKJWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYLCZVFSNLQCQU-UHFFFAOYSA-N [4-[[1-(3-aminophenyl)tetrazol-5-yl]sulfanylmethyl]phenyl] acetate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C)=CC=C1CSC1=NN=NN1C1=CC=CC(N)=C1 NYLCZVFSNLQCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYAWBOXRGZJYED-UHFFFAOYSA-N [4-[[1-[3-(benzenesulfonamido)phenyl]tetrazol-5-yl]sulfanylmethyl]phenyl] acetate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C)=CC=C1CSC1=NN=NN1C1=CC=CC(NS(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 MYAWBOXRGZJYED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEIPQVVAVOUIOP-UHFFFAOYSA-N [Au]=S Chemical compound [Au]=S XEIPQVVAVOUIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910001513 alkali metal bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- TVJORGWKNPGCDW-UHFFFAOYSA-N aminoboron Chemical compound N[B] TVJORGWKNPGCDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940044197 ammonium sulfate Drugs 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- CSKNSYBAZOQPLR-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonyl chloride Chemical compound ClS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 CSKNSYBAZOQPLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical group 0.000 description 1
- OIPQUBBCOVJSNS-UHFFFAOYSA-L bromo(iodo)silver Chemical compound Br[Ag]I OIPQUBBCOVJSNS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001661 cadmium Chemical class 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical class [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Chemical class 0.000 description 1
- AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N chlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1 AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011981 development test Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical compound C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- JGEMYUOFGVHXKV-OWOJBTEDSA-N fumaraldehyde Chemical compound O=C\C=C\C=O JGEMYUOFGVHXKV-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 description 1
- RJHLTVSLYWWTEF-UHFFFAOYSA-K gold trichloride Chemical compound Cl[Au](Cl)Cl RJHLTVSLYWWTEF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PDMYFWLNGXIKEP-UHFFFAOYSA-K gold(3+);trithiocyanate Chemical compound [Au+3].[S-]C#N.[S-]C#N.[S-]C#N PDMYFWLNGXIKEP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 230000010534 mechanism of action Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N mucochloric acid Natural products OC1OC(=O)C(Cl)=C1Cl ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFNPYGYKBYCQSV-UHFFFAOYSA-N n-(4-acetamido-2,5-dihydroxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(=O)NC1=CC(O)=C(NC(C)=O)C=C1O DFNPYGYKBYCQSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQPSGKLPTFKHCN-UHFFFAOYSA-N n-(4-benzamido-2,5-dihydroxyphenyl)benzamide Chemical compound OC=1C=C(NC(=O)C=2C=CC=CC=2)C(O)=CC=1NC(=O)C1=CC=CC=C1 QQPSGKLPTFKHCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- XSXHWVKGUXMUQE-UHFFFAOYSA-N osmium dioxide Inorganic materials O=[Os]=O XSXHWVKGUXMUQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000191 poly(N-vinyl pyrrolidone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000001007 puffing effect Effects 0.000 description 1
- 229940070891 pyridium Drugs 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000012260 resinous material Substances 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- HLWRUJAIJJEZDL-UHFFFAOYSA-M sodium;2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(carboxymethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O HLWRUJAIJJEZDL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical class 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003498 tellurium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003475 thallium Chemical class 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000004764 thiosulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920003176 water-insoluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D257/00—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D257/02—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D257/04—Five-membered rings
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
- G03C5/29—Development processes or agents therefor
- G03C5/305—Additives other than developers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】本発明は像に従って露光された写真ハロゲ
ン化銀乳剤層材料の高コントラスト現像を行う方法及び
そのために使用する現像剤液に関する。
ン化銀乳剤層材料の高コントラスト現像を行う方法及び
そのために使用する現像剤液に関する。
【0002】機械的印刷の目的のための連続色調情報を
再現するに当たり、色調における階調が異なる大きさの
点で表わされるような通常フイルムネガであるハーフト
ーン写真中間物を作ることが普通行われている。形成さ
れるハーフトーン画の品質は、ハーフトーンプリントの
点の形、スペクトル濃度、及び点の均一性と密接に関係
する。
再現するに当たり、色調における階調が異なる大きさの
点で表わされるような通常フイルムネガであるハーフト
ーン写真中間物を作ることが普通行われている。形成さ
れるハーフトーン画の品質は、ハーフトーンプリントの
点の形、スペクトル濃度、及び点の均一性と密接に関係
する。
【0003】ハーフトーン像で非常に高コントラストの
スクリーン点を得るため、ハイドロキノンの如きp−ジ
ヒドロキシベンゼン、アルカリ、アルカリ金属臭化物及
び低濃度の遊離亜硫酸イオンを本質的に含有する現像剤
、いわゆるリス現像剤を配合することが行われている。
スクリーン点を得るため、ハイドロキノンの如きp−ジ
ヒドロキシベンゼン、アルカリ、アルカリ金属臭化物及
び低濃度の遊離亜硫酸イオンを本質的に含有する現像剤
、いわゆるリス現像剤を配合することが行われている。
【0004】「リス階調」とも称される、好ましくは1
0以上のガマンを有する非常に高コントラストの結果は
、前記高コントラスト現像剤及びいわゆる「リスハロゲ
ン化銀乳剤材料」を用いて得ることができる。これらの
材料において、ハロゲン化銀は少なくとも50モル%の
塩化銀を含有し、用いるときには残余が臭化銀であり、
場合によって少量の沃化銀である。
0以上のガマンを有する非常に高コントラストの結果は
、前記高コントラスト現像剤及びいわゆる「リスハロゲ
ン化銀乳剤材料」を用いて得ることができる。これらの
材料において、ハロゲン化銀は少なくとも50モル%の
塩化銀を含有し、用いるときには残余が臭化銀であり、
場合によって少量の沃化銀である。
【0005】低亜硫酸イオン濃度を有するハイドロキノ
ン現像剤は普通「リス型現像剤」と称され、それらの作
用機構はthe Journal of the Fr
anklin Institute 、239巻(19
45年)221〜230頁にJ. A. C. Yul
e によって発表されている。
ン現像剤は普通「リス型現像剤」と称され、それらの作
用機構はthe Journal of the Fr
anklin Institute 、239巻(19
45年)221〜230頁にJ. A. C. Yul
e によって発表されている。
【0006】通常のリス現像剤において、低亜硫酸イオ
ン濃度は空気酸化に対する有効な保護を与えるのには適
切でない。結果として従来のリス現像剤は安定性に欠け
、それが空気に暴露される時間の長さによって乱調な結
果を与える傾向がある。
ン濃度は空気酸化に対する有効な保護を与えるのには適
切でない。結果として従来のリス現像剤は安定性に欠け
、それが空気に暴露される時間の長さによって乱調な結
果を与える傾向がある。
【0007】例えばUS−P4081280に記載され
ている如く、低遊離亜硫酸塩含有率を有するリス現像剤
を用いるとき、 (1)空気酸化による現像剤の消耗、及び(2)処理さ
れた露光写真材料の数との関係での使用を補償する現像
剤溶液を注意深く補うことが必要である。
ている如く、低遊離亜硫酸塩含有率を有するリス現像剤
を用いるとき、 (1)空気酸化による現像剤の消耗、及び(2)処理さ
れた露光写真材料の数との関係での使用を補償する現像
剤溶液を注意深く補うことが必要である。
【0008】空気酸化に対する補給依存性を少なくする
ためUS−P3972719によれば、比較的高い亜硫
酸塩含有率及びかぶり防止剤ニトロ化合物を用いる高コ
ントラスト現像剤が提供されている。前記現像剤は、p
−ジヒドロキシベンゼン現像主薬と超付加現像効果を示
す補助現像主薬を0.05g/l以下含有し、そして現
像測度を制御するため多数のアルキレンオキサイド単位
を含有する重合体、即ち重合体オキシアルキレン化合物
を含有させてもよい。
ためUS−P3972719によれば、比較的高い亜硫
酸塩含有率及びかぶり防止剤ニトロ化合物を用いる高コ
ントラスト現像剤が提供されている。前記現像剤は、p
−ジヒドロキシベンゼン現像主薬と超付加現像効果を示
す補助現像主薬を0.05g/l以下含有し、そして現
像測度を制御するため多数のアルキレンオキサイド単位
を含有する重合体、即ち重合体オキシアルキレン化合物
を含有させてもよい。
【0009】公告されたヨーロッパ特許出願01967
05によれば像に従って露光された写真ハロゲン化銀乳
剤層材料の高コントラスト現像を行う方法は下記成分を
含有する10〜12のpHを有する水性溶液中で行う:
05によれば像に従って露光された写真ハロゲン化銀乳
剤層材料の高コントラスト現像を行う方法は下記成分を
含有する10〜12のpHを有する水性溶液中で行う:
【0010】(a)(i)ハイドロキノン又は置換ハイ
ドロキノン、(ii)明細書中に規定された標準現像試
験で利用したとき約1〜2の範囲の相対現像速度fxを
与えるような程度の活性を有する補助現像主薬、(b)
少なくとも5g/lの量での遊離亜硫酸イオン、及び (c)下記一般式(A)及び(B)の一つに相当する有
機かぶり防止剤、
ドロキノン、(ii)明細書中に規定された標準現像試
験で利用したとき約1〜2の範囲の相対現像速度fxを
与えるような程度の活性を有する補助現像主薬、(b)
少なくとも5g/lの量での遊離亜硫酸イオン、及び (c)下記一般式(A)及び(B)の一つに相当する有
機かぶり防止剤、
【0011】
【化3】
【化4】
【0012】(式中Y1 はインダゾール核の5又は6
位におけるニトロ置換基であり、X1 は水素又は塩の
形のスルホン酸基であり、Rは水素又は低級C1 〜C
5 アルキル基であり、Xは塩の形のスルホン酸基又は
カルボキシル基であるかそれを含有する置換基である)
位におけるニトロ置換基であり、X1 は水素又は塩の
形のスルホン酸基であり、Rは水素又は低級C1 〜C
5 アルキル基であり、Xは塩の形のスルホン酸基又は
カルボキシル基であるかそれを含有する置換基である)
【0013】(d)少なくとも1500の分子量を有し
、多数のアルキレンオキサイド単位を含有する重合体。
、多数のアルキレンオキサイド単位を含有する重合体。
【0014】そして、前記(a)〜(d)の成分は水性
現像媒体中に存在し、それらの相対量は、形成される銀
楔像のlog露光感度測定曲線に対する濃度を与える同
じ現像条件下で潜在連続色調楔を担持する露光された写
真材料の現像が、(a)logスケールでかぶりの上0
.3と3.0の濃度で測定したlog露光値間で少なく
とも5.0の最高階調度(γ)を有し、かつlog露光
スケールでかぶりの上0.1と6.0の濃度で測定した
log露光値間のトウで少なくとも2.0の階調度(γ
v)を有するような量とする。
現像媒体中に存在し、それらの相対量は、形成される銀
楔像のlog露光感度測定曲線に対する濃度を与える同
じ現像条件下で潜在連続色調楔を担持する露光された写
真材料の現像が、(a)logスケールでかぶりの上0
.3と3.0の濃度で測定したlog露光値間で少なく
とも5.0の最高階調度(γ)を有し、かつlog露光
スケールでかぶりの上0.1と6.0の濃度で測定した
log露光値間のトウで少なくとも2.0の階調度(γ
v)を有するような量とする。
【0015】最近まで、鮮鋭なスクリーン点再現に必要
な特に高い階調を生ぜしめるリス現像の特徴は、ハロゲ
ン化銀が主として塩化銀であるハロゲン化銀乳剤層の使
用に限定されていた。
な特に高い階調を生ぜしめるリス現像の特徴は、ハロゲ
ン化銀が主として塩化銀であるハロゲン化銀乳剤層の使
用に限定されていた。
【0016】US−P4710451によれば、像に従
って露光された写真ハロゲン化銀乳剤層材料の高コント
ラスト現像を行う方法が提供されている、この方法では
、ハロゲン化銀が臭化銀少なくとも90モル%であり、
残余が使用するとき塩化銀及び/又は沃化銀である像に
従って露光されたハロゲン化銀乳剤材料を、唯一の現像
主薬としてのハイドロキノン、大量の亜硫酸塩(少なく
とも5g/lの遊離亜硫酸イオン)、かぶり防止剤とし
てのニトロインダゾール、少なくとも1500の分子量
を有するポリオキシエチレン重合体、及び現像媒体に少
なくとも10.5のpHを与える無機アルカリ性化合物
を含有する現像媒体中で現像する。
って露光された写真ハロゲン化銀乳剤層材料の高コント
ラスト現像を行う方法が提供されている、この方法では
、ハロゲン化銀が臭化銀少なくとも90モル%であり、
残余が使用するとき塩化銀及び/又は沃化銀である像に
従って露光されたハロゲン化銀乳剤材料を、唯一の現像
主薬としてのハイドロキノン、大量の亜硫酸塩(少なく
とも5g/lの遊離亜硫酸イオン)、かぶり防止剤とし
てのニトロインダゾール、少なくとも1500の分子量
を有するポリオキシエチレン重合体、及び現像媒体に少
なくとも10.5のpHを与える無機アルカリ性化合物
を含有する現像媒体中で現像する。
【0017】ニトロインダゾール及び他のインダゾール
例えばシアノ及びハロインダゾール、特に5−シアノ及
び5−クロロインダゾールはアルカリ性媒体中で不安定
であり、それらのかぶり防止活性及び現像遅延活性を失
うから、現像剤配合物は濃縮した形で使用前二つの部分
で保ち、そして一緒にし、そして水で所望の濃度に稀釈
しており、ニトロインダゾールかぶり防止剤及びポリオ
キシアルキレン重合体は使用前酸媒体中で一つの部分と
して保ち、他の成分はアルカリ性媒体中で他の部分とし
て保っている。前記方法によれば安定性の問題は解決さ
れるが、貯蔵及び使用時に劣化に悩まされない単一液高
コントラスト現像剤で処理することはより好都合である
。
例えばシアノ及びハロインダゾール、特に5−シアノ及
び5−クロロインダゾールはアルカリ性媒体中で不安定
であり、それらのかぶり防止活性及び現像遅延活性を失
うから、現像剤配合物は濃縮した形で使用前二つの部分
で保ち、そして一緒にし、そして水で所望の濃度に稀釈
しており、ニトロインダゾールかぶり防止剤及びポリオ
キシアルキレン重合体は使用前酸媒体中で一つの部分と
して保ち、他の成分はアルカリ性媒体中で他の部分とし
て保っている。前記方法によれば安定性の問題は解決さ
れるが、貯蔵及び使用時に劣化に悩まされない単一液高
コントラスト現像剤で処理することはより好都合である
。
【0018】本発明の目的は、アルカリ性水性媒体中で
良好な安定性を有するかぶり防止剤を含有する現像剤液
を用いる像に従って露光されたハロゲン化銀乳剤層の高
コントラスト現像方法を提供することにある。
良好な安定性を有するかぶり防止剤を含有する現像剤液
を用いる像に従って露光されたハロゲン化銀乳剤層の高
コントラスト現像方法を提供することにある。
【0019】本発明の別の目的は、液がアルカリに対し
て良好な安定性を有するかぶり防止剤を含有する像に従
って露光された写真ハロゲン化銀乳剤材料の高階調現像
用水性アルカリ性液を提供することにある。
て良好な安定性を有するかぶり防止剤を含有する像に従
って露光された写真ハロゲン化銀乳剤材料の高階調現像
用水性アルカリ性液を提供することにある。
【0020】本発明の他の目的及び利点は以下の説明及
び実施例から明らかになるであろう。
び実施例から明らかになるであろう。
【0021】本発明によれば、写真ハロゲン化銀乳剤層
材料の現像において使用するのに好適な現像剤液は下記
成分を含有する:
材料の現像において使用するのに好適な現像剤液は下記
成分を含有する:
【0022】(1)唯一現像主薬としてハイドロキノン
もしくは置換ハイドロキノン又は主現像主薬に対して1
0モル%未満の量での補助現像主薬と組合せた主現像主
薬としての前記ハイドロキノン、
もしくは置換ハイドロキノン又は主現像主薬に対して1
0モル%未満の量での補助現像主薬と組合せた主現像主
薬としての前記ハイドロキノン、
【0023】(2)少なくとも5g/lの量での遊離亜
硫酸イオンを生成する無機化合物、
硫酸イオンを生成する無機化合物、
【0024】(3)下記一般式(Z)に相当する有機か
ぶり防止剤、
ぶり防止剤、
【0025】
【化5】
【0026】式中X2 はアルキル基、アリール基、置
換アルキル基、置換アリール基、アミノ基又は置換アミ
ノ基を表わす、かぶり防止剤の量は50mg〜1g/l
の範囲である。
換アルキル基、置換アリール基、アミノ基又は置換アミ
ノ基を表わす、かぶり防止剤の量は50mg〜1g/l
の範囲である。
【0027】(4)多数のアルキレンオキサイド基を含
有する重合体、
有する重合体、
【0028】(5)前記液に少なくとも10.5、好ま
しくは10.8〜11.8のpHを有せしめるのに必要
なアルカリ性材料。
しくは10.8〜11.8のpHを有せしめるのに必要
なアルカリ性材料。
【0029】更に本発明は像に従って露光された写真ハ
ロゲン化銀乳剤層材料の高コントラスト現像法を提供す
る。この現像は露光された写真材料を、少なくとも10
.5pH、好ましくは10.8〜11.8の範囲のpH
を有する水性アルカリ性現像剤液と、下記の如き成分(
1)〜(4)の存在下に接触させることによって行う:
ロゲン化銀乳剤層材料の高コントラスト現像法を提供す
る。この現像は露光された写真材料を、少なくとも10
.5pH、好ましくは10.8〜11.8の範囲のpH
を有する水性アルカリ性現像剤液と、下記の如き成分(
1)〜(4)の存在下に接触させることによって行う:
【0030】(1)唯一の現像主薬としてのハイドロキ
ノンもしくは置換ハイドロキノン又は主現像主薬に対し
て10モル%未満の量での補助現像主薬と組合せた主現
像主薬としての前記ハイドロキノン、
ノンもしくは置換ハイドロキノン又は主現像主薬に対し
て10モル%未満の量での補助現像主薬と組合せた主現
像主薬としての前記ハイドロキノン、
【0031】(2)少なくとも5g/lの量で遊離亜硫
酸イオンを与える無機亜硫酸塩化合物、
酸イオンを与える無機亜硫酸塩化合物、
【0032】(
3)下記一般式(Z)に相当する有機かぶり防止剤:
3)下記一般式(Z)に相当する有機かぶり防止剤:
【0033】
【化6】
【0034】(式中X2 はアルキル基、アリール基、
置換アルキル基、置換アリール基、アミノ基又は置換ア
ミノ基を表わす)、
置換アルキル基、置換アリール基、アミノ基又は置換ア
ミノ基を表わす)、
【0035】(4)少なくとも1500の分子量を有し
、多数のアルキレンオキサイド単位を含有する重合体。
、多数のアルキレンオキサイド単位を含有する重合体。
【0036】前記成分(1)、(2)、(3)及び(4
)は、前記水性媒体中に、前記現像中、前記写真材料を
連続色調楔を介して像に従って露光し、30℃で45秒
間かく構成した水性現像媒体中で試験現像し、定着した
とき、最高階調度(γ)が少なくとも5であり、前記最
高階調度(γ)と濃度測定曲線のトウ(γv)における
階調度の積が少なくとも20であるような濃度測定曲線
に対するlog露光に相当する銀楔像を傷ぜしめるよう
な量で存在させ;最高階調度は前記曲線のかぶりの上濃
度0.3と3.0に相当するlog露光値間で測定し、
トウにおける階調度は前記曲線のかぶりの上濃度0.1
と0.6に相当するlog露光値間で測定する。
)は、前記水性媒体中に、前記現像中、前記写真材料を
連続色調楔を介して像に従って露光し、30℃で45秒
間かく構成した水性現像媒体中で試験現像し、定着した
とき、最高階調度(γ)が少なくとも5であり、前記最
高階調度(γ)と濃度測定曲線のトウ(γv)における
階調度の積が少なくとも20であるような濃度測定曲線
に対するlog露光に相当する銀楔像を傷ぜしめるよう
な量で存在させ;最高階調度は前記曲線のかぶりの上濃
度0.3と3.0に相当するlog露光値間で測定し、
トウにおける階調度は前記曲線のかぶりの上濃度0.1
と0.6に相当するlog露光値間で測定する。
【0037】本発明により主現像主薬として使用するハ
イドロキノン化合物には置換ハイドロキノンを含み例え
ば下記置換ハイドロキノンを含む:
イドロキノン化合物には置換ハイドロキノンを含み例え
ば下記置換ハイドロキノンを含む:
【0038】クロロハイドロキノン、ブロモハイドロキ
ノン、イソプロピルハイドロキノン、トルハイドロキノ
ン、メチルハイドロキノン、2,3−ジクロロハイドロ
キノン、2,5−ジメチルハイドロキノン、2,3−ジ
ブロモハイドロキノン、1,4−ジヒドロキシ−2−ア
セトフエノン−2,5−ジメチルハイドロキノン、2,
5−ジエチルハイドロキノン、2,5−ジ−p−フエネ
チルハイドロキノン、2,5−ジベンゾイルアミノハイ
ドロキノン又は2,5−ジアセトアミノハイドロキノン
及びそれらの混合物。
ノン、イソプロピルハイドロキノン、トルハイドロキノ
ン、メチルハイドロキノン、2,3−ジクロロハイドロ
キノン、2,5−ジメチルハイドロキノン、2,3−ジ
ブロモハイドロキノン、1,4−ジヒドロキシ−2−ア
セトフエノン−2,5−ジメチルハイドロキノン、2,
5−ジエチルハイドロキノン、2,5−ジ−p−フエネ
チルハイドロキノン、2,5−ジベンゾイルアミノハイ
ドロキノン又は2,5−ジアセトアミノハイドロキノン
及びそれらの混合物。
【0039】これらのハイドロキノンの製造は当業者に
知られている。
知られている。
【0040】本発明により使用するのに好適な補助現像
主薬には例えばp−アミノフエノール、p−メチルアミ
ノフエノール、p−フエニレンジアミン硫酸塩、N,N
−ジエチル−p−フエニレンジアミン塩酸塩又は1−フ
エニル−3−ピラゾリジノン系現像主薬があり、それら
の少なくとも2種の混合物の使用も含む。
主薬には例えばp−アミノフエノール、p−メチルアミ
ノフエノール、p−フエニレンジアミン硫酸塩、N,N
−ジエチル−p−フエニレンジアミン塩酸塩又は1−フ
エニル−3−ピラゾリジノン系現像主薬があり、それら
の少なくとも2種の混合物の使用も含む。
【0041】好ましい補助現像主薬はp−メチルアミノ
フエノール及び1−フエニル−3−ピラゾリジノン系現
像主薬、例えば1−p−カルボキシフエニル−4,4−
ジメル−3−ピラゾリジノンである。
フエノール及び1−フエニル−3−ピラゾリジノン系現
像主薬、例えば1−p−カルボキシフエニル−4,4−
ジメル−3−ピラゾリジノンである。
【0042】同様にEP196705に相当するUS−
P4756990の主特許請求の範囲の範囲内の補助現
像主薬も好ましい。
P4756990の主特許請求の範囲の範囲内の補助現
像主薬も好ましい。
【0043】主現像主薬及び又補助現像主薬も、現像前
に既に写真材料中に、例えばハロゲン化銀乳剤層中又は
それと水透過性関係にある層中に存在させ、その中に製
造段階で混入できる。その場合、現像は、現像主薬を含
有しないが、成分(2)及び所望によって他の成分(3
)及び(4)を含有するアルカリ性水性液と写真材料を
接触させることによって行うことができる。
に既に写真材料中に、例えばハロゲン化銀乳剤層中又は
それと水透過性関係にある層中に存在させ、その中に製
造段階で混入できる。その場合、現像は、現像主薬を含
有しないが、成分(2)及び所望によって他の成分(3
)及び(4)を含有するアルカリ性水性液と写真材料を
接触させることによって行うことができる。
【0044】写真材料中の現像主薬の被覆率は、例えば
0.1〜5g/m2 の範囲である。現像剤液中で付与
するときには、現像主薬は10〜60g/lの範囲の濃
度で使用するのが好ましい。
0.1〜5g/m2 の範囲である。現像剤液中で付与
するときには、現像主薬は10〜60g/lの範囲の濃
度で使用するのが好ましい。
【0045】亜硫酸イオン(成分2)は好ましくはアル
カリ金属重亜硫酸水素塩又はメタ重亜硫酸塩又は相当す
るアンモニウム塩から出発して現像剤組成物中に混入す
る。遊離亜硫酸イオンの濃度は15〜80g/lの範囲
が好ましい。
カリ金属重亜硫酸水素塩又はメタ重亜硫酸塩又は相当す
るアンモニウム塩から出発して現像剤組成物中に混入す
る。遊離亜硫酸イオンの濃度は15〜80g/lの範囲
が好ましい。
【0046】前記一般式(Z)によるかぶり防止化合物
の好ましい代表例を下表1にそれらの構造式及び融点(
℃)を示す。
の好ましい代表例を下表1にそれらの構造式及び融点(
℃)を示す。
【0047】
【表1】
【0048】前記化合物の合成を表1の化合物No.2
の詳細な製造によって示す。
の詳細な製造によって示す。
【0049】化合物No.2の製造
1−(3−アミノフエニル)−5−(4−アセトキシベ
ンジルチオ)−テトラゾール中間体化合物Aの製造
ンジルチオ)−テトラゾール中間体化合物Aの製造
【0
050】20mlのアセトニトリル中の3.86g(0
.02モル)の1−(m−アミノフエニル)−5−メル
カプトテトラゾール(GB−P2088849に記載さ
れている如くして作った)の攪拌した懸濁液に、20℃
で徐々に2.84g(0.022モル)のジイソプロピ
ルエチルアミンを加えた。次に3.6g(0.02モル
)のp−アセトキシベンジルクロライド〔J. Org
. Chem. 43巻、1197頁(1978年)に
記載した如くして作った〕を加えた。形成された反応混
合物を室温で3時間攪拌した。50mlの水を加えた。 沈殿を吸引濾過し、水洗し、50℃で乾燥した。化合物
Aの収量:6.5g。融点:149.6℃。
050】20mlのアセトニトリル中の3.86g(0
.02モル)の1−(m−アミノフエニル)−5−メル
カプトテトラゾール(GB−P2088849に記載さ
れている如くして作った)の攪拌した懸濁液に、20℃
で徐々に2.84g(0.022モル)のジイソプロピ
ルエチルアミンを加えた。次に3.6g(0.02モル
)のp−アセトキシベンジルクロライド〔J. Org
. Chem. 43巻、1197頁(1978年)に
記載した如くして作った〕を加えた。形成された反応混
合物を室温で3時間攪拌した。50mlの水を加えた。 沈殿を吸引濾過し、水洗し、50℃で乾燥した。化合物
Aの収量:6.5g。融点:149.6℃。
【0051】1−(3−ベンゼンスルホンアミドフエニ
ル)−5−(4−アセトキシベンジルチオ)−テトラゾ
ール中間体Bの製造
ル)−5−(4−アセトキシベンジルチオ)−テトラゾ
ール中間体Bの製造
【0052】4lのアセトニトリル中の682g(2モ
ル)の中間体化合物A及び147g(2.2モル)のピ
リジンの攪拌懸濁液に、388.3g(2.2モル)の
ベンゼンスルホニルクロライドを20℃で加えた。反応
混合物を室温で5時間攪拌した。次いで混合物を20l
の水中に注入し、これに250mlの12Nの塩酸を加
えた。沈殿を吸引濾過し、水洗し、乾燥した。化合物B
の収量:955g。融点:132.6℃。
ル)の中間体化合物A及び147g(2.2モル)のピ
リジンの攪拌懸濁液に、388.3g(2.2モル)の
ベンゼンスルホニルクロライドを20℃で加えた。反応
混合物を室温で5時間攪拌した。次いで混合物を20l
の水中に注入し、これに250mlの12Nの塩酸を加
えた。沈殿を吸引濾過し、水洗し、乾燥した。化合物B
の収量:955g。融点:132.6℃。
【0053】1−〔3−(ベンゼンスルホンアミド)−
フエニル〕−5−メルカプトテトラゾール、表1の化合
物No.2の製造
フエニル〕−5−メルカプトテトラゾール、表1の化合
物No.2の製造
【0054】4.75lのメタノール中の375.5g
(5.7モル)の水酸化カリウム(85重量%)の溶液
に、913.9g(1.9モル)の中間体化合物Bを加
えた。得られた溶液を室温で3時間攪拌した。反応混合
物に9.5lの水を加え、pHを6に調製した。僅かに
濁った溶液をメチエレンクロライドで洗った。次に水性
上澄み液のpHを5Nの塩酸でゼロに下げた。形成され
た沈殿を吸引濾別し、水洗し、乾燥した。収量:573
g。融点:155.5℃。
(5.7モル)の水酸化カリウム(85重量%)の溶液
に、913.9g(1.9モル)の中間体化合物Bを加
えた。得られた溶液を室温で3時間攪拌した。反応混合
物に9.5lの水を加え、pHを6に調製した。僅かに
濁った溶液をメチエレンクロライドで洗った。次に水性
上澄み液のpHを5Nの塩酸でゼロに下げた。形成され
た沈殿を吸引濾別し、水洗し、乾燥した。収量:573
g。融点:155.5℃。
【0055】前記一般式(Z)によるかぶり防止剤は感
光性材料中に前もってその製造段階で存在させてもよい
が、それらは現像開始前のアルカリ性現像剤液中に溶解
する成分の一つとして使用するのが好ましい。
光性材料中に前もってその製造段階で存在させてもよい
が、それらは現像開始前のアルカリ性現像剤液中に溶解
する成分の一つとして使用するのが好ましい。
【0056】写真材料中に存在させるとき、前記かぶり
防止剤は100mg/m2 以下の被覆率でその中に付
与するのが好ましい。
防止剤は100mg/m2 以下の被覆率でその中に付
与するのが好ましい。
【0057】現像剤液中で、前記かぶり防止剤の濃度は
1000mg/l以下であるのが好ましい。
1000mg/l以下であるのが好ましい。
【0058】本発明により使用する重合体オキシアルキ
レン化合物とも称される好適なポリアルキレンオキサイ
ド重合体はポリアルキレンオキサイドそのものとして例
えば1500以上の分子量のポリエチレンオキサイド又
はそれの例えばアルコール、グリコール、リン酸、スル
ホン酸、脂肪族アミン及びジアミンとの縮合生成物であ
る。オキシアルキレン単位を含有する縮合生成物の例は
、例えばヨーロッパ特許第0196705号、英国特許
第600058号、第871801号、第920637
号、第940051号、第945340号、第9496
43号、第991608号、第1015023号、第1
091705号、第1107022号、第114781
7号、第1162135号及び第1184434号、公
告されたドイツ特許出願第1141531号、第118
8439号、及び米国特許第1970578号、第22
40472号、第2423549号、及び第24413
89号に記載されている。
レン化合物とも称される好適なポリアルキレンオキサイ
ド重合体はポリアルキレンオキサイドそのものとして例
えば1500以上の分子量のポリエチレンオキサイド又
はそれの例えばアルコール、グリコール、リン酸、スル
ホン酸、脂肪族アミン及びジアミンとの縮合生成物であ
る。オキシアルキレン単位を含有する縮合生成物の例は
、例えばヨーロッパ特許第0196705号、英国特許
第600058号、第871801号、第920637
号、第940051号、第945340号、第9496
43号、第991608号、第1015023号、第1
091705号、第1107022号、第114781
7号、第1162135号及び第1184434号、公
告されたドイツ特許出願第1141531号、第118
8439号、及び米国特許第1970578号、第22
40472号、第2423549号、及び第24413
89号に記載されている。
【0059】本発明の現像法において使用するのに好ま
しいポリオキシアルキレン化合物は少なくとも30の反
復オキシエチレン単位の平均数を含有する重合体である
。特に良好な結果は70の反復オキシエチレン単位の平
均数を有するポリオキシエチレン化合物を用いて得られ
る。本発明により使用するのに特に好適なポリオキシエ
チレン重合体は米国特許第3947273号に記載され
ている。これらの重合体は水溶解度を改良する末端基を
含有する。イオン性末端基を有する好ましいポリオキシ
エチレン重合体の例は下記一般式に相当する:
しいポリオキシアルキレン化合物は少なくとも30の反
復オキシエチレン単位の平均数を含有する重合体である
。特に良好な結果は70の反復オキシエチレン単位の平
均数を有するポリオキシエチレン化合物を用いて得られ
る。本発明により使用するのに特に好適なポリオキシエ
チレン重合体は米国特許第3947273号に記載され
ている。これらの重合体は水溶解度を改良する末端基を
含有する。イオン性末端基を有する好ましいポリオキシ
エチレン重合体の例は下記一般式に相当する:
【006
0】+ X・−OSO2(CH2CH2O)nCH2C
H2SO2O−・X+ 式中nは例えば30〜200で
あり、X+ はカチオン、例えばナトリウムイオンであ
る。
0】+ X・−OSO2(CH2CH2O)nCH2C
H2SO2O−・X+ 式中nは例えば30〜200で
あり、X+ はカチオン、例えばナトリウムイオンであ
る。
【0061】現像剤配合物の当業者に良く知られている
他の助剤を本発明により使用する現像剤液に加えること
ができる。
他の助剤を本発明により使用する現像剤液に加えること
ができる。
【0062】通常の現像剤添加剤の調査は、ニユーヨー
クのJohn Wiley and Sons 197
9年発行、Grant Haist 著、Modern
Photographic Processing,
220頁〜274頁に記載されている。かかる添加剤に
は例えば臭化カリウムとして付与される可溶性ハロゲン
化物の如き抑制剤、現像主薬の溶解度を改良する有機溶
媒、有機かぶり防止剤、保恒剤例えば殺菌剤及び増粘剤
(puffering agent )例えばカーボネ
ート、ホスフエート及びボレートがある。
クのJohn Wiley and Sons 197
9年発行、Grant Haist 著、Modern
Photographic Processing,
220頁〜274頁に記載されている。かかる添加剤に
は例えば臭化カリウムとして付与される可溶性ハロゲン
化物の如き抑制剤、現像主薬の溶解度を改良する有機溶
媒、有機かぶり防止剤、保恒剤例えば殺菌剤及び増粘剤
(puffering agent )例えばカーボネ
ート、ホスフエート及びボレートがある。
【0063】本発明により使用する現像剤液は遊離臭素
イオンを含有でき、その濃度は現像剤溶液1lについて
0.5〜15.0gの範囲であるのが好ましい。
イオンを含有でき、その濃度は現像剤溶液1lについて
0.5〜15.0gの範囲であるのが好ましい。
【0064】水性媒体中でのハイドロキノンの溶解を改
良するための有機溶媒は例えばUS−P4030920
、GB−P1343718及びFR−P71.4109
5(公告番号2114785)に記載されている。前記
目的のための溶媒には、アミド、アルコール、有機ジオ
ール化合物及びその半エーテルの群の水混和性溶媒があ
る。好ましい水混和性溶媒はジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセタミド、N−メチル−2−ピロリジノン、ジ
メチルスルホキサイド、1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジノン、及び3−メトキシ−2−プロパノールであ
る。これらの溶媒は現像剤液1lについて5〜250g
の量で存在させることができる。更にハイドロキノンに
対する吸着剤として作用するポリビニルピロリドンを挙
げることができる。
良するための有機溶媒は例えばUS−P4030920
、GB−P1343718及びFR−P71.4109
5(公告番号2114785)に記載されている。前記
目的のための溶媒には、アミド、アルコール、有機ジオ
ール化合物及びその半エーテルの群の水混和性溶媒があ
る。好ましい水混和性溶媒はジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセタミド、N−メチル−2−ピロリジノン、ジ
メチルスルホキサイド、1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジノン、及び3−メトキシ−2−プロパノールであ
る。これらの溶媒は現像剤液1lについて5〜250g
の量で存在させることができる。更にハイドロキノンに
対する吸着剤として作用するポリビニルピロリドンを挙
げることができる。
【0065】現像剤配合物は濃縮した形で作り、使用直
前に作用濃度に稀釈できる。自動処理のために濃縮溶液
は補給装置を有する処理機で広く使用される。
前に作用濃度に稀釈できる。自動処理のために濃縮溶液
は補給装置を有する処理機で広く使用される。
【0066】本発明により使用する現像剤溶液は、著し
い劣化なしに数週間機械処理機中に置くことができる。 補給は消耗した一部を捨てた後新しい量の現像剤を加え
ることによって簡単に行う。
い劣化なしに数週間機械処理機中に置くことができる。 補給は消耗した一部を捨てた後新しい量の現像剤を加え
ることによって簡単に行う。
【0067】本発明により使用するハロゲン化銀乳剤の
ハロゲン化銀は任意の種類のハロゲン化銀であることが
できる。
ハロゲン化銀は任意の種類のハロゲン化銀であることが
できる。
【0068】写真乳剤中のハロゲン化銀粒子の結晶形は
、規則形(立方又は八面体形)又は不規則形(例えば球
状又は板状)であることができ、又はこれらの形の複合
体であることができる。ハロゲン化銀乳剤は異なる大き
さ及び結晶形の混合粒子を含むことができる。ハロゲン
化銀粒子の内部及び表面層は異なってもよく、或いは粒
子は全体が均一であってもよい。
、規則形(立方又は八面体形)又は不規則形(例えば球
状又は板状)であることができ、又はこれらの形の複合
体であることができる。ハロゲン化銀乳剤は異なる大き
さ及び結晶形の混合粒子を含むことができる。ハロゲン
化銀粒子の内部及び表面層は異なってもよく、或いは粒
子は全体が均一であってもよい。
【0069】別々に作ったハロゲン化銀乳剤の2種以上
を混合し、被覆して単一ハロゲン化銀乳剤層を形成でき
る。
を混合し、被覆して単一ハロゲン化銀乳剤層を形成でき
る。
【0070】好ましいハロゲン化銀は主として塩化銀を
含有する種類のものであり、例えば塩化銀を少なくとも
70モル%(更に好ましくは少なくとも90モル%)を
含有する。
含有する種類のものであり、例えば塩化銀を少なくとも
70モル%(更に好ましくは少なくとも90モル%)を
含有する。
【0071】別の好ましい種類のハロゲン化銀は臭化(
沃化)銀であり、このハロゲン化銀は10モル%より多
く沃化銀を含有せず、更に好ましくは6モル%より多く
沃化銀を含有しない。
沃化)銀であり、このハロゲン化銀は10モル%より多
く沃化銀を含有せず、更に好ましくは6モル%より多く
沃化銀を含有しない。
【0072】ハロゲン化銀被覆率は、1.5〜6g/m
2 の範囲の銀の被覆率に等しいのが良く、好ましくは
1m2 について銀2〜4gの被覆率に等しいのが良い
。ハロゲン化銀粒度は0.05〜1μmの範囲であるの
が好ましい。
2 の範囲の銀の被覆率に等しいのが良く、好ましくは
1m2 について銀2〜4gの被覆率に等しいのが良い
。ハロゲン化銀粒度は0.05〜1μmの範囲であるの
が好ましい。
【0073】本発明により処理するのに好適なハロゲン
化銀乳剤材料は、乳剤製造における当業者に良く知られ
ている任意の方法で、例えば本来活性なゼラチン又は各
種の硫黄、セレン、テルル化合物及び/又は金化合物で
熟成して化学的に増感できる。化学増感は本来光化学的
に活性なゼラチン中に存在する硫黄化合物でのみならず
、チオサルフエート、サルフアイト、チオ尿素、チアゾ
ール又はローダニンで同様に行うことができる。還元増
感は第一錫塩、アミン、ホルムアミジンスルフイン酸、
シラン化合物例えばメチルジクロロシラン、ヒドラジン
誘導体、アミノボラン、二酸化チオ尿素等で行うことが
できる。特に前記化学熟成法の幾つかの組合せ使用が注
目され、特に金−硫黄組合せが非常に好ましい。
化銀乳剤材料は、乳剤製造における当業者に良く知られ
ている任意の方法で、例えば本来活性なゼラチン又は各
種の硫黄、セレン、テルル化合物及び/又は金化合物で
熟成して化学的に増感できる。化学増感は本来光化学的
に活性なゼラチン中に存在する硫黄化合物でのみならず
、チオサルフエート、サルフアイト、チオ尿素、チアゾ
ール又はローダニンで同様に行うことができる。還元増
感は第一錫塩、アミン、ホルムアミジンスルフイン酸、
シラン化合物例えばメチルジクロロシラン、ヒドラジン
誘導体、アミノボラン、二酸化チオ尿素等で行うことが
できる。特に前記化学熟成法の幾つかの組合せ使用が注
目され、特に金−硫黄組合せが非常に好ましい。
【0074】本発明において使用するハロゲン化銀乳剤
は、カドミウム塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩又は
その錯塩、イリジウム塩又はその錯塩又は上記塩及び/
又は錯塩の混合物の存在下にハロゲン化銀粒子の形成又
は物理的熟成を同様に受けるとよい。
は、カドミウム塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩又は
その錯塩、イリジウム塩又はその錯塩又は上記塩及び/
又は錯塩の混合物の存在下にハロゲン化銀粒子の形成又
は物理的熟成を同様に受けるとよい。
【0075】本発明による処理に好適なハロゲン化銀乳
剤材料はスペクトル的に増感できる、例えば既知のスペ
クトル増感染料でオーソ増感又はパン及び/又は赤外増
感できる。例えばハロゲン化銀は有機溶媒中の増感染料
の溶液で処理してスペクトル増感することができる。使
用できるスペクトル増感剤には例えばシアニン、メロシ
アニン、コンプレツクス(三核)シアニン、コンプレツ
クス(三核)メロシアニン、スチリル及びヘミシアニン
がある。これらの増感染料は個々に又はそれらの組合せ
として使用できる。増感染料の組合せは超染料増感のた
めしばしば使用される。
剤材料はスペクトル的に増感できる、例えば既知のスペ
クトル増感染料でオーソ増感又はパン及び/又は赤外増
感できる。例えばハロゲン化銀は有機溶媒中の増感染料
の溶液で処理してスペクトル増感することができる。使
用できるスペクトル増感剤には例えばシアニン、メロシ
アニン、コンプレツクス(三核)シアニン、コンプレツ
クス(三核)メロシアニン、スチリル及びヘミシアニン
がある。これらの増感染料は個々に又はそれらの組合せ
として使用できる。増感染料の組合せは超染料増感のた
めしばしば使用される。
【0076】本発明により処理すべきハロゲン化銀乳剤
材料は又通常の添加剤、例えば可塑剤、被覆を助けるた
めの界面活性剤、帯電防止剤、分散性を改良する剤、被
覆層の粘着防止する剤、一般式(Z)の前述した化合物
以外のかぶり防止化合物、例えばベンズオキサゾール、
ベンズチアゾール、ベンズイミダゾール、ベンズトリア
ゾール又はテトラゾールのメルカプト誘導体、特に1−
フエニル−5−メルカプトテトラゾール及びアザインデ
ン化合物、特に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a−7
)−テトラアザインデンも含有できる。
材料は又通常の添加剤、例えば可塑剤、被覆を助けるた
めの界面活性剤、帯電防止剤、分散性を改良する剤、被
覆層の粘着防止する剤、一般式(Z)の前述した化合物
以外のかぶり防止化合物、例えばベンズオキサゾール、
ベンズチアゾール、ベンズイミダゾール、ベンズトリア
ゾール又はテトラゾールのメルカプト誘導体、特に1−
フエニル−5−メルカプトテトラゾール及びアザインデ
ン化合物、特に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a−7
)−テトラアザインデンも含有できる。
【0077】更にハロゲン化銀乳剤材料は硬化剤、ホル
ムアルデヒド、ムコクロル酸、グルタルジアルデヒド及
びマレインジアルデヒドの如きアルデヒド硬化剤、アジ
リジン、オキシポリサッカライド、ジメチル尿素、ヒド
ロキシクロロトリアジン、例えばUS−P384187
2に記載されている如きジビニルスルホン、US−P3
880665、4063952及び特願平1−1194
77に記載されている如きN−カルバモイルピリジニウ
ムスルホベタイン化合物及び/又はトリアクリルホルマ
ールを含有できる。
ムアルデヒド、ムコクロル酸、グルタルジアルデヒド及
びマレインジアルデヒドの如きアルデヒド硬化剤、アジ
リジン、オキシポリサッカライド、ジメチル尿素、ヒド
ロキシクロロトリアジン、例えばUS−P384187
2に記載されている如きジビニルスルホン、US−P3
880665、4063952及び特願平1−1194
77に記載されている如きN−カルバモイルピリジニウ
ムスルホベタイン化合物及び/又はトリアクリルホルマ
ールを含有できる。
【0078】ハロゲン化銀乳剤は、その目的のため知ら
れている任意の親水性水透過性結合材料を含有できる。 好適な材料にはゼラチン、コロイド状アルブミン、ポリ
ビニル化合物、セルロース誘導体、アクリルアミド重合
体等を含む。これらの結合剤の混合物も使用できる。高
コントラスト写真材料の乳剤層のための結合剤は又分散
した重合したビニル化合物も含有できる。かかる化合物
は例えばUS−P3142568、US−P31933
86、US−P3062674及びUS−P32208
44に記載されている。それらにはアルキルアクリレー
ト及びメタクリレート、アクリル酸、スルホアルキルア
クリレート又はメタクリレートの水不溶性重合体、アク
リルアクリレートとアクリル酸、アクリロイル−オキシ
アルキルスルホン酸、アセトアセトキシアルキルアクリ
レート例えば2−アセトアセトキシエチルメタクリレー
ト等の共重合体を含む。これらの化合物は写真材料のハ
ロゲン化銀乳剤層とは別の層中にも同様に混入できる。 ビニル重合体は一般に全結合剤含有量の重量を基準にし
て約20〜約80%の濃度、最もしばしば少なくとも3
0重量%の濃度で使用される。
れている任意の親水性水透過性結合材料を含有できる。 好適な材料にはゼラチン、コロイド状アルブミン、ポリ
ビニル化合物、セルロース誘導体、アクリルアミド重合
体等を含む。これらの結合剤の混合物も使用できる。高
コントラスト写真材料の乳剤層のための結合剤は又分散
した重合したビニル化合物も含有できる。かかる化合物
は例えばUS−P3142568、US−P31933
86、US−P3062674及びUS−P32208
44に記載されている。それらにはアルキルアクリレー
ト及びメタクリレート、アクリル酸、スルホアルキルア
クリレート又はメタクリレートの水不溶性重合体、アク
リルアクリレートとアクリル酸、アクリロイル−オキシ
アルキルスルホン酸、アセトアセトキシアルキルアクリ
レート例えば2−アセトアセトキシエチルメタクリレー
ト等の共重合体を含む。これらの化合物は写真材料のハ
ロゲン化銀乳剤層とは別の層中にも同様に混入できる。 ビニル重合体は一般に全結合剤含有量の重量を基準にし
て約20〜約80%の濃度、最もしばしば少なくとも3
0重量%の濃度で使用される。
【0079】US−P3617284に記載されている
如く結合剤が部分的にポリ−N−ビニルピロリドンから
なるハロゲン化銀乳剤が特に高い階調結果を提供する。
如く結合剤が部分的にポリ−N−ビニルピロリドンから
なるハロゲン化銀乳剤が特に高い階調結果を提供する。
【0080】本発明により処理されるハロゲン化銀乳剤
層は広い各種の支持体上に被覆できる。所望ならば親水
性コロイド層を支持体の一側又は両側に被覆する。
層は広い各種の支持体上に被覆できる。所望ならば親水
性コロイド層を支持体の一側又は両側に被覆する。
【0081】好適な支持体にはセルロースナイトレート
フイルム、セルロースエステルフイルム、ポリビニルア
セタールフイルム、ポリスチレンフイルム、ポリ(エチ
レンテリフタレート)フイルム及び関連フイルム又は樹
脂状材料及びガラス、紙、金属等がある。α−オレフイ
ン重合体、特にポリエチレンポリプロピレン、エチレン
−ブテン共重合体によって代表される如き2個以上の炭
素原子を含有するα−オレフインの重合体で被覆した紙
の如き支持体も同様に使用できる。
フイルム、セルロースエステルフイルム、ポリビニルア
セタールフイルム、ポリスチレンフイルム、ポリ(エチ
レンテリフタレート)フイルム及び関連フイルム又は樹
脂状材料及びガラス、紙、金属等がある。α−オレフイ
ン重合体、特にポリエチレンポリプロピレン、エチレン
−ブテン共重合体によって代表される如き2個以上の炭
素原子を含有するα−オレフインの重合体で被覆した紙
の如き支持体も同様に使用できる。
【0082】本発明による写真材料の処理に当って、現
像のため使用する時間及び温度は広く変えることができ
る。代表的には、現像温度が約20℃〜約50℃の範囲
であり、現像時間はラピッドアクセスで通常90秒より
長く継続しない。
像のため使用する時間及び温度は広く変えることができ
る。代表的には、現像温度が約20℃〜約50℃の範囲
であり、現像時間はラピッドアクセスで通常90秒より
長く継続しない。
【0083】下記実施例は本発明を説明するが、それに
限定するものではない。全ての比、百分率及び量は他に
特記せぬかぎり重量による。
限定するものではない。全ての比、百分率及び量は他に
特記せぬかぎり重量による。
【0084】実施例 1(比較例)チオシアン酸金(
III )アンモニウム及びチオ硫酸ナトリウムで化学
的に増感し、4−ヒドロキシ−6−メチル−(1,3,
3a,7)−テトラアザインデンで安定化した平均粒度
0.3μmを有する立方晶粒子型沃化−臭化銀(沃化銀
1モル%)乳剤を、下塗したポリエチレンテレフタレー
ト支持体上に、2.7g/m2 のゼラチン被覆率及び
銀3.2g/m2 に等しいハロゲン化銀の被覆率で被
覆した。乳剤層はポリエチルアクリレートラテツクス及
び5−ニトロインダゾールをそれぞれ2g/m2 及び
8mg/m2 に相当する量で含有していた。
III )アンモニウム及びチオ硫酸ナトリウムで化学
的に増感し、4−ヒドロキシ−6−メチル−(1,3,
3a,7)−テトラアザインデンで安定化した平均粒度
0.3μmを有する立方晶粒子型沃化−臭化銀(沃化銀
1モル%)乳剤を、下塗したポリエチレンテレフタレー
ト支持体上に、2.7g/m2 のゼラチン被覆率及び
銀3.2g/m2 に等しいハロゲン化銀の被覆率で被
覆した。乳剤層はポリエチルアクリレートラテツクス及
び5−ニトロインダゾールをそれぞれ2g/m2 及び
8mg/m2 に相当する量で含有していた。
【0085】ハロゲン化銀乳剤層を、1−(4−モルフ
オリノカルバモイル)−4−(2−スルホエチル)ピリ
ジウムハイドロキサイド内部塩で硬化したゼラチン0.
6g/m2 を含有する保護層で被覆した。写真材料の
分離部域を、定数0.15を有する連続色調楔及び1c
mについて54本のスクリーン罫線を有するスクリーン
センシトメトリーに使用する灰色ネガスクリーンを介し
てそれぞれ垂直プロセスカメラREPROMASTER
RPS 2001(商品名)で露光した。
オリノカルバモイル)−4−(2−スルホエチル)ピリ
ジウムハイドロキサイド内部塩で硬化したゼラチン0.
6g/m2 を含有する保護層で被覆した。写真材料の
分離部域を、定数0.15を有する連続色調楔及び1c
mについて54本のスクリーン罫線を有するスクリーン
センシトメトリーに使用する灰色ネガスクリーンを介し
てそれぞれ垂直プロセスカメラREPROMASTER
RPS 2001(商品名)で露光した。
【0086】現像は下記組成を有する現像剤を用い、3
0℃の温度で45秒間トレー中に露光した写真材料を浸
漬することによって行った(即ちラピツドアクセス法)
。
0℃の温度で45秒間トレー中に露光した写真材料を浸
漬することによって行った(即ちラピツドアクセス法)
。
【0087】
エチレンジアミン四酢酸ナトリウム塩
1g 炭酸ナ
トリウム
40g 臭
化ナトリウム
4g
亜硫酸ナトリウム
70g
ハイドロキノン
40
g N−メチル−2−ピロリジノン
30ml
ポリオキシエチレングリコール
200mg (オキシ
エチレン単位の平均数は70である) 水で
1l
にした pHは水酸化ナトリウムで11.5に調
製した。
1g 炭酸ナ
トリウム
40g 臭
化ナトリウム
4g
亜硫酸ナトリウム
70g
ハイドロキノン
40
g N−メチル−2−ピロリジノン
30ml
ポリオキシエチレングリコール
200mg (オキシ
エチレン単位の平均数は70である) 水で
1l
にした pHは水酸化ナトリウムで11.5に調
製した。
【0088】上記組成物に、前記表1に化合物No.で
示した本発明により使用するかぶり防止化合物(AFC
)の100mg/lを後掲の表2に示す如く加えた、尚
表2において試験No.6は従来技術のかぶり防止剤X
として5−ニトロインダゾールの使用に関する。新しく
作った現像剤組成物を現像に使用した、感度測定結果を
表2に示す。
示した本発明により使用するかぶり防止化合物(AFC
)の100mg/lを後掲の表2に示す如く加えた、尚
表2において試験No.6は従来技術のかぶり防止剤X
として5−ニトロインダゾールの使用に関する。新しく
作った現像剤組成物を現像に使用した、感度測定結果を
表2に示す。
【0089】定着は下記組成を有する定着浴を用いたト
レー中で25℃で3分間行った:
レー中で25℃で3分間行った:
【0090】
チオ硫酸アンモニウム(無水)
100g 亜硫
酸ナトリウム(無水)
10g 硼酸
5g
酢酸ナトリウム
15
g 氷酢酸
8ml 水で
1lにした
100g 亜硫
酸ナトリウム(無水)
10g 硼酸
5g
酢酸ナトリウム
15
g 氷酢酸
8ml 水で
1lにした
【0091
】表2において写真速度はかぶりの上濃度3.0で測定
した相対感度値(rel. S) で表わした。表1の
化合物No.1を100mg/l含有する現像剤を用い
て得た速度を任意に100の値を与えた。
】表2において写真速度はかぶりの上濃度3.0で測定
した相対感度値(rel. S) で表わした。表1の
化合物No.1を100mg/l含有する現像剤を用い
て得た速度を任意に100の値を与えた。
【0092】感度測定曲線のトウでの階調値(γv)は
、感度測定曲線のlog露光スケール上かぶりの上濃度
0.1と0.6でのlog露光値間で測定した。直線階
調度(最高階調度)値(γ)は、感度測定曲線のlog
露光スケ−ル上かぶりの上濃度0.3と3.0でのlo
g露光値間で測定した。
、感度測定曲線のlog露光スケール上かぶりの上濃度
0.1と0.6でのlog露光値間で測定した。直線階
調度(最高階調度)値(γ)は、感度測定曲線のlog
露光スケ−ル上かぶりの上濃度0.3と3.0でのlo
g露光値間で測定した。
【0093】スクリーン点品質を評価し、格付を数で表
わした、この場合数が大きい程品質の劣ることを表わす
。
わした、この場合数が大きい程品質の劣ることを表わす
。
【0094】数0は高光学密度及び鮮鋭で、凹みのない
縁を有する現像されたスクリーン点を表わす。他の数は
増大した凹みとぼやけた構造を有する点の縁と徐々に低
下した光学密度を有するスクリーン点に関する。格付値
3より大であると、品質はもはや市場で受け入れないも
のと考えられる。
縁を有する現像されたスクリーン点を表わす。他の数は
増大した凹みとぼやけた構造を有する点の縁と徐々に低
下した光学密度を有するスクリーン点に関する。格付値
3より大であると、品質はもはや市場で受け入れないも
のと考えられる。
【0095】
【表2】
【0096】試験No.1〜6の前記現像剤組成物の安
定性をチエツクするため、これらを密閉プラスチツク瓶
中で60℃で4週間保った。前記処置後組成物を前述し
た如く写真材料の現像に再び使用した、そして感度測定
結果を試験し、後掲の表3に示した。相対速度値(re
l. S)、トウでの階調度値(γv)、直線階調度(
最高階調度)値(γ)及び点品質は前述した如く測定し
た。
定性をチエツクするため、これらを密閉プラスチツク瓶
中で60℃で4週間保った。前記処置後組成物を前述し
た如く写真材料の現像に再び使用した、そして感度測定
結果を試験し、後掲の表3に示した。相対速度値(re
l. S)、トウでの階調度値(γv)、直線階調度(
最高階調度)値(γ)及び点品質は前述した如く測定し
た。
【0097】
【表3】
【0098】これらの階調度及び点品質結果から、かぶ
り防止化合物AFC1〜5は著しい安定化効果を有する
ことを知ることができる、一方従来の試験No6′の5
−ニトロインダゾールはその点において不合格である。
り防止化合物AFC1〜5は著しい安定化効果を有する
ことを知ることができる、一方従来の試験No6′の5
−ニトロインダゾールはその点において不合格である。
【0099】実施例 2
臭化銀16モル%を含有する微粒子(平均粒度0.3μ
m)塩化臭化銀乳剤を、下塗したポリエチレンテレフタ
レート支持体に、ゼラチン被覆率3.6g/m2 及び
ハロゲン化銀被覆率は銀で4.1g/m2 の割合で被
覆した。
m)塩化臭化銀乳剤を、下塗したポリエチレンテレフタ
レート支持体に、ゼラチン被覆率3.6g/m2 及び
ハロゲン化銀被覆率は銀で4.1g/m2 の割合で被
覆した。
【0100】ハロゲン化銀は塩化金(III )及びチ
オ硫酸ナトリウムで化学的に増感し、青色(400〜5
000nm)光に対してスペクトル増感した。ハロゲン
化銀乳剤層を、ホルムアルデヒドで硬化したゼラチン0
.9g/m2 を含有し、ハイドロキノン0.25g/
m2 を含有する保護層で被覆した。
オ硫酸ナトリウムで化学的に増感し、青色(400〜5
000nm)光に対してスペクトル増感した。ハロゲン
化銀乳剤層を、ホルムアルデヒドで硬化したゼラチン0
.9g/m2 を含有し、ハイドロキノン0.25g/
m2 を含有する保護層で被覆した。
【0101】かくした得られた写真材料を、化合物No
.2を用いて実施例1に前述した如く露光し、現像した
。
.2を用いて実施例1に前述した如く露光し、現像した
。
【0102】感度測定結果(rel. S ,γv,γ
及び点品質)は、新しい現像剤及び人工的に老化させた
(熱処理した)現像剤での現像に対して実際上同じであ
った。
及び点品質)は、新しい現像剤及び人工的に老化させた
(熱処理した)現像剤での現像に対して実際上同じであ
った。
【0103】実施例 3
実施例1の写真材料を実施例1における如く露光し、現
像した、但しかぶり防止剤として化合物No.2のみを
使用し、比較試験のため、後掲の表4に示した補助現像
主薬(AD1、AD2、AD3又はAD4)の0.5ミ
リモル/lを実施例1の現像剤組成物に加えた。補助現
像主薬の使用は短い現像時間及び像への迅速到達に有利
である。
像した、但しかぶり防止剤として化合物No.2のみを
使用し、比較試験のため、後掲の表4に示した補助現像
主薬(AD1、AD2、AD3又はAD4)の0.5ミ
リモル/lを実施例1の現像剤組成物に加えた。補助現
像主薬の使用は短い現像時間及び像への迅速到達に有利
である。
【0104】相対速度値(rel. S)、トウでの階
調度値(γv)、直線階調度(最高階調度)値(γ)及
び点品質は前述した如く測定し、表4で用いた補助現像
主薬との関係において示す。
調度値(γv)、直線階調度(最高階調度)値(γ)及
び点品質は前述した如く測定し、表4で用いた補助現像
主薬との関係において示す。
【0105】AD1はp−アミノフエノールである。A
D2は1−p−カルボキシフエニル−4,4−ジメチル
−3−ピラゾリジノンである。AD3はp−フエニレン
ジアミン硫酸塩である。AD4はN,N−ジエチル−p
−フエニレンジアミン塩酸塩である。
D2は1−p−カルボキシフエニル−4,4−ジメチル
−3−ピラゾリジノンである。AD3はp−フエニレン
ジアミン硫酸塩である。AD4はN,N−ジエチル−p
−フエニレンジアミン塩酸塩である。
【0106】
【表4】
【0107】これらの結果から、主現像主薬及びかぶり
防止剤に対して明示した少量の各補助現像主薬がグラフ
イツクアート品質現像に対して有用であることを知るこ
とができる。
防止剤に対して明示した少量の各補助現像主薬がグラフ
イツクアート品質現像に対して有用であることを知るこ
とができる。
Claims (17)
- 【請求項1】 液が (1)単独現像主薬としてハイドロキノンもしくは置換
ハイドロキノン又は主現像主薬に対して10モル%未満
の量での補助現像主薬と組合せた主現像主薬としての前
記ハイドロキノン、 (2)少なくとも5g/lの量での遊離亜硫酸イオンを
生成する無機化合物、 (3)下記一般式(Z) 【化1】 (式中X2 はアルキル基、アリール基、置換アルキル
基、置換アリール基、アミノ基又は置換アミノ基を表わ
す)に相当する有機かぶり防止剤で、かぶり防止剤の量
は50mg〜1g/lの量である、 (4)複数のアルキレンオキサイド単位を含有する重合
体、及び (5)前記液中で少なくとも10.5のpHを有せしめ
るのに必要なアルカリ性材料を含有することを特徴とす
る写真ハロゲン化銀乳剤層の現像に使用するのに好適な
現像剤液。 - 【請求項2】 亜硫酸イオンが、アルカリ金属重亜硫
酸水素塩又はメタ重亜硫酸塩又は相当するアンモニウム
塩に由来して存在することを特徴とする請求項1の現像
剤液。 - 【請求項3】 前記液が15〜80g/lの範囲の濃
度で遊離亜硫酸イオンを含有することを特徴とする請求
項1又は2の現像剤液。 - 【請求項4】 前記かぶり防止化合物においてX2
がメチル基、セチル基、フエニル基、p−トリル基又は
p−ニトロフエニル基であることを特徴とする請求項1
〜3の何れか1項の現像剤液。 - 【請求項5】 前記ポリオキシアルキレン化合物が2
500mg/l以下の濃度で存在することを特徴とする
請求項1〜4の何れか1項の現像剤液。 - 【請求項6】 前記液が現像剤液1lについて0.5
〜15.0gの範囲で遊離臭素イオンを含有することを
特徴とする請求項1〜5の何れか1項の現像剤液。 - 【請求項7】 前記液が水性媒体中でのハイドロキノ
ンの溶解を改良するための有機溶媒を含有することを特
徴とする請求項1〜6の何れか1項の現像剤液。 - 【請求項8】 前記有機溶媒が、ジメチルホルムアミ
ド、ジエチルアセタミド、N−メチル−2−ピロリドン
、ジメチルスルホキサイド、1,3−ジメチル−2−イ
ミダゾリジノン及び3−メトキシ−2−プロパノールか
らなる群から選択した水混和性有機溶媒であることを特
徴とする請求項7の現像剤液。 - 【請求項9】 前記有機溶媒が、現像剤液1lについ
て5〜250gの範囲の量で存在することを特徴とする
請求項7又は8の現像剤液。 - 【請求項10】 補助現像主薬が、p−アミノフエノ
ール、p−メチルアミノフエノール、p−フエニレンジ
アミン硫酸塩、N,N−ジエチル−p−フエニレンジア
ミン塩酸塩、又は1−フエニル−3−ピラゾリジノン系
現像主薬であり、又は現像剤液がそれらの少なくとも2
種を含有することを特徴とする請求項1〜9の何れか1
項の現像剤液。 - 【請求項11】 前記補助現像主薬が1−p−カルボ
キシフエニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリジノン
であることを特徴とする請求項10の現像剤液。 - 【請求項12】 現像を、下記(1)〜(4)の成分
の存在下に少なくとも10.5のpHを有する水性アル
カリ性現像剤液と露光した写真材料を接触することによ
って行うことを特徴とする像に従って露光した写真ハロ
ゲン化銀乳剤層材料の高コントラスト現像方法:(1)
単独現像主薬としてハイドロキノンもしくは置換ハイド
ロキノン又は主現像主薬に対して10モル%未満の量で
の補助現像主薬と組合せた主現像主薬としての前記ハイ
ドロキノン、 (2)少なくとも5g/lの量での遊離亜硫酸イオンを
与える無機亜硫酸塩化合物、 (3)下記一般式(Z) 【化2】 (式中X2 はアルキル基、アリール基、置換アルキル
基、置換アリール基、アミノ基又は置換アミノ基を表わ
す)に相当する有機かぶり防止剤、 (4)複数のアルキレンオキサイド単位を含有し、少な
くとも1500の分子量を有する重合体;そして、前記
成分(1)、(2)、(3)及び(4)は前記水性媒体
中に現像中存在し、それらの量は、前記写真材料を連続
色調楔を介して像に従って露光し、かく構成した水性現
像媒体中で45秒間30℃で試験現像し、定着したとき
、最高階調度(γ)が少なくとも5であり、前記最高階
調度(γ)と濃度測定曲線のトウ(γv)における階調
度の積が少なくとも20であるようなlog露光対濃度
測定曲線に相当する銀楔像を生ぜしめる量とし;最高階
調度は前記曲線のかぶりの上濃度0.3及び3.0に相
当するlog露光値間で測定し、トウでの階調度は前記
曲線のかぶりの上濃度0.1と0.6に相当するlog
露光値間で測定する。 - 【請求項13】 補助現像主薬が、現像前既に写真材
料中に存在し、かつ製造段階で既にその中に混入されて
おり、方法が現像主薬を含有しないが前記成分(2)を
含有し、かつ所望によって他の成分(3)及び(4)を
含有するアルカリ性水性液と前記写真材料を接触させる
ことを含むことを特徴とする請求項12の方法。 - 【請求項14】 前記写真材料中の現像主薬の被覆率
が0.1〜5g/m2 の範囲であることを特徴とする
請求項12又は13の方法。 - 【請求項15】 前記一般式(Z)による前記かぶり
防止剤の少なくとも1種を感光性材料の製造段階でそれ
に加えることを特徴とする請求項12〜14の何れか1
項の方法。 - 【請求項16】 前記かぶり防止剤の少なくとも1種
を100mg/m2 以下の被覆率で写真材料に加える
ことを特徴とする請求項15の方法。 - 【請求項17】 補助現像主薬が、p−アミノフエノ
ール、p−メチルアミノフエノール、p−フエニレンジ
アミン硫酸塩、N,N−ジエチル−p−フエニレンジア
ミン塩酸塩、又は1−フエニル−3−ピラゾリジノン系
現像主薬であり、又はそれらの少なくとも2種の混合物
を使用することを特徴とする請求項12〜16の何れか
1項の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP90200800A EP0450198B1 (en) | 1990-04-04 | 1990-04-04 | Developer liquid for high contrast development |
NL90200800.2 | 1990-04-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04251251A true JPH04251251A (ja) | 1992-09-07 |
Family
ID=8204985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3099398A Pending JPH04251251A (ja) | 1990-04-04 | 1991-04-03 | 高コントラスト現像用現像剤液 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5141843A (ja) |
EP (1) | EP0450198B1 (ja) |
JP (1) | JPH04251251A (ja) |
DE (1) | DE69021193T2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5275915A (en) * | 1991-06-05 | 1994-01-04 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Developer for light-sensitive material |
JP2689037B2 (ja) * | 1991-09-02 | 1997-12-10 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成方法及びアルカリ性現像液 |
US5272045A (en) * | 1992-11-13 | 1993-12-21 | Sun Chemical Corporation | Water soluble antifoggant for powder developer solutions |
US5811226A (en) * | 1996-03-14 | 1998-09-22 | Eastman Kodak Company | Method of processing a silver halide photographic element which reduces fog |
FR2861121A1 (fr) * | 2003-10-17 | 2005-04-22 | Nergeco Sa | Porte rapide a double ecran |
KR101703055B1 (ko) * | 2015-04-20 | 2017-02-06 | 한국과학기술연구원 | 5-(2,6-디옥시-페닐)테트라졸 함유 폴리머, 이를 포함하는 막, 상기 막을 포함하는 전기 화학 장치 및 그 제조 방법 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1201621A (en) * | 1967-05-18 | 1970-08-12 | Agfa Gevaert Nv | Process for stabilizing developed photographic images |
JPS5037436A (ja) * | 1973-08-03 | 1975-04-08 | ||
EP0196705B1 (en) * | 1985-03-26 | 1988-08-10 | Agfa-Gevaert N.V. | A method of effecting high contrast development of a image-wise exposed photographic silver halide emulsion layer material |
US4888273A (en) * | 1988-02-26 | 1989-12-19 | Polaroid Corporation | Stabilized tabular silver halide grain emulsions |
JPH0269736A (ja) * | 1988-09-05 | 1990-03-08 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法 |
-
1990
- 1990-04-04 EP EP90200800A patent/EP0450198B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-04 DE DE69021193T patent/DE69021193T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-03-27 US US07/675,518 patent/US5141843A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-03 JP JP3099398A patent/JPH04251251A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0450198A1 (en) | 1991-10-09 |
EP0450198B1 (en) | 1995-07-26 |
US5141843A (en) | 1992-08-25 |
DE69021193T2 (de) | 1996-02-29 |
DE69021193D1 (de) | 1995-08-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS62180361A (ja) | 画像形成方法 | |
US5068167A (en) | High contrast photographic materials | |
JPH04251251A (ja) | 高コントラスト現像用現像剤液 | |
JPH0690454B2 (ja) | 像に従つて露光した写真ハロゲン化銀乳剤層材料の高コントラスト現像を行なう方法 | |
JPH06123943A (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 | |
JP3042714B2 (ja) | 写真用高コントラストハロゲン化銀材料 | |
JP2694364B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料を用いた画像形成方法 | |
JPH0560851B2 (ja) | ||
JPS61230145A (ja) | 画像形成方法 | |
JPS6147949A (ja) | 画像形成方法 | |
JPS62270953A (ja) | 高コントラストネガ画像形成方法 | |
JPH0416938A (ja) | 画像形成方法 | |
JP2822130B2 (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 | |
EP0928987B1 (en) | Photographic silver halide material | |
JP3429940B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 | |
JP3485146B2 (ja) | 写真処理方法 | |
JPH06313951A (ja) | 画像形成方法 | |
JPS63178224A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPS62269956A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH0564783B2 (ja) | ||
JPH0237340A (ja) | 高コントラストな画像と、高品質な網点が得られるハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPS63265239A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH0815800A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法 | |
JPH04190228A (ja) | 耐圧性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0246444A (ja) | 写真要素 |