JPH07146405A - レプリカ回折格子 - Google Patents
レプリカ回折格子Info
- Publication number
- JPH07146405A JPH07146405A JP5293295A JP29329593A JPH07146405A JP H07146405 A JPH07146405 A JP H07146405A JP 5293295 A JP5293295 A JP 5293295A JP 29329593 A JP29329593 A JP 29329593A JP H07146405 A JPH07146405 A JP H07146405A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction grating
- replica
- substrate
- thin film
- master
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 マスター回折格子の溝周期、形状等に依存せ
ずに所望の溝周期、形状のレプリカ回折格子の製造を行
うことを目的とする。 【構成】 マスター回折格子の格子面に金属薄膜を形成
し、該金属薄膜と形状記憶材料からなるレプリカ基板と
を接着剤を介して圧接した後剥離させ、該金属薄膜をレ
プリカ基板に反転接着させる。そして温調制御によりレ
プリカ基板の形状、溝周期を変える。
ずに所望の溝周期、形状のレプリカ回折格子の製造を行
うことを目的とする。 【構成】 マスター回折格子の格子面に金属薄膜を形成
し、該金属薄膜と形状記憶材料からなるレプリカ基板と
を接着剤を介して圧接した後剥離させ、該金属薄膜をレ
プリカ基板に反転接着させる。そして温調制御によりレ
プリカ基板の形状、溝周期を変える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、超高真空中での分光な
どに利用されるレプリカ回折格子に関する。
どに利用されるレプリカ回折格子に関する。
【０００２】
【従来の技術】マスター回折格子から多くのレプリカを
作製して、回折格子（レプリカ回折格子）の量産を行う
手法は従来より行われており、その代表的な手法として
は次のものがある。
作製して、回折格子（レプリカ回折格子）の量産を行う
手法は従来より行われており、その代表的な手法として
は次のものがある。
【０００３】すなわち、まず、ガラス基板にアルミニウ
ムなどの金属薄膜を蒸着し、該膜に格子溝を形成するこ
とによりマスター回折格子を製作する。このマスターを
母型として、その格子面に離形剤として薄く油膜を形成
し、その上に真空蒸着によりアルミニウム薄膜を形成し
た後、このアルミニウム薄膜上にガラス基板を接着剤
（耐熱性樹脂）を介して接着し、接着剤の硬化後、ガラ
ス基板を母型より剥離することによりアルミニウム薄膜
はガラス基板側に移り、レプリカ回折格子が得られる。
ムなどの金属薄膜を蒸着し、該膜に格子溝を形成するこ
とによりマスター回折格子を製作する。このマスターを
母型として、その格子面に離形剤として薄く油膜を形成
し、その上に真空蒸着によりアルミニウム薄膜を形成し
た後、このアルミニウム薄膜上にガラス基板を接着剤
（耐熱性樹脂）を介して接着し、接着剤の硬化後、ガラ
ス基板を母型より剥離することによりアルミニウム薄膜
はガラス基板側に移り、レプリカ回折格子が得られる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
方法で、例えばシリンドリカル形状を有したレプリカ回
折格子を製作しようと欲すれば、マスター回折格子の基
板をシリンドリカル形状に研磨する必要があり、多大な
労力と時間がかかった。
方法で、例えばシリンドリカル形状を有したレプリカ回
折格子を製作しようと欲すれば、マスター回折格子の基
板をシリンドリカル形状に研磨する必要があり、多大な
労力と時間がかかった。
【０００５】しかも、シリンドリカル面の曲率半径を変
える場合、マスター回折格子に用いている基板自体から
の製作が必要なため、再度マスター回折格子を製作せね
ばならず、多大な時間を要した。
える場合、マスター回折格子に用いている基板自体から
の製作が必要なため、再度マスター回折格子を製作せね
ばならず、多大な時間を要した。
【０００６】また、レプリカ回折格子の溝周期は、マス
ター回折格子に依存するため、レプリカ回折格子の溝を
高密度に製作しようとすれば、マスター回折格子自体の
溝を高密度に製作する必要があった。しかし、従来の溝
切り法のうち機械切り法では、１００００本／ｍｍまで
切れるが、溝本数が増すと２次関数的に製作に大幅な時
間を要す欠点があり、レーザー光の干渉縞を記録するホ
ログラフィック法ではレーザー光の波長に依存するため
４０００本／ｍｍ程度の溝が限界であった。
ター回折格子に依存するため、レプリカ回折格子の溝を
高密度に製作しようとすれば、マスター回折格子自体の
溝を高密度に製作する必要があった。しかし、従来の溝
切り法のうち機械切り法では、１００００本／ｍｍまで
切れるが、溝本数が増すと２次関数的に製作に大幅な時
間を要す欠点があり、レーザー光の干渉縞を記録するホ
ログラフィック法ではレーザー光の波長に依存するため
４０００本／ｍｍ程度の溝が限界であった。
【０００７】そこで、本発明は、マスター回折格子の溝
周期、形状等に依存せずにレプリカ回折格子の製造を行
うことを目的とする。
周期、形状等に依存せずにレプリカ回折格子の製造を行
うことを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本件発明は前記課題を解
決するため、マスター回折格子の格子面に金属薄膜を形
成し、該金属薄膜とレプリカ基板とを接着剤を介して圧
接した後剥離させ、該金属薄膜をレプリカ基板に反転接
着させてなるレプリカ回折格子において、前記レプリカ
基板を形状記憶材料で構成したことを特徴とする。
決するため、マスター回折格子の格子面に金属薄膜を形
成し、該金属薄膜とレプリカ基板とを接着剤を介して圧
接した後剥離させ、該金属薄膜をレプリカ基板に反転接
着させてなるレプリカ回折格子において、前記レプリカ
基板を形状記憶材料で構成したことを特徴とする。
【０００９】ここで、マスター回折格子とは、ガラス、
ＳｉＯ2 などの無機材料基板に直接刻線を施すか、又は
基板にアルミニウムなどの金属薄膜を蒸着してそこに刻
線を施こしたものをいい、刻線を施こしたところが格子
面になる。刻線は、回折格子彫刻装置による機械刻線で
も、イオンビームエッチングによる刻線でも良い。
ＳｉＯ2 などの無機材料基板に直接刻線を施すか、又は
基板にアルミニウムなどの金属薄膜を蒸着してそこに刻
線を施こしたものをいい、刻線を施こしたところが格子
面になる。刻線は、回折格子彫刻装置による機械刻線で
も、イオンビームエッチングによる刻線でも良い。
【００１０】金属薄膜としては、例えば、アルミニウ
ム、金、白金などの薄膜を挙げることができ、これら薄
膜は、マスター回折格子の格子面に例えば、真空蒸着に
より形成する。なお、金属薄膜を形成するに際して、マ
スター回折格子の格子面に離形剤を塗布しておくことが
好ましい。離形剤としては、例えば、シリコングリース
などを用いることができる。
ム、金、白金などの薄膜を挙げることができ、これら薄
膜は、マスター回折格子の格子面に例えば、真空蒸着に
より形成する。なお、金属薄膜を形成するに際して、マ
スター回折格子の格子面に離形剤を塗布しておくことが
好ましい。離形剤としては、例えば、シリコングリース
などを用いることができる。
【００１１】レプリカ基板に用いる形状記憶材料は、例
えばシリンドリカルレプリカ回折格子を作成する場合に
は、ノーソレックス（ゼオン化成（株）製）などを、圧
縮させる場合には、ダイヤリー（三菱重工業製）などを
用いることができるが、これらに限定されない。また、
作成する形状も、形状記憶材料を適宜選択することによ
り、所望の形状が得られる。
えばシリンドリカルレプリカ回折格子を作成する場合に
は、ノーソレックス（ゼオン化成（株）製）などを、圧
縮させる場合には、ダイヤリー（三菱重工業製）などを
用いることができるが、これらに限定されない。また、
作成する形状も、形状記憶材料を適宜選択することによ
り、所望の形状が得られる。
【００１２】金属薄膜とレプリカ基板とを接着させる接
着剤としては、形状記憶材料を変形させることを考慮
し、弾性接着剤を用いることが好ましい。弾性接着剤と
しては、例えばＥＰ−００１（セメダイン製）を用いる
ことができるが、これに限定されない。
着剤としては、形状記憶材料を変形させることを考慮
し、弾性接着剤を用いることが好ましい。弾性接着剤と
しては、例えばＥＰ−００１（セメダイン製）を用いる
ことができるが、これに限定されない。
【００１３】
【作用】本発明によれば、マスター回折格子を転写して
製作した回折格子を温調するだけで、シリンドリカル状
や高密度状のレプリカ回折格子が得られる。
製作した回折格子を温調するだけで、シリンドリカル状
や高密度状のレプリカ回折格子が得られる。
【００１４】
【実施例】本発明のレプリカ回折格子を製作する工程を
図に基づいて説明する。
図に基づいて説明する。
【００１５】＜実施例１＞図１はシリンドリカルレプリ
カ回折格子の製造工程を示す図で、先ず、平面ガラス基
板１（石英ガラス：６０ｍｍ×６０ｍｍ×１１．３ｍ
ｍ）にフォトレジストＯＦＰＲ５０００（東京応化製）
を０．４μｍコーティングし、そこにホログラフィック
露光法（レーザー波長４４１．６ｎｍ）により格子溝
（３６００本／ｍｍ）を形成する。その後、イオンビー
ム・エッチングによりブレーズ角４度の溝断面形状が鋸
歯状になるようにし、その上にアルミニウム薄膜（厚さ
０．２μｍ）２を真空蒸着し、マスター回折格子を製作
する。この状態が図１（ａ）である。
カ回折格子の製造工程を示す図で、先ず、平面ガラス基
板１（石英ガラス：６０ｍｍ×６０ｍｍ×１１．３ｍ
ｍ）にフォトレジストＯＦＰＲ５０００（東京応化製）
を０．４μｍコーティングし、そこにホログラフィック
露光法（レーザー波長４４１．６ｎｍ）により格子溝
（３６００本／ｍｍ）を形成する。その後、イオンビー
ム・エッチングによりブレーズ角４度の溝断面形状が鋸
歯状になるようにし、その上にアルミニウム薄膜（厚さ
０．２μｍ）２を真空蒸着し、マスター回折格子を製作
する。この状態が図１（ａ）である。
【００１６】このマスター回折格子にシリコングリコー
スを離形剤として薄い油膜３（厚さ約１ｎｍ）を形成
し、その上にアルミニウム薄膜（厚さ０．２μｍ）４を
真空蒸着する。この状態が図１（ｂ）である。
スを離形剤として薄い油膜３（厚さ約１ｎｍ）を形成
し、その上にアルミニウム薄膜（厚さ０．２μｍ）４を
真空蒸着する。この状態が図１（ｂ）である。
【００１７】次に１５０℃の圧縮成型でリンドリカル面
を記憶した形状記憶材料からなるレプリカ基板（ノーソ
レックス形状回復樹脂；６０ｍｍ×６０ｍｍ×１３ｍ
ｍ）６を用意し、室温で平面に変形させ、その表面をフ
レオンなどで洗浄した後、弾性接着剤ＥＰ−００１（セ
メダイン製）５を塗布する。そして、レプリカ基板６と
前述のマスター回折格子を接着させる。このとき接着剤
５の膜厚は１０μｍ程度である。接着は、２５℃に制御
して６時間で行う。この状態が図１（ｃ）である。
を記憶した形状記憶材料からなるレプリカ基板（ノーソ
レックス形状回復樹脂；６０ｍｍ×６０ｍｍ×１３ｍ
ｍ）６を用意し、室温で平面に変形させ、その表面をフ
レオンなどで洗浄した後、弾性接着剤ＥＰ−００１（セ
メダイン製）５を塗布する。そして、レプリカ基板６と
前述のマスター回折格子を接着させる。このとき接着剤
５の膜厚は１０μｍ程度である。接着は、２５℃に制御
して６時間で行う。この状態が図１（ｃ）である。
【００１８】接着硬化後、離形剤３を境にしてレプリカ
基板６を剥離すると、アルミニウム薄膜４はレプリカ基
板６に移りレプリカ回折格子が作製される。剥離後、レ
プリカ回折格子の表面に残っている離形剤３をフレオン
で洗浄し、離形剤を除去する。このときの状態が図１
（ｄ）である。
基板６を剥離すると、アルミニウム薄膜４はレプリカ基
板６に移りレプリカ回折格子が作製される。剥離後、レ
プリカ回折格子の表面に残っている離形剤３をフレオン
で洗浄し、離形剤を除去する。このときの状態が図１
（ｄ）である。
【００１９】最後にレプリカ回折格子を４５℃で一旦加
熱すると、平面状のレプリカ回折格子がシリンドリカル
状のレプリカ回折格子に変わる。この状態が図１（ｅ）
である。
熱すると、平面状のレプリカ回折格子がシリンドリカル
状のレプリカ回折格子に変わる。この状態が図１（ｅ）
である。
【００２０】＜実施例２＞図２は高密度のレプリカ回折
格子の製造工程を示す図で、レプリカ基板６´としてダ
イヤリーを用いて、室温で伸ばした（平面状態で）以外
は実施例１で示したのと同様の工程で図２（ｄ）に示す
レプリカ回折格子を作成した。なお、図２（ａ）〜
（ｄ）中、図１と同じものには同じ番号が付してあり、
図２（ａ）〜（ｄ）の製造工程は図１（ａ）〜（ｄ）の
製造工程に対応する。
格子の製造工程を示す図で、レプリカ基板６´としてダ
イヤリーを用いて、室温で伸ばした（平面状態で）以外
は実施例１で示したのと同様の工程で図２（ｄ）に示す
レプリカ回折格子を作成した。なお、図２（ａ）〜
（ｄ）中、図１と同じものには同じ番号が付してあり、
図２（ａ）〜（ｄ）の製造工程は図１（ａ）〜（ｄ）の
製造工程に対応する。
【００２１】最後に図２（ｄ）のレプリカ回折格子を４
０℃に制御して、レプリカ基板６´を収縮させ、図２
（ｅ）の状態にすることにより高密度のレプリカ回折格
子が製造できる。図２（ｅ）の回折格子の溝本数を測定
したところ４５００本／ｍｍであった。
０℃に制御して、レプリカ基板６´を収縮させ、図２
（ｅ）の状態にすることにより高密度のレプリカ回折格
子が製造できる。図２（ｅ）の回折格子の溝本数を測定
したところ４５００本／ｍｍであった。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、平面のマスター回折格
子から容易にシリンドリカル面などの所望の形状を有す
るレプリカ回折格子を得ることができる。特に複数の形
状を記憶したレプリカ基板を用意するだけで、１枚のマ
スター回折格子から多数の形状、溝本数を有したレプリ
カ回折格子を作製できる。
子から容易にシリンドリカル面などの所望の形状を有す
るレプリカ回折格子を得ることができる。特に複数の形
状を記憶したレプリカ基板を用意するだけで、１枚のマ
スター回折格子から多数の形状、溝本数を有したレプリ
カ回折格子を作製できる。
【００２３】また、分光器の温調制御によっては、１枚
の回折格子で２種類の溝本数が得られるため、波長範囲
によって２種類の回折格子が必要だったものが、１枚の
回折格子で対応できるようになる。
の回折格子で２種類の溝本数が得られるため、波長範囲
によって２種類の回折格子が必要だったものが、１枚の
回折格子で対応できるようになる。
【図１】本発明によりシリンドリカル状のレプリカ回折
格子を製作する工程図
格子を製作する工程図
【図２】本発明により高密度のレプリカ回折格子を製作
する工程図
する工程図
１：ガラス基板 ２：アルミニウム薄膜 ３：離形剤 ４：アルミニウム薄膜 ５：接着剤 ６、６´：レプリカ基板
Claims (1)
- 【請求項１】 マスター回折格子の格子面に金属薄膜を
形成し、該金属薄膜とレプリカ基板とを接着剤を介して
圧接した後剥離させ、該金属薄膜をレプリカ基板に反転
接着させてなるレプリカ回折格子において、前記レプリ
カ基板を形状記憶材料で構成したことを特徴とするレプ
リカ回折格子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5293295A JPH07146405A (ja) | 1993-11-24 | 1993-11-24 | レプリカ回折格子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5293295A JPH07146405A (ja) | 1993-11-24 | 1993-11-24 | レプリカ回折格子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07146405A true JPH07146405A (ja) | 1995-06-06 |
Family
ID=17792987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5293295A Pending JPH07146405A (ja) | 1993-11-24 | 1993-11-24 | レプリカ回折格子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07146405A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007057500A1 (en) * | 2005-11-18 | 2007-05-24 | Nanocomp Oy Ltd | Method of producing a diffraction grating element |
| US7501035B2 (en) | 2004-09-17 | 2009-03-10 | Shimadzu Corporation | Method of manufacturing replica diffraction grating |
| EP2367058A1 (en) | 2010-03-17 | 2011-09-21 | Université Jean-Monnet | Fabrication method of cylindrical gratings |
| EP2562568A1 (en) | 2011-08-23 | 2013-02-27 | Université Jean-Monnet | Fabrication method of cylindrical gratings |
-
1993
- 1993-11-24 JP JP5293295A patent/JPH07146405A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7501035B2 (en) | 2004-09-17 | 2009-03-10 | Shimadzu Corporation | Method of manufacturing replica diffraction grating |
| WO2007057500A1 (en) * | 2005-11-18 | 2007-05-24 | Nanocomp Oy Ltd | Method of producing a diffraction grating element |
| US8092723B2 (en) | 2005-11-18 | 2012-01-10 | Nanocomp Oy Ltd | Method of producing a diffraction grating element |
| EP2367058A1 (en) | 2010-03-17 | 2011-09-21 | Université Jean-Monnet | Fabrication method of cylindrical gratings |
| WO2011113706A1 (en) | 2010-03-17 | 2011-09-22 | Université Jean-Monnet | Fabrication method of cylindrical gratings |
| EP2562568A1 (en) | 2011-08-23 | 2013-02-27 | Université Jean-Monnet | Fabrication method of cylindrical gratings |
| US8586287B2 (en) | 2011-08-23 | 2013-11-19 | Sick Stegmann Gmbh | Fabrication method of cylindrical gratings |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5071597A (en) | Plastic molding of articles including a hologram or other microstructure | |
| US7129028B2 (en) | Method of forming holographic grating | |
| JP4507928B2 (ja) | ホログラフィックグレーティング製造方法 | |
| JPH07146405A (ja) | レプリカ回折格子 | |
| JPH07261010A (ja) | レプリカ回折格子 | |
| JP3307031B2 (ja) | レプリカ回折格子 | |
| JP4183101B2 (ja) | 金型の微細加工方法、金型及び成形品 | |
| JPH08211214A (ja) | 曲面グレーティングの製造方法 | |
| JP2000221868A5 (ja) | ||
| JPS5947282B2 (ja) | エシエレツト格子の製造方法 | |
| JPS6119961B2 (ja) | ||
| JPS63168601A (ja) | 回折格子及びその作製方法 | |
| JP2571819B2 (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
| JP2003315518A (ja) | 回折光学素子 | |
| JP4262514B2 (ja) | 光学部材の製造方法 | |
| JP2004125874A (ja) | スタンパ及びその製造方法及びスタンパを用いた成型方法 | |
| JP2006177994A (ja) | レプリカ光学素子 | |
| JP4554835B2 (ja) | ガラス用成形型及びガラス成形製品の製造方法 | |
| JP2001147309A (ja) | 回折格子及びその製造方法、並びに複合光学素子の製造方法 | |
| JP2005283814A (ja) | 反射防止処理を施した光学素子及びその金型並びに金型の製造方法 | |
| JP3680569B2 (ja) | 回折光学素子の製造方法 | |
| JP2005128181A (ja) | 非球面光学素子の製作法 | |
| JPS63275053A (ja) | スタンパ−の製造方法 | |
| JPH07108612A (ja) | レリーフ型回折格子の製造方法 | |
| JPH0725627A (ja) | 光学素子成形用型の製作方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |