JPS614094A - 電気光学的機能素子及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は電気光学的機能素子の引出し端子に関するもの
である。

従来例の構成とその問題点 少くとも一方が透明な二つの電極層間に電気光学的機能
層がはさまれてなる素子としてはＥＣＤ。

ＥＬ、太陽電池、撮像板等が知られている。

ここで用いられる電気光学的機能素子は、通常ガラスな
どの透光性基板」二に透明な第１の電極を形成し、その
上にＥＬ層、ＥＣＤ層、太陽電池層。

光検知層等を順次積層し、さらにその上に背面電極を積
層して形成する。各電極群には給電線への接続のために
引出し端子が設けられる。

一般に透明な第１の電極は、平滑なガラス基板上に酸化
錫を被着するなどにより形成される。これに対向する第
２の電極としてはアルミニウム等の金属膜が真空蒸着な
どにより形成される。これらのそれぞれの電極から給電
線を引出すには、各電極に設けられた引出し端子へ給電
線を接続することによっておこなう。

３・・− この第２の電極の引出し端子としては通常電極を構成す
る電極の材料とは異なる材料の金属膜をメタルマスクを
用いた蒸着で、電極と少なくともその一部が接触するよ
うに形成される。

メタルマスクを用いた蒸着は、大型の真空装置を必要と
するので、コストアップの要因となる。

又、電極がピッチが１頗当り数本以上の微細なパターン
に々ると、メタルマスクと電極の位置合わせが困難にな
ってくる。さらには、メタルマスクの開孔部が蒸着膜の
形成条件に依存してより好ましくなったり、メタルマス
クの上に蒸着された膜のはがれた破片によりふさがれて
しまうといったトラブルも発生しやすい。

従って、ある程度以上の微細なパターンは、全面に電極
形成用の蒸着膜を形成した後、写真食刻法を用いてパタ
ーンを形成することにならざるを得ない。これは、蒸着
後にさらに２つ以上の工程が１　　　、えお。−、、、
う、ゆ、７，１〜。

発明の目的 本発明は、上記のように、微細に分割された多数の電極
を有する電気光学的機能素子において、製造工程が簡単
であり、かつ給電線との接続のだめの精度の高い引出し
端子およびその製造方法を提供することを目的とする。

発明の構成 本発明は」二記の目的を達成するために、以下のような
引出し端子を用いて電気光学的機能素子を構成すること
を特徴とする。

基板上に透明な第１の電極とそれに対向する第２の電極
間に電気光学的機能層をはさんだ電気光学的機能素子に
おいて、第２の電極の引出し端子を前記の透明な第１の
電極と同じ透明導電膜およびその上にメッキにより形成
した金属膜で形成する。

実施例の説明 本発明の実施例としてＥＬ素子を例にして、以下図面を
参照しながら説明する。第１図及び第２図は各々、本発
明にかかるＥＬ素子の一実施例の平面図及び断面図を示
したものである。１は縦１２０ｍ＋１１　、横２２０ｆ
ｌ、厚さ２ｍ＋＋（７）透明なカラス基板であり、２は
酸化すずインジウム（以下単にＩＴＯと略す。）膜より
なる第１の帯状電極であり、幅は０．３朋、長さは１１
０萌、厚さは３０００人である。２′は第１の帯状電極
２と同じＩＴＯ膜よりなる幅０．３藺、長さ１０１１１
＋　、厚さ３０００人の引出し端子であり、後述の第２
の帯状電極７用である。３及び３′はＩＴＯ膜上に無電
解メッキにより形成したＮｉ膜であり、厚さは４０００
八である。Ｎｉ膜の作製方法は後で詳しく述べる。

Ｎｉ膜とＩＴＯ膜で引出し端子とする。４は膜厚６ｏ○
０人の酸化イツトリウムからなる第１の誘電体層であり
、その上に膜厚４０００へのマンガン付活硫化亜鉛をＥ
Ｌ発光層６として、膜厚５０００への酸化イツトリウム
を第２の誘電体層６として積層して形成されている。

７は幅０．３朗、長さ１９０鵡、厚さ１ｏＯｏ人のアル
ミよりなる第２の帯電極であシ、第１の帯状電極２とは
互いに直交するような配置となっている。第２の帯状電
極７の両端部は、Ｎｉ膜３′に接している。

以上のような本実施例のＥＬ素子では、外部駆動回路と
の接続は、第１の帯状電極２の両端部と、第２の帯状電
極７の引出し端子２′上とにメッキにより形成したＮｉ
膜３，３′　に給電線を接続することにより行なわれる
。

本発明では、透明電極膜を引出し端子として共通に用い
ているために、両方の帯状電極膜の引出し端子が同時に
形成できるという利点がある。

本実施例では電気光学的機能層として交流駆動薄膜ＥＬ
層を用いたが直流駆動ＥＬ素子や、ＥＣＤ素子、固体撮
像板、太陽電池等とくに限定されるものではなく、種々
のものに用いることができるのは言うまでもない。

第１の帯状電極２と引出し端子２′の材料は透明導電膜
であればＩＴＯ膜に特に限定されるものではない。

第２の帯状電極の引出し端子２′　も本実施例では第２
の帯状電極の両側に設けているが、もちろん片方のみで
も何らさしつかえなく、両帯状電極の形状寸法や配列間
かくについても種々の変形が考えられることは当然のこ
とである。

引出し端子の形成は次の様にして行った。まずガラス基
板１上にＩＴＯ膜を全面にスパッタリングにより作製し
、写真食刻法によりフォトレジスト膜を必要なパターン
に形成する。次にＩＴＯ膜をケミカルエツチングして第
１の帯状電極２および第２の帯電極の引出し端子２′　
を形成する。フォトレジスト除去後、塩化ニッケル２０
ｙ／ｌ　。

酢酸ナトリウム１６ｙ／Ｉ２次亜リン酸ナトリウム２４
ｙ／ｌの混合溶液の中に上記の基板をひたした。その際
、Ｏリングと治具を用いてメッキが必要々部分と不要な
部分を分離する。直流電源を用いＩＴＯの各ラインの電
位を数秒間だけメッキ液の電位よりも卑にし、メッキを
開始させた。約６分間で４０ｏｏへの膜厚のＮｉ　メッ
キ膜３，３／がＩＴＯ膜の上に形成された。こうして形
成され（′ゞ”　１膜は”Ｔｏと０付着強ｉｉｚ士＋高
く給電線との接続もきわめて容易である。又、このＮｉ
　メッキ膜はＩＴＯ膜のパターンがどんなに微細であっ
てもＩＴＯ膜との位置ずれが原理的に起こらないという
長所も有している。

メッキの方法としては、本実施例の様に無電解メッキを
主体とした方が、電解メッキのみで作った膜より緻密な
膜が形成できる。又、本実施例においてメッキを開始さ
せるだめのキラカケとして、透明導電膜の電位を卑にす
る方法は、透明導電膜の導電性をうまく利用したもので
あり基板上に透明導電膜を形成した部分のみに選択的に
容易にメッキができる。この方法では、メッキ前の基板
の前処理や、メッキ液の微妙な調整といったノウハウが
不要で、簡単に再現性良くメッキが可能である。

発明の効果 上述のように、本発明によれば第２の電極の引出し端子
を第１の電極と同一の透明導電膜とその上に形成したメ
ッキ膜にて形成することにより、どんな徽細なパターン
でも引出し端子を簡単な構成で形成でき、しかも製造が
容易で工程数もすくなく、給電線との接続が容易で信頼
性も向上させやすい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示すＥＬ素子の平面図、第
２図はその断面図である。 １・・・・・・ガラス基板、２・・・・・・第１の帯状
電極、２′・・・・・・ＩＴ○膜引出し端子、３，３′
　・・・・・・Ｎｉ　メッキ膜、４・・・・・・第１の
誘電体層、６・・・・・・ＥＬ発光層、６・・・・・・
第２の誘電体層、７・・・・・・第２の帯状電極。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名第１
図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上に設けた透明導電膜よりなる第１の電極膜
   とそれに対向する第２の電極膜との間に電気光学的機能
   層が設けられ、前記第２の電極膜の引出し端子が前記第
   １の電極膜と同じ透明導電膜とその上にメッキにより形
   成した金属膜で構成されたことを特徴とする電気光学的
   機能素子。
2. （２）基板上に透明導電膜により第１の電極膜および第
   ２の電極膜の引出し端子を同時に形成する工程と、前記
   第２の電極膜の引出し端子の上にメッキにより金属膜を
   形成する工程と、前記第１の電極膜上に電気光学的機能
   層を設ける工程と、前記電気光学的機能層上に第２の電
   極膜を前記引出し端子上の金属膜と接続されるよう形成
   する工程とを含む事を特徴とする電気光学的機能素子の
   製造方法。