JPS6147902A - 回折格子の製造方法 - Google Patents

回折格子の製造方法

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JPS6147902A
JPS6147902A JP60173971A JP17397185A JPS6147902A JP S6147902 A JPS6147902 A JP S6147902A JP 60173971 A JP60173971 A JP 60173971A JP 17397185 A JP17397185 A JP 17397185A JP S6147902 A JPS6147902 A JP S6147902A
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JP
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resin
substrate
diffraction grating
master
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JP60173971A
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ロバート・マーテイン・ペテイグルー
ロバート・ジエイムズ・ロングマン
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Dr Johannes Heidenhain GmbH
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Dr Johannes Heidenhain GmbH
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Publication date
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G02B5/1847—Manufacturing methods
    • G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 １Ｌ１１ この発明は、測定学に応用される回折格子の製造方法に
関するものである。さらに特定的には、たどえば、この
発明の方法により製造される回折格子は、本出願人のヨ
ーロッパ特許明細書第０１３２９７８号の変位測定ｖｌ
置および方法への応用を児出す。
発明の目的 この発明の目的は、マスタ格子、特にガラス製マスタの
１つの表面上の浮き彫りのパターンまたはガラス製マス
タの１つの表面上のｕｅｇＩされた金属、さらに特定的
にはクロム、のパターンによって格子が形成されている
、ガラスまたはこれに類似の光透過性物質のマスタ格子
から、レプリカ格子を再生産可能にすることにある。
この発明による回折格子の製造方法では、Ａ）　光透過
性マスタ格子の格子支持表面に剥離剤を塗り、 Ｂ）　堅い基板に紫外線感光液状樹脂を塗布し、該基板
と該格子支持表面との間に液状樹脂フィルムを閉込める
ように該マスタ格子と該基板を共に配置し、 Ｃ）　それから、マスタ格子を透過してきた紫外線光を
露光することによって該樹脂フィルムを硬化し、 Ｄ）　剥離剤の塗られた該マスタ格子の格子支持表面に
おいて樹脂により造形された基板と、マスタ格子とを分
離し、 Ｅ）　樹脂により造形された該基板表面上に、たどえば
スパッタリングまたは蒸着によって、薄い金属フィルム
を堆積させる各ステップを備えている。
Ｆ）　より好ましい方法としては、さらに、該基板上に
堆積された金属フィルムに液状の紫外線感光樹脂を塗り
、 Ｇ）　前記樹脂塗膜の表面を平滑にするため、光透過性
の条片または板を該樹脂塗膜に被ぼ、樹脂を硬化させる
ため該光透過性の条片またはＩｎ通して該樹脂塗膜を露
光し、 トＩ）　該光透過性の条片または板を、処理された該基
板によって構成されたレプリカ回折格子から分離する各
ステップを備えている。
基板自身としては、たどえば鋼のような金属が好ましく
、ステップＢにおいて液状樹脂を塗布する前に荒された
表面を有していることが好ましい。
このよう荒れは、微細なグラインディングまたはサンド
ブラスティングによって果たすことができる。堆積され
る金属フィルムとしては、アルミニウムを用いることが
できる。しかしながら作＠環境が改善されれば、他の金
属の堆積が好ましくなるかもしれない。
すべての工程は通常の環境温度で行なわれることが望ま
しい。そうすることによって、硬化した樹脂中の応力レ
ベルは最小となり、高度に正確なレプリカ格子となる。
この発明は、さらに、上述の方法により製造された回折
格子にまで及ぶ。
方法の説明 １Ａ図において、マスタ回折格子１０はガラス製であり
、ガラス上にｉｒ１積したクロムによって形成された格
子パターン１２を有している。この発明は、マスタ１０
からのレプリカ格子の製造を可能にするものである。
この目的のため、この方法の決定的な工程は、鋼の基板
１６の表面１４を微細なグラインディングまた１よりン
ドブラスティングのような方法で荒し、その上にドクタ
ーブレードを用いるなどして、紫外線光の露光により硬
化するタイプの液状ボリマー樹脂の層１８を塗布するこ
とにある。
マスタ１０の格子支持表面２０に剥離剤を塗り、１Ｂ図
に示すように、基板と格子支持表面との間に樹脂のフィ
ルム２２を閉込めるようにマスタと基板１６とを共に配
置させる。それから、樹脂２２は、２４として示したよ
うな、マスタ１０を透過してきた紫外線光を露光して硬
化される。この工程は、高い強度の紫外線光源のもとて
マスタと基板との集合体を透過することによって行なわ
れる。マスタ１０上のクロムのパターン１２はシ前記パ
ターンの下の液状樹脂の硬化を妨げることはない。なぜ
なら、光の散乱が、透過領域または、クロムのパターン
の線間の隙間における光を発散させるからである。
１Ｃ図に示した次の工程において、剥離剤を塗られたマ
スタ１０は、基板１６上で形取られ、硬化した樹脂フィ
ルム２２から分離される。レプリカは、工程の変化とは
本質的に無関係な、正確に制御された輪郭２５を有して
いることがわかる。
硬化した樹脂中の応力を最小にするため、この方法にお
ける上述および以下のすべての段階は、通常の環境温度
で行なわれることが望ましい。このことにより、寸法の
安定性が補償される。
１Ｄ図の次のステップにおいて、薄い金属フィルム２６
はスパッタリングまたは蒸着の方法などによって、造形
された樹脂フィルム２２上に堆積される。アルミニウム
は、この堆積の形成に適する金属の１つである。
１Ｅ図を参照すると、この金属フィルム２６は、次に液
状の紫外線感光樹脂の層２８によって覆われる。この樹
脂層２８は、ガラス製の条片または板３０によって平滑
にされ、そこを透過してきた、３２として示される紫外
線光の露光によって硬化される。ＲＨ的には、レプリカ
格子はガラス製カバー３０から分離される。
レプリカ格子の１＆柊的な形を２図に示す。金属の凹凸
はポリマ樹脂によって平らにされるので、格子の平滑性
はガラスマスタによって決まる。
上述の方法は、すべてのガラス製のマスタ回折格子の複
製に等しく応用することができる。この方法では、中間
の型を経て複製を行なう場合に起こる質の低下を避ける
ことができ、また簡単かつ安価であり、さらにはマスタ
の寸法の範囲内ではレプリカ格子の長さに制限がないと
いう長所がある。紫外線感光ポリマー樹脂は、複写した
形態の欠肉の危険が最小であり、極めて良好な複製能力
を示す。実際に、レプリカ格子は、０．１から０゜２６
ミクロンの範囲の深さで、正確に再現される。
【図面の簡単な説明】
１Ａ〜１Ｅ図は、この発明による好ましい格子の製造方
法のステップを示す。２図は、最終的な格子を示す。 特許出願人　ドラ１−ル・ヨハネス・ ハイデンハイン・ゲゼルシャフト・ ミツＩ・・ベシュレンクテル・ （ほか２名ン

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）Ａ）光透過性マスタ格子（１０）の 格子支持表面（２０）に剥離剤を塗り、 Ｂ）堅い基板（１６）に紫外線感光液状樹 脂（１８）を塗布し、該基板と該格子支持表面との間に
    液状樹脂フィルム（２２）を閉込めるように該マスタ格
    子と該基板とを共に配置し、 Ｃ）それから、マスタ格子を透過してきた 紫外線光（２４）を露光することによって該樹脂フィル
    ム（２２）を硬化し、 Ｄ）剥離剤の塗られた該マスタ格子の格子 支持表面において樹脂により造形された基板と、マスタ
    格子とを分離し、 Ｅ）樹脂により造形された該基板表面（２ ５）上に、たどえばスパッタリングまたは蒸着によって
    、薄い金属フィルム（２６）を堆積させる各ステップを
    備えることを特徴とする、回折格子の製造方法。
  2. （２）さらに、 Ｆ）該基板上に堆積された金属フィルムに 液状の紫外線感光樹脂（２８）を塗り、 Ｇ）前記樹脂塗膜の表面を平滑にするため、光透過性の
    条片または板（３０）を該樹脂塗膜に被せ、樹脂を硬化
    させるため該光透過性の条片または板を通して該樹脂塗
    膜を露光し、 Ｈ）該光透過性の条片または板を、処理さ れた該基板によって構成されたレプリカ回折格子から分
    離する各ステップを備えることを特徴とする、特許請求
    の範囲第１項記載の回折格子の製造方法。
  3. （３）該基板が鋼製の基板のような金属基板であること
    を特徴とする、特許請求の範囲第１項または第２項記載
    の回折格子の製造方法。
  4. （４）該金属基板の表面が、ステップＢにおいて液状樹
    脂を塗布する前にライングラインディングまたはブラス
    ティングのような方法で荒されていることを特徴とする
    、特許請求の範囲第３項記載の回折格子の製造方法。
  5. （５）堆積される金属フィルムがアルミニウムからなる
    ことを特徴とする、特許請求の範囲第１〜４項のいずれ
    か１項に記載の回折格子の製造方法。
  6. （６）すべての工程が通常の環境温度で行なわれること
    を特徴とする、特許請求の範囲第１〜５項のいずれか１
    項に記載の回折格子の製造方法。
  7. （７）特許請求の範囲第１〜６項のいずれか１項の記載
    の方法により製造される回折格子。
JP60173971A 1984-08-08 1985-08-07 回折格子の製造方法 Granted JPS6147902A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

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GB8420182 1984-08-08
GB848420182A GB8420182D0 (en) 1984-08-08 1984-08-08 Diffraction gratings

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Publication Number Publication Date
JPS6147902A true JPS6147902A (ja) 1986-03-08
JPH0449921B2 JPH0449921B2 (ja) 1992-08-12

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US (1) US4657780A (ja)
EP (1) EP0175460B1 (ja)
JP (1) JPS6147902A (ja)
AT (1) ATE37240T1 (ja)
DE (1) DE3565010D1 (ja)
GB (1) GB8420182D0 (ja)

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