JPH0449921B2 - - Google Patents
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- JPH0449921B2 JPH0449921B2 JP60173971A JP17397185A JPH0449921B2 JP H0449921 B2 JPH0449921 B2 JP H0449921B2 JP 60173971 A JP60173971 A JP 60173971A JP 17397185 A JP17397185 A JP 17397185A JP H0449921 B2 JPH0449921 B2 JP H0449921B2
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- grating
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- diffraction grating
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 33
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 29
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 8
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000005422 blasting Methods 0.000 claims 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 claims 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- 230000010076 replication Effects 0.000 description 2
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003362 replicative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
この発明は、測定学に応用される回折格子の製
造方法に関するものである。さらに特定的には、
たとえば、この発明の方法により製造される回折
格子は、本出願人のヨーロツパ特許明細書第
0132978号の変位測定装置および方法への応用を
見出す。
造方法に関するものである。さらに特定的には、
たとえば、この発明の方法により製造される回折
格子は、本出願人のヨーロツパ特許明細書第
0132978号の変位測定装置および方法への応用を
見出す。
発明の目的
この発明の目的は、マスタ格子、特にガラス製
マスタの１つの表面上の浮き彫りのパターンまた
はガラス製マスタの１つの表面上の堆積された金
属、さらに特定的にはクロム、のパターンによつ
て格子が形成されている、ガラスまたはこれに類
似の光透過性物質のマスタ格子から、レプリカ格
子を再生産可能にすることにある。
マスタの１つの表面上の浮き彫りのパターンまた
はガラス製マスタの１つの表面上の堆積された金
属、さらに特定的にはクロム、のパターンによつ
て格子が形成されている、ガラスまたはこれに類
似の光透過性物質のマスタ格子から、レプリカ格
子を再生産可能にすることにある。
発 明
この発明による回折格子の製造方法では、
Ａ マスタ格子の格子パターンを有する格子支持
表面に剥離剤を塗り、 Ｂ 堅い基板に紫外線感光液状樹脂を塗布し、該
基板と該格子支持表面との間に液状樹脂フイル
ムを閉込めるように該マスタ格子と該基板を共
に配置し、 Ｃ それから、マスタ格子を透過してきた紫外線
光を露光することによつて該樹脂フイルムを硬
化し、 Ｄ 剥離剤の塗られた該マスタ格子の格子支持表
面において樹脂により造形された基板と、マス
タ格子とを分離し、 Ｅ 樹脂により造形された該基板表面上に、薄い
金属フイルムを堆積させる各ステツプを備え、 マスタ格子が紫外線光を透過し、格子パター
ンが紫外線光を透過せず、基板が金属でかつ不
透明であり、樹脂フイルムがマスタ格子を透過
してきた紫外線光によつて露光され、紫外線光
は格子パターン中の間隙を通り、紫外線を通さ
ない格子パターンの下の領域を含め樹脂フイル
ム全体に散乱することを特徴としている。
表面に剥離剤を塗り、 Ｂ 堅い基板に紫外線感光液状樹脂を塗布し、該
基板と該格子支持表面との間に液状樹脂フイル
ムを閉込めるように該マスタ格子と該基板を共
に配置し、 Ｃ それから、マスタ格子を透過してきた紫外線
光を露光することによつて該樹脂フイルムを硬
化し、 Ｄ 剥離剤の塗られた該マスタ格子の格子支持表
面において樹脂により造形された基板と、マス
タ格子とを分離し、 Ｅ 樹脂により造形された該基板表面上に、薄い
金属フイルムを堆積させる各ステツプを備え、 マスタ格子が紫外線光を透過し、格子パター
ンが紫外線光を透過せず、基板が金属でかつ不
透明であり、樹脂フイルムがマスタ格子を透過
してきた紫外線光によつて露光され、紫外線光
は格子パターン中の間隙を通り、紫外線を通さ
ない格子パターンの下の領域を含め樹脂フイル
ム全体に散乱することを特徴としている。
Ｆ より好ましい方法としては、さらに、
該基板上に堆積された金属フイルムに液状の
紫外線感光樹脂を塗り、 Ｇ 前記樹脂塗膜の表面を平滑にするため、紫外
線光透過性の条片または板を該樹脂塗膜に被
せ、樹脂を硬化させるため該紫外線光透過性の
条片または板を通して該樹脂塗膜を露光し、 Ｈ 該光透過性の条片または板を、処理された該
基板によつて構成されたレプリカ回折格子から
分離する各ステツプを備えている。
紫外線感光樹脂を塗り、 Ｇ 前記樹脂塗膜の表面を平滑にするため、紫外
線光透過性の条片または板を該樹脂塗膜に被
せ、樹脂を硬化させるため該紫外線光透過性の
条片または板を通して該樹脂塗膜を露光し、 Ｈ 該光透過性の条片または板を、処理された該
基板によつて構成されたレプリカ回折格子から
分離する各ステツプを備えている。
基板自身としては、たとえば鋼のような金属が
好ましく、ステツプＢにおいて液状樹脂を塗布す
る前に荒された表面を有していることが好まし
い。このよう荒れは、微細なグラインデイングま
たはサンドブラステイングによつて果たすことが
できる。堆積される金属フイルムとしては、アル
ミニウムを用いることができる。しかしながら作
業環境が改善されれば、他の金属の堆積が好まし
くなるかもしれない。
好ましく、ステツプＢにおいて液状樹脂を塗布す
る前に荒された表面を有していることが好まし
い。このよう荒れは、微細なグラインデイングま
たはサンドブラステイングによつて果たすことが
できる。堆積される金属フイルムとしては、アル
ミニウムを用いることができる。しかしながら作
業環境が改善されれば、他の金属の堆積が好まし
くなるかもしれない。
すべての工程は通常の環境温度で行なわれるこ
とが望ましい。そうすることによつて、硬化した
樹脂中の応力レベルは最小となり、高度に正確な
レプリカ格子となる。
とが望ましい。そうすることによつて、硬化した
樹脂中の応力レベルは最小となり、高度に正確な
レプリカ格子となる。
この発明は、さらに、上述の方法により製造さ
れた回折格子にまで及ぶ。
れた回折格子にまで及ぶ。
方法の説明
１Ａ図において、マスタ回折格子１０はガラス
製であり、ガラス上に堆積したクロムによつて形
成された格子パターン１２を有している。この発
明は、マスタ１０からのレプリカ格子の製造を可
能にするものである。
製であり、ガラス上に堆積したクロムによつて形
成された格子パターン１２を有している。この発
明は、マスタ１０からのレプリカ格子の製造を可
能にするものである。
この目的のため、この方法の決定的な工程は、
鋼の基板１６の表面１４を微細なグラインデイン
グまたはサンドブラステイングのような方法で荒
し、その上にドクターブレードを用いるなどし
て、紫外線光の露光により硬化するタイプの液状
ポリマー樹脂の層１８を塗布することにある。
鋼の基板１６の表面１４を微細なグラインデイン
グまたはサンドブラステイングのような方法で荒
し、その上にドクターブレードを用いるなどし
て、紫外線光の露光により硬化するタイプの液状
ポリマー樹脂の層１８を塗布することにある。
マスタ１０の格子支持表面２０に剥離剤を塗
り、１Ｂ図に示すように、基板と格子支持表面と
の間に樹脂のフイルム２２を閉込めるようにマス
タと基板１６とを共に配置させる。それから、樹
脂２２は、２４として示したような、マスタ１０
を透過してきた紫外線光を露光して硬化される。
この工程は、高い強度の紫外線光源のもとでマス
タと基板との集合体を透過することによつて行な
われる。マスタ１０上のクロムのパターン１２
は、前記パターンの下の液状樹脂の硬化を妨げる
ことはない。なぜなら、光の散乱が、透過領域ま
たは、クロムのパターンの線間の隙間における光
を発散させるからである。
り、１Ｂ図に示すように、基板と格子支持表面と
の間に樹脂のフイルム２２を閉込めるようにマス
タと基板１６とを共に配置させる。それから、樹
脂２２は、２４として示したような、マスタ１０
を透過してきた紫外線光を露光して硬化される。
この工程は、高い強度の紫外線光源のもとでマス
タと基板との集合体を透過することによつて行な
われる。マスタ１０上のクロムのパターン１２
は、前記パターンの下の液状樹脂の硬化を妨げる
ことはない。なぜなら、光の散乱が、透過領域ま
たは、クロムのパターンの線間の隙間における光
を発散させるからである。
１Ｃ図に示した次の工程において、剥離剤を塗ら
れたマスタ１０は、基板１６上で形取られ、硬化
した樹脂フイルム２２から分離される。レプリカ
は、工程の変化とは本質的に無関係な、正確に制
御された輪郭２５を有していることがわかる。硬
化した樹脂中の応力を最小にするため、この方法
における上述および以下のすべての段階は、通常
の環境温度で行なわれることが望ましい。このこ
とにより、寸法の安定性が補償される。
れたマスタ１０は、基板１６上で形取られ、硬化
した樹脂フイルム２２から分離される。レプリカ
は、工程の変化とは本質的に無関係な、正確に制
御された輪郭２５を有していることがわかる。硬
化した樹脂中の応力を最小にするため、この方法
における上述および以下のすべての段階は、通常
の環境温度で行なわれることが望ましい。このこ
とにより、寸法の安定性が補償される。
１Ｄ図の次のステツプにおいて、薄い金属フイ
ルム２６はスパツタリングまたは蒸着の方法など
によつて、造形された樹脂フイルム２２上に堆積
される。アルミニウムは、この堆積の形成に適す
る金属の１つである。
ルム２６はスパツタリングまたは蒸着の方法など
によつて、造形された樹脂フイルム２２上に堆積
される。アルミニウムは、この堆積の形成に適す
る金属の１つである。
１Ｅ図を参照すると、この金属フイルム２６
は、次に液状の紫外線感光樹脂の層２８によつて
覆われる。この樹脂層２８は、ガラス製の条片ま
たは板３０によつて平滑にされ、そこを透過して
きた、３２として示される紫外線光の露光によつ
て硬化される。最終的には、レプリカ格子はガラ
ス製カバー３０から分離される。
は、次に液状の紫外線感光樹脂の層２８によつて
覆われる。この樹脂層２８は、ガラス製の条片ま
たは板３０によつて平滑にされ、そこを透過して
きた、３２として示される紫外線光の露光によつ
て硬化される。最終的には、レプリカ格子はガラ
ス製カバー３０から分離される。
レプリカ格子の最終的な形を２図に示す。金属
の凹凸はポリマ樹脂によつて平らにされるので、
格子の平滑性はガラスマスタによつて決まる。
の凹凸はポリマ樹脂によつて平らにされるので、
格子の平滑性はガラスマスタによつて決まる。
上述の方法は、すべてのガラス製のマスタ回折
格子の複製に等しく応用することができる。この
方法では、中間の型を経て複製を行なう場合に起
こる質の低下を避けることができ、また簡単かつ
安価であり、さらにはマスタの寸法の範囲内では
レプリカ格子の長さに制限がないという長所があ
る。紫外線感光ポリマー樹脂は、複写した形態の
欠肉の危険が最小であり、極めて良好な複製能力
を示す。実際に、レプリカ格子は、0.1から0.26
ミクロンの範囲の深さで、正確に再現される。
格子の複製に等しく応用することができる。この
方法では、中間の型を経て複製を行なう場合に起
こる質の低下を避けることができ、また簡単かつ
安価であり、さらにはマスタの寸法の範囲内では
レプリカ格子の長さに制限がないという長所があ
る。紫外線感光ポリマー樹脂は、複写した形態の
欠肉の危険が最小であり、極めて良好な複製能力
を示す。実際に、レプリカ格子は、0.1から0.26
ミクロンの範囲の深さで、正確に再現される。
１Ａ〜１Ｅ図は、この発明による好ましい格子
の製造方法のステツプを示す。２図は、最終的な
格子を示す。
の製造方法のステツプを示す。２図は、最終的な
格子を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ Ａ マスタ格子１０の、格子パターン１２を
有する格子支持表面２０に剥離剤を塗り、 Ｂ 堅い基板１６に紫外線感光液状樹脂１８を塗
布し、該基板と該格子支持表面との間に液状樹
脂フイルム２２を閉込めるように該マスタ格子
と該基板とを共に配置し、 Ｃ それから、マスタ格子を透過してきた紫外線
光２４を露光することによつて該樹脂フイルム
２２を硬化し、 Ｄ 剥離剤の塗られた該マスタ格子の格子支持表
面において樹脂により造形された基板と、マス
タ格子とを分離し、 Ｅ 樹脂により造形された該基板表面２５上に薄
い金属フイルム２６を堆積させる各ステツプを
備える回折格子の製造方法において、 マスタ格子１０が紫外線光を透過し、格子パ
ターン１２を紫外線光を透過せず、基板１６が
金属でかつ不透明であり、樹脂フイルム２２が
マスタ格子１０を透過してきた紫外線光によつ
て露光され、紫外線光は格子パターン１２中の
間隙を通り、紫外線を通さない格子パターン１
２の下の領域を含め樹脂フイルム２２全体に散
乱されることを特徴とする、回折格子の製造方
法。 ２ さらに、 Ｆ 該基板上に堆積された金属フイルムに液状の
紫外線感光樹脂２８を塗り、 Ｇ 前記樹脂塗膜の表面を平滑にするため、紫外
線光透過性の条片または板３０を該樹脂塗膜に
被せ、樹脂を硬化させるため該紫外線光透過性
の条片または板を通して該樹脂塗膜を露光し、 Ｈ 該紫外線光透過性の条片または板を、処理さ
れた該基板によつて構成されたレプリカ回折格
子から分離する各ステツプを備えることを特徴
とする、特許請求の範囲第１項記載の回折格子
の製造方法。 ３ 該基板が鋼製の基板であることを特徴とす
る、特許請求の範囲第１項または第２項記載の回
折格子の製造方法。 ４ 該鋼製の基板の表面が、ステツプＢにおいて
液状樹脂を塗布する前にライングラインデイング
またはブラステイングのような方法で粗されてい
ることを特徴とする、特許請求の範囲第３項記載
の回折格子の製造方法。 ５ 堆積される金属フイルムがアルミニウムから
なることを特徴とする、特許請求の範囲第１〜４
項のいずれか１項に記載の回折格子の製造方法。 ６ すべての工程が通常の環境温度で行なわれる
ことを特徴とする、特許請求の範囲第１〜５項の
いずれか１項に記載の回折格子の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB848420182A GB8420182D0 (en) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | Diffraction gratings |
| GB8420182 | 1984-08-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6147902A JPS6147902A (ja) | 1986-03-08 |
| JPH0449921B2 true JPH0449921B2 (ja) | 1992-08-12 |
Family
ID=10565070
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60173971A Granted JPS6147902A (ja) | 1984-08-08 | 1985-08-07 | 回折格子の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4657780A (ja) |
| EP (1) | EP0175460B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6147902A (ja) |
| AT (1) | ATE37240T1 (ja) |
| DE (1) | DE3565010D1 (ja) |
| GB (1) | GB8420182D0 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPH0682460B2 (ja) * | 1985-10-14 | 1994-10-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体用支持体の製造方法 |
| DE3765776D1 (de) * | 1987-04-22 | 1990-11-29 | Bloesch W Ag | Verfahren zur herstellung einer dekorativen oberflaechenstruktur mit einem hologramm oder einem beugungsmuster. |
| US4840757A (en) * | 1987-05-19 | 1989-06-20 | S. D. Warren Company | Replicating process for interference patterns |
| FR2616269B1 (fr) * | 1987-06-04 | 1990-11-09 | Labo Electronique Physique | Dispositif de test pour la mise en oeuvre d'un procede de realisation de dispositifs semiconducteurs |
| DE3883638T2 (de) * | 1987-06-27 | 1994-04-21 | Shimadzu Corp | Flexibles Replika-Gitter und optischer Multiplexer/Demultiplexer mit Anwendung eines solchen Gitters. |
| US5104209A (en) * | 1991-02-19 | 1992-04-14 | Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Communications | Method of creating an index grating in an optical fiber and a mode converter using the index grating |
| US5367588A (en) * | 1992-10-29 | 1994-11-22 | Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Communications | Method of fabricating Bragg gratings using a silica glass phase grating mask and mask used by same |
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| JP2000294818A (ja) | 1999-04-05 | 2000-10-20 | Sony Corp | 薄膜半導体素子およびその製造方法 |
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| JPS6147902A (ja) | 1986-03-08 |
| US4657780A (en) | 1987-04-14 |
| EP0175460A1 (en) | 1986-03-26 |
| DE3565010D1 (en) | 1988-10-20 |
| EP0175460B1 (en) | 1988-09-14 |
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