JPS6140310A - アルカリ性水溶液中で可溶性の水不溶性共重合体を含有する放射線重合可能な混合物 - Google Patents
アルカリ性水溶液中で可溶性の水不溶性共重合体を含有する放射線重合可能な混合物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、主成分として、
ａ）遊離基重合を受け、エチレン系不飽和末端基少な（
とも２個を含有しかつ大気圧下に１００℃を上廻る沸点
を有する化合物、ｂ）化学線の作用下に化合物ａ）の重
合を開始し得る化合物及び Ｃ）アルカリ性水溶液中で可解性である水不溶性共重合
体 を含有する混合物に関する。
とも２個を含有しかつ大気圧下に１００℃を上廻る沸点
を有する化合物、ｂ）化学線の作用下に化合物ａ）の重
合を開始し得る化合物及び Ｃ）アルカリ性水溶液中で可解性である水不溶性共重合
体 を含有する混合物に関する。
従来の技術
前記タイプの重合可能な混合物は公知であり、とりわけ
光重合可能な印刷板及びフォトレジスト材料の生成に使
われる。そのような混合物の優れた使用分野はドライフ
ォトレゾスト材料の生成である。
光重合可能な印刷板及びフォトレジスト材料の生成に使
われる。そのような混合物の優れた使用分野はドライフ
ォトレゾスト材料の生成である。
西ドイツ国特許公開第２０６４０８０号明細書に、結合
剤として、メタクリル酸とアルキル基中に炭素原子少な
くとも４個を存するアルキルメタクリレートとの共重合
体、殊にメタクリル酸、メタクリル酸メチル又は−エチ
ル及びアルギル基中に炭素原子４〜１５個を有するアル
キルメタクリレートのターポリマーを含有するこのタイ
プの混合物が記載されている。この混合物は良好に接着
する可撓性の層を形成するが、それが比較的厚い、例え
ば２０μｍより厚い場合、常編流れの傾向を有しかつ巻
上げた；−テッドドライレゾストフィルムの形で長時間
貯蔵する際に縁で露出しかつ粘着する。
剤として、メタクリル酸とアルキル基中に炭素原子少な
くとも４個を存するアルキルメタクリレートとの共重合
体、殊にメタクリル酸、メタクリル酸メチル又は−エチ
ル及びアルギル基中に炭素原子４〜１５個を有するアル
キルメタクリレートのターポリマーを含有するこのタイ
プの混合物が記載されている。この混合物は良好に接着
する可撓性の層を形成するが、それが比較的厚い、例え
ば２０μｍより厚い場合、常編流れの傾向を有しかつ巻
上げた；−テッドドライレゾストフィルムの形で長時間
貯蔵する際に縁で露出しかつ粘着する。
西ドイツ国特許公開第２３６３８０６号明細誉に、メタ
クリル酸、アルキル基中に炭素原子少なくとも４１１！
ｌｅ有するアルキルメタクリレート及び、関連ホモ重合
体がガラス転移温度少なくと４８０℃金有する他のモノ
マーからのターポリマーを含有する同様の混合物が記載
δれている。そのような単量体の特別な例はスチレン、
置換スチレン及びアクリロニトリルである。この混合物
は著しく低下した常扇流れを有していルカ、ベース材料
中の孔の被覆、所謂テンティング技法のような特定の用
途に対して全（適描ではな藝か又は限定された範囲で使
用し得るに過ぎない。テンティング技法は、プリント回
路板の製造に次第に多く使われるようになっている。銅
張９法による処理にお匹て、穴あけしかつブラシ掛けし
た板をその孔において化学メッキし〜その後電屏鋼メッ
キ浴中で仕上げ層の必要な厚さまで全面を補強する。そ
の後、この板材をフォト７ゾストと積層し、その後で露
光する。この処理の間にレゾスト層は回路及びロク接ア
イの区域で硬化する。孔は層を境慮する際に残留する硬
化レゾスト区域により両画で被覆される。露出した区域
の鋼層は腐食除去する。
クリル酸、アルキル基中に炭素原子少なくとも４１１！
ｌｅ有するアルキルメタクリレート及び、関連ホモ重合
体がガラス転移温度少なくと４８０℃金有する他のモノ
マーからのターポリマーを含有する同様の混合物が記載
δれている。そのような単量体の特別な例はスチレン、
置換スチレン及びアクリロニトリルである。この混合物
は著しく低下した常扇流れを有していルカ、ベース材料
中の孔の被覆、所謂テンティング技法のような特定の用
途に対して全（適描ではな藝か又は限定された範囲で使
用し得るに過ぎない。テンティング技法は、プリント回
路板の製造に次第に多く使われるようになっている。銅
張９法による処理にお匹て、穴あけしかつブラシ掛けし
た板をその孔において化学メッキし〜その後電屏鋼メッ
キ浴中で仕上げ層の必要な厚さまで全面を補強する。そ
の後、この板材をフォト７ゾストと積層し、その後で露
光する。この処理の間にレゾスト層は回路及びロク接ア
イの区域で硬化する。孔は層を境慮する際に残留する硬
化レゾスト区域により両画で被覆される。露出した区域
の鋼層は腐食除去する。
テンティング技法は、所間保持孔又は位置決め孔の被覆
にも重要である。これらは、６ＪＥ１１まで又はそれ以
上の直径を存しかっ植々の処理工程の間取扱えるように
板材中に設けられる孔である。セミアシチｆ （ｓｅｍ
ｊ、ａｄｄｌｔｉｖｅ ） ｉｇでは、レゾストステン
シルにより被覆されていない区域で金属を電解により沈
積させる。この際に位置決め孔も被覆しなければならな
い◎七れというのもさもないと孔は金属沈着により狭ば
められ、それ故それ以後の工程で役立たなくなるからで
ある。その麦レジストステンシルを除去しかつその下に
位置する導電性鋼を腐食剤で除去し、その際に保持孔及
び位置決め孔中の鋼も除去される。
にも重要である。これらは、６ＪＥ１１まで又はそれ以
上の直径を存しかっ植々の処理工程の間取扱えるように
板材中に設けられる孔である。セミアシチｆ （ｓｅｍ
ｊ、ａｄｄｌｔｉｖｅ ） ｉｇでは、レゾストステン
シルにより被覆されていない区域で金属を電解により沈
積させる。この際に位置決め孔も被覆しなければならな
い◎七れというのもさもないと孔は金属沈着により狭ば
められ、それ故それ以後の工程で役立たなくなるからで
ある。その麦レジストステンシルを除去しかつその下に
位置する導電性鋼を腐食剤で除去し、その際に保持孔及
び位置決め孔中の鋼も除去される。
それ故、フォトレゾストはテンティング技法において高
度な要件を満たさなければならない。
度な要件を満たさなければならない。
フォトレゾストは露光された状態で腐食及びメッキ浴に
対して可屍性で、抵抗性でなければならずかつ６醋及び
それ以上の孔を被被覆る際に自立性でなければなうな＾
。
対して可屍性で、抵抗性でなければならずかつ６醋及び
それ以上の孔を被被覆る際に自立性でなければなうな＾
。
西ドイツ国特許公告第２４１７６５６号明細書には、結
合剤として２つの酸性重合体の組合せｔ含有する他の類
似の混合物か記載されており、該重合体の１つは一定の
染件下に槽水酸化ナトリウム水浴液中で可溶性でありか
つ他方は不浴性である。該明細書中に記載のメタクリル
酸共重合体は水酸化ナトリウム水浴液中で不溶性である
。
合剤として２つの酸性重合体の組合せｔ含有する他の類
似の混合物か記載されており、該重合体の１つは一定の
染件下に槽水酸化ナトリウム水浴液中で可溶性でありか
つ他方は不浴性である。該明細書中に記載のメタクリル
酸共重合体は水酸化ナトリウム水浴液中で不溶性である
。
本発明の課題は、ドライフォトレゾスト材料の製造に好
適であり１アルカリ性水浴液で簡単にかつ完全に現像す
ることができ、高い可撓性及び低い常扇流れの層を形成
し、更に孔あけした銅張り絶縁材料板と積層した際に直
径１■より大きいドリルド孔を被覆するのに好適であり
かつこのように生成する自立性フィルムの形で露光後に
、吹付は現像、腐食及び電気メッキのような他の処理工
程に損傷されずに耐性である放射−重合可能な混合物を
開示することである。
適であり１アルカリ性水浴液で簡単にかつ完全に現像す
ることができ、高い可撓性及び低い常扇流れの層を形成
し、更に孔あけした銅張り絶縁材料板と積層した際に直
径１■より大きいドリルド孔を被覆するのに好適であり
かつこのように生成する自立性フィルムの形で露光後に
、吹付は現像、腐食及び電気メッキのような他の処理工
程に損傷されずに耐性である放射−重合可能な混合物を
開示することである。
本発明は、主成分として、
ａ）遊離基重合を受はエチレン糸不胞和末端基少なくと
も２個を含有しかつ大気圧下に１００℃そ上層る沸点を
存する化合物１ ｂ）化学線の作用下に化合’ｌｌｉ！Ｉａ）の重合金開
始し得る化合物及び Ｃ）アルカリ性水溶液中で可ｍ性でありかつｃ１）α、
β−不飽和脂肪族カルボン酸、Ｃ２）アルキル基中に炭
素原子少な（とも４個を有するアルキルメタクリレート
及び好適な場合にはＣ５）前記の０１）及びＣ２）と共
重合可能でありかつ関連ホモ重合体がガラス転移感度少
なくとも８０℃全有する単量体のエチレン系不飽和化合
物より成る水不溶性共重合体を含有する放射線重合可能
な混合物に関する。
も２個を含有しかつ大気圧下に１００℃そ上層る沸点を
存する化合物１ ｂ）化学線の作用下に化合’ｌｌｉ！Ｉａ）の重合金開
始し得る化合物及び Ｃ）アルカリ性水溶液中で可ｍ性でありかつｃ１）α、
β−不飽和脂肪族カルボン酸、Ｃ２）アルキル基中に炭
素原子少な（とも４個を有するアルキルメタクリレート
及び好適な場合にはＣ５）前記の０１）及びＣ２）と共
重合可能でありかつ関連ホモ重合体がガラス転移感度少
なくとも８０℃全有する単量体のエチレン系不飽和化合
物より成る水不溶性共重合体を含有する放射線重合可能
な混合物に関する。
本発明による混合物中で共重合体は範囲約５００００〜
２０００００の平均分子量を有する。
２０００００の平均分子量を有する。
本発明により、α、β−不飽和脂肪族カルボン酸、アル
キル基中に炭素原子少な（とも４個を有するアルキルメ
タクリレート及び好適である場合は前記の不飽和カルボ
ン酸及びアルキルメタクリレートと共重合可能でありか
つ関連ホモ重合体が少なくとも８０℃のガラス転移温度
を有する単量体のエチレン系不飽和化合物少なくとも１
種より成る共重合体が開示される。
キル基中に炭素原子少な（とも４個を有するアルキルメ
タクリレート及び好適である場合は前記の不飽和カルボ
ン酸及びアルキルメタクリレートと共重合可能でありか
つ関連ホモ重合体が少なくとも８０℃のガラス転移温度
を有する単量体のエチレン系不飽和化合物少なくとも１
種より成る共重合体が開示される。
本発明による共重合体で平均分子量は範囲約５００００
〜２０００００である。
〜２０００００である。
艮好な可撓性及び靭性を膏しかつアルカリ性水溶液で十
分な現慮性を有する層は、共重合体が分子量６５０００
〜１５００００を有する混合物を使用する際に得られる
。
分な現慮性を有する層は、共重合体が分子量６５０００
〜１５００００を有する混合物を使用する際に得られる
。
殊に、共重合体は不飽和脂肪族カルボン酸ｃ１）として
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ソルビン酸、
マレイン酸又はイタコン酸もしくは前記のジカルボン酸
の半エステルを含有する。メタクリル酸が特に性態であ
ることが明らかになった。
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ソルビン酸、
マレイン酸又はイタコン酸もしくは前記のジカルボン酸
の半エステルを含有する。メタクリル酸が特に性態であ
ることが明らかになった。
殊に、アルキルメタクリレ−） Ｃ２）はアルキル基中
に炭素原子４〜２０個、殊に６〜１２個を有°する。そ
の関連ホモ重合体が２０”Ｃを上層らないガラス転移温
度を有すると有利である。
に炭素原子４〜２０個、殊に６〜１２個を有°する。そ
の関連ホモ重合体が２０”Ｃを上層らないガラス転移温
度を有すると有利である。
成分ｃ１）及びＣ２）だけから成る共重合体は、不飽和
カルボン＆ｃ１）が８０′Ｃを上層る、殊に少なくとも
１００℃のＴｇ ［ｅ有するホモ重合体を形成する際に
結合剤として好適である。この共重合体のガラス転移温
度は成分ｃ）） を添加しなくとも酸含量と共に上昇す
る。より高いガラス転移温度を有する共重合体は、常温
流れを惹起せずに層中の単量体含量を高めることを可能
にする。一般釦、２つの成分より成るこの共重合体は多
くの用途で優れている。それというのも単純な方法で生
成することができかつその組成が６ｓ又はそれ以上の成
分からの共重合体の場合よりも簡単に再現することがで
きるからである。
カルボン＆ｃ１）が８０′Ｃを上層る、殊に少なくとも
１００℃のＴｇ ［ｅ有するホモ重合体を形成する際に
結合剤として好適である。この共重合体のガラス転移温
度は成分ｃ）） を添加しなくとも酸含量と共に上昇す
る。より高いガラス転移温度を有する共重合体は、常温
流れを惹起せずに層中の単量体含量を高めることを可能
にする。一般釦、２つの成分より成るこの共重合体は多
くの用途で優れている。それというのも単純な方法で生
成することができかつその組成が６ｓ又はそれ以上の成
分からの共重合体の場合よりも簡単に再現することがで
きるからである。
しかし、共重合体の一ガラス転移諷度をその酸価とは無
関係に変動させるか又は他の性質に選択的に作用を与え
ることが望ましい多くの場合に、Ｔｇ値少な（とも８０
℃、殊に少なくとも１００℃を有するホモ重合体を形成
する他の単量体ｃ３）を使用することは有利である。こ
のタイプの好適な単量体の例は次の通りである：スチレ
ン、置換スチレン、例えばビニルトルエン、Δ−クロロ
スチレン、グロ“ペン−２−（ルベンゼン、１−クロロ
−ベンゼン、ビニルエチルベンゼン又は２−メトキシス
チレン；ビニルナフタリン又は置換ビニルナフタリン；
ビニルへテロ環、・例工ばＮ−ビニルカルバを戸−ル、
ビニルオキ＋ｊｆ−ルのビニルピリシン；ビニルシクロ
アルカン、例えばビニルシクロヘキサン及び３，５−ゾ
メチルビニルシクロヘΦサン；アクリルアミド、メタク
リルアミド、Ｎ−置換のアクリルアミド及びメタクリル
アミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル及びア
リールメタクリレート。
関係に変動させるか又は他の性質に選択的に作用を与え
ることが望ましい多くの場合に、Ｔｇ値少な（とも８０
℃、殊に少なくとも１００℃を有するホモ重合体を形成
する他の単量体ｃ３）を使用することは有利である。こ
のタイプの好適な単量体の例は次の通りである：スチレ
ン、置換スチレン、例えばビニルトルエン、Δ−クロロ
スチレン、グロ“ペン−２−（ルベンゼン、１−クロロ
−ベンゼン、ビニルエチルベンゼン又は２−メトキシス
チレン；ビニルナフタリン又は置換ビニルナフタリン；
ビニルへテロ環、・例工ばＮ−ビニルカルバを戸−ル、
ビニルオキ＋ｊｆ−ルのビニルピリシン；ビニルシクロ
アルカン、例えばビニルシクロヘキサン及び３，５−ゾ
メチルビニルシクロヘΦサン；アクリルアミド、メタク
リルアミド、Ｎ−置換のアクリルアミド及びメタクリル
アミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル及びア
リールメタクリレート。
スチレン、置換スチレン、アクリルアミド−メタクリル
アミド、アクリロニトリル及びメタクリロニトリルが優
れており、スチレンが殊に優れてめる。
アミド、アクリロニトリル及びメタクリロニトリルが優
れており、スチレンが殊に優れてめる。
それぞれの成分ｃ１） 、ｃ２）及びＣ５）数機を存在
させることもできることも明らかである。
させることもできることも明らかである。
一般に、成分ｃ１）の鼠は２０〜６０モル％、殊に６０
〜５５％ルチ、成分ｃ２）の址は鎖長に相応して２５〜
８０モル％、殊に３５〜６５モル％及び成分ｃ５）の量
はＤ〜３０モルチ、殊に６〜２０モルチである。Ｔｇ値
少なくとも８０℃を有する単量体、即ちｃ１）及びＣ５
）の全量び少なくとも３５モルチであると優れている。
〜５５％ルチ、成分ｃ２）の址は鎖長に相応して２５〜
８０モル％、殊に３５〜６５モル％及び成分ｃ５）の量
はＤ〜３０モルチ、殊に６〜２０モルチである。Ｔｇ値
少なくとも８０℃を有する単量体、即ちｃ１）及びＣ５
）の全量び少なくとも３５モルチであると優れている。
有利に、共重合体の酸価は範囲１７０〜２５０である。
共重合体がドライレゾスト法の処理に関する要件を満た
すためには、そのガラス転移温度が一定範囲内の数値で
あることが必要である。おおよそ、共重合体のＴｇ値は
個々の成分のホモ重合体のＴｇ値から次式により計算す
ることができる： この式にお−て、 ＴｇＣＰは共重合体のがラス転移１度（Ｉ：ｋ）を表わ
し１ ＴｇＡ（Ｂ、。１０．）はＡ（Ｂ、Ｃ！・・・）のホモ
重合体のガラス転移感度（’Ｋ） ！表わし、 ｍＡ（Ｂ、Ｃ−）は共重合体中のＡ（８，Ｃ，−）の量
（重量％）′ｆｔ表わす。
すためには、そのガラス転移温度が一定範囲内の数値で
あることが必要である。おおよそ、共重合体のＴｇ値は
個々の成分のホモ重合体のＴｇ値から次式により計算す
ることができる： この式にお−て、 ＴｇＣＰは共重合体のがラス転移１度（Ｉ：ｋ）を表わ
し１ ＴｇＡ（Ｂ、。１０．）はＡ（Ｂ、Ｃ！・・・）のホモ
重合体のガラス転移感度（’Ｋ） ！表わし、 ｍＡ（Ｂ、Ｃ−）は共重合体中のＡ（８，Ｃ，−）の量
（重量％）′ｆｔ表わす。
本発明による混合物中の共重合体のＴｇ値は一般に３５
〜７０℃、殊に４０〜６０℃である。
〜７０℃、殊に４０〜６０℃である。
共重合体は、塊状重合により、即ち実質黛の溶剤又は分
散剤を添加せずに、遊離基を形成する重合開始剤の存在
において生成すると有利である。
散剤を添加せずに、遊離基を形成する重合開始剤の存在
において生成すると有利である。
その生成は常法で、より良好な一夏制御ｆ、可能くする
ためにフラットな容器中で実施する。
ためにフラットな容器中で実施する。
加熱する際に遊離基を形成するペルオキシド又はアゾ化
合物を公知方法で開始剤として使用する。均一な分子量
分布を達成するために、少量の鎖長調節剤、例えばメル
カゾト化合物を添加するのは有利である。少量の、例え
は単量体混合物の１０重量−より少ない蓋の溶剤翫例え
ば水又は低級アルコールを添加することも可能である。
合物を公知方法で開始剤として使用する。均一な分子量
分布を達成するために、少量の鎖長調節剤、例えばメル
カゾト化合物を添加するのは有利である。少量の、例え
は単量体混合物の１０重量−より少ない蓋の溶剤翫例え
ば水又は低級アルコールを添加することも可能である。
温度は約３０〜１６０℃であってよい。
明らかに、製法が共重合体の可撓性及びレジリエンスに
対して、即ち混合嘗ヲテンテイング法のドライレゾスト
として使用する際に重要な特性に対して実質的な作用を
与える。
対して、即ち混合嘗ヲテンテイング法のドライレゾスト
として使用する際に重要な特性に対して実質的な作用を
与える。
本発明による混合物は、末端のエチンン二重結合少なく
とも２個を有する重合シ能な化合物を含有する。一般に
使われる重合可能な化合物は、アクリル酸又はメタクリ
ル酸と多価アルコール、殊に第一アルコールとのエステ
ルである。
とも２個を有する重合シ能な化合物を含有する。一般に
使われる重合可能な化合物は、アクリル酸又はメタクリ
ル酸と多価アルコール、殊に第一アルコールとのエステ
ルである。
好適な多価アルコールの例はエチレングリコール、ゾロ
ピレングリコール、ブタン−１，４−ジオール、ブタン
−１，６−ジオール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ポリエチレングリコール又は分子量約
２００〜１０００のポリノロピレングリコール、ネオペ
ンチルグリコール、トリメチロールエタン及び−プロパ
ン、ペンタエリトリトール及びオ牛ジエチル化ビスフェ
ノールＡ時導体である。ウレタン基を含有しかつジオー
ル１モルとジイソシアネート２モル及びヒドロキシアル
キルアクリレート又は−メタクリレート２モルとの反応
により得られるビスアクリレート及びビスメタクリレー
トが殊に適している。ウレタン基を含有するこのタイプ
の単量体は西ドイツ国特許公開第２８２２１９０号明細
書に記載されている。
ピレングリコール、ブタン−１，４−ジオール、ブタン
−１，６−ジオール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ポリエチレングリコール又は分子量約
２００〜１０００のポリノロピレングリコール、ネオペ
ンチルグリコール、トリメチロールエタン及び−プロパ
ン、ペンタエリトリトール及びオ牛ジエチル化ビスフェ
ノールＡ時導体である。ウレタン基を含有しかつジオー
ル１モルとジイソシアネート２モル及びヒドロキシアル
キルアクリレート又は−メタクリレート２モルとの反応
により得られるビスアクリレート及びビスメタクリレー
トが殊に適している。ウレタン基を含有するこのタイプ
の単量体は西ドイツ国特許公開第２８２２１９０号明細
書に記載されている。
類似の単量体は西ドイツ国特許公開第５０４８５０２号
明細書に記載されている。
明細書に記載されている。
放射線、殊に化学線により活性化されかつ本発明による
混合物中に存在する重合開始剤として多数の物質を使用
することができる。その例はペン１戸イン及びその誘導
体、トリクロ０メチル−５−）リアジン、トリハロメチ
ル基を含有するカルボニルメチレンへテロ環、例えば２
−（ｐ−トリクｃ１０メチルベンゾイルメチレン）−６
−二チルーペンψチアゾリン、アクリジン銹導体、例え
ば９−フェニルアクリジン、９−ｐ−メト牛ジフェニル
アクリジン、９−アセチルアミノアクリシン又はベンψ
アクリジン；７エナゾン誘導体、例えば９．１０−ツメ
チルベンデンエナゾン又は１０−メトキシペンｆ７エナ
ジン、キノキサリン誘導体、例えば６．４’。
混合物中に存在する重合開始剤として多数の物質を使用
することができる。その例はペン１戸イン及びその誘導
体、トリクロ０メチル−５−）リアジン、トリハロメチ
ル基を含有するカルボニルメチレンへテロ環、例えば２
−（ｐ−トリクｃ１０メチルベンゾイルメチレン）−６
−二チルーペンψチアゾリン、アクリジン銹導体、例え
ば９−フェニルアクリジン、９−ｐ−メト牛ジフェニル
アクリジン、９−アセチルアミノアクリシン又はベンψ
アクリジン；７エナゾン誘導体、例えば９．１０−ツメ
チルベンデンエナゾン又は１０−メトキシペンｆ７エナ
ジン、キノキサリン誘導体、例えば６．４’。
（−トリメトキシ−２，６−ゾ°ンエニルキノΦテリン
又は４／ 、 ｅ−ジメトキシ−２，３−ゾンエニルー
５−アずギノキナリンもしくｔエキナシリン誘導体であ
る、一般に、開始剤は混合物の不揮発性成分に対してυ
、０１〜１０重量％、殊に０．０５〜４重量％の量で使
用する。
又は４／ 、 ｅ−ジメトキシ−２，３−ゾンエニルー
５−アずギノキナリンもしくｔエキナシリン誘導体であ
る、一般に、開始剤は混合物の不揮発性成分に対してυ
、０１〜１０重量％、殊に０．０５〜４重量％の量で使
用する。
一般に、本発明による混合物はその都度不揮発性成分の
全量に対して結合剤３０〜７０重社チ、殊に４０〜６０
重鍬チ及び重合可能な化合物３０〜７０＊ｆ％、殊に４
０〜６０１１％を含有する。
全量に対して結合剤３０〜７０重社チ、殊に４０〜６０
重鍬チ及び重合可能な化合物３０〜７０＊ｆ％、殊に４
０〜６０１１％を含有する。
混合物は、池の常用の成分として、重合開始剤、水素供
与体、感光度調節剤、染料、顔料、可塑剤及び熱的に活
性化し得る架橋剤を含有してよし。
与体、感光度調節剤、染料、顔料、可塑剤及び熱的に活
性化し得る架橋剤を含有してよし。
本発明による混合物が敏感である好適な化学線は、エネ
ルギーか重合を開始するのに十分である電磁線である。
ルギーか重合を開始するのに十分である電磁線である。
可視光線、紫外線、Ｘ線及び電子線が殊に適当である。
可視光線及び紫外線範囲のレーデ線を使用することもで
きる６短波長の可視光線及び近ＵＶ線が優れて−る。
きる６短波長の可視光線及び近ＵＶ線が優れて−る。
本発明による混合物を使用して＃遺される記録材料に好
適であるベースの例はアルミニウム、鋼、亜鉛、銅、ス
クリン又は例えばポリエチレンテレンタンートからのプ
ラスチックフィルムである。ベースの表面は化学的に又
は機械的に前処理することができ、それにより層の接着
を好適なレベルに調節する。
適であるベースの例はアルミニウム、鋼、亜鉛、銅、ス
クリン又は例えばポリエチレンテレンタンートからのプ
ラスチックフィルムである。ベースの表面は化学的に又
は機械的に前処理することができ、それにより層の接着
を好適なレベルに調節する。
本発明による混合物はドライフォトレジスト材料として
使用するのに有利でありかつテンティング技法を適用す
る場合に殊に有用であることが明らかになった。このた
めに、常法で、前生成した転移し得るドライレジストフ
ィルムとして、処理すべき工材上に、例えばシリンド回
路板用ベース材料上に施すことができる。一般に、＃Ｐ
５イレゾスト材料は溶剤中の混合物の溶液を好適なベー
ス、例えばポリエステルフィルム上に施し、それを乾燥
することにより生成する。レジスト層の厚さは約１０〜
８０μｍ、殊に２０〜６０μ島である。殊に、層の自由
面は例えばポリエチレン又はボリア”ｏピレンの破覆フ
ィルムで被覆する。調製したラミネートは大型ロールと
して貯蔵することができかつ必要に応じて任意の幅のレ
ジストロールに切断ｆることかできる。
使用するのに有利でありかつテンティング技法を適用す
る場合に殊に有用であることが明らかになった。このた
めに、常法で、前生成した転移し得るドライレジストフ
ィルムとして、処理すべき工材上に、例えばシリンド回
路板用ベース材料上に施すことができる。一般に、＃Ｐ
５イレゾスト材料は溶剤中の混合物の溶液を好適なベー
ス、例えばポリエステルフィルム上に施し、それを乾燥
することにより生成する。レジスト層の厚さは約１０〜
８０μｍ、殊に２０〜６０μ島である。殊に、層の自由
面は例えばポリエチレン又はボリア”ｏピレンの破覆フ
ィルムで被覆する。調製したラミネートは大型ロールと
して貯蔵することができかつ必要に応じて任意の幅のレ
ジストロールに切断ｆることかできる。
フィルムはドラインシスト技術で通常使われる装置を用
いて処理することができる。市販の貼合せ機中で被覆フ
ィルムをビーリングしかつ７オトンゾスト層を孔あけし
た鋼張りペース材料と積層する。このように製造した板
材を原稿全通して露光しかつベースフィルムを除去した
後で常法で現諌する。
いて処理することができる。市販の貼合せ機中で被覆フ
ィルムをビーリングしかつ７オトンゾスト層を孔あけし
た鋼張りペース材料と積層する。このように製造した板
材を原稿全通して露光しかつベースフィルムを除去した
後で常法で現諌する。
有利に、好適な現慮剤は水性の、殊に水性アルカリ性の
溶液、例えばアルカリ金属リン酸塩、−炭酸塩又は−珪
酸塩の溶液であり、必要な場合にはこの溶液に少址の、
例えば１０重廠チまでの水と混曾可能な打機浴剤又は湿
潤剤を添加することができる。
溶液、例えばアルカリ金属リン酸塩、−炭酸塩又は−珪
酸塩の溶液であり、必要な場合にはこの溶液に少址の、
例えば１０重廠チまでの水と混曾可能な打機浴剤又は湿
潤剤を添加することができる。
本発明による混合物は非常に広範な用途で使用すること
ができる。特に有利には、ドライレゾストフィルムの形
でレゾスト１、即ち金属ベース上、例えば鋼上のｍ＊又
はメッキに対する深護層の製造に使う。
ができる。特に有利には、ドライレゾストフィルムの形
でレゾスト１、即ち金属ベース上、例えば鋼上のｍ＊又
はメッキに対する深護層の製造に使う。
この用途では、本発明による混合物から製造したフォト
レゾスト層の極立ったレジリエンス及び靭性は未露光状
態でも露光状態でも有効である。綱と貼合せた光重合可
能な層は堅固な凝着を有し、それ故ベースフィルムを分
離する際に孔を被覆して−る自立性層区域は破損されず
かつこのフィルムによって一緒に引裂かれない。
レゾスト層の極立ったレジリエンス及び靭性は未露光状
態でも露光状態でも有効である。綱と貼合せた光重合可
能な層は堅固な凝着を有し、それ故ベースフィルムを分
離する際に孔を被覆して−る自立性層区域は破損されず
かつこのフィルムによって一緒に引裂かれない。
不発明による混合物からの層Ｔｈ１ｓ！５ことにより、
直径６Ｂ及びそれ以上の孔ヲｗｔ覆することができ、層
はフィルムの除去、現隊、電気メッキ及び／又は腐食の
際に損傷されない。共重合体の高分子−にもかかわらず
、本発明による混合物の層は純粋に水性の、僅かにアル
カリ性の現像溶液を使って完全に現像することができる
。この結合剤は、低分子量の相応する結合剤に比べて、
他の割合の常用の単量体とより良好に混合し得る。町慮
剤の添加は必要ではない。同じ形で本混合物は現縁剤、
エツチング溶液及び電気メッキ浴に対して良好な抵抗性
′ｆＩ：存する。殊に、本発明による混合物はドライレ
ジスト法により使用するのに好適である。感光層の町鉤
性及び靭性が重要である他の用途、例えばフォトレゾス
ト溶液、印刷板、し’）−７鍬、スクリン印刷ステンシ
ル及び色校正フィルムにも好適である。
直径６Ｂ及びそれ以上の孔ヲｗｔ覆することができ、層
はフィルムの除去、現隊、電気メッキ及び／又は腐食の
際に損傷されない。共重合体の高分子−にもかかわらず
、本発明による混合物の層は純粋に水性の、僅かにアル
カリ性の現像溶液を使って完全に現像することができる
。この結合剤は、低分子量の相応する結合剤に比べて、
他の割合の常用の単量体とより良好に混合し得る。町慮
剤の添加は必要ではない。同じ形で本混合物は現縁剤、
エツチング溶液及び電気メッキ浴に対して良好な抵抗性
′ｆＩ：存する。殊に、本発明による混合物はドライレ
ジスト法により使用するのに好適である。感光層の町鉤
性及び靭性が重要である他の用途、例えばフォトレゾス
ト溶液、印刷板、し’）−７鍬、スクリン印刷ステンシ
ル及び色校正フィルムにも好適である。
実施例
次に本発明による混合物の優れた実施例及びその用途に
ついて詳説する。特に記載のない限り、パーセント及び
量は重量単位に関するものである。重量部と容量部の関
係はＩと−との関係である。
ついて詳説する。特に記載のない限り、パーセント及び
量は重量単位に関するものである。重量部と容量部の関
係はＩと−との関係である。
例 １
ブタノン １５重綾部及び
エタノール １５重量部中の
下記のターポリマー ６．５重量部トリエ
チレングリコール１モル、２ｊ ２．４−）リメチルへキテメチレン ゾイソシアネート２モル及びヒドロ キシエチルメタクリレート２モルと ・の反応により生成した重合可能なジ クレタン ８．８重量部９−７ニ
ニルアクリゾン ｏ、２５重量部及び ２．４−シェドＥ２−６−クロロペンゼンゾアゾニウム
塩を２−メトキシ− ５−アセチルアミノ−Ｎ、Ｎ−ジエ チルアニリンとカップリングするこ とにより得られた背負染料 ０．０２！４置部の
溶液を厚さ２５μｍの２軸延伸し、ヒートセットしたポ
リエチレンテレフタレートフィルムに、１００℃で乾燥
後に単位面Ｍｋ当りの重量４５１１／ｍ２が得られるよ
うに回転塗布した。
下記のターポリマー ６．５重量部トリエ
チレングリコール１モル、２ｊ ２．４−）リメチルへキテメチレン ゾイソシアネート２モル及びヒドロ キシエチルメタクリレート２モルと ・の反応により生成した重合可能なジ クレタン ８．８重量部９−７ニ
ニルアクリゾン ｏ、２５重量部及び ２．４−シェドＥ２−６−クロロペンゼンゾアゾニウム
塩を２−メトキシ− ５−アセチルアミノ−Ｎ、Ｎ−ジエ チルアニリンとカップリングするこ とにより得られた背負染料 ０．０２！４置部の
溶液を厚さ２５μｍの２軸延伸し、ヒートセットしたポ
リエチレンテレフタレートフィルムに、１００℃で乾燥
後に単位面Ｍｋ当りの重量４５１１／ｍ２が得られるよ
うに回転塗布した。
ターポリマーは欠のよ５に生成した二
重量比６０：３０：１０のｎ−へキシルメタクリレート
、メタクリル酸及びスチレンより成る単量体混合物をア
ゾイソブチロニトリルＬ１．Ｌ］５重ｔ％、をグチルペ
ルイソノナネート０．０２重量％及びをドデシルメルカ
プタン０．５重量優ト混合しかつこの混合物を重合のた
めに鋼シート製のフラットな中空室中に導入した。混合
物を水浴又は空気浴中で固化するまで５０′Ｇで加熱し
た。十分に高い最終変換率を達成するために、混合物を
更に１００℃に加熱しカ）つこの醜度でしばらく放置し
た。冷却後、中空室を開け、かつ取り出した重合体ブロ
ックを機械的に粉砕した。動粘度ν３２ ｅｔａ”／
ｓ （エタノール中濃度１５％）？ｌ−脣する重合体が
得られた。平均分子量Ｍｖは光散乱法により測定すると
１２８０００であった。酸１曲は１９５でありＯ）つ変
換率し求９７％より高かった。
、メタクリル酸及びスチレンより成る単量体混合物をア
ゾイソブチロニトリルＬ１．Ｌ］５重ｔ％、をグチルペ
ルイソノナネート０．０２重量％及びをドデシルメルカ
プタン０．５重量優ト混合しかつこの混合物を重合のた
めに鋼シート製のフラットな中空室中に導入した。混合
物を水浴又は空気浴中で固化するまで５０′Ｇで加熱し
た。十分に高い最終変換率を達成するために、混合物を
更に１００℃に加熱しカ）つこの醜度でしばらく放置し
た。冷却後、中空室を開け、かつ取り出した重合体ブロ
ックを機械的に粉砕した。動粘度ν３２ ｅｔａ”／
ｓ （エタノール中濃度１５％）？ｌ−脣する重合体が
得られた。平均分子量Ｍｖは光散乱法により測定すると
１２８０００であった。酸１曲は１９５でありＯ）つ変
換率し求９７％より高かった。
このように生成したドライレジストフィルムＴｈ１１５
”Ｏで市販され又いる貼合せ機を使って、厚さ６５μｍ
の銅シートと結合してｉるフェノシラストラミネート板
と貼合せ、力１つ５ ＫＷ金属ハロゲン化物ランプにラ
ンプと真空焼き枠との間の間隔１１０工で８秒間露光し
た。原稿としては下限ｓ ｏ ａｍまでの線幅及び線間
隔の線画原稿を使用した。
”Ｏで市販され又いる貼合せ機を使って、厚さ６５μｍ
の銅シートと結合してｉるフェノシラストラミネート板
と貼合せ、力１つ５ ＫＷ金属ハロゲン化物ランプにラ
ンプと真空焼き枠との間の間隔１１０工で８秒間露光し
た。原稿としては下限ｓ ｏ ａｍまでの線幅及び線間
隔の線画原稿を使用した。
露光後、ポリエステルフイルムヲ除去しかつ層會吹付は
現像装置中で１％−炭酸ナトリウム溶液で１２０秒間現
像した。その後、板を水道水で３０秒ｆｉＪ］スずぎ、
１５％−ペルオ牟シニ硫酸アンモニウム溶液中で６０秒
間腐食し、再び水洗し、１０チー硫酸中に６０秒間浸漬
し、その後火の電解浴中でメッキした： ｌ Ｘ／ｚレツター（８ｃｈ１８ｔｔｅｒ ：がイス
リンデン／シュタイｌ’ （（）ｅｉｓｌｉｎｇａｎ
／ ８ｔｅｉｇｅ）在〕社の鋼メッキ浴、タイプグラン
ツクシフ７−パート（Ｇｌａｎｚｋｕｐｆｅｒ−Ｂａｄ
） ’中で６０秒間、 電流密度： ２．５ Ａ ／ ａｍ２ 金属層の厚さ：約６０μｍ 温度１１ ２、シュレツタ−（前記と同）社の鎗−スズ浴中１５分
間 電流密度” ２ Ａ／（１種２ 金属層の厚さ：１５μ島 ＴＩ！Ａ度−憲銀 板には裏面浸透又は損傷が認められなかった。
現像装置中で１％−炭酸ナトリウム溶液で１２０秒間現
像した。その後、板を水道水で３０秒ｆｉＪ］スずぎ、
１５％−ペルオ牟シニ硫酸アンモニウム溶液中で６０秒
間腐食し、再び水洗し、１０チー硫酸中に６０秒間浸漬
し、その後火の電解浴中でメッキした： ｌ Ｘ／ｚレツター（８ｃｈ１８ｔｔｅｒ ：がイス
リンデン／シュタイｌ’ （（）ｅｉｓｌｉｎｇａｎ
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ツクシフ７−パート（Ｇｌａｎｚｋｕｐｆｅｒ−Ｂａｄ
） ’中で６０秒間、 電流密度： ２．５ Ａ ／ ａｍ２ 金属層の厚さ：約６０μｍ 温度１１ ２、シュレツタ−（前記と同）社の鎗−スズ浴中１５分
間 電流密度” ２ Ａ／（１種２ 金属層の厚さ：１５μ島 ＴＩ！Ａ度−憲銀 板には裏面浸透又は損傷が認められなかった。
その後、板から層材料を５％−ＫＯＨ溶液中５０℃で除
去することができ、かつ露出した銅を常用の腐食剤中で
１８食除去することができた。
去することができ、かつ露出した銅を常用の腐食剤中で
１８食除去することができた。
他の実験で、フォトレゾスト層を鋼を接合しておりかつ
直径１〜６關の孔を有する試験板と貼合せ、レジストを
孔に相応するネが原稿（透明な区域の直径１．４〜６．
４ ｇｍ ）を通して露光した。その後で、層の未露光
部を１１ｓ−炭酸ナトリウム溶液で洗い落し、かつ露光
した銅ｔアンモニアアルカリ性塩化鋼ｍ液で腐食除去し
た。
直径１〜６關の孔を有する試験板と貼合せ、レジストを
孔に相応するネが原稿（透明な区域の直径１．４〜６．
４ ｇｍ ）を通して露光した。その後で、層の未露光
部を１１ｓ−炭酸ナトリウム溶液で洗い落し、かつ露光
した銅ｔアンモニアアルカリ性塩化鋼ｍ液で腐食除去し
た。
腐食後、すべてのドリルげ孔は硬化フォトレジストで被
覆されていた。
覆されていた。
比較のために１本発明による結合剤を西ドイツ国特許公
開第２５６５８０６号明細書による分子波約３３０００
（ν（エタノール中１５％）＝１１ ＩＩＩ” ／ ｓ
ｅ’ｃ ］ ｆ：有すル類４Ｍ 結合剤Ｋ 代、ｔた。
開第２５６５８０６号明細書による分子波約３３０００
（ν（エタノール中１５％）＝１１ ＩＩＩ” ／ ｓ
ｅ’ｃ ］ ｆ：有すル類４Ｍ 結合剤Ｋ 代、ｔた。
この結合剤はゲタノン中の６６％溶液中で重合すること
により生成した。加工処理するのが困難な粘着性のフォ
トレジスト層が得られた。
により生成した。加工処理するのが困難な粘着性のフォ
トレジスト層が得られた。
低分子量結合剤は固層の製造に関して低い作用を有する
ので、レジストロールを殊に高められた温度で貯蔵する
際に層物質が切断巌で現われた。孔を有するペース材料
と貼合せる際に各ドリルド孔の周りでより低い層厚のリ
ングが形成する。このような層はテンティング技法に使
用することはできない。
ので、レジストロールを殊に高められた温度で貯蔵する
際に層物質が切断巌で現われた。孔を有するペース材料
と貼合せる際に各ドリルド孔の周りでより低い層厚のリ
ングが形成する。このような層はテンティング技法に使
用することはできない。
西ドイツ国特許公開第２５６５８０６号明細書、例４及
び西げイツ国特許公開第２８２２１９０号明細書、例１
に記載されたドライレゾスト１−は両方共前記の結合剤
金含有しているが、１關より大きい直径を有するドリル
ド孔を＠榎するには不適当である。
び西げイツ国特許公開第２８２２１９０号明細書、例１
に記載されたドライレゾスト１−は両方共前記の結合剤
金含有しているが、１關より大きい直径を有するドリル
ド孔を＠榎するには不適当である。
例 ２
例１に挙げたウレタンの代りに次の単鎗体の混合物を使
用する際に、比較可能な結果が達成された： ａ）例１からのウレタン５．８叡童部及びトリエチレン
グリコールジメタクリレート１．５重量部 ｂ）例１からのウレタン５．８重量部及びボリエｆＶン
グリコールー４００ジメタクリＶ−ト１．５重量部 これらのフオ）Ｌ／シストＩｔｌの利点は短い現像時間
である。
用する際に、比較可能な結果が達成された： ａ）例１からのウレタン５．８叡童部及びトリエチレン
グリコールジメタクリレート１．５重量部 ｂ）例１からのウレタン５．８重量部及びボリエｆＶン
グリコールー４００ジメタクリＶ−ト１．５重量部 これらのフオ）Ｌ／シストＩｔｌの利点は短い現像時間
である。
例 ６
例１に記載した層溶液において、記載の結合剤を同波の
次のターポリマーに代えた：ａ） ｎ−へキシルメタ
クリレート、メタクリル酸及びスチレン（６０：３０：
１０）カーら成り、平均分子ｔ （Ｍｗ）約１８５００
０、動粘度ν（エタノール中１５％）７４鵡ａ／ｓｅｃ
及び酸価１９５を有するターポリマｂ） ｎ−へ午シ
ルメタクリレ、−ト、メタクリル酸及びスチレン（６０
：３５：５）から成り、Ｍ、７４０００、動粘度ν（エ
タノール中１５％） ２３ ｍ”／ ｓｅｃ及びｒＲ１
曲２２８を有する一一ボリマー ｃ） ｎ−へキシルメタクリレート、メタクリル酸及
びスチレ／（６０：３５：５）から成り、Ｍ、 ９４０
００、動粘度ν（エタノール中１５％） ３２ ｔｕｂ
” ／ ｓｅｃ及び酸価澄を有するターポリマー ｄ） ｎ−へキシルメタクリレート、メタクリル酸及
びメチルメタクリレ−）（６０：３５：５）から成り、
動粘度ν（エタノール中１５ ％ ） ５６１１Ｋ”／
ｓｅｃ及び我ｉ！２２８に有するターポリマー ｅ） ｎ−へキシルメタクリレート及びメタクリル酸
（６５：５５）から成り一動粘度ν（エタノール中１５
％ン５４ Ｉｎ”／ ｓｅａ及び酸価２２８を存する共
重合体。
次のターポリマーに代えた：ａ） ｎ−へキシルメタ
クリレート、メタクリル酸及びスチレン（６０：３０：
１０）カーら成り、平均分子ｔ （Ｍｗ）約１８５００
０、動粘度ν（エタノール中１５％）７４鵡ａ／ｓｅｃ
及び酸価１９５を有するターポリマｂ） ｎ−へ午シ
ルメタクリレ、−ト、メタクリル酸及びスチレン（６０
：３５：５）から成り、Ｍ、７４０００、動粘度ν（エ
タノール中１５％） ２３ ｍ”／ ｓｅｃ及びｒＲ１
曲２２８を有する一一ボリマー ｃ） ｎ−へキシルメタクリレート、メタクリル酸及
びスチレ／（６０：３５：５）から成り、Ｍ、 ９４０
００、動粘度ν（エタノール中１５％） ３２ ｔｕｂ
” ／ ｓｅｃ及び酸価澄を有するターポリマー ｄ） ｎ−へキシルメタクリレート、メタクリル酸及
びメチルメタクリレ−）（６０：３５：５）から成り、
動粘度ν（エタノール中１５ ％ ） ５６１１Ｋ”／
ｓｅｃ及び我ｉ！２２８に有するターポリマー ｅ） ｎ−へキシルメタクリレート及びメタクリル酸
（６５：５５）から成り一動粘度ν（エタノール中１５
％ン５４ Ｉｎ”／ ｓｅａ及び酸価２２８を存する共
重合体。
すべての場合に、ドリルド孔の？Ｍ尾すべき被覆（テン
ティング）が達成された。
ティング）が達成された。
例 ４
被覆溶液は次のものから生成した：
ブタノン １７重量部及び
エチレングリコール七ツメチルエーテル５６重量部中の
例１に記載のターポリマー ４重量部２．２．４
−）リメチルヘー＃テメチ レンゾイソシアネート１モルとヒ トＣ１＋？ジエチルメタクリレート２ モルとを反応させることによつ得 られるジウレタン ４重量部９−フェ
ニルアクリジン ０．１７１１１＄２．４−ジニ
トロ−６−りａロペン ゼンゾアゾニウム塩を２−メトキ シ−５−アセチルアミノ−Ｎ−シ アノエチル−Ｎ−ヒｒロキシエチ ルアニリ／とカッブリングするこ とにより得られる青色染料 ０．０２３に置部及
び ５−ニトロ−２−〔２−メチル−４− （Ｎ−エチル−Ｎ−シアノエチル） −アｉノペ／ゼンアを戸〕−ペン・戸 チアデーｋ ０．０１重量部この溶
液を、酸化物層２１１７ｍ”ｆｒ有しかつポリビニルホ
スホン酸水溶液で前処理した、電気化学的に粗面化しか
つ陽極酸化したアルハ二りム上に回転温布により施して
、乾燥獄ｔ５．５９／−を得た。その後、この板にボＶ
ビニルアル；−ルカパ一層４１／ｍ”を施した。この印
刷板を半分に分割し、その両方全連続＊ｋＪ４ｍ１３ｆ
ｉｌ及びバーｙトーｙｌｌｌ？ｔＭ数６Ｑ ／ ｃｍ及
び１２０／ｍ下に５ＫＷの金欄ハロゲン化物灯で２秒間
露光した。露光後、一方の半分を空気循環乾燥機中で付
加的に５秒間１００℃で加熱した。
−）リメチルヘー＃テメチ レンゾイソシアネート１モルとヒ トＣ１＋？ジエチルメタクリレート２ モルとを反応させることによつ得 られるジウレタン ４重量部９−フェ
ニルアクリジン ０．１７１１１＄２．４−ジニ
トロ−６−りａロペン ゼンゾアゾニウム塩を２−メトキ シ−５−アセチルアミノ−Ｎ−シ アノエチル−Ｎ−ヒｒロキシエチ ルアニリ／とカッブリングするこ とにより得られる青色染料 ０．０２３に置部及
び ５−ニトロ−２−〔２−メチル−４− （Ｎ−エチル−Ｎ−シアノエチル） −アｉノペ／ゼンアを戸〕−ペン・戸 チアデーｋ ０．０１重量部この溶
液を、酸化物層２１１７ｍ”ｆｒ有しかつポリビニルホ
スホン酸水溶液で前処理した、電気化学的に粗面化しか
つ陽極酸化したアルハ二りム上に回転温布により施して
、乾燥獄ｔ５．５９／−を得た。その後、この板にボＶ
ビニルアル；−ルカパ一層４１／ｍ”を施した。この印
刷板を半分に分割し、その両方全連続＊ｋＪ４ｍ１３ｆ
ｉｌ及びバーｙトーｙｌｌｌ？ｔＭ数６Ｑ ／ ｃｍ及
び１２０／ｍ下に５ＫＷの金欄ハロゲン化物灯で２秒間
露光した。露光後、一方の半分を空気循環乾燥機中で付
加的に５秒間１００℃で加熱した。
その後、現像を次の組成の現歇剤を使って実゛施した：
メタ珪酸ナトリウム・９ Ｈ＠０ ３．０直置部非イ
オン畢湿潤剤（エチレンオ、キシ ｒ単位約８個をｔ有するヤシ脂肪 アルコールポリオキシエチレンエ ーチル） ０．０り電量部
抑泡剤 ０．００５重量
部及ｒＩ″ 完全説イオン水 ９６．９６７重量部後加
熱しなかった場合には完全架橋した階段楔８（９）個が
得られ、後加熱した場合には完全階段楔１１ （１２）
個が得られた。
オン畢湿潤剤（エチレンオ、キシ ｒ単位約８個をｔ有するヤシ脂肪 アルコールポリオキシエチレンエ ーチル） ０．０り電量部
抑泡剤 ０．００５重量
部及ｒＩ″ 完全説イオン水 ９６．９６７重量部後加
熱しなかった場合には完全架橋した階段楔８（９）個が
得られ、後加熱した場合には完全階段楔１１ （１２）
個が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、α，β−不飽和脂肪族カルボン酸、アルキル基中に
炭素原子少なくとも４個を有するアルキルメタクリレー
ト及び好適である場合は前記の不飽和カルボン酸及びア
ルキルメタクリレートと共重合可能でありかつ関連ホモ
重合体が少なくとも８０℃のガラス転移温度を有する単
量体のエチレン系不飽和化合物少なくとも１種より成り
、範囲約５００００〜 ２０００００の平均分子量を有するアルカリ性水溶液中
で可溶性の水不溶性共重合体。 ２、α，β−不飽和脂肪族カルボン酸、アルキル基中に
炭素原子少なくとも４個を有するアルキルメタクリレー
ト及び好適である場合は前記の不飽和カルボン酸及びア
ルキルメタクリレートと共重合可能でありかつ関連ホモ
重合体が少なくとも８０℃のガラス転移温度を有する単
量体のエチレン系不飽和化合物少なくとも１種より成り
、範囲約５００００〜 ２０００００の平均分子量を有する共重合体を製造する
方法において、単量体を遊離基重合開始剤の存在におい
て、塊状重合により重合することを特徴とするアルカリ
性水溶液中で可溶性の水不溶性共重合体の製法。 ３、鎖長調節剤を添加する特許請求の範囲第２項記載の
方法。 ４、主成分として、 ａ）遊離基重合を受け、エチレン系不飽和末端基少なく
とも２個を含有しかつ大気圧下 に１００℃を上廻る沸点を有する化合物、 ｂ）化学線の作用下に化合物ａ）の重合を開始し得る化
合物及び ｃ）アルカリ性水溶液中で可溶性でありかつｃ１）α，
β−不飽和脂肪族カルボン酸、ｃ２）アルキル基中に炭
素原子少なくとも４個を 有するアルキルメタクリレート及び好適な 場合にはｃ３）前記のｃ１）及びｃ２）と共重合可能で
ありかつ関連ホモ重合体がガラス転 移温度少なくとも８０℃を有する単量体の エチレン系不飽和化合物より成りかつ範囲 約５００００〜２０００００の平均分子量 を有する水不溶性の共重合体 を含有する放射線重合可能な混合物。 ５、共重合体は塊状重合により生成されている特許請求
の範囲第４項記載の混合物。 ６、共重合体がスチレン又は置換スチレンの単位ｃ３）
を含有する特許請求の範囲第４項記載の混合物。 ７、重合可能な化合物が多価アルコールのアクリレート
又はメタクリレートである特許請求の範囲第４項記載の
混合物。 ８、共重合体がα，β−不飽和カルボン酸単位２０〜６
０モル％を含有する特許請求の範囲第４項記載の混合物
。 ９、α，β−不飽和カルボン酸がアクリル酸又はメタク
リル酸である特許請求の範囲第４項記載の混合物。
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-
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-
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- 1991-11-21 HK HK946/91A patent/HK94691A/xx not_active IP Right Cessation
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