JPH07108612A - レリーフ型回折格子の製造方法 - Google Patents
レリーフ型回折格子の製造方法Info
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- JPH07108612A JPH07108612A JP25580493A JP25580493A JPH07108612A JP H07108612 A JPH07108612 A JP H07108612A JP 25580493 A JP25580493 A JP 25580493A JP 25580493 A JP25580493 A JP 25580493A JP H07108612 A JPH07108612 A JP H07108612A
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- relief
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐環境性および耐経時変化に優れた信頼性の
高いレリーフ型回折格子を、量産性良く得ることができ
るレリーフ型回折格子の製造方法を提供する。 【構成】 所望の断面形状(1) を有する型(11)を用い
て、無機材料基板(21)上に有機材料(31)からなるレリー
フ型回折格子パターン層(3) を形成し、その後、レリー
フ型回折格子パターン層(3) の形状を、異方性エッチン
グにより無機材料基板(21)に転写してレリーフ型回折格
子を製造する。
高いレリーフ型回折格子を、量産性良く得ることができ
るレリーフ型回折格子の製造方法を提供する。 【構成】 所望の断面形状(1) を有する型(11)を用い
て、無機材料基板(21)上に有機材料(31)からなるレリー
フ型回折格子パターン層(3) を形成し、その後、レリー
フ型回折格子パターン層(3) の形状を、異方性エッチン
グにより無機材料基板(21)に転写してレリーフ型回折格
子を製造する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、レリーフ型回折格子
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レリーフ型回折格子は、その断面形状に
よって回折効率を制御できることが知られており、従来
種々のものが提案されている。また、レリーフ型回折格
子を、例えば回折型レンズとして用いる光学系も種々提
案されている。この場合、回折型レンズから不要次数の
回折光が発生すると、それがフレア光となって光学系全
体の性能を低下させることになるため、回折型レンズの
断面形状を例えば鋸歯波状にして、特定の回折次数にだ
け回折光が現れるようにしている。このように、レリー
フ型回折格子を含む光学系の実用化においては、レリー
フ型回折格子の断面形状を制御することが極めて重要で
あり、この点に関して従来多くの方法が提案されてい
る。
よって回折効率を制御できることが知られており、従来
種々のものが提案されている。また、レリーフ型回折格
子を、例えば回折型レンズとして用いる光学系も種々提
案されている。この場合、回折型レンズから不要次数の
回折光が発生すると、それがフレア光となって光学系全
体の性能を低下させることになるため、回折型レンズの
断面形状を例えば鋸歯波状にして、特定の回折次数にだ
け回折光が現れるようにしている。このように、レリー
フ型回折格子を含む光学系の実用化においては、レリー
フ型回折格子の断面形状を制御することが極めて重要で
あり、この点に関して従来多くの方法が提案されてい
る。
【０００３】一方、広範囲の産業分野でレリーフ型回折
格子を実用化するためには、断面形状を正確に制御する
だけでなく、その量産方法を確立することも重要であ
る。その量産方法として、例えば特開昭６２−１６０４
０１号公報には、まず機械的加工方法によって金型を形
成し、これを母型としてプラスチック成形によりレプリ
カを大量に製造するという方法が開示されている。
格子を実用化するためには、断面形状を正確に制御する
だけでなく、その量産方法を確立することも重要であ
る。その量産方法として、例えば特開昭６２−１６０４
０１号公報には、まず機械的加工方法によって金型を形
成し、これを母型としてプラスチック成形によりレプリ
カを大量に製造するという方法が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記の製造方法は、プ
ラスチック成形に基づいているので、量産性の点では優
れている。しかし、上記の方法で製造されるレプリカ
は、樹脂製で、耐環境性が悪く、また経時変化し易いた
め、信頼性が悪いという問題がある。このため、例えば
自動車の燃料制御システムのような高温に曝される環境
での使用には適さない。
ラスチック成形に基づいているので、量産性の点では優
れている。しかし、上記の方法で製造されるレプリカ
は、樹脂製で、耐環境性が悪く、また経時変化し易いた
め、信頼性が悪いという問題がある。このため、例えば
自動車の燃料制御システムのような高温に曝される環境
での使用には適さない。
【０００５】上記の問題を解決し、信頼性の高いレリー
フ型回折格子を得るためには、格子パターンを無機材料
基板に形成することが望まれる。しかしながら、光学材
料として用いられる無機材料（一般にはガラス）は、熱
軟化温度がプラスチック材料のそれと比較して非常に高
いため、上記のような金型を用いる成形は、一般には困
難である。
フ型回折格子を得るためには、格子パターンを無機材料
基板に形成することが望まれる。しかしながら、光学材
料として用いられる無機材料（一般にはガラス）は、熱
軟化温度がプラスチック材料のそれと比較して非常に高
いため、上記のような金型を用いる成形は、一般には困
難である。
【０００６】なお、金型を用いることなく、無機材料基
板にレリーフ型回折格子を直接形成する方法として、例
えば特開昭６０−１０３３１１号公報には、無機材料基
板上に感光性樹脂層を設け、この感光性樹脂層に所望の
断面形状に相当するドーズ量分布を与えて現像処理する
ことにより、感光性樹脂層を所望の断面形状に形成し、
その後、異方性エッチングを施すことにより感光性樹脂
層の断面形状を下層の無機材料基板に転写するようにし
たものが開示されている。しかし、この方法において
は、微細なパターンでドーズ量を制御することが困難で
あると共に、パターン形成に長時間を要するため、量産
に適さないという問題がある。
板にレリーフ型回折格子を直接形成する方法として、例
えば特開昭６０−１０３３１１号公報には、無機材料基
板上に感光性樹脂層を設け、この感光性樹脂層に所望の
断面形状に相当するドーズ量分布を与えて現像処理する
ことにより、感光性樹脂層を所望の断面形状に形成し、
その後、異方性エッチングを施すことにより感光性樹脂
層の断面形状を下層の無機材料基板に転写するようにし
たものが開示されている。しかし、この方法において
は、微細なパターンでドーズ量を制御することが困難で
あると共に、パターン形成に長時間を要するため、量産
に適さないという問題がある。
【０００７】この発明は、上述した従来の問題点に着目
してなされたもので、耐環境性および耐経時変化に優れ
た信頼性の高いレリーフ型回折格子を、量産性良く得る
ことができるレリーフ型回折格子の製造方法を提供する
ことを目的とする。
してなされたもので、耐環境性および耐経時変化に優れ
た信頼性の高いレリーフ型回折格子を、量産性良く得る
ことができるレリーフ型回折格子の製造方法を提供する
ことを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明では、所望の断面形状を有する型を用い
て、無機材料基板上に有機材料からなるレリーフ型回折
格子パターン層を形成する工程と、前記レリーフ型回折
格子パターン層の形状を、異方性エッチングにより前記
無機材料基板に転写する工程とを有することを特徴とす
るものである。
め、この発明では、所望の断面形状を有する型を用い
て、無機材料基板上に有機材料からなるレリーフ型回折
格子パターン層を形成する工程と、前記レリーフ型回折
格子パターン層の形状を、異方性エッチングにより前記
無機材料基板に転写する工程とを有することを特徴とす
るものである。
【０００９】
【作用】この発明においては、所望の断面形状を有する
型によって、無機材料基板上に有機材料からなるレリー
フ型回折格子パターン層が形成され、その後、異方性エ
ッチング処理によりレリーフ型回折格子パターン層の形
状が無機材料基板に転写されて、レリーフ型回折格子が
得られる。
型によって、無機材料基板上に有機材料からなるレリー
フ型回折格子パターン層が形成され、その後、異方性エ
ッチング処理によりレリーフ型回折格子パターン層の形
状が無機材料基板に転写されて、レリーフ型回折格子が
得られる。
【００１０】
【実施例】以下、図面を参照してこの発明の実施例につ
いて説明する。図１Ａ〜Ｄは、この発明の第１実施例の
順次の工程を示すものである。この実施例は、回折型レ
ンズを製造するもので、先ず、図１Ａに示すように、目
的とする回折型レンズを形成するための平面状のガラス
基板２１上に、紫外線硬化型樹脂３１を設けた後、この
紫外線硬化型樹脂３１を、図１Ｂに示すように、レリー
フパターン１を形成して成る金型１１と、ガラス基板２
１とで挟持する。
いて説明する。図１Ａ〜Ｄは、この発明の第１実施例の
順次の工程を示すものである。この実施例は、回折型レ
ンズを製造するもので、先ず、図１Ａに示すように、目
的とする回折型レンズを形成するための平面状のガラス
基板２１上に、紫外線硬化型樹脂３１を設けた後、この
紫外線硬化型樹脂３１を、図１Ｂに示すように、レリー
フパターン１を形成して成る金型１１と、ガラス基板２
１とで挟持する。
【００１１】次に、図１Ｂに示す挟持状態で、ガラス基
板２１側から紫外線露光を行って紫外線硬化型樹脂３１
を硬化させた後、金型１１を剥離して、図１Ｃに示すよ
うに、ガラス基板２１上に転写用の紫外線硬化型樹脂か
ら成るレリーフパターン３を形成する。その後、図１Ｃ
に示す状態で、例えば特開昭６１−２７５０５号公報に
開示されているように、反応性イオンエッチング（ＲＩ
Ｅ）を施し、これによりレリーフパターン３をガラス基
板２１に転写して、図１Ｄに示すように、所望のレリー
フパターン２を有するガラス製の回折型レンズを得る。
板２１側から紫外線露光を行って紫外線硬化型樹脂３１
を硬化させた後、金型１１を剥離して、図１Ｃに示すよ
うに、ガラス基板２１上に転写用の紫外線硬化型樹脂か
ら成るレリーフパターン３を形成する。その後、図１Ｃ
に示す状態で、例えば特開昭６１−２７５０５号公報に
開示されているように、反応性イオンエッチング（ＲＩ
Ｅ）を施し、これによりレリーフパターン３をガラス基
板２１に転写して、図１Ｄに示すように、所望のレリー
フパターン２を有するガラス製の回折型レンズを得る。
【００１２】この実施例において、金型１１は、例えば
図２に示すように、無酸素銅からなる板材を回転させな
がら、これをダイヤモンドバイト４を用いて精密切削加
工することにより製造することができる。また、この金
型１１は、図３ＡおよびＢに示すようにして製造するこ
ともできる。すなわち、先ず、図３Ａに示すように、適
当な基板７上に感光性樹脂層６を形成した後、この感光
性樹脂層６を露光ビーム５の強度を制御しながら露光し
て、基板７上に図１に示した転写用のレリーフパターン
３と同じ形状のレリーフパターン３’を形成し、その
後、図３Ｂに示すように、レリーフパターン３’を、例
えばＮｉ電鋳で転写することによりＮｉ製の金型１１を
製造する。
図２に示すように、無酸素銅からなる板材を回転させな
がら、これをダイヤモンドバイト４を用いて精密切削加
工することにより製造することができる。また、この金
型１１は、図３ＡおよびＢに示すようにして製造するこ
ともできる。すなわち、先ず、図３Ａに示すように、適
当な基板７上に感光性樹脂層６を形成した後、この感光
性樹脂層６を露光ビーム５の強度を制御しながら露光し
て、基板７上に図１に示した転写用のレリーフパターン
３と同じ形状のレリーフパターン３’を形成し、その
後、図３Ｂに示すように、レリーフパターン３’を、例
えばＮｉ電鋳で転写することによりＮｉ製の金型１１を
製造する。
【００１３】また、図１Ｃにおいて、ＲＩＥの反応ガス
としては、例えばＣＦ4 を主成分とする混合ガスを用い
ることができる。また、転写用のレリーフパターン３を
構成する紫外線硬化型樹脂と、レリーフパターン２を形
成するガラスとのエッチング速度の比（選択比）は、反
応ガスの組成によって異なるので、反応ガスの組成を適
宜調整することにより、レリーフパターン３を、レリー
フ構造の深さ方向に対して所望の倍率でガラス基板２１
に転写することができる。
としては、例えばＣＦ4 を主成分とする混合ガスを用い
ることができる。また、転写用のレリーフパターン３を
構成する紫外線硬化型樹脂と、レリーフパターン２を形
成するガラスとのエッチング速度の比（選択比）は、反
応ガスの組成によって異なるので、反応ガスの組成を適
宜調整することにより、レリーフパターン３を、レリー
フ構造の深さ方向に対して所望の倍率でガラス基板２１
に転写することができる。
【００１４】ここで、選択比ｒは、レリーフパターン３
の深さをｄ、レリーフパターン２の深さをＤとすると、
の深さをｄ、レリーフパターン２の深さをＤとすると、
【数１】ｒ＝Ｄ／ｄ ・・・（１） で表されるが、この実施例では、好適には、
【数２】ｒ＜１ ・・・（２） に設定する。
【００１５】このように選択比ｒを設定すれば、レリー
フパターン３の形状誤差、すなわち金型１１を製造する
工程で生じるレリーフパターン１の形状誤差は、ガラス
基板２１に縮小転写されることになるので、目的とする
回折型レンズのレリーフパターン２の形状誤差を相対的
に小さくすることができる。
フパターン３の形状誤差、すなわち金型１１を製造する
工程で生じるレリーフパターン１の形状誤差は、ガラス
基板２１に縮小転写されることになるので、目的とする
回折型レンズのレリーフパターン２の形状誤差を相対的
に小さくすることができる。
【００１６】なお、選択比ｒは、反応ガスおよびその組
成によって支配的に決定されるが、ＣＦ4 を用いる場合
には、これがガラスのエッチングに直接関係し、例えば
このＣＦ4 を単独で反応ガスとして用いる場合には、そ
の選択比ｒは、一般に１より小さくなる。したがって、
この場合には、上記（２）式で示した条件を満足するの
で、工程の簡略化を考えれば、反応ガスとしてＣＦ4 を
単独で用いるほうが良い。この場合の転写用のレリーフ
パターン３の深さｄは、選択比ｒと回折型レンズのレリ
ーフパターン２の深さＤから、上記の（１）式に従って
決定される。
成によって支配的に決定されるが、ＣＦ4 を用いる場合
には、これがガラスのエッチングに直接関係し、例えば
このＣＦ4 を単独で反応ガスとして用いる場合には、そ
の選択比ｒは、一般に１より小さくなる。したがって、
この場合には、上記（２）式で示した条件を満足するの
で、工程の簡略化を考えれば、反応ガスとしてＣＦ4 を
単独で用いるほうが良い。この場合の転写用のレリーフ
パターン３の深さｄは、選択比ｒと回折型レンズのレリ
ーフパターン２の深さＤから、上記の（１）式に従って
決定される。
【００１７】さらに、選択比を変更する場合には、ＣＦ
4 に適当なガスを添加すればよい。具体的には、Ｈ2 や
Ｃ2 Ｈ4 等を添加することにより選択比を増加させるこ
とができ、またＯ2 を添加することにより選択比を低下
させることができる。なお、ＣＦ4 の代わりにＣＨＦ3
等を用いれば、ＣＦ4 を用いる場合よりも選択比を増加
させることができる。
4 に適当なガスを添加すればよい。具体的には、Ｈ2 や
Ｃ2 Ｈ4 等を添加することにより選択比を増加させるこ
とができ、またＯ2 を添加することにより選択比を低下
させることができる。なお、ＣＦ4 の代わりにＣＨＦ3
等を用いれば、ＣＦ4 を用いる場合よりも選択比を増加
させることができる。
【００１８】図４は、この発明の第２実施例を説明する
ための図である。この実施例は、例えば赤外線光学系で
用いられるＳｉやＧｅ等の紫外線に対して不透明な無機
材料基板２３に、レリーフ型回折格子を形成するもので
ある。このように、回折格子を形成するための無機材料
基板２３が紫外線に対して不透明な場合には、第１実施
例におけるように、紫外線硬化型樹脂３１の露光を基板
側から行うことができない。そこで、この実施例では、
転写用のレリーフパターン３を形成するための型１３
を、紫外線を透過するガラス材料で構成し、このガラス
製の型１３側から紫外線硬化型樹脂３１の露光を行う。
その他の製造工程については、上記の第１実施例と同様
である。
ための図である。この実施例は、例えば赤外線光学系で
用いられるＳｉやＧｅ等の紫外線に対して不透明な無機
材料基板２３に、レリーフ型回折格子を形成するもので
ある。このように、回折格子を形成するための無機材料
基板２３が紫外線に対して不透明な場合には、第１実施
例におけるように、紫外線硬化型樹脂３１の露光を基板
側から行うことができない。そこで、この実施例では、
転写用のレリーフパターン３を形成するための型１３
を、紫外線を透過するガラス材料で構成し、このガラス
製の型１３側から紫外線硬化型樹脂３１の露光を行う。
その他の製造工程については、上記の第１実施例と同様
である。
【００１９】このようにすれば、紫外線に対して不透明
な無機材料基板２３上に、紫外線硬化型樹脂３１から成
る転写用のレリーフパターンを形成することができるの
で、第１実施例におけると同様に、所望のレリーフパタ
ーンを有する無機材料製の回折型レンズを得ることがで
きる。なお、ガラス製の型１３は、第１実施例で説明し
たガラス製レリーフ型回折格子の製造方法によって、容
易に製造することができる。
な無機材料基板２３上に、紫外線硬化型樹脂３１から成
る転写用のレリーフパターンを形成することができるの
で、第１実施例におけると同様に、所望のレリーフパタ
ーンを有する無機材料製の回折型レンズを得ることがで
きる。なお、ガラス製の型１３は、第１実施例で説明し
たガラス製レリーフ型回折格子の製造方法によって、容
易に製造することができる。
【００２０】図５Ａ〜Ｄは、この発明の第３実施例の順
次の工程を示すものである。この実施例は、上述した実
施例におけるような平面状の無機材料基板ではなく、ガ
ラス製の平凸レンズの球面上に回折型レンズパターンを
形成するものである。先ず、図５Ａに示すように、目的
とする回折型レンズパターンを形成するための平凸レン
ズ２２の球面部２２ａ上に、熱軟化させた成形用プラス
チック材料３２を設けた後、図５Ｂに示すように、レリ
ーフパターン１を形成して成る型１２のパターン形成面
１２ａと平凸レンズ２２の球面部２２ａとを対向させ
て、成形用プラスチック材料３２を、型１２と平凸レン
ズ２２とで挟持する。
次の工程を示すものである。この実施例は、上述した実
施例におけるような平面状の無機材料基板ではなく、ガ
ラス製の平凸レンズの球面上に回折型レンズパターンを
形成するものである。先ず、図５Ａに示すように、目的
とする回折型レンズパターンを形成するための平凸レン
ズ２２の球面部２２ａ上に、熱軟化させた成形用プラス
チック材料３２を設けた後、図５Ｂに示すように、レリ
ーフパターン１を形成して成る型１２のパターン形成面
１２ａと平凸レンズ２２の球面部２２ａとを対向させ
て、成形用プラスチック材料３２を、型１２と平凸レン
ズ２２とで挟持する。
【００２１】その後、成形用プラスチック材料３２を冷
却して硬化させた後、型１２を剥離して、図５Ｃに示す
ように、平凸レンズ２２の球面部２２ａ上にプラスチッ
ク材料より成る転写用のレリーフパターン３を形成す
る。その後、図５Ｃに示す状態でＲＩＥを施してレリー
フパターン３を転写することにより、図５Ｄに示すよう
に、平凸レンズ２２の球面部２２ａに所望の断面形状の
回折型レンズパターン２を形成する。
却して硬化させた後、型１２を剥離して、図５Ｃに示す
ように、平凸レンズ２２の球面部２２ａ上にプラスチッ
ク材料より成る転写用のレリーフパターン３を形成す
る。その後、図５Ｃに示す状態でＲＩＥを施してレリー
フパターン３を転写することにより、図５Ｄに示すよう
に、平凸レンズ２２の球面部２２ａに所望の断面形状の
回折型レンズパターン２を形成する。
【００２２】なお、この実施例において、型１２は、そ
のパターン形成面１２ａが平凸レンズ２２の球面部２２
ａと同じ曲率の球面であるため、図３で説明した感光性
樹脂を露光して製造するよりも、図２で説明した機械的
な加工法によって製造するのが好適である。
のパターン形成面１２ａが平凸レンズ２２の球面部２２
ａと同じ曲率の球面であるため、図３で説明した感光性
樹脂を露光して製造するよりも、図２で説明した機械的
な加工法によって製造するのが好適である。
【００２３】図６Ａ〜Ｃは、この発明の第４実施例を説
明するための図である。この実施例は、回折型レンズを
製造するもので、先ず、図６Ａに示すように、目的とす
る回折型レンズを形成するための無機材料基板２４の表
面に微細な凹凸８を形成し、この凹凸８を形成した面上
に、熱軟化させた成形用プラスチック材料３２を設け
て、この成形用プラスチック材料３２を、レリーフパタ
ーン１を形成して成る金型１１と、無機材料基板２４と
で挟持する。
明するための図である。この実施例は、回折型レンズを
製造するもので、先ず、図６Ａに示すように、目的とす
る回折型レンズを形成するための無機材料基板２４の表
面に微細な凹凸８を形成し、この凹凸８を形成した面上
に、熱軟化させた成形用プラスチック材料３２を設け
て、この成形用プラスチック材料３２を、レリーフパタ
ーン１を形成して成る金型１１と、無機材料基板２４と
で挟持する。
【００２４】その後、成形用プラスチック材料３２を冷
却して硬化させた後、金型１１を剥離して、図６Ｂに示
すように、無機材料基板２４上にプラスチック材料より
成る転写用のレリーフパターン３を形成する。その後、
図６Ｂに示す状態で、ＲＩＥを施してレリーフパターン
３を転写することにより、図６Ｃに示すように、所望の
レリーフパターン２を有する無機材料製の回折型レンズ
を得る。なお、この場合のＲＩＥにおけるエッチングの
選択比は、無機材料基板２４上の微細な凹凸８の形状を
残すことなく、転写用レリーフパターン３を無機材料基
板２４に転写するために、成形用プラスチック材料３２
と無機材料基板２４とのエッチング速度が等しくなるよ
うに設定する。
却して硬化させた後、金型１１を剥離して、図６Ｂに示
すように、無機材料基板２４上にプラスチック材料より
成る転写用のレリーフパターン３を形成する。その後、
図６Ｂに示す状態で、ＲＩＥを施してレリーフパターン
３を転写することにより、図６Ｃに示すように、所望の
レリーフパターン２を有する無機材料製の回折型レンズ
を得る。なお、この場合のＲＩＥにおけるエッチングの
選択比は、無機材料基板２４上の微細な凹凸８の形状を
残すことなく、転写用レリーフパターン３を無機材料基
板２４に転写するために、成形用プラスチック材料３２
と無機材料基板２４とのエッチング速度が等しくなるよ
うに設定する。
【００２５】この実施例によれば、転写用レリーフパタ
ーン３を形成する無機材料基板２４の表面に、微細な凹
凸８を形成したので、無機材料基板２４と転写用レリー
フパターン３とを強固に接着することができる。したが
って、成形用プラスチック材料３２を冷却して硬化させ
た後、金型１１を剥離する際の離型不良の発生を有効に
防止でき、転写用レリーフパターン３を無機材料基板２
４上により良好に形成することができる。なお、上述し
た第１〜３実施例においても、第４実施例と同様に、無
機材料基板上に微細な凹凸を形成することもできる。
ーン３を形成する無機材料基板２４の表面に、微細な凹
凸８を形成したので、無機材料基板２４と転写用レリー
フパターン３とを強固に接着することができる。したが
って、成形用プラスチック材料３２を冷却して硬化させ
た後、金型１１を剥離する際の離型不良の発生を有効に
防止でき、転写用レリーフパターン３を無機材料基板２
４上により良好に形成することができる。なお、上述し
た第１〜３実施例においても、第４実施例と同様に、無
機材料基板上に微細な凹凸を形成することもできる。
【００２６】
【発明の効果】この発明によれば、型成形が容易な有機
材料を用いてレリーフ型回折格子パターン層を無機材料
基板上に形成し、その後、レリーフ型回折格子パターン
層の形状を異方性エッチングによって下層の無機材料基
板に転写してレリーフ型回折格子を得るようにしたの
で、耐環境性および耐経時変化に優れた信頼性の高いレ
リーフ型回折格子を、容易かつ大量に製造することがで
きる。
材料を用いてレリーフ型回折格子パターン層を無機材料
基板上に形成し、その後、レリーフ型回折格子パターン
層の形状を異方性エッチングによって下層の無機材料基
板に転写してレリーフ型回折格子を得るようにしたの
で、耐環境性および耐経時変化に優れた信頼性の高いレ
リーフ型回折格子を、容易かつ大量に製造することがで
きる。
【図１】この発明の第１実施例における順次の工程図で
ある。
ある。
【図２】図１に示す金型の製造法の一例を説明するため
の図である。
の図である。
【図３】同じく他の例を説明するための図である。
【図４】この発明の第２実施例を説明するための図であ
る。
る。
【図５】この発明の第３実施例における順次の工程図で
ある。
ある。
【図６】この発明の第４実施例を説明するための図であ
る。
る。
１ レリーフパターン ２ レリーフパターン ３ レリーフパターン ８ 凹凸 １１ 金型 １２ 型 １２ａ パターン形成面 １３ 型 ２１ ガラス基板 ２２ 平凸レンズ ２２ａ 球面部 ２３ 無機材料基板 ２４ 無機材料基板 ３１ 紫外線硬化型樹脂 ３２ 成形用プラスチック材料
Claims (1)
- 【請求項１】 所望の断面形状を有する型を用いて、無
機材料基板上に有機材料からなるレリーフ型回折格子パ
ターン層を形成する工程と、 前記レリーフ型回折格子パターン層の形状を、異方性エ
ッチングにより前記無機材料基板に転写する工程とを有
することを特徴とするレリーフ型回折格子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25580493A JPH07108612A (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | レリーフ型回折格子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25580493A JPH07108612A (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | レリーフ型回折格子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07108612A true JPH07108612A (ja) | 1995-04-25 |
Family
ID=17283870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25580493A Withdrawn JPH07108612A (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | レリーフ型回折格子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07108612A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7129028B2 (en) | 2000-02-25 | 2006-10-31 | Shimadzu Corporation | Method of forming holographic grating |
-
1993
- 1993-10-13 JP JP25580493A patent/JPH07108612A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7129028B2 (en) | 2000-02-25 | 2006-10-31 | Shimadzu Corporation | Method of forming holographic grating |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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