JPS6141143A - 帯電防止組成物 - Google Patents
帯電防止組成物Info
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- JPS6141143A JPS6141143A JP16865085A JP16865085A JPS6141143A JP S6141143 A JPS6141143 A JP S6141143A JP 16865085 A JP16865085 A JP 16865085A JP 16865085 A JP16865085 A JP 16865085A JP S6141143 A JPS6141143 A JP S6141143A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
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- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31544—Addition polymer is perhalogenated
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は帯電防止組成物に関する。
絶縁した支持体上で静電気の不所望な発生のあることは
周知の通シである。この現象は、電気絶縁性の支持体表
面をもっ九どのような要素でも発生する。
周知の通シである。この現象は、電気絶縁性の支持体表
面をもっ九どのような要素でも発生する。
電子写真要素を含めた写真要素の場合、感放射線層が絶
縁性支持体上に塗被されているのが一般的である。ここ
で、静電気の発生を低減するため、写真乳剤が塗被され
ていない支持体の表面に帯電防止組成物を塗布する方法
が実施されている。屡々、写真乳剤層にもまた帯電防止
組成物が塗布されている。このような帯電防止組成物は
表両抵抗率を下け、よって、電荷が蓄積するのを防止す
ることができる。
縁性支持体上に塗被されているのが一般的である。ここ
で、静電気の発生を低減するため、写真乳剤が塗被され
ていない支持体の表面に帯電防止組成物を塗布する方法
が実施されている。屡々、写真乳剤層にもまた帯電防止
組成物が塗布されている。このような帯電防止組成物は
表両抵抗率を下け、よって、電荷が蓄積するのを防止す
ることができる。
米国特許第４，２７２，６１６号には、親水性パイン〆
、例えばゼラチンを有する非イオン系？リオキシエチレ
ン表面活性剤、そしてアルカリ金属チオシアネート、沃
化物、過塩素酸塩又は過沃素酸塩を含有する均質な帯電
防止組成物が開示されている。このような帯電防止組成
物は、上述のような支持体の表面抵抗率を相対湿度（Ｒ
Ｈ）３０％で約１０ Ω／スクエアまで下げるのに有効
である。
、例えばゼラチンを有する非イオン系？リオキシエチレ
ン表面活性剤、そしてアルカリ金属チオシアネート、沃
化物、過塩素酸塩又は過沃素酸塩を含有する均質な帯電
防止組成物が開示されている。このような帯電防止組成
物は、上述のような支持体の表面抵抗率を相対湿度（Ｒ
Ｈ）３０％で約１０ Ω／スクエアまで下げるのに有効
である。
ところで、上述のような帯電防止剤の場合、それらの防
止剤が写真要素のすべであるいはそのような要素の製造
のすべてと相溶性をもたないという問題がある。このよ
うな要素あるいは製造において用いられるアルカリ金属
塩は、部分的にではあるが、一部の感放射線乳剤に対し
て悪い影響を有する。その他のこのような塩、例えば過
塩素酸塩は、爆発性を有してお）、したがって、製造を
危険にするということが知られている。そのために、本
発明の目的は、上記したような従来用いられている塩類
の欠点を全熱もたないような新規な帯電防止組成物を提
供することにある。
止剤が写真要素のすべであるいはそのような要素の製造
のすべてと相溶性をもたないという問題がある。このよ
うな要素あるいは製造において用いられるアルカリ金属
塩は、部分的にではあるが、一部の感放射線乳剤に対し
て悪い影響を有する。その他のこのような塩、例えば過
塩素酸塩は、爆発性を有してお）、したがって、製造を
危険にするということが知られている。そのために、本
発明の目的は、上記したような従来用いられている塩類
の欠点を全熱もたないような新規な帯電防止組成物を提
供することにある。
上記した問題点は、本発明によれば、親水性バインダ、
重合せるオキシアルキレン単量体を有する表面活性重合
体、そして無機のテトラフルオロ硼酸塩、ペルフルオ四
アルキルカルぎン酸塩、ヘキサフルオロ燐酸塩及びペル
フルオロアルキルスルホン酸塩からなる群から選ばれた
無機塩を有する帯電防止組成物によって解決することが
できる。
重合せるオキシアルキレン単量体を有する表面活性重合
体、そして無機のテトラフルオロ硼酸塩、ペルフルオ四
アルキルカルぎン酸塩、ヘキサフルオロ燐酸塩及びペル
フルオロアルキルスルホン酸塩からなる群から選ばれた
無機塩を有する帯電防止組成物によって解決することが
できる。
ここで、オキシアルキレン単量体のアルキレン部分は、
２〜６個の炭素原子を有する２価の炭化水素基、例えば
エチレン、プロピレン及びブチレンを指している。
２〜６個の炭素原子を有する２価の炭化水素基、例えば
エチレン、プロピレン及びブチレンを指している。
本発明の帯電防止組成物は、通常、バインダを重合せる
オキシアルキレン単量体を含有する表面活性重合体の水
溶液及び選ばれた無機塩の水溶液と合することによりて
調製することができる。得られた帯電防止組成物を支持
体上Ｋｌｌ布してその支持体の抵抗率を下げることがで
きる。
オキシアルキレン単量体を含有する表面活性重合体の水
溶液及び選ばれた無機塩の水溶液と合することによりて
調製することができる。得られた帯電防止組成物を支持
体上Ｋｌｌ布してその支持体の抵抗率を下げることがで
きる。
バインダーは、１０〜９５重量Ｉｓ（乾量基準）の量で
組成物中に存在させるのが一般的である。
組成物中に存在させるのが一般的である。
帯電防止組成物を形成するのに有用なノクインダは、多
数の公知な写真学的に有用な親水性コロイド組成物のな
かから選択することができる。適当女親水性コロイドは
、天然に産する物質、例えば蛋白質、蛋白質誘導体、セ
ルロース誘導体、例えばセルロースエステル、ゼラチン
、例えばアルカリ処理ゼラチン（牛骨又は皮革ゼラチン
）又は酸処理ゼラチン（豚皮ゼラチン）、ゼラチン誘導
体、例えばアセチル化ゼラチン、フタル化ヤラチン等、
多糖類、例えばデキストラン、アラビアプム、ゼイン、
カゼイン、ペクチン、コラーｒｙ＃導体、コロジオン、
寒天、ぐず粉、アルブミン、そして写真技術に係る多数
の特許文献に記載されているその他の物質を包含する。
数の公知な写真学的に有用な親水性コロイド組成物のな
かから選択することができる。適当女親水性コロイドは
、天然に産する物質、例えば蛋白質、蛋白質誘導体、セ
ルロース誘導体、例えばセルロースエステル、ゼラチン
、例えばアルカリ処理ゼラチン（牛骨又は皮革ゼラチン
）又は酸処理ゼラチン（豚皮ゼラチン）、ゼラチン誘導
体、例えばアセチル化ゼラチン、フタル化ヤラチン等、
多糖類、例えばデキストラン、アラビアプム、ゼイン、
カゼイン、ペクチン、コラーｒｙ＃導体、コロジオン、
寒天、ぐず粉、アルブミン、そして写真技術に係る多数
の特許文献に記載されているその他の物質を包含する。
その他の親水性コロイドは、コロイド状アルブミン又社
カゼイン、その他；セルロース化合物、例えばカルがキ
シメチルセルロース又はヒト胃キシエチルセルロース、
その他；そして合成の親水性コロイド、側光ばぼり（ビ
ニルアルコール）、ポリーＮ−ビニルビａリドン、４す
（アクリル酸）共重合体、ポリアクリルアミド又はそれ
らの誘導体あるいはそれらの部分氷解生成物、その他；
を包含する。必要に応じて、これらのコロイドの２種類
もしくはそれ以上の混合物を使用することができる。こ
れらのコロイドのなかで、最も有用なものはゼラチンで
ある。ゼラチンは、それを本願明細書において使用した
場合、いわゆる石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン又は
酸素処理ゼラチンを包含する。
カゼイン、その他；セルロース化合物、例えばカルがキ
シメチルセルロース又はヒト胃キシエチルセルロース、
その他；そして合成の親水性コロイド、側光ばぼり（ビ
ニルアルコール）、ポリーＮ−ビニルビａリドン、４す
（アクリル酸）共重合体、ポリアクリルアミド又はそれ
らの誘導体あるいはそれらの部分氷解生成物、その他；
を包含する。必要に応じて、これらのコロイドの２種類
もしくはそれ以上の混合物を使用することができる。こ
れらのコロイドのなかで、最も有用なものはゼラチンで
ある。ゼラチンは、それを本願明細書において使用した
場合、いわゆる石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン又は
酸素処理ゼラチンを包含する。
表面活性重合体は、２〜８０重量ｔｓ（乾量基準）の量
で組成物中に存在させるのが一般的である。
で組成物中に存在させるのが一般的である。
単独重合体及び共重合体を含む任意の表面活性重合体、
そして重合せるオキシアルキレン単量体が有用である。
そして重合せるオキシアルキレン単量体が有用である。
有用なコモノマーは、下記の第１表に記載のようなアル
キルシ日キサン単量体、そしてビニル単量体を包含する
。重合せるオキシアルキレン単量体のブロックを含有し
ている有用な表面活性重合体は、例えば、米国特許第２
．９ ｍ７，４８０号、同第４，２７２，６１６号及び
同第４，０４７，９５８号、そして特願昭５５−７０８
３７号及び特願昭５２−１６２２４号明細書に開示され
ている。オキシアルキレンの重合ブロックを有する好ま
しい重合体をいくつか列挙すると、下記の第１表に記載
の通シである。
キルシ日キサン単量体、そしてビニル単量体を包含する
。重合せるオキシアルキレン単量体のブロックを含有し
ている有用な表面活性重合体は、例えば、米国特許第２
．９ ｍ７，４８０号、同第４，２７２，６１６号及び
同第４，０４７，９５８号、そして特願昭５５−７０８
３７号及び特願昭５２−１６２２４号明細書に開示され
ている。オキシアルキレンの重合ブロックを有する好ま
しい重合体をいくつか列挙すると、下記の第１表に記載
の通シである。
第１表
１） ＢＡＳＦ社からグル口＝ｙり（Ｐｌｕｒｏｎｉ
ｃ＠）、例えばＰ１ｕｒｏｎｉｃ＠Ｐ１２３及びＰｌｕ
ｒｏｎｉｅｓ■２５Ｒ５なる商品名で入手可能なプロピ
レンオキシド及びエチレンオキシドのブロック共重合体
：ＣＨ３ ＨＯ＋ＣＨ２ＣＨ２Ｏ片七Ｈ−ＣＨ２−０す七Ｈ２ＣＨ
２Ｏ汁Ｈ又は ２） ＢＡＳＦ社からテトロニクス（Ｔｅｔｒｏｎｉ
ｃａ’）、例えばＴｅｔｒｏｎｉｃｓ’Ｔ１３０４なる
商品名で入手可能なエチレンジアミンにエチレンオキシ
ド及びグロピレンオキシドを付加させて誘導した４官能
性ブロック共重合体： 以下余白 χ 国 閃 ン ３） ＢＡＳＦ社からインダストロール（Ｉｎｄｕｓ
ｔｒｏｌ町ＣＯ１例えばｒｎｄｕｓｔｒｏｌ Ｃ０−
４０なる商品名で入手可能なヒマシ油のＩリエトキシル
化誘導体：（Ｒ＝−（−ＣＨ２−）−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ’
）Ｉ２−ＣＨ÷ＣＨ２％ ＣＨ，）４）エアー・ノロダ
クッ社からサーフィノール（５ｕｒｆｙｎｏｌ■）、例
えば５ｕｒｆｙｎｏｌ■４６５なる商品名で入手可能な
アルキル置換アセチレン酸ジオールのポリエトキシル化
エーテル誘導体：（ｇシラスｈ＝１０〜３Ｑ） ５）ダウ・コーニング社からＱ４−３６６７°なる商品
名で入手可能なジメチルシロキサン−アルキレンオキシ
ド線状ＥＡＢ ７’ロック共重合体二以下余白 に ガ ロ）ＩＣＩ（アメリカ）社からツビーン（Ｔｗ＠ｅｎ■
）２０なる商品名で入手可能なＩリオキシエチレン（２
Ｇ）ソルビタンモノラウレート。
ｃ＠）、例えばＰ１ｕｒｏｎｉｃ＠Ｐ１２３及びＰｌｕ
ｒｏｎｉｅｓ■２５Ｒ５なる商品名で入手可能なプロピ
レンオキシド及びエチレンオキシドのブロック共重合体
：ＣＨ３ ＨＯ＋ＣＨ２ＣＨ２Ｏ片七Ｈ−ＣＨ２−０す七Ｈ２ＣＨ
２Ｏ汁Ｈ又は ２） ＢＡＳＦ社からテトロニクス（Ｔｅｔｒｏｎｉ
ｃａ’）、例えばＴｅｔｒｏｎｉｃｓ’Ｔ１３０４なる
商品名で入手可能なエチレンジアミンにエチレンオキシ
ド及びグロピレンオキシドを付加させて誘導した４官能
性ブロック共重合体： 以下余白 χ 国 閃 ン ３） ＢＡＳＦ社からインダストロール（Ｉｎｄｕｓ
ｔｒｏｌ町ＣＯ１例えばｒｎｄｕｓｔｒｏｌ Ｃ０−
４０なる商品名で入手可能なヒマシ油のＩリエトキシル
化誘導体：（Ｒ＝−（−ＣＨ２−）−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ’
）Ｉ２−ＣＨ÷ＣＨ２％ ＣＨ，）４）エアー・ノロダ
クッ社からサーフィノール（５ｕｒｆｙｎｏｌ■）、例
えば５ｕｒｆｙｎｏｌ■４６５なる商品名で入手可能な
アルキル置換アセチレン酸ジオールのポリエトキシル化
エーテル誘導体：（ｇシラスｈ＝１０〜３Ｑ） ５）ダウ・コーニング社からＱ４−３６６７°なる商品
名で入手可能なジメチルシロキサン−アルキレンオキシ
ド線状ＥＡＢ ７’ロック共重合体二以下余白 に ガ ロ）ＩＣＩ（アメリカ）社からツビーン（Ｔｗ＠ｅｎ■
）２０なる商品名で入手可能なＩリオキシエチレン（２
Ｇ）ソルビタンモノラウレート。
７）ＩＣＩ（アメリカ）社からモノフロー（Ｍｏｎｆｌ
ｏｒ’ ） 、例えばＭｏｎｆｌｏｒ’−５１なる商品
名で入手可能なポリオキシエチレンペルフルオロデセニ
ルエーテル： ＣｎＦ２ｎ−１÷ＣＨ２ＣＨ２０（ＣｎＦ２ｎ−。
ｏｒ’ ） 、例えばＭｏｎｆｌｏｒ’−５１なる商品
名で入手可能なポリオキシエチレンペルフルオロデセニ
ルエーテル： ＣｎＦ２ｎ−１÷ＣＨ２ＣＨ２０（ＣｎＦ２ｎ−。
８）ペトラーチ・システム社から（トラーチ（Ｐ＠ｔｒ
ａｒｃｈ’）ＰＳ、例えばＰＳ ０７１及びＰＳ ０７
３なる商品名で入手可能なジメチルシロキサン−エチレ
ンオキジドブ四ツク共重合体： ＣＨ３ ＣＨ。
ａｒｃｈ’）ＰＳ、例えばＰＳ ０７１及びＰＳ ０７
３なる商品名で入手可能なジメチルシロキサン−エチレ
ンオキジドブ四ツク共重合体： ＣＨ３ ＣＨ。
（ｑ／ｐ＝１〜５）
９）ＩＣＩ（アメリカ）社からツリージ（Ｂｒｉｊ’）
なる商品名で入手可能な？リオキシエチレンラウリル、
セチル、ステアリル又はオレイルエーテル。
なる商品名で入手可能な？リオキシエチレンラウリル、
セチル、ステアリル又はオレイルエーテル。
１０）ユニオン・カーバイド社からシルウェット（５ｉ
ｌｖｅｔ ） 、例えばＳ ｉ ｌｙｅ ｔ’ Ｌ−７
６０５なる商品名で入手可能な？リアルキレンオキシド
変性ジメチルポリシロキサン分枝鎖共重合体：（０２Ｈ
４０）ｖ（０３Ｈ６０） 、Ｒ１１）ＧＡＦ社からイブ
・ぐ−ル（Ｉｇｅｐ龜ｌ■）なる商品名で入手可能なア
ルキル又は非置換のフェノキシポリ（オキシエチレン）
エタノール。
ｌｖｅｔ ） 、例えばＳ ｉ ｌｙｅ ｔ’ Ｌ−７
６０５なる商品名で入手可能な？リアルキレンオキシド
変性ジメチルポリシロキサン分枝鎖共重合体：（０２Ｈ
４０）ｖ（０３Ｈ６０） 、Ｒ１１）ＧＡＦ社からイブ
・ぐ−ル（Ｉｇｅｐ龜ｌ■）なる商品名で入手可能なア
ルキル又は非置換のフェノキシポリ（オキシエチレン）
エタノール。
１２）ローム・アンド・ハース社カラトライトン（Ｔｒ
ｉｔｏｎ ）Ｘ−４０５なる商品名で入手可能なオク
チルフェノキシｆす（オキシエチレン）エタノール。
ｉｔｏｎ ）Ｘ−４０５なる商品名で入手可能なオク
チルフェノキシｆす（オキシエチレン）エタノール。
１３）エメリー・インダストリーズ社からトライコール
（Ｔｒｙｃｏｌ ）ＬＡＬなる商品名で入手可能なエ
トキシル化脂肪アルコールポリオキシエチレンエーテル
。
（Ｔｒｙｃｏｌ ）ＬＡＬなる商品名で入手可能なエ
トキシル化脂肪アルコールポリオキシエチレンエーテル
。
１４）デュ４ン社からゾニル（Ｚｏｎｙｌ ） ＦＡ
Ｎなる商品名で入手可能な化合物： Ｆ（ＣＦ２０Ｆ２打：ＴＣＨ２ＣＨ２０（（！Ｈ２０Ｈ
２０）工Ｈ（ｘ＝１０〜２０） 無機塩は、通常２〜８０重量−の量で組成物中に存在さ
せる。かかる無機塩は、テトラフルオロ硼酸塩、ペルフ
ルオロアルキルカルボン酸塩、ヘキサフルオル燐酸塩又
はペルフルオロアルキルスルホン酸塩である。ペルフル
オロアルキルのアルキル部分の炭素原子数は２〜２０で
ある。有用な無機塩の例としては、上記のような物質の
アルカリ及びアルカリ土類金属塩、そしてアンモニウム
塩をあげることができる。アルカリ金属は、例えば、カ
リウム、ナトリウム、リチウム、セシウム、ルビジウム
などである。アルカリ土類金属の例は、ヘリリウム、カ
ルシウム、ストロン−Ｆ−ラム、バリウムなどでおる。
Ｎなる商品名で入手可能な化合物： Ｆ（ＣＦ２０Ｆ２打：ＴＣＨ２ＣＨ２０（（！Ｈ２０Ｈ
２０）工Ｈ（ｘ＝１０〜２０） 無機塩は、通常２〜８０重量−の量で組成物中に存在さ
せる。かかる無機塩は、テトラフルオロ硼酸塩、ペルフ
ルオロアルキルカルボン酸塩、ヘキサフルオル燐酸塩又
はペルフルオロアルキルスルホン酸塩である。ペルフル
オロアルキルのアルキル部分の炭素原子数は２〜２０で
ある。有用な無機塩の例としては、上記のような物質の
アルカリ及びアルカリ土類金属塩、そしてアンモニウム
塩をあげることができる。アルカリ金属は、例えば、カ
リウム、ナトリウム、リチウム、セシウム、ルビジウム
などである。アルカリ土類金属の例は、ヘリリウム、カ
ルシウム、ストロン−Ｆ−ラム、バリウムなどでおる。
好ましい塩類をいくつか列挙すると、ＣＦ３５Ｏ３Ｋ
、 ＬｉＢＦ４ 、 ＮａＢＦ４ 、 Ｃ４Ｆ９ＳＯ３
Ｋ。
、 ＬｉＢＦ４ 、 ＮａＢＦ４ 、 Ｃ４Ｆ９ＳＯ３
Ｋ。
ＫＰＦ６及びＣＦ、５ｏ３Ｌｉ をあげることができる
。
。
帯電防止組成物を塗布して層となす場合、形成される層
は帯電防止効果を呈するのに十分な量のポリオキシアル
キレン表面活性剤及び無機塩を有するべきである。ポリ
オキシアルキレン表面活性剤の好ましい量は、約５〜５
００ Ｗ／ｍ２、特に約２０〜２００〜／ｍ２である。
は帯電防止効果を呈するのに十分な量のポリオキシアル
キレン表面活性剤及び無機塩を有するべきである。ポリ
オキシアルキレン表面活性剤の好ましい量は、約５〜５
００ Ｗ／ｍ２、特に約２０〜２００〜／ｍ２である。
表面活性剤と一緒に用いられる無機塩の好ましい量は、
約５〜５００ｔｖ／ｍ” 、特に約１０〜２００ｒＩｖ
／ｍ”である。バインダの被覆量は０．１〜１０ＪｉＦ
／ｍ”とすべきである。もちろん、写真フィルムベース
の種類、写真組成物、形態又は用いられる適用方法に依
存して上記した範囲を変更することができる。ポリオキ
シアルキレン化合物の量と塩のそれとの適当な比は、約
１：０．１〜５．０好ましくは約１：０．３〜２（重量
比）である。
約５〜５００ｔｖ／ｍ” 、特に約１０〜２００ｒＩｖ
／ｍ”である。バインダの被覆量は０．１〜１０ＪｉＦ
／ｍ”とすべきである。もちろん、写真フィルムベース
の種類、写真組成物、形態又は用いられる適用方法に依
存して上記した範囲を変更することができる。ポリオキ
シアルキレン化合物の量と塩のそれとの適当な比は、約
１：０．１〜５．０好ましくは約１：０．３〜２（重量
比）である。
本発明の帯電防止組成物は、種々の有用な帯電防止要素
を形成するため、いろいろな支持体上に塗布することが
できる。支持体は、いろいろな材料からなることができ
、そして多数の形をとることができる。例えば、本発明
の組成物をポリ（エチレンテレフタレート）１．酢酸セ
／Ｌ１０−ス、４リスチレン、ポリ（メチルメタクリレ
ート）等の重合体材料上に塗布することができる。また
、かかる組成物をガラス、紙（樹脂コート紙を含む）、
金属等のその他の支持体上Ｋｌ！Ｌ布することもできる
。布帛に加工するのに有用な繊維（合成繊維を含む）を
支持体として使用することができる。平滑な支持体、例
えば写真において有用な重合体フィルムが特に有用であ
る。さらに加えて、実際には、抵抗率を下げることが望
まれているどのような物品上にも本発明の組成物を塗布
することができる。例えば、本発明の組成物を小さなグ
ラスチック部材上に塗布してそれらの部材上における不
所望な静電気の発生を防止することができ、さもなけれ
ば、本発明の組成物を小さな重合体の球体もしくはその
他の形のもの、例えばエレクトログラフィー等において
トナーとして使用されているものに塗被することができ
る。
を形成するため、いろいろな支持体上に塗布することが
できる。支持体は、いろいろな材料からなることができ
、そして多数の形をとることができる。例えば、本発明
の組成物をポリ（エチレンテレフタレート）１．酢酸セ
／Ｌ１０−ス、４リスチレン、ポリ（メチルメタクリレ
ート）等の重合体材料上に塗布することができる。また
、かかる組成物をガラス、紙（樹脂コート紙を含む）、
金属等のその他の支持体上Ｋｌ！Ｌ布することもできる
。布帛に加工するのに有用な繊維（合成繊維を含む）を
支持体として使用することができる。平滑な支持体、例
えば写真において有用な重合体フィルムが特に有用であ
る。さらに加えて、実際には、抵抗率を下げることが望
まれているどのような物品上にも本発明の組成物を塗布
することができる。例えば、本発明の組成物を小さなグ
ラスチック部材上に塗布してそれらの部材上における不
所望な静電気の発生を防止することができ、さもなけれ
ば、本発明の組成物を小さな重合体の球体もしくはその
他の形のもの、例えばエレクトログラフィー等において
トナーとして使用されているものに塗被することができ
る。
本発明の帯電防止組成物は、任意の適当な手法を使用し
て支持体上に塗布することができる。例えば、かかる組
成物をスプレー塗布法、流動床塗布法、浸漬塗布法、ド
クタブレード塗布法又は押出ホッノｆ−塗布法を使用し
て塗布することができる。なお、記載の塗布法はほんの
一例である。
て支持体上に塗布することができる。例えば、かかる組
成物をスプレー塗布法、流動床塗布法、浸漬塗布法、ド
クタブレード塗布法又は押出ホッノｆ−塗布法を使用し
て塗布することができる。なお、記載の塗布法はほんの
一例である。
以下余白
本発明の帯電防止組成物は、写真要素のための帯電防止
層を形成するのにとシわけ有用である。
層を形成するのにとシわけ有用である。
このタイプの要素は、支持体と、該支持体上に塗布され
た少なくとも１つの感放射線層とからなる。
た少なくとも１つの感放射線層とからなる。
帯電防止組成物の層は写真要素内の任意の位置に存在さ
せることができる。帯電防止組成物は、有利には、この
技術分野で公知なように薄い下塗シ層を有することので
きる支持体上に直接的に塗布することができ、また、そ
の塗布の後、保護膜をオーバーコートしてもよい。別法
によれば、帯電防止層を感放射線材料と同じ側の支持体
上に形成することができ、そして、必要に応じて、保護
膜を中間層又はオーバーコートとして含ませることがで
きる。
せることができる。帯電防止組成物は、有利には、この
技術分野で公知なように薄い下塗シ層を有することので
きる支持体上に直接的に塗布することができ、また、そ
の塗布の後、保護膜をオーバーコートしてもよい。別法
によれば、帯電防止層を感放射線材料と同じ側の支持体
上に形成することができ、そして、必要に応じて、保護
膜を中間層又はオーバーコートとして含ませることがで
きる。
写真要素又は電子写真要素の感放射線層はいろいろな形
をとることができる。これらの層は、写真銀塩乳剤、例
えばハロゲン化銀乳剤、ジアゾ−タイプ組成物、気泡画
像形成性組成物、光重合性組成物、感放射線半導体をも
った電子写真組成物、その他を有することができる。写
真ハロダン化銀乳剤であって、限定されないというもの
の、単層又は多層の、黒白用又はカラー用の、そして内
型又は外型のカッグラ−を有する乳剤がとシわけ有用で
あシ、そして、例えば、リサーチ・ディスクム１７６４
３（ハロダン化銀要素）、１９７８年１２月、２２〜３
１頁、及びリサーチ・ディスクロージャー、アイテム１
８４３１（ラジオグラフィー要素）、１９７９年８月、
４３３〜４１頁、に記載されている。
をとることができる。これらの層は、写真銀塩乳剤、例
えばハロゲン化銀乳剤、ジアゾ−タイプ組成物、気泡画
像形成性組成物、光重合性組成物、感放射線半導体をも
った電子写真組成物、その他を有することができる。写
真ハロダン化銀乳剤であって、限定されないというもの
の、単層又は多層の、黒白用又はカラー用の、そして内
型又は外型のカッグラ−を有する乳剤がとシわけ有用で
あシ、そして、例えば、リサーチ・ディスクム１７６４
３（ハロダン化銀要素）、１９７８年１２月、２２〜３
１頁、及びリサーチ・ディスクロージャー、アイテム１
８４３１（ラジオグラフィー要素）、１９７９年８月、
４３３〜４１頁、に記載されている。
次いで、下記の例を参照しながら本発明をさらに詳細に
説明する。
説明する。
本発明の塗膜の表面の抵抗は公知な技法を使用して測定
することができる。この抵抗率は、ある材料の薄膜の単
位正方形（スクエア）の電気抵抗であシ、その材料の対
向せる側面間の平面において測定したものである。この
ことは、アール・イー中アチソン（Ｒ，Ｅ、ムｔａｈｌ
ｓｏｎ ）、Ａｕｎｔ、 Ｊ。
することができる。この抵抗率は、ある材料の薄膜の単
位正方形（スクエア）の電気抵抗であシ、その材料の対
向せる側面間の平面において測定したものである。この
ことは、アール・イー中アチソン（Ｒ，Ｅ、ムｔａｈｌ
ｓｏｎ ）、Ａｕｎｔ、 Ｊ。
Ａｐｐｌｍ、 ８ｃｉ、 、 １０ 、（１９５４年）
において詳しく記載されている。
において詳しく記載されている。
例１
単層塗膜
脱イオン骨ゼラチンの層をぼりエステル支持体上に被覆
量０．０９７７７ｍ”で塗布した（例ＩＡ）。
量０．０９７７７ｍ”で塗布した（例ＩＡ）。
前記第１表に記載のような重合せるオキシアルキレン単
量体の表面活性重合体及び塩を次表に記載の量（塗膜１
ｍ”当シの回数）で添加した。（例１８〜例ＩＴ）。
量体の表面活性重合体及び塩を次表に記載の量（塗膜１
ｍ”当シの回数）で添加した。（例１８〜例ＩＴ）。
塗膜のサンプルを相対湿度（Ｒｎ）ｓｏｔｓ、２゜嗟及
び（又は）１５５ｇに調整した。表面抵抗率を、ＡＳ’
ＩＭ規格Ｄ−２５７にもとづいて、ケイスリー・ピコア
ンメーター（Ｋｅｉｔｈｌｙ Ｐｉｅｏａｍｍｓｔ＠ｒ
）を使用して２４℃で測定した。結果を第■表に記載
する。
び（又は）１５５ｇに調整した。表面抵抗率を、ＡＳ’
ＩＭ規格Ｄ−２５７にもとづいて、ケイスリー・ピコア
ンメーター（Ｋｅｉｔｈｌｙ Ｐｉｅｏａｍｍｓｔ＠ｒ
）を使用して２４℃で測定した。結果を第■表に記載
する。
以下余白
対照量ある例ＩＡと比較すると、例ＩＢ及び例ＩＣでは
、表面活性重合体又は塩を別々に添加した結果として表
面抵抗率の著しい低下が得られた。
、表面活性重合体又は塩を別々に添加した結果として表
面抵抗率の著しい低下が得られた。
しかし、例ＩＤに示されるように本発明に従い重合体と
塩とを組み合わせて使用した場合にはさらに大幅な表面
抵抗率の低下、すなわち、５０％ＲＨで５桁、そして２
０ ％ ＲＨではそれ以上、が得られた。この有効性は
、例ＩＥ及び例ＩＦにおけるように添加物濃度を低く抑
えた場合であっても大きいまま保持することができた。
塩とを組み合わせて使用した場合にはさらに大幅な表面
抵抗率の低下、すなわち、５０％ＲＨで５桁、そして２
０ ％ ＲＨではそれ以上、が得られた。この有効性は
、例ＩＥ及び例ＩＦにおけるように添加物濃度を低く抑
えた場合であっても大きいまま保持することができた。
例１２〜例ＩＴでは、本発明に従い別の重合体と塩の組
み合わせを使用した場合にも表面抵抗率の同様な低下を
達成し得ることが示されている。
み合わせを使用した場合にも表面抵抗率の同様な低下を
達成し得ることが示されている。
例２
医学用Ｘ線フィルム塗膜
ラジオグラフィー乳剤層をＩリエステル支持体上に被覆
量： Ａｇ ２．３７ ｉＰ／ｍ”及びゼラチン１．５
１ｉＩ−／ｍ２で塗布した。この乳剤には、平均粒径０
．９μｍの立方体臭沃化銀粒子、そして４モルチの沃化
物が含まれた。この乳剤層にはまた、ＫＮＯ３が１２９
Ｗ／ｉ−で含まれた。形成された乳剤上にオーバーコ
ートとしての保護層を０．６５ Ｊｉ’／ｍ”の量で塗
布した。下記の第■表に記載のような表面活性重合体及
びアルカリ金属塩を上記オー・ぐ−コートに添加した。
量： Ａｇ ２．３７ ｉＰ／ｍ”及びゼラチン１．５
１ｉＩ−／ｍ２で塗布した。この乳剤には、平均粒径０
．９μｍの立方体臭沃化銀粒子、そして４モルチの沃化
物が含まれた。この乳剤層にはまた、ＫＮＯ３が１２９
Ｗ／ｉ−で含まれた。形成された乳剤上にオーバーコ
ートとしての保護層を０．６５ Ｊｉ’／ｍ”の量で塗
布した。下記の第■表に記載のような表面活性重合体及
びアルカリ金属塩を上記オー・ぐ−コートに添加した。
表面抵抗率を前記例１に記載のようにして相対湿度５０
チ及び２０ｑ６で測定した。
チ及び２０ｑ６で測定した。
但し、本例の場合、抵抗率の測定のためにテラ・オーム
メーター（Ｔ＠）＊ａ ｏｈｍｍ＠ｔ＠ｒ ”、ガイド
ラインズ・インスツルメンツ社Ｍｏｄｅｌ ９５２０
） を使用した。得られた結果を第■表に記載する。
メーター（Ｔ＠）＊ａ ｏｈｍｍ＠ｔ＠ｒ ”、ガイド
ラインズ・インスツルメンツ社Ｍｏｄｅｌ ９５２０
） を使用した。得られた結果を第■表に記載する。
下記第■表に記載の結果から判るように、本発明の帯ｔ
ＦＪ止組成物を使用した場合、２０％冊の時に３桁もし
くはそれ以上の大きさで表面抵抗率を下けることができ
た。
ＦＪ止組成物を使用した場合、２０％冊の時に３桁もし
くはそれ以上の大きさで表面抵抗率を下けることができ
た。
以下余白
例３
対照塗膜
ポリエステル支持体上に、脱イオン骨ゼラチンを被覆量
２．７１７７ｍ”で塗布した。この層上に、さらに脱イ
オン骨ゼラチンオーツ寸−コートヲ０．８９Ｖ♀で塗布
した。この塗膜を乾燥ゼラチン全量の２チのビス（ビニ
ルスルホニルメチル）エーテルで硬化させた。表面抵抗
率を先ｐ例に記載のようにして測定した。
２．７１７７ｍ”で塗布した。この層上に、さらに脱イ
オン骨ゼラチンオーツ寸−コートヲ０．８９Ｖ♀で塗布
した。この塗膜を乾燥ゼラチン全量の２チのビス（ビニ
ルスルホニルメチル）エーテルで硬化させた。表面抵抗
率を先ｐ例に記載のようにして測定した。
本発明の塗膜
“対照塗膜”に記載のようにして本発明の塗膜を調製し
た。但し、この塗膜の場合、前記第１表に記載の重合体
１０（ユニオン・カーバイド社製の８１１ｖｒ＠ｔ■Ｌ
７６０５）及びヘキサフルオロ燐酸カリウム（ＫＰＦ６
）のそれぞれ２１ ｓ ｍｙ／ｍ”をオ／々−コート層
に添加した。抵抗率の測定によシ得た数値を下記の第■
表に記載する。
た。但し、この塗膜の場合、前記第１表に記載の重合体
１０（ユニオン・カーバイド社製の８１１ｖｒ＠ｔ■Ｌ
７６０５）及びヘキサフルオロ燐酸カリウム（ＫＰＦ６
）のそれぞれ２１ ｓ ｍｙ／ｍ”をオ／々−コート層
に添加した。抵抗率の測定によシ得た数値を下記の第■
表に記載する。
以下余白
例４
米国特許第４，２７２，６１６号に記載の塩のセンシト
メトリー効果と本発明において用いられる塩のそれとの
比較 ３．４モル−〇沃化物を含有する平均粒径０．７５μｍ
の医学用緑感性臭沃化ｆｓＸ線孔剤をぼりエステル支持
体上に釧１．９１Ｐ／ｍ”及びゼラチン１．５Ｐ／ｍ”
で塗□布した。この乳剤層上に０．６５ ｊ’／ｍ”の
ゼラチンを含有する保護層を塗布した。下記の第Ｖ表に
記載のような塩を乳剤層に添加し、また、それぞれの場
合に、塩の量は１．０８Ｘ１０−５モ励鵞であった。
メトリー効果と本発明において用いられる塩のそれとの
比較 ３．４モル−〇沃化物を含有する平均粒径０．７５μｍ
の医学用緑感性臭沃化ｆｓＸ線孔剤をぼりエステル支持
体上に釧１．９１Ｐ／ｍ”及びゼラチン１．５Ｐ／ｍ”
で塗□布した。この乳剤層上に０．６５ ｊ’／ｍ”の
ゼラチンを含有する保護層を塗布した。下記の第Ｖ表に
記載のような塩を乳剤層に添加し、また、それぞれの場
合に、塩の量は１．０８Ｘ１０−５モ励鵞であった。
塗膜のサンプルを、階段濃度スケールを通して、６００
Ｗ水晶ハロゲン光源（緑色光を放出する螢光板の露光に
似せるためにコーニング（Ｃｏｒｎｉｎｇ■）Ｃ−４０
１０フイルターに通した）に１１５０秒関に６たって露
光した。次いで、これらのサンプルをイーストマン・コ
ダック社製のコダック・工。
Ｗ水晶ハロゲン光源（緑色光を放出する螢光板の露光に
似せるためにコーニング（Ｃｏｒｎｉｎｇ■）Ｃ−４０
１０フイルターに通した）に１１５０秒関に６たって露
光した。次いで、これらのサンプルをイーストマン・コ
ダック社製のコダック・工。
クスーオーマ、 ） （ＫＯＤＡＫ Ｘ−ＯＭＡＴ■）
ｆロセ。
ｆロセ。
サー、モデルＭ６で処理した。現曽は３５℃で２６秒間
、定着は３５℃で２１秒間、そして洗浄は３２℃で１６
秒間であった。これらの処理のため、イーストマン・コ
ダック社製のＫＯＤＡＫ ＲＰＸ−ＯＭＡＴ■現像液及
び定着液を使用した。
、定着は３５℃で２１秒間、そして洗浄は３２℃で１６
秒間であった。これらの処理のため、イーストマン・コ
ダック社製のＫＯＤＡＫ ＲＰＸ−ＯＭＡＴ■現像液及
び定着液を使用した。
得られたセンシトメトリー測定結果を下記の第ｖ表に記
載する。感度（スピード）は濃度１．０で測定した。
載する。感度（スピード）は濃度１．０で測定した。
以下余白
上記第１表の結果から判るように、従来技術のＫＩを添
加した場合には感度、コントラスト及びＤｍ＆Ｘが大き
く損なわれた。これとは対照的に、塗膜２〜５における
ように本発明において用いられる塩類を添加した場合、
センシトメトリー効果に対して悪い影響がひきおヒされ
なかった。
加した場合には感度、コントラスト及びＤｍ＆Ｘが大き
く損なわれた。これとは対照的に、塗膜２〜５における
ように本発明において用いられる塩類を添加した場合、
センシトメトリー効果に対して悪い影響がひきおヒされ
なかった。
本発明の帯電防止組成物は、絶縁性表面上に塗布した場
合、乳剤層及び支持体の表面抵抗率を相対湿度２０チで
５桁のオーダーで下げることができる。さらに、このよ
うな帯電防止組成物は一部の感放射線乳剤に対する悪い
影響をひきおこさず、また、上記した従来の組成物で回
避し得なかった製造上の問題を防止することができる。
合、乳剤層及び支持体の表面抵抗率を相対湿度２０チで
５桁のオーダーで下げることができる。さらに、このよ
うな帯電防止組成物は一部の感放射線乳剤に対する悪い
影響をひきおこさず、また、上記した従来の組成物で回
避し得なかった製造上の問題を防止することができる。
本発明の帯電防止組成物を使用することによって、製造
及び使用時に発生する静電荷によシひきおこされるとこ
ろの問題を著しく減らすことができる。例えば、乳剤面
と写真感光材料の裏面との接触、ある乳剤面ともう１つ
の乳剤面との接触、そして写真感光材料とその他の材料
、例えばゴム、金属、プラスチ、り、螢光増感紙等との
接触によってひきおこされるスタチックマークの形成を
顕著に減らすことができる。さらに、本発明の塩とポリ
オキシアルキレン化合物を親水性・ぐインダ中で一緒に
使用し、そして写真感光材料の外側に適用する場合、写
真感光材料の表面抵抗率を顕著に下げることができる。
及び使用時に発生する静電荷によシひきおこされるとこ
ろの問題を著しく減らすことができる。例えば、乳剤面
と写真感光材料の裏面との接触、ある乳剤面ともう１つ
の乳剤面との接触、そして写真感光材料とその他の材料
、例えばゴム、金属、プラスチ、り、螢光増感紙等との
接触によってひきおこされるスタチックマークの形成を
顕著に減らすことができる。さらに、本発明の塩とポリ
オキシアルキレン化合物を親水性・ぐインダ中で一緒に
使用し、そして写真感光材料の外側に適用する場合、写
真感光材料の表面抵抗率を顕著に下げることができる。
さらに、本発明において用いられる化合物の組み合わせ
では、カセットへのフィルムの装填時、カメラ内でのフ
ィルムの巻き上げ時あるいはオートマチックカメラで多
数枚の写真を連続的に高速度で撮影する場合に発生する
静電荷を有効に防止することができる。この帯電防止効
果が経時的にあるいは低湿度の時に劣化せしめられるこ
とはない。
では、カセットへのフィルムの装填時、カメラ内でのフ
ィルムの巻き上げ時あるいはオートマチックカメラで多
数枚の写真を連続的に高速度で撮影する場合に発生する
静電荷を有効に防止することができる。この帯電防止効
果が経時的にあるいは低湿度の時に劣化せしめられるこ
とはない。
以下余白
Claims (1)
- １、親水性バインダ、重合せるオキシアルキレン単量体
を有する表面活性重合体、そして無機のテトラフルオロ
硼酸塩、ペルフルオロアルキルカルボン酸塩、ヘキサフ
ルオロ燐酸塩及びペルフルオロアルキルスルホン酸塩か
らなる群から選ばれた無機塩を有する帯電防止組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/636,764 US4582781A (en) | 1984-08-01 | 1984-08-01 | Antistatic compositions comprising polymerized oxyalkylene monomers and an inorganic tetrafluoroborate, perfluoroalkyl carboxylate, hexafluorophosphate or perfluoroalkylsulfonate salt |
| US636764 | 1984-08-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6141143A true JPS6141143A (ja) | 1986-02-27 |
| JPH0410054B2 JPH0410054B2 (ja) | 1992-02-24 |
Family
ID=24553233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16865085A Granted JPS6141143A (ja) | 1984-08-01 | 1985-08-01 | 帯電防止組成物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4582781A (ja) |
| EP (1) | EP0170529B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6141143A (ja) |
| CA (1) | CA1257086A (ja) |
| DE (1) | DE3585856D1 (ja) |
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| JPH0410054B2 (ja) | 1992-02-24 |
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